JPS6048454B2 - ガラスの製造方法 - Google Patents
ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPS6048454B2 JPS6048454B2 JP52027828A JP2782877A JPS6048454B2 JP S6048454 B2 JPS6048454 B2 JP S6048454B2 JP 52027828 A JP52027828 A JP 52027828A JP 2782877 A JP2782877 A JP 2782877A JP S6048454 B2 JPS6048454 B2 JP S6048454B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- atmosphere
- furnace
- temperature
- vacuum
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- Expired
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘッドの磁気空隙部分に溶着せしめるに適
したガラスの製造方法に関する。
したガラスの製造方法に関する。
高密度磁気記録技術の発展に伴い、高周波電磁気持性が
秀れ、しかも硬度の高いフェライトが磁気ヘッド材料と
して用いられる。
秀れ、しかも硬度の高いフェライトが磁気ヘッド材料と
して用いられる。
しかし最近の磁気記録技術の急速な進歩により、更にフ
ェライト磁気ヘッドの小型化、性能向上が要望されてお
り、このためその磁気空隙部分を非磁性体であるガラス
で融着することが行われている。しかも磁気ヘッドに要
求される磁気空隙部分は０．５〜数μの範囲であり、そ
こでこれらフェライトとガラスの接着条件やガラス材質
の選択が問題となる。そこでフェライトとガラスを融着
する際その加熱過程の雰囲気を真空にしても、尚且、気
泡の発生のないガラスを必要になつた。ガラスに気泡が
」一 ′ −を一 一 魯 、、１”＾ 讐゛ 一 一
゛ 、ｉ、♂τＨ右ざ へ 、リ レ゛ ｎ）’フ
■■）７■■気空隙部のガラス層内に存在し、性能劣化
、及び歩留低下の原因となる。したがつて従来の方法で
はフェライトとガラスとを融着する際の方法として、ガ
ラスは普通市販のものを用い雰囲気を中性雰囲気もしく
は空気中でフェライトとガラスとを融着していた。
ェライト磁気ヘッドの小型化、性能向上が要望されてお
り、このためその磁気空隙部分を非磁性体であるガラス
で融着することが行われている。しかも磁気ヘッドに要
求される磁気空隙部分は０．５〜数μの範囲であり、そ
こでこれらフェライトとガラスの接着条件やガラス材質
の選択が問題となる。そこでフェライトとガラスを融着
する際その加熱過程の雰囲気を真空にしても、尚且、気
泡の発生のないガラスを必要になつた。ガラスに気泡が
」一 ′ −を一 一 魯 、、１”＾ 讐゛ 一 一
゛ 、ｉ、♂τＨ右ざ へ 、リ レ゛ ｎ）’フ
■■）７■■気空隙部のガラス層内に存在し、性能劣化
、及び歩留低下の原因となる。したがつて従来の方法で
はフェライトとガラスとを融着する際の方法として、ガ
ラスは普通市販のものを用い雰囲気を中性雰囲気もしく
は空気中でフェライトとガラスとを融着していた。
しかしながらこの方法では融着処理時において磁気空隙
部のフェライト表面がガラスにより侵蝕され、その境界
面が凸凹となり磁気ヘッドの特性を悪くさせる。したが
つてフェライトとガラスとを融着する際の雰囲気として
は真空雰囲気が望ましく、又真空中においても全く気泡
が発生しないガラスの開発が望まれている。本発明は、
かかる要望を満たすべく、フェライトとガラスとを真空
雰囲気で融着しても全く気泡が発生しないガラスの製造
方法を提供せんとするものである。
部のフェライト表面がガラスにより侵蝕され、その境界
面が凸凹となり磁気ヘッドの特性を悪くさせる。したが
つてフェライトとガラスとを融着する際の雰囲気として
は真空雰囲気が望ましく、又真空中においても全く気泡
が発生しないガラスの開発が望まれている。本発明は、
かかる要望を満たすべく、フェライトとガラスとを真空
雰囲気で融着しても全く気泡が発生しないガラスの製造
方法を提供せんとするものである。
本発明を、第１図、第２図及ひ第３図を用いて説明する
。
。
ガラスの原料７を白金容器８に入れ、Ｊガラスキャップ
４をはづし、電気炉の炉芯管３の中央にセットした後、
しやへい板９を入れガラスキャップ４を炉芯管３にかぶ
せ炉内を気密にする。炉の片方には真空ポンプ６及び切
換コック５並びに真空計２が取りつけてあり、ガラス用
原料丁７を電気炉内にセットした後、真空ポンプを動か
せ炉内雰囲気を真空雰囲気となるようにする。炉内の真
空度が１０−４〜１０−５ＴｆｒＩｎＨｇに達すると、
