JPS6050796A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JPS6050796A
JPS6050796A JP58159312A JP15931283A JPS6050796A JP S6050796 A JPS6050796 A JP S6050796A JP 58159312 A JP58159312 A JP 58159312A JP 15931283 A JP15931283 A JP 15931283A JP S6050796 A JPS6050796 A JP S6050796A
Authority
JP
Japan
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word line
level
memory cell
lines
word
Prior art date
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Pending
Application number
JP58159312A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takayasu Sakurai
貴康 桜井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP58159312A priority Critical patent/JPS6050796A/en
Publication of JPS6050796A publication Critical patent/JPS6050796A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent malfuction even if there is a slight shift in signal timing by providing plural bit lines crossing the 1st word lines which are set divided into plural lines, and providing a selector consisting of NOR gates for selecting memory cell groups of connected plural sections. CONSTITUTION:When address signals Ak-Al are set and a row decoder 13i and a selection decoder 17' are selected, the 2nd word line WLi goes down to a level ''L'' and the output SD of a selected section selecting circuit 17 is held at the level ''L''; and the memory cell group connected to the 1st word line WLi' is activated and data is read out of or written in memroy cells through bit lines selected by the column decoder. At this time, even if the rising of the potential of the 2nd word line SWLi is delayed, the potential of the 1st word line WLi' rises corresponding to the potential variation of the 2nd word line SWLi, so the 1st word line WLi' is made inactive securely.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、大容量の半導体記憶装置碌に関するもので
、特に動作マージンが大きくかつ信頼性の高い半導体記
憶装置に使用されるものである、 〔発明の技術的背景〕 従来、この種の半導体記憶装置として第1図に示すよう
な、メモリセルを複数のブロックに分割設定したものが
使用されている。なお、ここでは一つの行(1行)に着
目してメモリセル群を2つのブロックに分割した場合に
ついて説明する。図において、WLi、WLi’は複数
(2つ)に分割設定された第1ワード線で、この第1ワ
ード線WLi 、 WLi’と交差するようにピット線
BLB+ BL、 〜BLn + BLnおよびBI、
’ 、 BL1’5BLn’+B L n’が設けられ
、上記第1ワード線WLi、WLi’11、.11.・
・・が配設される。上記ワード線WLI + WLI’
それぞれの一端には、1v(O8FETQ、、O2およ
びQ1’+Q2’から成るセレクタ12゜1!が配設さ
れる。上記MO3FETQ、 、Q1’は、信号線s、
、s、’と第1ワード# WLi 、 WLi’との間
にそれぞれ挿接され、これらIJO3FET Qt 。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a high-capacity semiconductor memory device, and is particularly used for a semiconductor memory device with a large operating margin and high reliability. TECHNICAL BACKGROUND OF THE INVENTION Conventionally, as this type of semiconductor memory device, one in which memory cells are divided into a plurality of blocks as shown in FIG. 1 has been used. Note that here, a case will be described in which the memory cell group is divided into two blocks, focusing on one row (one row). In the figure, WLi and WLi' are first word lines divided into a plurality (two), and pit lines BLB+BL, ~BLn+BLn and BI, intersect with the first word lines WLi and WLi'.
', BL1'5BLn'+BLn' are provided, and the first word lines WLi, WLi'11, . 11.・
... will be installed. The above word line WLI + WLI'
A selector 12゜1! consisting of 1v(O8FETQ, , O2 and Q1'+Q2' is arranged at one end of each. The MO3FETQ, , Q1' is connected to the signal line s,
, s,' and the first words #WLi, WLi', respectively, and these IJO3FETs Qt.

