JPS6040751B2 - 強誘電体画像表示装置 - Google Patents
強誘電体画像表示装置Info
- Publication number
- JPS6040751B2 JPS6040751B2 JP53145247A JP14524778A JPS6040751B2 JP S6040751 B2 JPS6040751 B2 JP S6040751B2 JP 53145247 A JP53145247 A JP 53145247A JP 14524778 A JP14524778 A JP 14524778A JP S6040751 B2 JPS6040751 B2 JP S6040751B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- detector
- matrix
- heat sink
- switch
- ferroelectric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/49—Pick-up adapted for an input of electromagnetic radiation other than visible light and having an electric output, e.g. for an input of X-rays, for an input of infrared radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/20—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from infrared radiation only
- H04N23/23—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from infrared radiation only from thermal infrared radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N15/00—Thermoelectric devices without a junction of dissimilar materials; Thermomagnetic devices, e.g. using the Nernst-Ettingshausen effect
- H10N15/10—Thermoelectric devices using thermal change of the dielectric constant, e.g. working above and below the Curie point
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Signal Processing (AREA)
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- Electromagnetism (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は熱的画像表示装置に関係し、より詳しく改良さ
れた強議電体画像表示装置に関係する。
れた強議電体画像表示装置に関係する。
従来技術従来、強議電体画像表示装置はしンズ装置、検
出器マトリックス、滋動読出し電子装置、画像処理装置
、タイミングコントロール装置および表示手段を含んで
いた。
出器マトリックス、滋動読出し電子装置、画像処理装置
、タイミングコントロール装置および表示手段を含んで
いた。
検出器マトリックスは強議電体材料の対向する主表面上
にそれぞれ形成された直交するりードパターンを備えた
強議解体材料スラブを含む。謙竜体となる強議電体材料
と共にプレートを構成する直交するりードパターンの交
点は検出器マトリックスを構成するコンデンサ型素子と
なる。コンデンサは温度依存性があり強議電体変換器の
基礎である。そのように製造された検出器マトリックス
の検出器素子は行列状にある。検出器マトリックスはハ
ウジング内に配置され、1行を除いて全部の行がレンズ
装置の前にありそこを通過する赤外線エネルギーを受け
とる。その残りの行は窓を通過する赤外線エネルギーか
らしやへいれ、基準検出器素子の行となる。検出器マト
リックスは駆動議出し電子装置に結合される。
