JPS6042427B2 - gas flow counter - Google Patents
gas flow counterInfo
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- JPS6042427B2 JPS6042427B2 JP5786179A JP5786179A JPS6042427B2 JP S6042427 B2 JPS6042427 B2 JP S6042427B2 JP 5786179 A JP5786179 A JP 5786179A JP 5786179 A JP5786179 A JP 5786179A JP S6042427 B2 JPS6042427 B2 JP S6042427B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、放射線入射窓を有する金属製容器内に陽極
線を絶縁して張り、この容器内に計数用ガスを流通させ
、その容器本体を陰極としてこの容器と陽極線との間に
高電圧を印加し、入射窓を介して容器内に入射する放射
線を計数するようにしたガスフローカウンタに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention involves insulating and stretching an anode wire in a metal container having a radiation entrance window, allowing a counting gas to flow through the container, and using the container body as a cathode to connect the container and the anode. The present invention relates to a gas flow counter that applies a high voltage between a wire and counts radiation that enters a container through an entrance window.
この種の従来のガスフローカウンタにおいては通常、
容器はアルミニウムより成り、また陽極線は金メッキが
施されたタングステン線より成り、この容器を陰極とし
てこの容器と陽極線との間に例えば１０００〜２０００
Ｖの高電圧が印加される。その場合容器内には計数用ガ
スが流通させられ、陰極 用薄膜を張りわたした放射線
入射窓を介して容器内に入射した放射線が陽極線によつ
てパルスの形で検出される。計数用ガスとしては、たと
えばＰＲガス（アルゴンガス＋メタンガス）、Ｑガス（
ヘリウムガス＋イソプタンガス）、プロパンガス、メタ
ンガスなどが使用されている。 第１図は、上記のよう
な構造及ひ作用を有する従来のガスフローカウンタの縦
断面図、第２図はその横断面図である。In this type of conventional gas flow counter, typically
The container is made of aluminum, and the anode wire is made of gold-plated tungsten wire, and the container is used as a cathode.
A high voltage of V is applied. In this case, a counting gas is passed through the container, and the radiation that enters the container through the radiation entrance window, which is covered with a cathode thin film, is detected in the form of pulses by an anode ray. Counting gases include, for example, PR gas (argon gas + methane gas), Q gas (
Helium gas + isoptane gas), propane gas, methane gas, etc. are used. FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view of a conventional gas flow counter having the structure and operation described above, and FIG. 2 is a cross-sectional view thereof.
このガスフローカウンタにおいて容器は金属製の環状枠
体４によつて枠構造が作られこの中には複数本の陽極線
１が絶縁して張られる。容器本体はアルミニウムより成
つていて、陰極として使用される。またその際には容器
はアース１２によつて接地される。陽極線１は通常金メ
ッキが施されたタングステン線より成り、この陽極線１
と容器との間には高電圧が印加される。容器上部ては陰
極用薄膜２が取付板６によつて環状枠体４に取付けられ
て放射線入射窓を形成している。そして陽極線１と容器
本体との間は絶１縁体５によつて絶縁されている。環状
枠体４の互いに対向する枠辺にはガス導入口７とガス導
入口８とが設けられておりこれらの口を経由してガスを
流しつつ放射線の測定が行われる。この時放射線の入射
窓を介して容器内に入射する放射線は、・容器内で放電
を生じ、陽極線１から電気パルスの形で検出されるので
ある。ところで、この種のガスフローカウンタにおいて
は、陰極容器と陽極線との間に印加する高電圧を設定す
るに当たつては、印加電圧と計数率との関係を示すプラ
ト特性が調べられる、このプラト特性は、一定崩壊率Ｎ
を持つ放射線源を放射線入射窓に近づけておき、印加電
圧を徐々に上昇させた際に得られるカウンタ出力（計数
率）を描いたもので、一般的には第３図のような特性曲
線となる。In this gas flow counter, the container has a frame structure made of a metal annular frame 4, and a plurality of anode wires 1 are stretched insulated therein. The container body is made of aluminum and is used as a cathode. Also, in this case, the container is grounded by earth 12. The anode wire 1 is usually made of gold-plated tungsten wire.
A high voltage is applied between the container and the container. At the upper part of the container, a cathode thin film 2 is attached to an annular frame 4 by a mounting plate 6 to form a radiation entrance window. The anode wire 1 and the container body are insulated by an insulator 5. A gas inlet 7 and a gas inlet 8 are provided on opposing sides of the annular frame 4, and radiation is measured while flowing gas through these ports. At this time, the radiation that enters the container through the radiation entrance window causes a discharge within the container, which is detected from the anode wire 1 in the form of an electric pulse. By the way, in this type of gas flow counter, when setting the high voltage to be applied between the cathode container and the anode wire, the Plato characteristic, which shows the relationship between the applied voltage and the counting rate, is investigated. The Plato property is a constant decay rate N
It depicts the counter output (counting rate) obtained when a radiation source with a 2000 kHz is placed close to the radiation entrance window and the applied voltage is gradually increased. Generally, the characteristic curve is as shown in Figure 3. Become.
