JPS6051610A - 酸素濃度の制御装置および制御方法 - Google Patents
酸素濃度の制御装置および制御方法Info
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- JPS6051610A JPS6051610A JP16007683A JP16007683A JPS6051610A JP S6051610 A JPS6051610 A JP S6051610A JP 16007683 A JP16007683 A JP 16007683A JP 16007683 A JP16007683 A JP 16007683A JP S6051610 A JPS6051610 A JP S6051610A
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- oxygen
- gas
- valve
- outgoing
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- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は#素を含む混合気体の酸素濃度の制御装置およ
び制御方法に関するものである。さらに詳しくは、ひと
つの′α気化学旧酸素分離装置に脱1讃素機能と酸素発
生機能の双方を61こせるとともに、酸素濃度の制御対
象となる祭器と分離し得る酸素#度の制御装置と制御方
法に関するものである。
び制御方法に関するものである。さらに詳しくは、ひと
つの′α気化学旧酸素分離装置に脱1讃素機能と酸素発
生機能の双方を61こせるとともに、酸素濃度の制御対
象となる祭器と分離し得る酸素#度の制御装置と制御方
法に関するものである。
生物学、化学、医学、金目学その他の研究分野で、気相
中の酸素1度を任意に制御する必要がある場合が多い、
しかるに従来、4素、アルゴン。
中の酸素1度を任意に制御する必要がある場合が多い、
しかるに従来、4素、アルゴン。
炭酸ガスあるいはヘリウムの如き気体と酸素とを適当に
7昆合するという方法が採用さ1てい1こが、ボンベ操
作およびガスの流量調節操作は煩雑であつ1こ。
7昆合するという方法が採用さ1てい1こが、ボンベ操
作およびガスの流量調節操作は煩雑であつ1こ。
これに対し、本@発明者らは、′特公昭57−2890
7号で電気化学的手法を用いて酸素濃度を自動的に制t
ialする方法を1是案し1こ。
7号で電気化学的手法を用いて酸素濃度を自動的に制t
ialする方法を1是案し1こ。
すなオ)ち、酸素の電解、!1元に汀効なガス拡散電極
を陰極とし、酸素発生電極を陽極とし、水酸イヒカリウ
ム、水酸化ナトリウムあるいは硫酸の水溶漱もしくはカ
チオン交換膜などを電解液あるL)1.を電解°百とし
てなる電解槽において、陰極に酸素を含む混合ガスを供
給しつつ、陰・陽画極間に直流電圧を印加すると、陰極
では (J2 + 2u2u + 4e−−+ 4(Jl(−
(771/ カリ電解液)ま1こは、 u24−4H” + 4e−→2u2u (酸性電解膜
まTこはカチオン交換膜)なる反応により、酸素が選択
的に消q聞され、陽極では 401 +Uz+2H2(J+4e (アルカリ電解液
)まTこは、 2H2LJ→(J+ + 4H++4e−(酸性電解F
Lま1こはカチオン交換膜)なる反応Vこより、酸素が
’+1生する。
を陰極とし、酸素発生電極を陽極とし、水酸イヒカリウ
ム、水酸化ナトリウムあるいは硫酸の水溶漱もしくはカ
チオン交換膜などを電解液あるL)1.を電解°百とし
てなる電解槽において、陰極に酸素を含む混合ガスを供
給しつつ、陰・陽画極間に直流電圧を印加すると、陰極
では (J2 + 2u2u + 4e−−+ 4(Jl(−
(771/ カリ電解液)ま1こは、 u24−4H” + 4e−→2u2u (酸性電解膜
まTこはカチオン交換膜)なる反応により、酸素が選択
的に消q聞され、陽極では 401 +Uz+2H2(J+4e (アルカリ電解液
)まTこは、 2H2LJ→(J+ + 4H++4e−(酸性電解F
Lま1こはカチオン交換膜)なる反応Vこより、酸素が
’+1生する。
つ土h 、 IW索を含む混合ガス中の酸素だけが陰極
側から内處側に停行するので、か\る電解槽は峙孝分博
藤片と1で機能する、 しγこがって、かかる酸素分離装置を2 It?!用意
し、そのうちの1個の陰極に酸素濃度を制御しようとす
る酸素1!1度制御室の中の気体を接触さ1tろととも
にil[から宅生じてくる@素を子・7Fに排気せしめ
ろ一方、他の1個の陰極に大気を供給し、陽罹から発生
してくる酸素を酸素濃度制御室に供給するようにし、酸
素a度制御室の酸素1度が所定のそれより高すぎる場合
には、1g1者の脱酸素機能を葡する酸素分離装置を作
動せしめて酸素濃度を低下させ、所定の酸素濃度より低
すぎるときには、後者の酸素濃度発生機能を有する酵素
分Ill装置を作動せしめて、酸素#度を咽太さく+る
ことにより、酸素a度制御室内の酸素#度を所定のそ!