電気炉に電流を流し炉の温度を第２図の温度プログラム
のように上昇させる。炉の温度上昇につれ炉内のガラス
原料からガスが発生する。このガスの発生は第３図に示
す様にガラス原料に存在する気泡、もしくは原料組成の
化学反応によりガスが発生するものと推定出来る、真空
計２によりガスの発生状況を確認する。又炉の温度は電
気炉に熱電対１を差し込み温度管理を行う。第３図示す
如くガラス原料が相互に反応し合いガラス主成分の組織
になる時に大量のガスが放出され、炉の内部の真空度は
著しく低下をきたす。
４をはづし、電気炉の炉芯管３の中央にセットした後、
しやへい板９を入れガラスキャップ４を炉芯管３にかぶ
せ炉内を気密にする。炉の片方には真空ポンプ６及び切
換コック５並びに真空計２が取りつけてあり、ガラス用
原料丁７を電気炉内にセットした後、真空ポンプを動か
せ炉内雰囲気を真空雰囲気となるようにする。炉内の真
空度が１０−４〜１０−５ＴｆｒＩｎＨｇに達すると、
電気炉に電流を流し炉の温度を第２図の温度プログラム
のように上昇させる。炉の温度上昇につれ炉内のガラス
原料からガスが発生する。このガスの発生は第３図に示
す様にガラス原料に存在する気泡、もしくは原料組成の
化学反応によりガスが発生するものと推定出来る、真空
計２によりガスの発生状況を確認する。又炉の温度は電
気炉に熱電対１を差し込み温度管理を行う。第３図示す
如くガラス原料が相互に反応し合いガラス主成分の組織
になる時に大量のガスが放出され、炉の内部の真空度は
著しく低下をきたす。
このガラス化が生じはじめるのは４５０きＣ〜１０００
℃の温度で生ずる。したがつてこの間真空雰囲気に保ち
ガラス原料から放出されるガスを排気する。その後、ガ
ラス化された焼成物を溶かすため炉の内部を中性雰囲気
若しくは大気雰囲気にすると共に第２図のプログラムの
如く温度上昇させ、引き続いて、同雰囲気中で、溶融ガ
ラスを１０００゜Ｃ程度の温度まで徐冷する。この中性
若しくは大気雰囲気中では溶融ガラス成分のガラス外へ
の飛散は抑制されるが、他方において雰囲気中のガスを
とり込むことになる。従つて、この雰囲気中で溶融ガラ
スを室温まで徐冷させて固化するようにすると固化され
たガラス中に気体を含むことになる。そしてこのように
して得たガラスを磁気ヘッドのギャップ溶着のため真空
雰囲気中で溶着処理するのに使うと気泡の発生を免かれ
ないことになる。本発明方法は、ガラス成分のガラス外
への飛散が生ずる温度域例えば１０００゜Ｃ位まて中性
若しくは大気雰囲気中で徐冷し、その後、この雰囲気中
でとり込んだガスの固化の過程で放出すべく真空雰囲気
に戻して徐冷することを特徴とするものである。このよ
うな方法で作成したガラスはその組成比が安定でかつ真
空中で溶着処理するのに使用しても気泡を発生させない
ものであり、とくに磁気ヘッドのギャップ溶着に適用し
て好適なものである。
℃の温度で生ずる。したがつてこの間真空雰囲気に保ち
ガラス原料から放出されるガスを排気する。その後、ガ
ラス化された焼成物を溶かすため炉の内部を中性雰囲気
若しくは大気雰囲気にすると共に第２図のプログラムの
如く温度上昇させ、引き続いて、同雰囲気中で、溶融ガ
ラスを１０００゜Ｃ程度の温度まで徐冷する。この中性
若しくは大気雰囲気中では溶融ガラス成分のガラス外へ
の飛散は抑制されるが、他方において雰囲気中のガスを
とり込むことになる。従つて、この雰囲気中で溶融ガラ
スを室温まで徐冷させて固化するようにすると固化され
たガラス中に気体を含むことになる。そしてこのように
して得たガラスを磁気ヘッドのギャップ溶着のため真空
雰囲気中で溶着処理するのに使うと気泡の発生を免かれ
ないことになる。本発明方法は、ガラス成分のガラス外
への飛散が生ずる温度域例えば１０００゜Ｃ位まて中性
若しくは大気雰囲気中で徐冷し、その後、この雰囲気中
でとり込んだガスの固化の過程で放出すべく真空雰囲気
に戻して徐冷することを特徴とするものである。このよ
うな方法で作成したガラスはその組成比が安定でかつ真
空中で溶着処理するのに使用しても気泡を発生させない
ものであり、とくに磁気ヘッドのギャップ溶着に適用し
て好適なものである。
次に第１表に示したＳｉＯ２−ＢａＯ−ＢｅＯ系組成の
原料を用いた実施例につき説明する。
原料を用いた実施例につき説明する。
炉内雰囲気は室温から１０００℃までの温度上昇中では
真空雰囲気とした。その間５００℃〜６８０℃の温度で
多量のガスが発生しガラス組織の反応が進められ、更に
８４００Ｃ〜８９０織Ｃで多量の反応ガスが発生しガラ
ス反応が完全になつた気泡のない焼成物が出来たと推定
した。１０００゜Ｃ〜１２５０゜Ｃまで大気中雰囲気と
して炉の温度上昇を行ないこの焼成物を溶融させた後、
炉と大気雰囲気で１０００℃まで下げその後再び真空雰
囲気で炉の温度を下げた。
真空雰囲気とした。その間５００℃〜６８０℃の温度で