にそれぞれ形成された直交するりードパターンを備えた
強議解体材料スラブを含む。謙竜体となる強議電体材料
と共にプレートを構成する直交するりードパターンの交
点は検出器マトリックスを構成するコンデンサ型素子と
なる。コンデンサは温度依存性があり強議電体変換器の
基礎である。そのように製造された検出器マトリックス
の検出器素子は行列状にある。検出器マトリックスはハ
ウジング内に配置され、1行を除いて全部の行がレンズ
装置の前にありそこを通過する赤外線エネルギーを受け
とる。その残りの行は窓を通過する赤外線エネルギーか
らしやへいれ、基準検出器素子の行となる。検出器マト
リックスは駆動議出し電子装置に結合される。
駆動電子装置は走査マルチプレクサと一対の正弦波信号
発振器を含む。検出器素子の基準の行は第1の正弦波信
号発振器に結合され、検出器素子の残りの行は第2の正
弦波信号発振器にスウィツチおよびマルチプレクサを介
して結合されている。議出し電子装置は検出器素子の列
に結合された前置増幅器を含み、その出力は信号マルチ
プレクサに結合されている。信号マルチプレクサは表示
装置に結合された画像処理装置に結合されている。上記
の配列で、赤外線レンズ装置は検出器マトリックスに赤
外画像を集東させる。
発振器を含む。検出器素子の基準の行は第1の正弦波信
号発振器に結合され、検出器素子の残りの行は第2の正
弦波信号発振器にスウィツチおよびマルチプレクサを介
して結合されている。議出し電子装置は検出器素子の列
に結合された前置増幅器を含み、その出力は信号マルチ
プレクサに結合されている。信号マルチプレクサは表示
装置に結合された画像処理装置に結合されている。上記
の配列で、赤外線レンズ装置は検出器マトリックスに赤
外画像を集東させる。
それから、タイミングコントロール装置の指令によって
駆動走査マルチプレクサは第2の正弦波信号発振器を検
出器素子の行に連続的に結合する。その発振器の出力は
検出器素子の各行を順々に充電する。各行の各々の検出
器素子の電荷はそこに入ってくる熱エネルギーの強さに
より変化される。検出器素子の列に結合された基準検出
器素子は発振器により充電される。タイミングコントロ
ール装置の指令によって議出し電子装置の信号マルチプ
レクサは1つの行の検出器素子の各素子を画像処理装置
に連続的に結合する。基準検出器素子の出力信号は検出
器素子の行の出力に結合され、電荷の差に等しい信号が
発生され前贋増幅器により増幅されデコーダにより符号
化されて画像処理装置に入れられる。議出しマルチプレ
クサはブラウン管に表示する画像を表わす画像信号を発
生するように検出器の素子を連続的に結合する。ここで
説明した強議電体画像表示装置は1977年5月13日
付米国出願第796,785号により詳しく説明されて
いる。従来技術の欠点従来の技術による装置は多くの欠
点を持っている。
駆動走査マルチプレクサは第2の正弦波信号発振器を検
出器素子の行に連続的に結合する。その発振器の出力は
検出器素子の各行を順々に充電する。各行の各々の検出
器素子の電荷はそこに入ってくる熱エネルギーの強さに
より変化される。検出器素子の列に結合された基準検出
器素子は発振器により充電される。タイミングコントロ
ール装置の指令によって議出し電子装置の信号マルチプ
レクサは1つの行の検出器素子の各素子を画像処理装置
に連続的に結合する。基準検出器素子の出力信号は検出
器素子の行の出力に結合され、電荷の差に等しい信号が
発生され前贋増幅器により増幅されデコーダにより符号
化されて画像処理装置に入れられる。議出しマルチプレ
クサはブラウン管に表示する画像を表わす画像信号を発
生するように検出器の素子を連続的に結合する。ここで
説明した強議電体画像表示装置は1977年5月13日
付米国出願第796,785号により詳しく説明されて
いる。従来技術の欠点従来の技術による装置は多くの欠
点を持っている。
欠点の例として、検出器素子の任意列に沿ってしかもア
ドレス指定されていない行にある各々の素子の電気容量
のために検出器素子のその列に存在するシャント電気容
量、素子から素子への電気容量均一性のために存在する
固定パターンノイズ、保護熱的インピーダンスが存在し
ないために検出器素子と基板との間に存在する熱的短絡
などがある。別の欠点がなおあり、コンデンサ上部表面
が感知ラインとして用いられる時、検出器上部表面を個
々のプリアンプまたは個々のスウイツチにボールボンデ
イッグされなければならない。
ドレス指定されていない行にある各々の素子の電気容量