”L K 、li制御することができる。
側から内處側に停行するので、か\る電解槽は峙孝分博
藤片と1で機能する、 しγこがって、かかる酸素分離装置を2 It?!用意
し、そのうちの1個の陰極に酸素濃度を制御しようとす
る酸素1!1度制御室の中の気体を接触さ1tろととも
にil[から宅生じてくる@素を子・7Fに排気せしめ
ろ一方、他の1個の陰極に大気を供給し、陽罹から発生
してくる酸素を酸素濃度制御室に供給するようにし、酸
素a度制御室の酸素1度が所定のそれより高すぎる場合
には、1g1者の脱酸素機能を葡する酸素分離装置を作
動せしめて酸素濃度を低下させ、所定の酸素濃度より低
すぎるときには、後者の酸素濃度発生機能を有する酵素
分Ill装置を作動せしめて、酸素#度を咽太さく+る
ことにより、酸素a度制御室内の酸素#度を所定のそ!
”L K 、li制御することができる。
このように、脱1!!!累機能を利用する酸紮分離装W
1と酸素発生機能を利用する酸素分離装置とをそれぞれ
別途に用意して酸素濃度を制御する方法が前述の特公昭
57−28907号に記載されている方法l′あるが、
この方法はあまり効果的な方法とはいえない。
1と酸素発生機能を利用する酸素分離装置とをそれぞれ
別途に用意して酸素濃度を制御する方法が前述の特公昭
57−28907号に記載されている方法l′あるが、
この方法はあまり効果的な方法とはいえない。
一方、tiE米の酸素濃度制御装置では、電気化学(i
ジ酸素分離装置と酸素濃度の制御の対象となる比較的大
きな容積をもつチャンバーとが一体となっているととも
に酸素a 13j 、?(が、このチャ゛ツバの中に設
faされているのが普通であつ1こ。しかしながら、実
際には大きなチャンバ全体の酸素装置を制御する必要は
必ずしもなく、比較的小さな容積の容器ですむ場合がむ
しろ多い、ま1こ酸素濃1■をいろいろ変えh実験をお
こなう必要がある場合が多いが、ひとつのチャ゛ツバで
このような実験をおこなおうとすると時間がかかりすぎ
る。
ジ酸素分離装置と酸素濃度の制御の対象となる比較的大
きな容積をもつチャンバーとが一体となっているととも
に酸素a 13j 、?(が、このチャ゛ツバの中に設
faされているのが普通であつ1こ。しかしながら、実
際には大きなチャンバ全体の酸素装置を制御する必要は
必ずしもなく、比較的小さな容積の容器ですむ場合がむ
しろ多い、ま1こ酸素濃1■をいろいろ変えh実験をお
こなう必要がある場合が多いが、ひとつのチャ゛ツバで
このような実験をおこなおうとすると時間がかかりすぎ
る。
本づd明は、かかる欠点を除去せんとするものであり、
ひとつの電気化学的+1!2素分離装置に脱酸素機能と
酸素発生機能との双方をもfこせるとともに、酸素9度
を制御すべき容器と電気化学的酸素分離装置を主体とす
る酸素濃度制御装置とを別々に独立させrこ点に特長を
有する。
ひとつの電気化学的+1!2素分離装置に脱酸素機能と
酸素発生機能との双方をもfこせるとともに、酸素9度
を制御すべき容器と電気化学的酸素分離装置を主体とす
る酸素濃度制御装置とを別々に独立させrこ点に特長を
有する。
すなわら、本発明の酸素濃度制御装置は、ひとつの電気
化学的酸素分離装置と、酸素濃9計を収納せるH索m度
検出室と制御部と脱酸素ガス糸路と酸素供給系路とで構
成きれ、この酸素th!度制御装置と気密容器とが接続
されγことき、電気化学的酸素分離装置の陰極での脱酸
素1〕応を利用する脱酸素ガスの端環糸路もしくは陰極
に7気を導入し1こ際に隔間から発生する#、素を気f
fl容器に供給する酸素供給系路を適宜選択して気ig
容器の酸素濃度を制御するようになっている。
化学的酸素分離装置と、酸素濃9計を収納せるH索m度
検出室と制御部と脱酸素ガス糸路と酸素供給系路とで構
成きれ、この酸素th!度制御装置と気密容器とが接続
されγことき、電気化学的酸素分離装置の陰極での脱酸
素1〕応を利用する脱酸素ガスの端環糸路もしくは陰極
に7気を導入し1こ際に隔間から発生する#、素を気f
fl容器に供給する酸素供給系路を適宜選択して気ig
容器の酸素濃度を制御するようになっている。
まfコ、酸素一度制御装置と気密容器とは着脱自在のガ
スソケIトで接続されろようになっていて、酸素#度が
制御され1このちには気密容器が酸素濃度制御装置から