Q、′のゲートはそれぞれ第2ワード線5WLiに接続
される。上記第2ワード線5WLiには、アドレス信号
Ak−Alが供給され行方向のメモリセル群を選択する
ローデコーダ(NANDゲート)IJiの出力が供給さ
れている。また、上記MO3FET Q、、 Q2’は
それぞれ、第1ワード線WLi 、 WLi’の一端と
接地点(Vss)間に挿接され、そのゲートはそれぞれ
信号線S2 、S2’に接続される。上記信号線SI 
、SI′およびS2 y S 2’には、メモリセル群
のセクションを選択するためのアドレス信号へ1〜八〇
が供給されるセクションデコーダ(NANDゲート)1
4、このセクションデコーダ14の出力信号SD とイ
ンヒビツト信号φIとが供給されるNORゲート15、
およびインバータ16から成るセクション選択回路zy
、rfから信号が供給されている。なお、セクション選
択回路17と17′とは同一構成であるので、ここでは
一方の構成のみ具体的に示している。
The gates of Q and ' are respectively connected to the second word line 5WLi. The second word line 5WLi is supplied with an address signal Ak-Al and the output of a row decoder (NAND gate) IJi that selects a memory cell group in the row direction. Furthermore, the MO3FETs Q, Q2' are inserted between one end of the first word lines WLi, WLi' and the ground point (Vss), and their gates are connected to the signal lines S2, S2', respectively. Above signal line SI
, SI' and S2 y S2' are section decoders (NAND gates) 1 to which 1 to 80 are supplied to address signals for selecting sections of the memory cell group.
4. A NOR gate 15 to which the output signal SD of the section decoder 14 and the inhibit signal φI are supplied;
and a section selection circuit zy consisting of an inverter 16
, rf. Note that since the section selection circuits 17 and 17' have the same configuration, only one configuration is specifically shown here.

次に、上記のような構成において、第2図のタイミング
チャートを参照して動作を説明する。
Next, the operation of the above configuration will be explained with reference to the timing chart of FIG.

ローデコーダI31およびセクションデコーダ3− 14に供給されるアドレスA k−A 1 カ時刻to
 において変化すると、このアドレスの変化を受けて時
刻t1においてインヒビット信号φrが所定時間(tl
から12まで)ハイ(%H“)レベルとなる。この時、
セクションテ:r −タI4の出力iは、選択されたセ
クションのみロー(1L“)レベル(ここではセクショ
ンデコーダ1 f 、 r 2’ 、・・・側のメモリ
セルブロックが選択されているものとする)となってい
るので、NORゲート15の出力SD−#xは、インヒ
ビット信号φ工が1H“レベルにある時刻t1からt2
−1での期間′L“レベルとなる。従って、インバータ
Z6の出力5D−fxは1H“レベルである。アドレス
信号Ak−Alによってローデコーダ131が選択され
たとすると、第2ワードlswLtの電位は前記時刻t
、からt2の期間に1L“レベルと彦るので、MOS 
FET Q1’はオン状態となる。また、時刻t2にお
いてNORゲート15の出力SD−<IsIがゞH“レ
ベル、インバータ16の出力SD−+)5Iが1L“レ
ベルとなる5− 4− とMOS FET Q、’がオフ状態となり、NORゲ
ートから出力される′H″レベルの電位によって第1ワ
ード線wLt’が′H”レベルとなって、この第1ワー
ド線WLi’に接続されたメモリセル11゜11、・・
・が活性化され、図示しないカラムデコーダによって選
択されたピッ) i BL1’ * BL1’〜BLn
’ 、 BLn’ の中の所定のビット線からデータが
読み出され、あるいはデータが書き込まれる。
Address A k-A 1 ka time to supplied to row decoder I31 and section decoder 3-14
In response to this change in address, the inhibit signal φr is maintained for a predetermined time (tl
to 12) becomes a high (%H") level. At this time,
The output i of the section decoder I4 is at a low (1L") level only in the selected section (here, it is assumed that the memory cell blocks on the side of the section decoder 1f, r2', . . . are selected). Therefore, the output SD-#x of the NOR gate 15 changes from time t1 when the inhibit signal φ is at the 1H level to t2.
-1, it is at the 'L' level. Therefore, the output 5D-fx of the inverter Z6 is at the 1H level. Assuming that the row decoder 131 is selected by the address signal Ak-Al, the potential of the second word lswLt is at the time t.
, during the period t2, the MOS
FET Q1' is turned on. Further, at time t2, the output SD-<IsI of the NOR gate 15 goes to the H level, the output SD-+)5I of the inverter 16 goes to the 1L level, and the MOS FETs Q and Q are turned off. The first word line wLt' goes to the 'H' level due to the 'H' level potential output from the NOR gate, and the memory cells 11, 11, . . . connected to the first word line WLi'.
・is activated and selected by a column decoder (not shown) i BL1' * BL1' to BLn
Data is read from or written to a predetermined bit line in ', BLn'.

