JPS60501917A - 濾過した光ビ−ムの発生方法 - Google Patents

濾過した光ビ−ムの発生方法

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JPS60501917A
JPS60501917A JP59502942A JP50294284A JPS60501917A JP S60501917 A JPS60501917 A JP S60501917A JP 59502942 A JP59502942 A JP 59502942A JP 50294284 A JP50294284 A JP 50294284A JP S60501917 A JPS60501917 A JP S60501917A
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light
light beam
exposed
filter
photographic film
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フエランテ,ロナルド エイ
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エヌ・シ−・ア−ル・コ−ポレ−ション
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 濾過した光ビームの発生方法 技術分野 この発明は濾過した光ビームの発生方法に関する・背景技術 ホログラムとは干渉・母ターンが記録されている写真フィルムに与えられた名称 である。干渉ノeターンは通常2つのビーム、すなわち1もは写真フィルム・シ ートに向けられ、他方は物体に向けられるように2つのビームに分光されたコヒ ーレント光源からのビームで作られる。物体に向けられたビームは波の方向の変 化と波面の曲率とによってフィルム・シートに散乱する。
散乱した光波と乱されていないビームが再びフィルムで合体して明るい部分と暗 い部分とから成るパターンに干渉し、写真に記録される。
コヒーレント光源が再びパターン化されたフィルム・シートに向けられると、そ の光は多数の回折次数に回折される・それら多数の回折次数の少くとも1つが物 体から反射した光波と重複して、そのホログラムを見ている人はそのホログラム の後に原物体からフィルムまでの距離に等しい距離に物体が現われるように、そ のホログラムの物体を3次元で見ることができる。観2 察者がその位置を変えてそのホログラムを別の角度から見ると、観察者は物体の 背後をその物体の前面として見ることができる。
ホログラムはUPCコード・ラベルのような物体を走査して干こに含まれている データの読取シに使用することができる。そのような走査構造の例は米国特許第 4224509号に見ることができる。その走査装置で使用するホログラムの製 造に用いるコヒーレント光源はレーデを利用する。コヒーレント光が均一に照射 するということを要求される場合、対物レンズを使用してビームを拡大する。そ して、レーザが断面の形がガウスの曲線に近似するビームを発射するので、コリ メータ・レンズでその拡大を制限する。このレーザ・ビームの欠陥を補うために 光学フィルタが提案された。光学フィルタの例は米国特許第3465347号に 見ることができ、それは光吸収材料の層を持つ球面を有するガラス基板で構成さ れる。しかし、そのような光学フィルタは非常に高価でるる。
発明の開示 従って、この発明の目的は光源から均一な強度のビームを発生する安価な光学フ ィルタを提供することである。故に、この発明はその断面部分の各点から点に強 度が変化する光源を提供し、前記光源から所定の距離で光ビーム中に写真フィル ムを位置決めし°、前記写3 待人sgeo−5o1917(2)真フィルムを 光ビームに露光し、露光した写真フィルムを現像し、前記光源から所定の距離に 前記現像したフィルムを再び挿入してそこを光が通過した部分を選択的に吸収す る各工程を含む露過した光ビームの発生方法を提供する。
図面の簡単な説明 次に、下記の添付図面を参照してその例によりこの発明の詳細な説明する。各図 において対応する要素は同一番号を付しである。
第1図は、ホログラフ走査/ステムに使用されるホログラフ・ディスクを製造す るだめの先行技術システムを示す図である。
第2図は、この発明にょるガウスのビーム・フィルタを製造するシステムを示す 図である。
第3図は、コグツク649F写真乾板を使用した場合の多数の写真ガウス・フィ ルタの理論的電力放射特性を表わす図である。
第4図は、第3図のフィルタの測定電力放射特性を表わす図である。
第5図は、アグハ8E75HD写真乾板を使用した場合の多数の写真ガウス・フ ィルタの理論的電力放射特性を表わす図である。
第6図は、第5次フィルタとコグツク649F写真乾板との理論的比較を表わす 図である。
発明を実施するだめの最良の形態 第1図はホログラフ走査システムで使用するホログラフ・ディスクを製造する先 行技術システムを表わす模式図である。このシステムは2つの光ビーム部分26 及び28に分光するビーム・スジリッタ24に対口て光ビームを反射する鏡22 の方に光出力を照射する5 0 mWヘリー−ムーネオン・レーデ22を含む。