のために検出器素子のその列に存在するシャント電気容
量、素子から素子への電気容量均一性のために存在する
固定パターンノイズ、保護熱的インピーダンスが存在し
ないために検出器素子と基板との間に存在する熱的短絡
などがある。別の欠点がなおあり、コンデンサ上部表面
が感知ラインとして用いられる時、検出器上部表面を個
々のプリアンプまたは個々のスウイツチにボールボンデ
イッグされなければならない。
マルチボールボンディングは生産量および技術上の複雑
さのために好ましくない。また前層増幅器の数を減少さ
せるためにただ1つの前畳増幅器を共有することは寄生
電気容量の大きさのため好ましくない。さらに感知ライ
ンを形成する導通性ストリップは伝送線の電気特性を持
っており、この特性は任意の1つのラインまたは検出器
がアドレス指定される速度を制限する。発明が解決しよ
うとする問題点 したがって、改良された強議電体画像表示装置を提供す
ることが本発明の目的である。
さのために好ましくない。また前層増幅器の数を減少さ
せるためにただ1つの前畳増幅器を共有することは寄生
電気容量の大きさのため好ましくない。さらに感知ライ
ンを形成する導通性ストリップは伝送線の電気特性を持
っており、この特性は任意の1つのラインまたは検出器
がアドレス指定される速度を制限する。発明が解決しよ
うとする問題点 したがって、改良された強議電体画像表示装置を提供す
ることが本発明の目的である。
本発明の他の目的は製造するのに容易でかつコンパクト
で経済的である強該電体画像表示装置を提供することで
ある。
で経済的である強該電体画像表示装置を提供することで
ある。
本発明の他の目的は検出器素子の任意の列に沿って存在
するシャント電気容量を減少し、実質的に固定パターン
ノイズを減少することである。
するシャント電気容量を減少し、実質的に固定パターン
ノイズを減少することである。
さらに本発明の他の目的は検出器マトリックスとその基
板すなわち支持材料との間に存在する熱的短絡の可能性
を実質的になくし、もって誤信号の発生を防止すること
である。さらに本発明の他の目的は感知ラインを前層増
幅器に結合するマルチボールボンディングの必要性をな
くすことである。
板すなわち支持材料との間に存在する熱的短絡の可能性
を実質的になくし、もって誤信号の発生を防止すること
である。さらに本発明の他の目的は感知ラインを前層増
幅器に結合するマルチボールボンディングの必要性をな
くすことである。
さらに本発明の目的は任意の1つのラインすなわち検出
器をアドレス指定する速度を増すことである。
器をアドレス指定する速度を増すことである。
問題点を解決するための手段
簡単に説明すると、本発明はチョツパ、レンズ装置、窓
付のハウジング、温度制御ヒ−トシンク、シリコンスウ
ィッチマトリックス、異方性強誘電体ヒートシンク、お
よび改良された検出器マトリックス装置を含む改良され
た強議電体画像表示装置である。
付のハウジング、温度制御ヒ−トシンク、シリコンスウ
ィッチマトリックス、異方性強誘電体ヒートシンク、お
よび改良された検出器マトリックス装置を含む改良され
た強議電体画像表示装置である。
窓はチョッパとしンズ装置に光学的に整合されてハウジ
ングの一方の端に装着されている。温度制御ヒートシン
クはハウジングの窓付端部に対向したハウジングの端部
にマウントされている。温度制御ヒートシンクはハウジ
ング内においてシリコンスイッチングマトリックスを支
持し、シリコンマトリックスの上部には異方性ヒートシ
ンクが形成され、該異方性ヒートシンクは、検出器マト
リックスを該検出器マトリックスが窓に対して一定の間
隔を置くように支持している。強議電体ウェハーと窓と
の間の空間は真空かまたは乾燥不活性ガスを含む。本発
明の特徴と考えられる真の特徴は添付した特許請求の範
囲で説明されている。
ングの一方の端に装着されている。温度制御ヒートシン
クはハウジングの窓付端部に対向したハウジングの端部
にマウントされている。温度制御ヒートシンクはハウジ
ング内においてシリコンスイッチングマトリックスを支
持し、シリコンマトリックスの上部には異方性ヒートシ
ンクが形成され、該異方性ヒートシンクは、検出器マト
リックスを該検出器マトリックスが窓に対して一定の間
隔を置くように支持している。強議電体ウェハーと窓と
の間の空間は真空かまたは乾燥不活性ガスを含む。本発
明の特徴と考えられる真の特徴は添付した特許請求の範
囲で説明されている。