この第３図において、印加電圧ａを放電開始電圧と称す
る。設定電圧は印加電圧に対してカウンタの出力がほぼ
平担になる区間ｂの電圧が設定される。ところが、上述
した構成を有する従来のガスフローカウンタ、すなわち
放射線入射窓が有機物の薄膜のみでなるガスフローカウ
ンタにおいては、種々の実験の結果、計数用ガスとして
ＰＲガス、メタンガス、プｏ／マンガスを流通させた場
合には第３図に示すようなプラト特性を得られるが、計
数用ガスとしてＱガスを流通させた場合には、連続放電
を起こして、使用不能となることが明らかになつた、第
４図にプラント特性の実験結果を示すが、従来のガスフ
ローカウンタにおいては特性曲線ａにて示すようなプラ
ト特性となり、平担な区間がほとんど存在しない。In FIG. 3, the applied voltage a is referred to as a discharge starting voltage. The set voltage is set to a voltage in section b in which the output of the counter is almost flat with respect to the applied voltage. However, in the conventional gas flow counter having the above-mentioned configuration, that is, the radiation entrance window is made of only a thin film of organic material, as a result of various experiments, it has been found that PR gas, methane gas, and PO/man gas are used as the counting gas. When the gas is allowed to flow, it is possible to obtain the Plato characteristics shown in Figure 3, but it has become clear that when Q gas is used as the counting gas, continuous discharge occurs, making it unusable. , Fig. 4 shows the experimental results of the plant characteristics. In the conventional gas flow counter, a plateau characteristic as shown by the characteristic curve a is obtained, and there are almost no flat sections.
しかし、計数用ガスとしてＱガスを使用した場合には、
他のガスに比較して印加電圧を低く設定できることや、
ガスの増幅度が大きいのでガスフローカウンタ出力側に
前置増幅器を接続する必要がない特の利点がある。However, when Q gas is used as the counting gas,
The applied voltage can be set lower than other gases,
Since the gas amplification degree is high, there is a particular advantage that there is no need to connect a preamplifier to the output side of the gas flow counter.
このため、計数用ガスとしてＱガスを使用することはた
びたび要求され−る。この発明は上述の欠点を除去し、
計数用ガスとしてＱガスを使用した場合にも良好なプラ
ト特性が得られるガスフローカウンタを提供することを
目的とする。For this reason, it is often required to use Q gas as a counting gas. This invention eliminates the above-mentioned drawbacks and
It is an object of the present invention to provide a gas flow counter that can obtain good Plato characteristics even when Q gas is used as a counting gas.
本発明を添付図面の参照して説明する。The invention will now be described with reference to the accompanying drawings.
第５図は本発明のガスフローカウンタの一実施例に使用
される放射線入射窓膜２″の側方断面図である。この実
施例においては、有機材料より成る薄膜９の表面のうち
容器内を流れる計数用ガスに接する・側の面上に金属層
１０を蒸着形成した膜を放射線入射窓に使用している。
第５図に示された放射線入射窓膜では薄膜９はポリエチ
レンテレフタレートから作られており、この薄膜９の計
数用ガスに接する側の面上には金属層１０として金また
はニッケルが蒸着形成されている。こうして作られた放
射線入射窓膜２″は表面に金属層１０が薄く蒸着形成さ
れているため、電導性を有し、又その金属層１０は計数
用ガスとしてＱガスを用いた場合でも安定なプラト特性
を与える金属である。こうして作られた放射線入射窓膜
２″を第１図に示さｊれた従来の放射線入射窓膜２と同
様にして容器の上部に取付け固定して使用したところ、
計数用ガスとしてＱガスを用いても十分安定なプラト特
性をとることが可能となつた。一方薄膜９に金又はニッ
ケル以外の金属例えばアルミ又はスズを蒸着して放射線
入射窓膜に用いても計数用ガスとしてＱガスを用いた場
合、そのプラト特性曲線は第４図ａに示す様になり平担
なる部分はほとんど得ることが不可能になつた。また、
金属層１０としてクロムを使うことを検討したが、クロ
ムを使うと”なるとこの材料は材料費が安いという点で
は秀れているが、陰極用薄膜は使用時にあつては外部か
ら動的な応力を受ける上、クロム層の蒸着時に生じた残
留応力の影響によりクロム層に細かな亀裂が入るため、
電気伝導度が経時変化によつて低下し陰極として使用で
きなくなつた。以上に説明するように、本発明によれば
、放射線入射窓膜に用いる有機物の薄膜の上に金または
ニッケルの金属層を形成し導通を与えることにより計数
用ガスとしてＱガスを用いても十分安定なプラト特性を
得ることが可能になつた。FIG. 5 is a side cross-sectional view of a radiation entrance window film 2'' used in an embodiment of the gas flow counter of the present invention. A film in which a metal layer 10 is deposited on the side surface in contact with the counting gas flowing through the radiation entrance window is used as the radiation entrance window.