鏡30の方に向けられた光ビーム26はそこで反射して空間フィルタ32を通シ 、ピンホール空間フィルタ34を通過して、ディスク38のマスク36に収束さ れる。光ビーム部分28は鏡40の方に向けられ、そこで反射して、空間フィル タ42、ピンホール空間フィルタ44及びコリメータ・レンズ46を順次通過し て、そこで平行になった光ビームをマスク36の方に向ける。光ビーム部分26 は、マスク36で収束したときには物体ビームとして作用し、平行にされた光ビ ーム部分28は基準ビームとして作用する。それによって、マスク36に干渉じ まを発生してそれがディスク38に設けである重クロム酸塩ゼラチン層に露光さ れる。
ホログラフ・ディスク38の製造コストを下げるための方法として、写真フィル ムなレーザの出力に露光してそれを現像した後、その露光したフィルムをそのも との位置に再び挿入することによシ、フィルタの出力ビームは均一な照射特性を もつもの、になるというととがわかった。そのようなフィルタを製造する場合、 写真乾板50(第2図)(例えば、コダ、り649Fのヨウナ)はその露光距離 dのヘリー−ムーネオン・レーザ52の前にそのレーザの光出力に露光されるよ うに置いた。露光された乾板50は現像液D−19で5分間現像され、停止浴5 B−1で1分間その乾板を処理し、迅速な定着溶剤にその乾板を10分間付け、 定着した乾板を10分間水で洗浄し、それを水及びインプロパツールの5015 0溶液で5分間洗浄し、工OOチイソゾロi9ノール(l5opropanol  )溶液でその乾板を5分間洗浄してから空気乾燥した。乾燥した後、乾板には 外界からの保護のためにカバー板を接着する。
現像した後、その現像乾板50を元の場所に再挿入したところ、その乾板はレー ザの出力ビームの中央部分で最も強く減衰され、レーザ・ビームの原がウス放射 プロフィールを削除したということがわかった。レーザ・ビームのその部分は最 強の光強度を持つ部分であシ、その現像した写真乾板の対応する部分は乾板を通 過する光の量を制限する最も暗い部分である。最低の光強度を持つレーザのこれ ら部分、すなわち乾板のそれに対応する部分は最も明るくなるであろう。乾板5 0の光出力の測定の際に、乾板を濾過した光出力は極めて微細な対物レンズ54 に向けられ、ピンホール・フィルタ56で空間濾過され、そこで出力平面に投射 される雑音のない一定放射コヒーレント・レーザ・ビ6 −ムを発生し、そこでその光の量がUDTメデル181放射計のような光学デテ クタ58で検知され、測定される。
次に、第3図及び第4図はこの発明に従って写真乾板コタ、り649Kに記録さ れた多数のフィルタの放射プロフィールの図を表わす。第3図は理論的フィルタ の放射特性を表わし、第4図は同一フィルタについて測定した放射特性を表わす 。第3図及び第4図の曲線60は明白なガウス効果を表わすフィルタを使用しな いレーザの電力放射の放射プロフィールを開示する。
第4図に示す曲線62は0410秒間レーザの出力に露光したフィルタの出力を 表わし、曲線64は0106秒間露光したものであシ、曲線66は0119秒間 露光し、曲線66は0.163秒間露光したものである。
第4図かられかることは、レーザ出力に対するフィルタの露光時間が長くなると 、写真フィルタを通して放射されるピークが鋭いガウス入力ビームの平坦化が生 じるということである。同様にして、第5図はアグハ8E75HD写真乾板に記 録された多数のフィルタの理論的放射プロフィールを表わし、第6図は第5次フ ィルタとコダック649に写真フィヶタとの理論的比較であ′ 、 る。第5図の曲線と第3図の曲線とを比較してわかることは両図ともガウス入力 ビームの平坦化を表わすという点で両孔剤の応答は非常に似ているということで ある。露光が更に長くなると、過変調75:生じてビームの中央に゛穴″ができ てしまう。比較のために、第6図は649Fフイルタの曲線74よりわずかに広 い修正を有し、立下り端がいくぶん急速な第5次フィルタの曲線72を表わすが 、両面線とも好ましいフィルタ特性を有する。
ここで明確にしなければならないのは、この発明に従って構成される写真吸収フ ィルタは既製の薄い金属のフィルム・フィルタに比較して非常に安価だというこ とである。
FIG、 3 r(C1ll スキ4ンI)長り(狂しρ学fす r(MM) FIG、 6 国 l1g 裾 杏 邦 失

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 断面領域上で強さが点から点に変化する光源(52)を提供し、前記光源 (52)から所定の距離(d)において光ビーム中に写真フィルム(50)を位 置決めし、前記写真フィルムを光ビームに露光し、露光した写真フィルム(50 )を現像し、前記光源(52)から前記所定の距離(d)に前記現像したフィル ム(50)を再び挿入してそこを通過する光の部分を選択的に吸収する各工程を 含む露過した光ビームの発生方法。 2、 前記光源(52)は所定のがウス作用に従って横断面領域上を点から点に 変化する不均一の強さのコヒーレント光ビームを供給するものである請求の範囲 1項記載の方法。 3 前記写真フィルム(50)は前記光源に0.163秒間露光されるコダソク 649F写真フィルムである請求の範囲1項記載の方法。
JP59502942A 1983-08-01 1984-07-30 濾過した光ビ−ムの発生方法 Pending JPS60501917A (ja)

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