次に、セクションデコーダ14によって1つのセクショ
ン(セクションとはメモリセル群の1ブロツク)が選択
され続けているとし、選択されたセクションの第1ワー
ド線WLi’が選択状態から非選択状態に変化すること
を考える。時刻t3においてアドレス信号へk −A 
Iが変化し、時刻t4〜tllの期間インヒビット信号
が′H“レベルとなると、インバータ16の出刃信号S
D−凸が′H“レベルとなり、MOS FgTQ2′が
オン状態となる。この時、ローデコーダ131の出力は
′H#レベル(非選択状態)であるので1viO8FE
TQ、’ はオフ状態であり、第1ワード線WLi’は
1L”レベルとなる。従って、このワード線WL、’に
接続されたメモリセル群が非活性化される。次に、イン
ヒビッ)期間(14〜ts )が終了してインヒビット
信号φ工が1L”レベルに戻ると、インバータ16の出
力SD−<IsIが1L“レベルとなり、MOS FE
’l’Q2’がオフ状態となるので、ワード線WLi’
は′LHレベルが維持され、選択から非選択への変遷が
終了する。
Next, it is assumed that one section (a section is one block of a group of memory cells) continues to be selected by the section decoder 14, and the first word line WLi' of the selected section changes from the selected state to the unselected state. think about it. k −A to the address signal at time t3
When I changes and the inhibit signal becomes 'H' level during the period from time t4 to tll, the cutting signal S of the inverter 16 changes.
The D-convex becomes 'H' level and MOS FgTQ2' turns on.At this time, the output of the row decoder 131 is at 'H# level (non-selected state), so 1viO8FE
TQ,' is in the off state, and the first word line WLi' is at the 1L" level. Therefore, the memory cell group connected to this word line WL,' is inactivated. Next, the inhibit period) (14~ts) is completed and the inhibit signal φ returns to the 1L" level, the output SD-<IsI of the inverter 16 becomes the 1L" level, and the MOS FE
Since 'l'Q2' is in the off state, word line WLi'
'LH level is maintained, and the transition from selection to non-selection is completed.

上述したように、複数の第1ワード線とこれを選択する
ための第2ワード線とを配設し、1つのローを複数のセ
クションに分割して選択することは、同時に活性化され
るメモリセル数の大幅な削減につながり、動作電流を大
幅に低減できる。
As described above, by providing a plurality of first word lines and a second word line for selecting them, and dividing one row into a plurality of sections for selection, memories that are activated simultaneously can be This leads to a significant reduction in the number of cells and allows for a significant reduction in operating current.

〔背景技術の問題点〕[Problems with background technology]

しかし、上記のような構成では、プロセス的なばらつき
等により、第2図に破線で示したように、第2ワード線
5WLiが′L“レベルがら1H“レベルへ切り替わる
タイミングが、インヒビット信号φ■の終了(1L“レ
ベルへの立ち下がり)より遅れると、インバータ16の
出力sr+−#xが’L“レベルとなり、)408 F
ET Q2’がオフ状態となってからもuos FgT
Q、’のオン状態が維持される。この時、NORゲート
15の出力信号SD−$xは′■“レベルであるので、
ワード線WL i’はuos FET q2′ を介し
て充電される。このため、本来なら非選択であるので1
L“レベルになるはずであるが、5■“レベルと浸りコ
ノワード線wL1′に接続されたメモリセル群が活性化
されたま寸になる。このことは無駄な消費電力を増加さ
せるのみならず、選択しないメモリセルが選択されてい
るため、誤った情報がビット線BL、’〜BLn’の中
のいずれかから読み出される可能性が生ずる。すなわち
、この時の動作モードは誤動作モードとなる。
However, in the above configuration, due to process variations, etc., the timing at which the second word line 5WLi switches from the 'L' level to the 1H level is determined by the inhibit signal φ■, as shown by the broken line in FIG. After the end of (fall to 1L" level), the output sr+-#x of the inverter 16 becomes 'L" level, and )408F
Even after ET Q2' turns off, uos FgT
The on state of Q,' is maintained. At this time, the output signal SD-$x of the NOR gate 15 is at the ``■'' level, so
Word line WL i' is charged via uos FET q2'. For this reason, since it is originally non-selected, 1
Although it should be at the L" level, the memory cell group connected to the word line wL1' remains activated when it reaches the 5" level. This not only increases wasteful power consumption, but also creates the possibility that erroneous information may be read from any of the bit lines BL, `˜BLn', since unselected memory cells are selected. That is, the operation mode at this time becomes a malfunction mode.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明は上記のような事情に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、信号タイミンクに多少のずれ
があっても誤動作を起こさないような、動作マージンが
広く高信頼性を有する半導体記憶装置を提供することで
ある。
This invention was made in view of the above circumstances,
The purpose is to provide a semiconductor memory device with a wide operating margin and high reliability, which does not cause malfunction even if there is a slight deviation in signal timing.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

