JPS5919411B2 - gas flow counter - Google Patents

gas flow counter

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Publication number
JPS5919411B2
JPS5919411B2 JP16067077A JP16067077A JPS5919411B2 JP S5919411 B2 JPS5919411 B2 JP S5919411B2 JP 16067077 A JP16067077 A JP 16067077A JP 16067077 A JP16067077 A JP 16067077A JP S5919411 B2 JPS5919411 B2 JP S5919411B2
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JP
Japan
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gas
container
gas flow
flow counter
counting
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JP16067077A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS5489790A (en
Inventor
悦雄 河野
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
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Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J47/00Tubes for determining the presence, intensity, density or energy of radiation or particles
    • H01J47/06Proportional counter tubes
    • H01J47/062Multiwire proportional counter tubes

Landscapes

  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は放射線入射窓を有する金属製容器内に陽極線を
絶縁して張り、この容器内に計数用ガスを流通させ、そ
の容器を陰極としてこの容器と陽極線との間に高電圧を
印加し、入射窓を介して容器内に入射する放射線を計数
するようにしたガスフローカウンタに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention involves insulating and stretching an anode wire in a metal container having a radiation entrance window, allowing a counting gas to flow through the container, and using the container as a cathode to connect the container and the anode wire. The present invention relates to a gas flow counter that counts radiation incident into a container through an entrance window by applying a high voltage between the two.

この種の従来のガスフローカウンタにおいては、容器は
アルミニウムより成り、また陽極線は金メッキが施され
たタングステン線より成り、この容器を陰極としてこの
陰極と陽極線との間に例えば1000〜2000Vの高
電圧が印加される。
In this type of conventional gas flow counter, the container is made of aluminum, and the anode wire is made of gold-plated tungsten wire.The container is used as a cathode, and a voltage of, for example, 1000 to 2000 V is applied between the cathode and the anode wire. High voltage is applied.

その場合、容器内には計数用ガスが流通させられ、放射
線入射窓を介して容器内に入射した放射線が陽極線によ
ってパルスの形で検出される。
In this case, a counting gas is passed through the container, and the radiation incident on the container through the radiation entrance window is detected in the form of pulses by the anode beam.

計数用ガスとしては、たとえばPRガス(アルゴンガス
十メタンガス)、Qガス(ヘリウムガス+イソフ゛タン
ガス)、プロパンガス、メタンガスなどが使用されてい
る。
As the counting gas, for example, PR gas (argon gas + methane gas), Q gas (helium gas + isophytane gas), propane gas, methane gas, etc. are used.

ところで、この種のガスフローカウンタにおいては、陰
極容器と陽極線との間に印加する高電圧を設定するに当
たっては、印加電圧と計数率との関係を示すプラトー特
性が調べられる。
By the way, in this type of gas flow counter, when setting the high voltage to be applied between the cathode container and the anode wire, a plateau characteristic indicating the relationship between the applied voltage and the counting rate is investigated.

このプラトー特性は、一定計数率Nを持つ放射線源を放
射窓に近づけておき、印加電圧を徐々に上昇させた際に
得られるカウンタ出力(計数率)を描いたもので、一般
的には第1図のような特性線となる。
This plateau characteristic depicts the counter output (count rate) obtained when a radiation source with a constant count rate N is kept close to the emission window and the applied voltage is gradually increased. The characteristic line will be as shown in Figure 1.

この第1図において、印加電圧aを放電開始電圧と称す
る。
In FIG. 1, the applied voltage a is referred to as the discharge starting voltage.

設定電圧は、印加電圧に対してカウンタ出力がほぼ平担
になる区間すの電圧が設定される。
The set voltage is set to a voltage in a section where the counter output is almost flat with respect to the applied voltage.

ところが、上述した構成を有する従来のガスフローカウ
ンタ、すなわち陰極がアルミニウム地肌を持つ容器より
成るガスフローカウンタにおいては、種々の実験の結果
、計数用ガスとしてPRガス、メタンガス、プロパンガ
スを流通させた場合には、第1図に図すようなプラトー
特性が得られるが、計数用ガスとしてQガスを流通させ
た場合には、連続放電を起こして、使用不能となってし
まうことが判明した。
However, in the conventional gas flow counter having the above-mentioned configuration, that is, a gas flow counter whose cathode is made of a container with an aluminum surface, as a result of various experiments, it was found that PR gas, methane gas, and propane gas were allowed to flow as counting gases. In this case, a plateau characteristic as shown in FIG. 1 can be obtained, but it has been found that when Q gas is passed as a counting gas, continuous discharge occurs and the device becomes unusable.