切り離され、恒温室であるチャ゛/バに入れらノ]るよ
うになっているうかかる方式を採用すると、通常の汎用
恒温槽がηL用できるのですこぶる便利である。
スソケIトで接続されろようになっていて、酸素#度が
制御され1このちには気密容器が酸素濃度制御装置から
切り離され、恒温室であるチャ゛/バに入れらノ]るよ
うになっているうかかる方式を採用すると、通常の汎用
恒温槽がηL用できるのですこぶる便利である。
まrコ従来、酸素濃度イ[はキャンバの中に設置されて
い1こが、本発明の場合には、酸素#圧制tlIII装
置側に設置されているので、と述のように気密容器こと
は全く容易となる。
い1こが、本発明の場合には、酸素#圧制tlIII装
置側に設置されているので、と述のように気密容器こと
は全く容易となる。
本発明で用いられる%田容器は蓋つきのものでなけtl
ばならないが、内部が観察できるようにするfこめには
、ガラスあるいはアクリル樹脂製のものが適している。
ばならないが、内部が観察できるようにするfこめには
、ガラスあるいはアクリル樹脂製のものが適している。
?[気化学的酸素分111装置の電解質としては、炭酸
ガスの影響を受けない硫酸あるいは陽イオン交換膜が適
している。r!JJイオン交換嘆としては、パーフロロ
カーホ′/をペースにし、これにスルフォン酸基あるい
はカルボン酸基を導入しrこ水素イオン伝導性のものが
適している。硫酸を電解質とし1こ場合には、陰咀とし
てはカーボンに白金族金属触媒を担持し1こものとフッ
素樹脂との混合物をチタンあるいはタンタルに金あるい
は白金をメッキし1こエキスバンドメタルに圧着すると
ともに、多孔性ポリ4フツ化エチレン膜を裏打ちし1こ
ものがよく、隠面としては、チタンのエキスバンドメタ
ルか板に白金をメッキするか、白金tイリジウムの腹合
酸化物を被覆しrコものが適しているう電解質として、
陽イオ゛/交換膜を用いrこ場合に用いられる。陰極と
しては白金ブラック粉末もしくは白金と金との合金粉末
などからなる触媒粉末とフッ素樹脂との混合物か、この
混合物に陽イオン交換膜11Nの粉末もしくは短繊維を
混入+、 rニーものをイオン交換膜にホットプレスす
るのがよい。
ガスの影響を受けない硫酸あるいは陽イオン交換膜が適
している。r!JJイオン交換嘆としては、パーフロロ
カーホ′/をペースにし、これにスルフォン酸基あるい
はカルボン酸基を導入しrこ水素イオン伝導性のものが
適している。硫酸を電解質とし1こ場合には、陰咀とし
てはカーボンに白金族金属触媒を担持し1こものとフッ
素樹脂との混合物をチタンあるいはタンタルに金あるい
は白金をメッキし1こエキスバンドメタルに圧着すると
ともに、多孔性ポリ4フツ化エチレン膜を裏打ちし1こ
ものがよく、隠面としては、チタンのエキスバンドメタ
ルか板に白金をメッキするか、白金tイリジウムの腹合
酸化物を被覆しrコものが適しているう電解質として、
陽イオ゛/交換膜を用いrこ場合に用いられる。陰極と
しては白金ブラック粉末もしくは白金と金との合金粉末
などからなる触媒粉末とフッ素樹脂との混合物か、この
混合物に陽イオン交換膜11Nの粉末もしくは短繊維を
混入+、 rニーものをイオン交換膜にホットプレスす
るのがよい。
陽極としては、酸化イリジウムもしくは白金ブラック粉
末を触媒として、陰極の場合と同様にホットプレスする
か、白金あるいはロジウムを無を解メッキし1こものが
適している。
末を触媒として、陰極の場合と同様にホットプレスする
か、白金あるいはロジウムを無を解メッキし1こものが
適している。
酸素贋度計としては、がルバニi油式(燃料電池式〕の
もの、ポーラログラフ式のもの、あるいはジルコニア式
のものが用いられる。
もの、ポーラログラフ式のもの、あるいはジルコニア式
のものが用いられる。
酸素濃度制御装置の制御部は、比較器、シーケンス回路
およびt源から構成さtlろ電気回路であり、酸素濃置
針からの検知信号が所定値より高いか低いかを比較器で
比較し、電気化学的酸素分離装置を脱酸素装置として作
動させるか酸素発生装置として作動させるかを判断し、
シーケンス回路で、後述のように弁の開閉の順序を制御
するとと供給A:+11こり、ポツプが駆動されγこり
する、後述の弁は、1[磁弁にして′flI1111部
で自動制御されるのが望ましいが、場合によっては手動