すなわち、この発明においては、複数に分割設定された
第1ワード線に交差するように複数のビット線を設け、
これら第1ワード線とビット線との各交差位置に対応し
て複数セクションに分割設定されたメモリセル群を設け
る。さらに、上記複数の第1ワード線の一端それぞれに
、上記第1ワード線に接続された複数セクションのメモ
リセル群を選択するNORゲートから成るセレクタを設
け、このセレクタの一方の入力端にそれぞれ第2ワード
線を接続してこの第2ワード線をローデコーダの出力端
に接続する。また、上記セレクタの他方の入力端にそれ
ぞれメモリセル群のセクションの選択信号を供給するセ
クションデコーダの出力41&を接続したものである。
That is, in the present invention, a plurality of bit lines are provided so as to intersect with a first word line which is divided into a plurality of parts,
A memory cell group divided into a plurality of sections is provided corresponding to each intersection of the first word line and the bit line. Further, at one end of each of the plurality of first word lines, a selector consisting of a NOR gate for selecting a group of memory cells in a plurality of sections connected to the first word line is provided, and one input terminal of the selector is provided with a selector including a NOR gate. Two word lines are connected and the second word line is connected to the output end of the row decoder. Furthermore, outputs 41& of section decoders that supply section selection signals of the memory cell group are connected to the other input terminals of the selectors.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。第3図において、前記第1図と同一構成部には同
じ符号を付してその説明は省略する。すなわち、前記第
1図におけるセレクタとして、NORゲート18.18
’f設けたもので、この場合のセクション選択回路77
゜17′としては、HANDゲート(セクションデコー
ダ)14のみで良い。上記NORゲート18゜18′の
一方の入力端はそれぞれ、第2ワード線5WLiに接続
され、他方の入力端はそれぞれセクション選択回路17
 、 J 7’に接続されて成る。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 3, the same components as those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and their explanations will be omitted. That is, as the selector in FIG. 1, the NOR gate 18.18
'f is provided, and the section selection circuit 77 in this case
As 17', only the HAND gate (section decoder) 14 is sufficient. One input terminal of the NOR gates 18° 18' is connected to the second word line 5WLi, and the other input terminal is connected to the section selection circuit 17.
, J7'.

次に、上記のような構成において動作を説明する。時刻
t。においてアドレス信号Ak〜へ1が設定され、ロー
デコーダ131およびセクションデコーダ17’が選択
されると、第2ワード線WLiは′L“レベルとなり、
選択されたセクション選択回路77’(NANDゲート
14)の出力SDは1L“レベルが維持される。従って
、NORゲートZ8′の出力はゝH“レベルとなり、第
1ワード線WLi’の電位が′H“レベルとなってこの
第1ワード線WLi’に接続されたメモリセル群が活性
化される。そして、ピット線BL、’ #π1′〜BL
n’+BLn’ のうち図示しないカラムデコーダによ
って選択されたピット線を介してメモリセルからデータ
が読み出され、あるいはデータが書き込まれる。次に、
アドレス八k −A lが変化(t2)すると、ローデ
コーダ131の出力は5H“レベルとなり、第1ワード
線WLi’は%L”レベルとなる。この時、プロセス的
なばらつき等により第2ワード線8WLiの電位の立ち
上がりが第4図の破線で示すように遅れても、第1ワー
ド1WLi’の電位がこの第2ワード線BWL iの電
位変化に対応して立ち下がるので、第1ワード線WLi
’ を確実に不活性化できる。
Next, the operation in the above configuration will be explained. Time t. When address signal Ak~ is set to 1 and the row decoder 131 and section decoder 17' are selected, the second word line WLi becomes 'L' level.
The output SD of the selected section selection circuit 77' (NAND gate 14) is maintained at the 1L level. Therefore, the output of the NOR gate Z8' becomes the H level, and the potential of the first word line WLi' becomes '1L' level. The memory cell group connected to the first word line WLi' becomes H" level and is activated. Then, the pit lines BL, '#π1' to BL
Data is read from or written to the memory cell via a pit line selected by a column decoder (not shown) among n'+BLn'. next,
When the address 8k-A1 changes (t2), the output of the row decoder 131 becomes the 5H" level, and the first word line WLi' becomes the %L" level. At this time, even if the rise of the potential of the second word line 8WLi is delayed as shown by the broken line in FIG. Since the first word line WLi falls in response to
' can be reliably inactivated.