多量のガスが発生しガラス組織の反応が進められ、更に
８４００Ｃ〜８９０織Ｃで多量の反応ガスが発生しガラ
ス反応が完全になつた気泡のない焼成物が出来たと推定
した。１０００゜Ｃ〜１２５０゜Ｃまで大気中雰囲気と
して炉の温度上昇を行ないこの焼成物を溶融させた後、
炉と大気雰囲気で１０００℃まで下げその後再び真空雰
囲気で炉の温度を下げた。
この実験で得られたガラスは真空中で溶融しても気泡の
生じないものであつた。
生じないものであつた。
第１図は本発明に用いた電気炉及び雰囲気変換装置の概
略図、第２図は温度及び雰囲気プログラム、第３図はガ
ラス原料を第１図の電気炉の中に入れ炉内の雰囲気を真
空にし炉の温度を上げた場合の試料のガス発生状況を示
す。 主な図番の説明２・・・真空計、３・・・炉芯管、５・
・・切換コック、６・・・真空ポンプ、７・・・原料、
８・・・白金容器。
略図、第２図は温度及び雰囲気プログラム、第３図はガ
ラス原料を第１図の電気炉の中に入れ炉内の雰囲気を真
空にし炉の温度を上げた場合の試料のガス発生状況を示
す。 主な図番の説明２・・・真空計、３・・・炉芯管、５・
・・切換コック、６・・・真空ポンプ、７・・・原料、
８・・・白金容器。
Claims (1)
- １ ＳｉＯ＿２−ＢａＯ−ＢｅＯ系組成のガラス原料を
ガラス生成物焼結体が出来る温度まで真空雰囲気中で焼
成し、その後大気雰囲気中若しくは中性雰囲気中でその
焼成物を溶融してガラス化し引続いてその雰囲気中でガ
ラス成分の飛散を防ぐ温度まで除冷し、次いで真空雰囲
気中で除冷して溶融ガラスを固化してなるガラスの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52027828A JPS6048454B2 (ja) | 1977-03-10 | 1977-03-10 | ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52027828A JPS6048454B2 (ja) | 1977-03-10 | 1977-03-10 | ガラスの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15273785A Division JPS6183633A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53111314A JPS53111314A (en) | 1978-09-28 |
| JPS6048454B2 true JPS6048454B2 (ja) | 1985-10-28 |
Family
ID=12231801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52027828A Expired JPS6048454B2 (ja) | 1977-03-10 | 1977-03-10 | ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048454B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61118753U (ja) * | 1985-01-08 | 1986-07-26 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5495618A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-28 | Nippon Electric Co | Method of sintering glass tablet |
| JPS6183633A (ja) * | 1985-07-11 | 1986-04-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5035209A (ja) * | 1973-07-02 | 1975-04-03 |
-
1977
- 1977-03-10 JP JP52027828A patent/JPS6048454B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5035209A (ja) * | 1973-07-02 | 1975-04-03 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61118753U (ja) * | 1985-01-08 | 1986-07-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53111314A (en) | 1978-09-28 |
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