式のものにしてもよい。
およびt源から構成さtlろ電気回路であり、酸素濃置
針からの検知信号が所定値より高いか低いかを比較器で
比較し、電気化学的酸素分離装置を脱酸素装置として作
動させるか酸素発生装置として作動させるかを判断し、
シーケンス回路で、後述のように弁の開閉の順序を制御
するとと供給A:+11こり、ポツプが駆動されγこり
する、後述の弁は、1[磁弁にして′flI1111部
で自動制御されるのが望ましいが、場合によっては手動
式のものにしてもよい。
気密容器の中の相対湿度を100%にするfコめには気
g!谷器の中に水を入れTコ容器を収納しておけばよい
。
g!谷器の中に水を入れTコ容器を収納しておけばよい
。
この酸素I!11度制御装置を微生物憧細府の培養に使
用しようとする際には、培地にグツドの緩衝液を用いれ
ば、気密容器の炭酸ガス濃度を特に調整しなくても、培
地のPHは一定に保持されろ。
用しようとする際には、培地にグツドの緩衝液を用いれ
ば、気密容器の炭酸ガス濃度を特に調整しなくても、培
地のPHは一定に保持されろ。
以下、本発明の一実施例について詳述するう実桶例:
第1図に、本発明の一実施例にかかる酸素濃度MW(I
tと気密容器(2)とから構成されろ。酸素@開制御装
置t+11は主として電気化学的酸素分離・装置1ii
(31と酸素4度検出室(4)と酸素Il1度を制御す
るrこめの電気回路部(61と往路ガス系路(6)と復
路ガス糸路μ)とで構成される、 電気化学的脱酸素分離装置t +81は、パーフロロカ
(8)、白金ブラック粉末とポリ4フツ化エチレンとの
混合物からなる陰極(9)、酸化イリジウム粉末とポリ
4フツ化エチレンとの混合物からなる陽極(10) 、
白金メッキしtこエキスパンデッドチタンからなる陰極
集電体(11ハ 白金メッキしfこエキスパンデッドチ
タンからなろ陽能集に体(12J 、チタン板からなる
陰極4#1子板(18Lチタン板からなる陽極端子板(
14)、@圀ガス室(15)、陽極水室(16)お合さ
れている。堝庵水室(16)には水タック(18)から
水が供給され、この水の供給によって、陽イオン交換膜
(8)が水素イオン伝導体として機能する、気密容器の
には、着脱自在の往路用ガスプラグ(19)とイ箋路用
カスプ)グ(20)が装着され、酸素濃度制御装置史の
往路ガス系略密の先端部には着脱自在の往路用カスフケ
1ト(21)が、復路カス系路(7)の先端部には復路
用ガスソケット(22)が装着されていて、往路用ガス
プラグ(19)と往路用ガスソケット(21)とが接続
され、復路用ガスプラグ(20)と復路用ガスソケット
(22)とが接続されている。
tと気密容器(2)とから構成されろ。酸素@開制御装
置t+11は主として電気化学的酸素分離・装置1ii
(31と酸素4度検出室(4)と酸素Il1度を制御す
るrこめの電気回路部(61と往路ガス系路(6)と復
路ガス糸路μ)とで構成される、 電気化学的脱酸素分離装置t +81は、パーフロロカ
(8)、白金ブラック粉末とポリ4フツ化エチレンとの
混合物からなる陰極(9)、酸化イリジウム粉末とポリ
4フツ化エチレンとの混合物からなる陽極(10) 、
白金メッキしtこエキスパンデッドチタンからなる陰極
集電体(11ハ 白金メッキしfこエキスパンデッドチ
タンからなろ陽能集に体(12J 、チタン板からなる
陰極4#1子板(18Lチタン板からなる陽極端子板(
14)、@圀ガス室(15)、陽極水室(16)お合さ
れている。堝庵水室(16)には水タック(18)から
水が供給され、この水の供給によって、陽イオン交換膜
(8)が水素イオン伝導体として機能する、気密容器の
には、着脱自在の往路用ガスプラグ(19)とイ箋路用
カスプ)グ(20)が装着され、酸素濃度制御装置史の
往路ガス系略密の先端部には着脱自在の往路用カスフケ
1ト(21)が、復路カス系路(7)の先端部には復路
用ガスソケット(22)が装着されていて、往路用ガス
プラグ(19)と往路用ガスソケット(21)とが接続
され、復路用ガスプラグ(20)と復路用ガスソケット
(22)とが接続されている。
このようにガスプラグとガスソケットとの接続により、
酸素祷夏制御装置+1+と気密容器(2)とが連通状r
I3になる。ガスプラグとガスソケットとを切り離すと