第5図は、前記第3図におけるNORゲート1 B 、
 I Ill′ヲcMO8構成のスタティックメモリ内
に形成する場合の回路構成例を示している。
FIG. 5 shows the NOR gate 1 B in FIG. 3,
An example of a circuit configuration when formed in a static memory having an MO8 configuration is shown.

第1電位供給源VDDと第2電位供給源VSSとの間に
、第1導電形(Pチャネル形)の第1、第21JOEi
 FgT Q3 、 Q!および第2導電形(Nチャネ
ル形)の第3 MOS FET Q5 が直列接続さに
接続され、上記MO8FEiT Q4 * Qaのゲー
トは信号線SI (あるいはS、′)に接続され、MO
S FET Q4 e Qiの接続点は第1ワード線W
LI (あるいはwLj、’)に接続される。このよう
な構成によれば、少ない素子数でNORゲートを構成で
きる。
The first and 21st JOEi of the first conductivity type (P channel type) are connected between the first potential supply source VDD and the second potential supply source VSS.
FgT Q3, Q! and a third MOS FET Q5 of the second conductivity type (N-channel type) are connected in series, and the gate of the MO8FEiT Q4*Qa is connected to the signal line SI (or S,'),
The connection point of S FET Q4 e Qi is the first word line W
LI (or wLj,'). According to such a configuration, a NOR gate can be configured with a small number of elements.

なお、上記実施し11ではスタティック形の半導体記憶
装置について説明したがダイナミック形のものにも適用
が可能なのはもちろんである。
In the above-described embodiment 11, a static type semiconductor memory device has been described, but it is of course applicable to a dynamic type semiconductor memory device.

ただし、ダイナミック形のものでは、各ブロック毎にリ
フレッシュを行なう必要がある。
However, in the dynamic type, it is necessary to refresh each block.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したようにこの発明によれば、信号タイミング
に多少のずれがあっても誤動作を起こさないような、動
作マージンが広く高信頼性を有する半導体記憶装置が得
られる。
As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a semiconductor memory device which has a wide operating margin and high reliability and does not cause malfunction even if there is a slight deviation in signal timing.