しかし本発明そのものは発明の他の目的および利点と同
様に添付した図面を参照して以下の詳細な説明を読めば
最もよく理解されうる。実施例 ここで第1図を参照すると、熱的画像表示装置は赤外線
エネルギーチョッパ10、レンズ装置12、検出器アセ
ンブリ14、駆動読出し電子装置16、画像処理装置1
8、タイミングコントo−ル装置20および表示手段2
2を包合する。
様に添付した図面を参照して以下の詳細な説明を読めば
最もよく理解されうる。実施例 ここで第1図を参照すると、熱的画像表示装置は赤外線
エネルギーチョッパ10、レンズ装置12、検出器アセ
ンブリ14、駆動読出し電子装置16、画像処理装置1
8、タイミングコントo−ル装置20および表示手段2
2を包合する。
チョッパー川ま具体的には赤外線エネルギーが検出器ア
センブリ14の検出器マトリックスの表面に流れるのを
さまたげるための機械的チョッパである。レンズ装置1
2は具体的には対物レンズ、補正レンズおよび画像(図
示されていない)から出る熱エネルギーを集東させるた
めの集東レンズを含み、熱エネルギーはチョツパ1川こ
よりチョップされ検出器アセンブリ14の検出器マトリ
ックスに集東される。所望の光学機能を実行できる種種
の型のチョッパおよびレンズ装置が存在することは当業
者には理解できるであろう。検出器アセンブリ14の検
出器マトリックスは画像処理装置18に対するセンサ上
に入射する熱エネルギーを表わす電気的信号を発生する
ための複数個の熱エネルギーセンサを含む。検出器アセ
ンブリ14の検出器マトリックスはこの後でより充分に
説明される。画像処理袋直18は表示手段22による表
示のために画像を表わす信号を表示信号に処理する。表
示手段22は具体的にはブラウン管でよく、画像処理装
置18は電気信号をTV形成に処理するために使用され
る装置である。駆動議出し電子装置16は熱的センサに
バイアスをかけ画像を表わす電気信号を謙出すための検
出器アセンブリ14の検出器マトリックスに結合されて
いる。タイミングコントロール装置2川まチョッパ10
、駆動読出し電子装置16および画像処理装置18の作
用を管理し、選択的に表示装置22による表示に好まし
い形式で画像の信号を発生する。強議電体画像表示装置
に用いられる検出器アセンブリ14の説明のため第2図
を参照すると、検出器アセンブリ14は1つの主表面に
形成された窓28を備えた例えばステンレス鋼のハウジ
ング26を含む。熱エネルギーのための窓はたとえば種
々のガラスたとえば近赤外線からガンマ線を透過するシ
リコン、カルゴゲン化物等、およびそれぞれ8〜14ミ
クロンおよび35ミクロンの赤外線波長のものを透過す
るゲルマニウムまたはィンヂウムで製造してよい。窓2
8は検出器マトリックス24への光または熱の行路に配
置される。たとえば酸化ベリリウムのセラミック基板で
できているヒートシンク30はハウジング26のもう一
方の端を閉じている。加熱素子32はヒートシンク30
の温度を制御するために電源(図示されていない)に結
合される。具体的にはシリコンでできているスウィッチ
ングマトリツクス34は温度制御ヒートシンク30上に
装着される。異方性ヒートシンク36はシリコンスウイ
ツチングマトリツクス34上に形成され、検出器配列す
なわちマトリックス24はその異方性ヒートシンク36
上に装着される。真空もしくは乾燥不活性ガスのどちら
であってもよい空間40が検出器マトリックス24と窓
28の中間に提供される。シリコンスウィッチマトリッ
クス34、異方性ヒートシンク36および検出器マトリ
ックス24はこれから後で詳細に説明される。1つの実
施例において、シリコンスウィッチマトリックス34(
第2図)は具体的には電界効果トランジスター(FET
)でよい複数個の固体スウィッチ42(第3図)を含む
。
センブリ14の検出器マトリックスの表面に流れるのを
さまたげるための機械的チョッパである。レンズ装置1
2は具体的には対物レンズ、補正レンズおよび画像(図
示されていない)から出る熱エネルギーを集東させるた
めの集東レンズを含み、熱エネルギーはチョツパ1川こ
よりチョップされ検出器アセンブリ14の検出器マトリ
ックスに集東される。所望の光学機能を実行できる種種
の型のチョッパおよびレンズ装置が存在することは当業
者には理解できるであろう。検出器アセンブリ14の検
出器マトリックスは画像処理装置18に対するセンサ上
に入射する熱エネルギーを表わす電気的信号を発生する
ための複数個の熱エネルギーセンサを含む。検出器アセ