ガスプラグが一種の弁になり、気密容器t21の気密性
が保持される。
酸素祷夏制御装置+1+と気密容器(2)とが連通状r
I3になる。ガスプラグとガスソケットとを切り離すと
ガスプラグが一種の弁になり、気密容器t21の気密性
が保持される。
気密容器(2)の中の酸素In度は酸素9度検出室(4
)の中に収納されている酸素濃度計(28)によって検
知され、その信号は電気回路部(5)に送られる。
)の中に収納されている酸素濃度計(28)によって検
知され、その信号は電気回路部(5)に送られる。
気密容器(2)の中の酸素a度が所望値よりも高すぎろ
場合には、電気化学的酸素分離装[tμが脱酸素装置と
しての機能を果す。この場合には、往路ガス系路(φに
設けられている往路用脱酸素ガス弁(24) 、酸素放
出弁(25)および復路ガス系路t7Hc設(すらJl
でいろ(夏路用脱酸素ガス弁(26)を開き・往路ガス
系v?5’舅に設けられている往路用酸素供給弁(27
) 、脱酸素残余空気放出弁(28)および復路ガス系
&1i51υに没(すら−1している!!!、気導入弁
(29)を閉じ、循環ポンプ(80)を駆動さ+1つつ
、111M子板(18)と陽極端子板(」4)との間に
直流N、流を通゛1シすると気密容器(21内のガスが
復路ガス系路(7)を経て、陰極ガス室(E5)に供給
され、陰極+91で脱酸素反応が起り、晩酸嚢さ第1,
1こカスが往路用脱酸素ガス弁(24)を経て、L′f
G密容器(2)に供給されろ、ま1ここの脱酸素反応の
際、陽極(lO)から舶生ずる酸素は、#素放出弁(2
5)から系外に放出されろ。
場合には、電気化学的酸素分離装[tμが脱酸素装置と
しての機能を果す。この場合には、往路ガス系路(φに
設けられている往路用脱酸素ガス弁(24) 、酸素放
出弁(25)および復路ガス系路t7Hc設(すらJl
でいろ(夏路用脱酸素ガス弁(26)を開き・往路ガス
系v?5’舅に設けられている往路用酸素供給弁(27
) 、脱酸素残余空気放出弁(28)および復路ガス系
&1i51υに没(すら−1している!!!、気導入弁
(29)を閉じ、循環ポンプ(80)を駆動さ+1つつ
、111M子板(18)と陽極端子板(」4)との間に
直流N、流を通゛1シすると気密容器(21内のガスが
復路ガス系路(7)を経て、陰極ガス室(E5)に供給
され、陰極+91で脱酸素反応が起り、晩酸嚢さ第1,
1こカスが往路用脱酸素ガス弁(24)を経て、L′f
G密容器(2)に供給されろ、ま1ここの脱酸素反応の
際、陽極(lO)から舶生ずる酸素は、#素放出弁(2
5)から系外に放出されろ。
復路がス系路(7)に設けら1’Lfこ緘王1ull償
ブp (81Jはいオ)ゆるりリーフ弁あるいはプロピ
レングリコールの如き蒸気圧の低い液体を1わいろ成体
プPから構成され、脱酸素によって系内が減匝になつf
ことき、この減千を補償するfこめに、大気を系内に自
e的に導入するr二めのらのである。なお、この蛾王補
償の1コめに導入される空気中のvl素をも合わせて電
気化学的酵素分S装置&(81により除去される。
ブp (81Jはいオ)ゆるりリーフ弁あるいはプロピ
レングリコールの如き蒸気圧の低い液体を1わいろ成体
プPから構成され、脱酸素によって系内が減匝になつf
ことき、この減千を補償するfこめに、大気を系内に自
e的に導入するr二めのらのである。なお、この蛾王補
償の1コめに導入される空気中のvl素をも合わせて電
気化学的酵素分S装置&(81により除去される。
このようなカスの醋環と脱酸素操作の繰り返しによって
、気密′@I器t21内の酸素9度が所望値咀で下げら
れろ。
、気密′@I器t21内の酸素9度が所望値咀で下げら
れろ。
11ハ方、気密容器(2)の中の酸素濃度が所望値よ−
)も低すぎる場合には、電気化学的酸素分離装置(8)
が酸素発生装置としての機能を果す。この場合には、往
路用酸素供給弁(n)、脱酸素残余空気放出弁(28)
および空気導入弁(29)を開き、往路用脱酸素ガス弁
(24J 、酸素放出弁(25)および復路用脱酸素ガ
ス弁(26)を閉じ、空気導入ポンプ(32)を駆動さ
せつつ、陰極端子板(18)と陽極端子板(14)との
間に1ば流電流を通電すると、空気が系外がら空気導入
ポンプ(82)によって陰甑ガス室(15)に供給され