11−11-

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の半導体記憶装置を説明するための回路図
、第2図は上記第1図の回路の動作を説明するためのタ
イミングチャート、第3図はこの発明の一実施例に係る
半導体記憶装置を説明するだめの回路図、第4図は同実
施例の動作を説明するためのタイミングチャート、第5
図は上記第3図におけるNORゲートの構成例を示す回
路図である。 WLi、WLi’・・・第1ワード線、BL、 l B
L、〜BLn r BLn 、 BLj’ r BL、
’〜BLn’+ BLn ・−ピット線、11,11.
・・・、・・・メモリセル、Z8゜18′・・・セレク
タ(NORゲート)、5WLi・・・第2ワード線、A
kNAl、A1〜Aj・・・アドレス信号、131・・
・ローデコーダ、Z 7 、17’・・・セクション選
択回路(セクションデコーダ)、VDD・・・第1電位
供給源、VS19・・・第2電位供給源、Q3〜Q6・
・・第1〜第4 h40s PET0出願人代理人 弁
理士 鈴 江 武 彦12− 第5図 Vo。 手続補正書 昭和58年1′〔)月51.1 特許庁長官 若杉和夫 殿 ■、事件の表示 特願昭片8−159312 号 2・ 発明の名称 半導体記憶装置 3、補正をする渚 事件との関係 特許出願人 αm東京芝浦電気株式会社 4、代理人 住所 東京都港区虎ノ門1丁目26番5号 第17森ビ
ル5、自発補正 6、補正の対象 明細書全文 7、補正の内容 明細書の浄書(内容に変更なし)
FIG. 1 is a circuit diagram for explaining a conventional semiconductor memory device, FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of the circuit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a circuit diagram for explaining the storage device, and FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation of the same embodiment.
This figure is a circuit diagram showing an example of the structure of the NOR gate in FIG. 3 above. WLi, WLi'...first word line, BL, lB
L, ~BLn r BLn, BLj' r BL,
'~BLn'+ BLn - pit line, 11, 11.
...,...Memory cell, Z8゜18'...Selector (NOR gate), 5WLi...Second word line, A
kNAl, A1-Aj...address signal, 131...
- Row decoder, Z7, 17'... section selection circuit (section decoder), VDD... first potential supply source, VS19... second potential supply source, Q3 to Q6.
...1st to 4th h40s PET0 applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue 12- Figure 5 Vo. Procedural amendment 1981 1' [) Month 51.1 Mr. Kazuo Wakasugi, Commissioner of the Japan Patent Office■, Indication of the case Patent application No. 8-159312 No. 2 Name of the invention Semiconductor storage device 3, Name of the amendment with the Nagisa case Related: Patent applicant αm Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. 4, Agent address: 17 Mori Building 5, 1-26-5 Toranomon, Minato-ku, Tokyo, voluntary amendment 6, full text of the specification to be amended 7, description of the contents of the amendment Engraving (no changes to the content)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 +11複数に分割設定された第1ワード線と、これら第
1ワード線に交差するように配設される複数のビット線
と、上記第1ワード線とビット線との各交差位置に対応
して設けられる複数セクションに分割設定されたメモリ
セル群と、上記複数の第1ワード線の一端にそれぞれ設
けられ、上記第1ワード線に接続された複数セクション
のメモリセル群を選択するNORゲートから成るセレク
タと、上記セレクタの一方の入力端にそれぞれ接続され
る第2ワード線と、アドレス信号が供給されこのアドレ
ス信号に応じて上記竿2ワード線を選択するローデコー
ダと、王制セレクタの他方の入力端にメモリセル群のセ
クションの)′へ択信号を供給するセクションデコーダ
とを具備したことを特徴とする半導体記憶装置。 I2)゛前記セレクタを構成するNORゲートは、第1
電位供給源と第2電位供給源間に直列接続される第1導
電形の第1、第21JO8FETおよび第2導電形の第
3 MOS FETと、上記第λ第3 MOS FET
の接続点と第2電位供給源間に挿接される第2導電形の
第4 MOS FETとから成り、上記第1、第4 M
OS FET +7)ゲートは前記第2ワード線に接続
され、上記第2、第3 MOS FETのゲートは前記
セクションデコーダの出力が供給される伏目線に接続さ
れ、上記第2、第31JOEt FE’T’の接続点が
第1ワード線に接続されたことを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の半導体記憶装置。
[Claims] +11 A first word line divided into a plurality of lines, a plurality of bit lines arranged to intersect with these first word lines, and each of the first word line and bit line. A memory cell group divided into a plurality of sections provided corresponding to the intersection position, and a memory cell group of a plurality of sections each provided at one end of the plurality of first word lines and connected to the first word line. a selector consisting of a NOR gate for selection; second word lines each connected to one input end of the selector; a row decoder to which an address signal is supplied and selects the second word line in accordance with the address signal; 1. A semiconductor memory device characterized in that a section decoder is provided at the other input end of the royal selector for supplying a selection signal to section )' of a memory cell group. I2) 'The NOR gate constituting the selector is
The first and 21st JO8FETs of the first conductivity type and the third MOS FET of the second conductivity type are connected in series between the potential supply source and the second potential supply source, and the third λ-th MOS FET is connected in series between the potential supply source and the second potential supply source.
and a fourth MOS FET of a second conductivity type inserted between the connection point of
OS FET +7) gates are connected to the second word line, gates of the second and third MOS FETs are connected to a blind line to which the output of the section decoder is supplied, and the second and 31st JOEt FE'T 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the connection point ' is connected to the first word line.
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JPS62150800U (en) * 1986-03-13 1987-09-24
JPS6363193A (en) * 1986-08-27 1988-03-19 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ Integrated memory circuit

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