すなわち、第4図にプラトー特性の実験結果を示すが、
従来のガスフローカウンタにおいては、特性線aにて示
すようなプラトー特性となり、平担な区間が存在しない
In other words, Figure 4 shows the experimental results of plateau characteristics.
A conventional gas flow counter has a plateau characteristic as shown by characteristic line a, and there is no flat section.

ところで、計数用ガスとしてQガスを使用した場合には
、他のガスに比較して、印加電圧を低く設定できること
や、ガスの増幅度が大きいので、:カウンタ出力側にス
ケーラを接続しなくてもよいなどの利点がある。
By the way, when Q gas is used as a counting gas, the applied voltage can be set lower than with other gases, and the amplification degree of the gas is large. Therefore, it is not necessary to connect a scaler to the counter output side. It has the advantage of being good.

従って、計数用ガスとしてQガスを使用することはたび
たび要求される。
Therefore, it is often required to use Q gas as a counting gas.

本発明は、このような点に鑑みてなされ、計数用ガスと
してQガスを使用した場合にも、良好なプラトー特性が
得られるガスフローカウンタを提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide a gas flow counter that can obtain good plateau characteristics even when Q gas is used as a counting gas.

本発明者は、このような目的を達成すべ(、数数の研究
および種々の実験を重ねた結果、陰極容器の内壁面にク
ロム膜を施こすことにより、良好なプラトー特性が得ら
れることを見出した。
In order to achieve this objective, the present inventor has conducted numerous studies and various experiments, and has found that good plateau characteristics can be obtained by applying a chromium film to the inner wall surface of the cathode container. I found it.

本発明の優れた実施例においては、クロム膜はクロムの
蒸着膜より成る。
In a preferred embodiment of the invention, the chromium film comprises a vapor deposited film of chromium.

また、本発明の他の優れた実施例においては、クロム膜
はクロムのメッキ膜より成る。
In another preferred embodiment of the present invention, the chromium film is a chromium plated film.

次に本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する
Next, one embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第2図は本発明の一実施例の縦断面図、第3図はその横
断面図である。
FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view of one embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view thereof.

容器2には複数本の陽極線1が絶縁して張られる。A plurality of anode wires 1 are insulated and stretched around the container 2.

この容器2はアルミニウムより成り、陰極として使用さ
れる。
This container 2 is made of aluminum and is used as a cathode.

その際に、この容器2は接地される。At this time, this container 2 is grounded.

陽極線1は金メッキが施こされたタスクステン線より成
り、この陽極線1と容器2との間には高電圧H(V)が
印加される。
The anode wire 1 is made of gold-plated Tasksten wire, and a high voltage H (V) is applied between the anode wire 1 and the container 2.

容器2には、薄膜より成る放射線入射窓3が設けられる
The container 2 is provided with a radiation entrance window 3 made of a thin film.

4は電場補正管であり、5は陽極線1と容器2との間を
絶縁する絶縁体である。
4 is an electric field correction tube, and 5 is an insulator that insulates between the anode wire 1 and the container 2.

6は入射窓3の保護板、7はO−リングである。6 is a protection plate for the entrance window 3, and 7 is an O-ring.

この容器2内には、ガス人口8から計数用ガスが導入さ
れ、ガス出口9を介して導出される。
Counting gas is introduced into this container 2 from a gas port 8 and is led out via a gas outlet 9.

本発明においては、容器2の内壁面上にクロム膜10が
施こされており、このクロム膜10はクロムの蒸着膜も
しくはクロムのメッキ膜よりなる。
In the present invention, a chromium film 10 is applied on the inner wall surface of the container 2, and this chromium film 10 is made of a chromium vapor deposited film or a chromium plating film.

しかして、入射窓3を介して容器2内に入射する放射線
は、容器2内で放電を生じ、陽極線から電気パルスの形
で取出される。
The radiation that enters the container 2 through the entrance window 3 thus causes a discharge within the container 2 and is extracted from the anode wire in the form of electrical pulses.

第4図は計数用ガスとしてQガスを使用した場合のベー
タ線プラトー特性実験結果を示し、特性線すは本発明の
一実施例のプラトー特性線である。
FIG. 4 shows the beta ray plateau characteristic experimental results when Q gas is used as the counting gas, and the characteristic line is the plateau characteristic line of one embodiment of the present invention.

この第4図の実験結果によれば、容器2の内壁面にクロ
ム膜を施こすということだけで、良好なプラトー特性が
得られることが判明した。
According to the experimental results shown in FIG. 4, it was found that good plateau characteristics could be obtained simply by applying a chromium film to the inner wall surface of the container 2.