、唱欄(91で酸素の電解4元が起り、脱酸素さitf
コガスが脱酸素残余空気放出弁(28)から系外に放出
されろと同時に、陽極(lO)から発生する酸素は、往
路用酸素供給弁(27)を経て気密容器(2)に供給さ
れる。この酸素ガスの供給によって気密容器Q)から追
い出されるガスは酸素濃度検出室(4)および復路ガス
系路(7!に設けられt二過圧補償弁(83)を経て系
外に放出されろ、酸素濃度検出室+41に収納され1こ
酸素濃度計(28)の指示が所望値になつTコとき、I
Q流電流の通電が止められる。
)も低すぎる場合には、電気化学的酸素分離装置(8)
が酸素発生装置としての機能を果す。この場合には、往
路用酸素供給弁(n)、脱酸素残余空気放出弁(28)
および空気導入弁(29)を開き、往路用脱酸素ガス弁
(24J 、酸素放出弁(25)および復路用脱酸素ガ
ス弁(26)を閉じ、空気導入ポンプ(32)を駆動さ
せつつ、陰極端子板(18)と陽極端子板(14)との
間に1ば流電流を通電すると、空気が系外がら空気導入
ポンプ(82)によって陰甑ガス室(15)に供給され
、唱欄(91で酸素の電解4元が起り、脱酸素さitf
コガスが脱酸素残余空気放出弁(28)から系外に放出
されろと同時に、陽極(lO)から発生する酸素は、往
路用酸素供給弁(27)を経て気密容器(2)に供給さ
れる。この酸素ガスの供給によって気密容器Q)から追
い出されるガスは酸素濃度検出室(4)および復路ガス
系路(7!に設けられt二過圧補償弁(83)を経て系
外に放出されろ、酸素濃度検出室+41に収納され1こ
酸素濃度計(28)の指示が所望値になつTコとき、I
Q流電流の通電が止められる。
上述の各種の弁は、減圧補償弁(31)および過圧補償
弁(88)を徐いて、いずれもTL電磁弁tっていて、
電気回路部(5)に組み込まれているシーケンス回路に
よって、自動的にしかも適切な順序にしfこがって開閉
がおこなわれろ、循環ポンプ(3o)および空気導入ポ
ンプ(32)の駆動も一定のシーケソスにし1こかう。
弁(88)を徐いて、いずれもTL電磁弁tっていて、
電気回路部(5)に組み込まれているシーケンス回路に
よって、自動的にしかも適切な順序にしfこがって開閉
がおこなわれろ、循環ポンプ(3o)および空気導入ポ
ンプ(32)の駆動も一定のシーケソスにし1こかう。
気密容器(2)の酸素111度が所望値に到達し1この
ちには、往路用ガスプラグ(19Jと往路用ガスソケッ
ト(21)を切り離すとともに、復唱用ガスプラグ(2
0)と復路用ガスソケット(22)とを切り離すうかく
して気密容器+21と酸素濃度制御装置+11とが切り
離されろ。この気密容器(2)の温度を一定にするtコ
めには、恒温室に入れればよい。
ちには、往路用ガスプラグ(19Jと往路用ガスソケッ
ト(21)を切り離すとともに、復唱用ガスプラグ(2
0)と復路用ガスソケット(22)とを切り離すうかく
して気密容器+21と酸素濃度制御装置+11とが切り
離されろ。この気密容器(2)の温度を一定にするtコ
めには、恒温室に入れればよい。
上述の”電気化学的酸素分離装置1(81の陰甑f91
および陽極(10)の作用面積を2 dm とし、気!
’ff容器+21の内容積を151とし、最初気密容器
(2)内に空気が人っていfこ場合、酸素濃度を20分
で10%および8096 にすることができ1こ、 なお上述の実施例では、電気化学的酸素分離装置兜は、
単セルで構成さitているが、複数のセルでJR成して
もよい6まfこ過圧補償弁(33月よ電磁弁にして、戒
気化学的酸素分離装@(S+を酸素発生装置として作動
させろときにこの弁を開くようにしてもよい、さらには
循環ポンプ(30)と空気導入ポツプ(32)とを共通
にしてひとつのポツプにし、醋環ポンプ(8(りの位置
に設置してもよい。この場合にはを気導入弁(29)も
循環ポンプ(80)に隣接されろことりLする・ 以しR:述せる如く、本発明はひとつの電気1ヒ学的酸
素分離装置に、脱酸素機能と酸素発生機能とをもfこせ
ることに、より、より効率的に酸素濃度を制御すること
が可能で、しかも酸素濃度を制御すべき容器と分離独豆
し得る酸素#度制御¥21!1!および酸素濃度の制御
方法を提供するもので、その工業的価値極めて大である
、
および陽極(10)の作用面積を2 dm とし、気!