In the radiation entrance window film shown in FIG. 5, a thin film 9 is made of polyethylene terephthalate, and a metal layer 10 of gold or nickel is deposited on the side of the thin film 9 that contacts the counting gas. There is. Since the radiation entrance window film 2'' thus produced has a thin metal layer 10 deposited on its surface, it has electrical conductivity, and the metal layer 10 is stable even when Q gas is used as the counting gas. It is a metal that gives Plato characteristics. When the radiation entrance window film 2'' thus produced was attached and fixed to the top of a container in the same manner as the conventional radiation entrance window film 2 shown in FIG.
Even when Q gas is used as the counting gas, it has become possible to obtain sufficiently stable Plato characteristics. On the other hand, if a metal other than gold or nickel, such as aluminum or tin, is vapor-deposited on the thin film 9 and used as the radiation entrance window film, but Q gas is used as the counting gas, the Plato characteristic curve will be as shown in Figure 4a. It has become almost impossible to obtain the simple parts. Also,
We considered using chromium for the metal layer 10, but if we use chromium, this material is excellent in terms of low material cost, but the thin film for the cathode is susceptible to external dynamic stress during use. In addition, fine cracks appear in the chromium layer due to the influence of residual stress generated during evaporation of the chromium layer.
The electrical conductivity decreased over time, making it unusable as a cathode. As explained above, according to the present invention, a gold or nickel metal layer is formed on the organic thin film used for the radiation entrance window film to provide electrical conductivity, thereby making it possible to use Q gas as the counting gas. It became possible to obtain stable plateau characteristics.
第１図はガスフローカウンタの縦断面図、第２図はガス
フローカウンタの横断面図、第３図はガスフローカウン
タの特性曲線、第４図は計数用ガスとしてＱガスを用い
た際のガスフローカウンタの特性曲線、第５図は本発明
のガスフローカウンタの放射線入射窓膜の部分断面図で
ある。
図面中の符号の説明（第１図及び第５図）、１・・・陽
極線、２，２″・・・放射線入射窓膜、３・・・陰極板
、４・・・環状枠体、５・・・絶縁物、６・・・取付板
、７・・・ガス導入口、８・・・ガス導出口、９・・・
薄膜、１０・・・金属層、１１・・・アース。Figure 1 is a longitudinal cross-sectional view of the gas flow counter, Figure 2 is a cross-sectional view of the gas flow counter, Figure 3 is the characteristic curve of the gas flow counter, and Figure 4 is the graph when Q gas is used as the counting gas. Characteristic Curve of Gas Flow Counter, FIG. 5 is a partial cross-sectional view of the radiation entrance window film of the gas flow counter of the present invention. Explanation of symbols in the drawings (Figures 1 and 5), 1... Anode wire, 2,2''... Radiation entrance window film, 3... Cathode plate, 4... Annular frame, 5... Insulator, 6... Mounting plate, 7... Gas inlet, 8... Gas outlet, 9...
Thin film, 10... Metal layer, 11... Earth.
Claims (1)
金属製容器内に陽極線を絶縁して張り、この容器内に計
数用ガスを流通させ、前記容器の本体を陰極としてこの
容器と前記陽極線との間に高電圧を印加し、前記放射線
入射窓を介して前記容器内に入射する放射線を計数する
ようにしたカウンタにおいて、前記放射線入射窓に張り
わたされた陰極用薄膜として、有機材料から成る薄膜と
この薄膜の計数用ガスに接する側の面上に形成された金
またはニッケルより成る金属層とから構成された膜を用
いることを特徴とするガスフローカウンタ1. An anode wire is insulated and stretched in a metal container having a radiation entrance window covered with a cathode thin film, and a counting gas is passed through the container to connect the container and the anode with the main body of the container as the cathode. In a counter that applies a high voltage between a wire and counts radiation that enters the container through the radiation entrance window, an organic material is used as a thin film for the cathode spread over the radiation entrance window. and a metal layer made of gold or nickel formed on the side of the thin film that is in contact with the counting gas.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5786179A JPS6042427B2 (en) | 1979-05-11 | 1979-05-11 | gas flow counter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5786179A JPS6042427B2 (en) | 1979-05-11 | 1979-05-11 | gas flow counter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55149892A JPS55149892A (en) | 1980-11-21 |
| JPS6042427B2 true JPS6042427B2 (en) | 1985-09-21 |
Family
ID=13067768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5786179A Expired JPS6042427B2 (en) | 1979-05-11 | 1979-05-11 | gas flow counter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042427B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0196239U (en) * | 1987-12-09 | 1989-06-26 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6166356A (en) * | 1984-09-07 | 1986-04-05 | Riken Keiki Kk | Ion chamber for radiation detecting device |
-
1979
- 1979-05-11 JP JP5786179A patent/JPS6042427B2/en not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0196239U (en) * | 1987-12-09 | 1989-06-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55149892A (en) | 1980-11-21 |
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