なお、現時点では、容器2の内壁面に単にクロム膜を施
こすだけで、何故、第4図の特性線すにて示すような良
好なプラトー特性が得られるのがという理論的裏付けに
ついては不明である。
At present, it is unclear why the good plateau characteristics shown by the characteristic line in Figure 4 can be obtained by simply applying a chromium film to the inner wall surface of the container 2. It is.

第5図は、本発明の一実施例において、計数用ガスとし
てPRガスを所用した際のプラトー特性の実験結果であ
る。
FIG. 5 shows experimental results of plateau characteristics when PR gas was used as the counting gas in one embodiment of the present invention.

この第5図の実験結果からも明らかなように、本発明に
おいては、計数用ガスとしては、Qガスのみならず、他
のガスたとえばPRガスも使用できることがわかる。
As is clear from the experimental results shown in FIG. 5, in the present invention, not only Q gas but also other gases such as PR gas can be used as the counting gas.

以上に説明したように、本発明によれば、陰極容器の内
壁面上にクロム膜を施こすだけで、計数用ガスとしてQ
ガスを使用した場合にも、第4図の特性線すにて示すよ
うに、良好なプラトー特性が得られる。
As explained above, according to the present invention, by simply applying a chromium film on the inner wall surface of the cathode container, Q
Even when gas is used, good plateau characteristics can be obtained as shown by the characteristic line in FIG.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はガスフローカウンタの一般的なプラトー特性図
、第2図は本発明の一実施例の縦断面図、第3図はその
横断面図、第4図は計数用ガスとしてQガスを使用した
場合の、従来のガスフローカウンタとの本発明の一実施
例とのプラトー特性の相違を説明するための実験結果を
示す特性図、第5図は計数用ガスとしてPRガスを使用
した場合の本発明の一実施例のプラトー特性図である。 1:陽極線、2:容器、3:放射線入射窓、5:絶縁体
、8:ガス入口、9:ガス出口、10ニクロム膜。
Fig. 1 is a general plateau characteristic diagram of a gas flow counter, Fig. 2 is a longitudinal cross-sectional view of an embodiment of the present invention, Fig. 3 is a cross-sectional view thereof, and Fig. 4 shows Q gas as a counting gas. A characteristic diagram showing the experimental results for explaining the difference in plateau characteristics between a conventional gas flow counter and an embodiment of the present invention when used. Figure 5 shows a case where PR gas is used as the counting gas. FIG. 3 is a plateau characteristic diagram of an embodiment of the present invention. 1: anode wire, 2: container, 3: radiation entrance window, 5: insulator, 8: gas inlet, 9: gas outlet, 10 nichrome film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 放射線入射窓を有する金属製容器内に陽極線を絶縁
して張り、この容器内に計数用ガスを流通させ、前記容
器を陰極としてこの容器と前記陽極線との間に高電圧を
印加し、前記入射窓を介して前記容器内に入射する放射
線を計数するようにしたカウンタにおいて、前記容器の
内壁面にクロム膜を施したことを特徴とするガスフロー
カウンタ。 2、特許請求の範囲第1項記載のカウンタにおいて、ク
ロム膜はクロムの蒸着膜より成ることを特徴とするガス
フローカウンタ。 3 特許請求の範囲第1項記載のカウンタにおいて、ク
ロム膜はクロムのメッキ膜より成ることを特徴とするガ
スフローカウンタ。 4 特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかの項
に記載のカウンタにおいて、計数用ガスはQガスである
ことを特徴とするガスフローカウンタ。 5 特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかの項
に記載のカウンタにおいて、容器はアルミニュウムより
成ることを特徴とするガスフローカウンタ。 6 特許請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかの項
に記載のカウンタにおいて、陽極線は金メッキが施され
たタングステン線であることを特徴とするガスフローカ
ウンタ。
[Claims] 1. An anode wire is insulated and stretched in a metal container having a radiation entrance window, a counting gas is passed through the container, and the container is used as a cathode between the container and the anode wire. 1. A gas flow counter that counts radiation incident into the container through the entrance window by applying a high voltage to the container, wherein a chromium film is applied to the inner wall surface of the container. 2. A gas flow counter according to claim 1, wherein the chromium film is a vapor-deposited chromium film. 3. A gas flow counter according to claim 1, wherein the chromium film is a chromium plating film. 4. A gas flow counter according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the counting gas is Q gas. 5. A gas flow counter according to any one of claims 1 to 4, wherein the container is made of aluminum. 6. A gas flow counter according to any one of claims 1 to 5, wherein the anode wire is a gold-plated tungsten wire.
JP16067077A 1977-12-27 1977-12-27 gas flow counter Expired JPS5919411B2 (en)

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