’ff容器+21の内容積を151とし、最初気密容器
(2)内に空気が人っていfこ場合、酸素濃度を20分
で10%および8096 にすることができ1こ、 なお上述の実施例では、電気化学的酸素分離装置兜は、
単セルで構成さitているが、複数のセルでJR成して
もよい6まfこ過圧補償弁(33月よ電磁弁にして、戒
気化学的酸素分離装@(S+を酸素発生装置として作動
させろときにこの弁を開くようにしてもよい、さらには
循環ポンプ(30)と空気導入ポツプ(32)とを共通
にしてひとつのポツプにし、醋環ポンプ(8(りの位置
に設置してもよい。この場合にはを気導入弁(29)も
循環ポンプ(80)に隣接されろことりLする・ 以しR:述せる如く、本発明はひとつの電気1ヒ学的酸
素分離装置に、脱酸素機能と酸素発生機能とをもfこせ
ることに、より、より効率的に酸素濃度を制御すること
が可能で、しかも酸素濃度を制御すべき容器と分離独豆
し得る酸素#度制御¥21!1!および酸素濃度の制御
方法を提供するもので、その工業的価値極めて大である
、
第1図は本発明の一実施例にかかる酸素濃度制御システ
ムの系統図を示す。 」・・・・・・酸素濃度制御装置、 2・−・気WI容
器。 旦・・・・・・電気+1j学的酸素分離装4.4・・用
酸素濃度検出器、 5・・・・・K気回路部、 6・・
−・・往路ガス系路、工・−・復路がス系路、 8・・
・・・陽イオン交換膜、 9・・間隙m、oし聞・陽極
。 11・・・・・・陰1jii築電体、12・・・・・・
陽極集電体。 18・・・・・・陰極端子板、14・・−・・尚%端子
板。 I5・・・・・・陰極ガス室、16・・間陽硬水室。 17・・聞セルフレーム、【8・・・・水タンク。 19・・・・・・往路用ガスプラグ、20・・回復路用
ガスプラグ、21・・聞往路用ガスソヶブト。 22・・・・・・復路用ガスソケット、23・・曲酸素
iv1度計。 24・・・・・・往路用酸素ガス弁、25・・・・・・
酸素放出弁。 26・・・・・・復路用脱酸素ガス弁、27・・聞往路
用酸素供給弁、28・・・用脱酸素残余空気放出弁。 29・・・・・空気導入弁、8F+・・曲咽環ポ゛/ブ
。 31・・・・・・減圧補償弁、82・・・・・突気導入
ポツプ。 88・・・・・・過圧補償弁。
ムの系統図を示す。 」・・・・・・酸素濃度制御装置、 2・−・気WI容
器。 旦・・・・・・電気+1j学的酸素分離装4.4・・用
酸素濃度検出器、 5・・・・・K気回路部、 6・・
−・・往路ガス系路、工・−・復路がス系路、 8・・
・・・陽イオン交換膜、 9・・間隙m、oし聞・陽極
。 11・・・・・・陰1jii築電体、12・・・・・・
陽極集電体。 18・・・・・・陰極端子板、14・・−・・尚%端子
板。 I5・・・・・・陰極ガス室、16・・間陽硬水室。 17・・聞セルフレーム、【8・・・・水タンク。 19・・・・・・往路用ガスプラグ、20・・回復路用
ガスプラグ、21・・聞往路用ガスソヶブト。 22・・・・・・復路用ガスソケット、23・・曲酸素
iv1度計。 24・・・・・・往路用酸素ガス弁、25・・・・・・
酸素放出弁。 26・・・・・・復路用脱酸素ガス弁、27・・聞往路
用酸素供給弁、28・・・用脱酸素残余空気放出弁。 29・・・・・空気導入弁、8F+・・曲咽環ポ゛/ブ
。 31・・・・・・減圧補償弁、82・・・・・突気導入
ポツプ。 88・・・・・・過圧補償弁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 !、酸素の選択的電解還元に有効なガス拡散[蓮からな
る陰極と酸素発生電極からなるls極と電解質とからな
り、脱酸素機能と酸素発生機能とを■する(社)気化学
旧酸素分離装置と#l累a度計を収納せる酸素濃度1寅
出室と酸素濃度を制御する1こめの7に気回路部と往路
ガス系路と復路ガス系路とで構成され、往路ガス系路の
先端部に往路用ガスソケットを装着し、往路ガス糸路を
往路用脱酸素ガス系路と往路用酸素発生系路とに分岐せ
しめ、往路用脱酸素ガス糸路に往路用脱酸素ガス弁と脱
酸素残余空気放出弁とを設け、往路用酸素発生系路に往
路用酸素供給弁と酸素放出弁とを設けるとともに、<1
路カス系略の先端部に復路用ガスソケリトを装着し、1
略がス系路に酸素濃度検出室と過圧補償弁と復路用脱酸
素ガス弁と循環ポンプと誠1EPi1]償弁と空気導入
ポンプと7気導入弁とを設けてなることを特徴とする酸
素濃度の制御装置。 2、酸素の選択的電解還元に葡効なガス拡散を極からな
る陰極と酸素発生!仮からなる陽極と電解質とからなり
、脱酸素機能と酸素発生機能とを有する電気化学的酸素
分離装置とfvl素濃度計を収納せる酸素濃度検出室と
酸素濃度を制御するfコめの電気回路部と往路ガス系路
と復路ガス糸路とで構成され、往路ガス糸路の先端部に
往路用ガスフケ1トを装着し・往路ガス系路を往路用脱
酸素ガス系路と往路lfJ酸素発生系路とに分岐せしめ
、往路用脱酸素ガス糸路に住路用説lβ素ガス弁と脱酸
素残余空気放出弁とを設け、往路用酸素発生系路にくし 往路用酸素供給弁と酸素放出弁を設けろとともに復路ガ
ス系路の先端部に復路用ガスソケ°ソトを装着し、復路
ガス系路に酸素#度検出室と過圧補償弁と 復路用脱酸
素ガス弁と鎖環ポンプと減圧→。 償弁と空気導入ポンプと空気導入弁とを設けてなる酸素
濃度の制御装置の往路用ガスソケットおよび復路用ガス
ソケットを酸素濃度を制御すべき気密容器の往路用ガス
プラグおよび復路用ガスブラりにそれぞれ接続し、気密
容器内の酸素濃度が所望値より高すぎる1祭には、往路
用脱酸素ガス弁。 入弁を閉じ、循環ポンプを*qtbせしめつつ、酸繁制
御ψを制御するfコめの′電気回路部から電気化学的酸
素分啼装置に1q流電流を通電せしめることによって、
前記気密祭器に脱酸素され1こガスを開環せしめ、曲記
気WI谷器内の酸素濃度が所望値よりもス弁、酸素放出
弁および復路用脱酸素ガス弁を閉1ン、空気導入ボ゛/
プを駆動させつつ、酸素濃度を制御するr、=めの電気
回路部から電気化学的脱酸素分離装置αに+FfME電
流を9通電せしめろことによってmJ記容器に酸素を供
給せしめるとともに、気密容器から復路用ガスプラグを
経て追い出されてくるガスを過王浦償弁を経て系外に放
出せしめろことによって11u記気密容器の酸素濃度を
制御せしめ、しかるのらに、11u記往路用ガスソケツ
トと往路用ガスプラグおよび復路用ガスソケットと復路
用ガスプラグとをそれぞれ切り離すことを特徴とする酸
素濃度の制御方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16007683A JPS6051610A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 酸素濃度の制御装置および制御方法 |
US06/612,945 US4539086A (en) | 1983-08-31 | 1984-05-23 | Oxygen concentration controlling method and system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16007683A JPS6051610A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 酸素濃度の制御装置および制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6051610A true JPS6051610A (ja) | 1985-03-23 |
JPS6119562B2 JPS6119562B2 (ja) | 1986-05-17 |
Family
ID=15707352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16007683A Granted JPS6051610A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 酸素濃度の制御装置および制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6051610A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102844268A (zh) * | 2010-04-28 | 2012-12-26 | 普莱克斯技术有限公司 | 氧气供应方法及设备 |
JP2014098679A (ja) * | 2012-11-16 | 2014-05-29 | Riken Keiki Co Ltd | 定電位電解式ガスセンサ |
-
1983
- 1983-08-31 JP JP16007683A patent/JPS6051610A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102844268A (zh) * | 2010-04-28 | 2012-12-26 | 普莱克斯技术有限公司 | 氧气供应方法及设备 |
CN102844268B (zh) * | 2010-04-28 | 2014-12-10 | 普莱克斯技术有限公司 | 氧气供应方法及设备 |
JP2014098679A (ja) * | 2012-11-16 | 2014-05-29 | Riken Keiki Co Ltd | 定電位電解式ガスセンサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6119562B2 (ja) | 1986-05-17 |
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