ンブリ14の検出器マトリックスはこの後でより充分に
説明される。画像処理袋直18は表示手段22による表
示のために画像を表わす信号を表示信号に処理する。表
示手段22は具体的にはブラウン管でよく、画像処理装
置18は電気信号をTV形成に処理するために使用され
る装置である。駆動議出し電子装置16は熱的センサに
バイアスをかけ画像を表わす電気信号を謙出すための検
出器アセンブリ14の検出器マトリックスに結合されて
いる。タイミングコントロール装置2川まチョッパ10
、駆動読出し電子装置16および画像処理装置18の作
用を管理し、選択的に表示装置22による表示に好まし
い形式で画像の信号を発生する。強議電体画像表示装置
に用いられる検出器アセンブリ14の説明のため第2図
を参照すると、検出器アセンブリ14は1つの主表面に
形成された窓28を備えた例えばステンレス鋼のハウジ
ング26を含む。熱エネルギーのための窓はたとえば種
々のガラスたとえば近赤外線からガンマ線を透過するシ
リコン、カルゴゲン化物等、およびそれぞれ8〜14ミ
クロンおよび35ミクロンの赤外線波長のものを透過す
るゲルマニウムまたはィンヂウムで製造してよい。窓2
8は検出器マトリックス24への光または熱の行路に配
置される。たとえば酸化ベリリウムのセラミック基板で
できているヒートシンク30はハウジング26のもう一
方の端を閉じている。加熱素子32はヒートシンク30
の温度を制御するために電源(図示されていない)に結
合される。具体的にはシリコンでできているスウィッチ
ングマトリツクス34は温度制御ヒートシンク30上に
装着される。異方性ヒートシンク36はシリコンスウイ
ツチングマトリツクス34上に形成され、検出器配列す
なわちマトリックス24はその異方性ヒートシンク36
上に装着される。真空もしくは乾燥不活性ガスのどちら
であってもよい空間40が検出器マトリックス24と窓
28の中間に提供される。シリコンスウィッチマトリッ
クス34、異方性ヒートシンク36および検出器マトリ
ックス24はこれから後で詳細に説明される。1つの実
施例において、シリコンスウィッチマトリックス34(
第2図)は具体的には電界効果トランジスター(FET
)でよい複数個の固体スウィッチ42(第3図)を含む
。
FETスウィッチ42(第4図)は検出器マトリックス
24の各素子44毎に提供される。FETスウイツチ4
2のシリコンスゥィッチマトリックスは各スウィッチ毎
に対してドレィン46とソース48と呼ばれる2つのN
−領域をP型シリコンスライス50の中に並行して拡散
することにより製造される。酸化シリコン52の層はそ
の表面上に成長される。金属化のパッド54とストリッ
プ56は酸化物52の窓を介してシリコン501こ接触
するように製造される。第3の金属ストリップ58すな
わちゲートは酸化物52の上部でかつN−領域間のギャ
ップ上にわたって存在する。もう1つの実施例ではゲー
ト58はデュアルゲート58と58′であり、その末端
は第4図の点線である。そのように構成されたFETは
ェンハンスメント型で、ゲ−トに印加された制御電圧に
より動作電流が増加する。すなわち電圧がゲートに印加
されるまでスウイッチはオフにされる。ドレインパツド
54は異万性ヒートシンクの導通ロッド‘こ対するベー
スを形成する。マトリックス形成でFETスウィツチを
製造する方法は当業者にはよく知られているので、その
技術をより詳細には説明しない。第5a図〜第5c図に
示された異方性ヒートシンク36(第2図)はFETス
ウイツチ42のドレィンパッド54上に形成された複数
個の離隔した導体ロッド60をとりかこむ真空を含む。
24の各素子44毎に提供される。FETスウイツチ4
2のシリコンスゥィッチマトリックスは各スウィッチ毎
に対してドレィン46とソース48と呼ばれる2つのN
−領域をP型シリコンスライス50の中に並行して拡散
することにより製造される。酸化シリコン52の層はそ
の表面上に成長される。金属化のパッド54とストリッ
プ56は酸化物52の窓を介してシリコン501こ接触
するように製造される。第3の金属ストリップ58すな
わちゲートは酸化物52の上部でかつN−領域間のギャ
ップ上にわたって存在する。もう1つの実施例ではゲー
ト58はデュアルゲート58と58′であり、その末端
は第4図の点線である。そのように構成されたFETは
ェンハンスメント型で、ゲ−トに印加された制御電圧に
より動作電流が増加する。すなわち電圧がゲートに印加
されるまでスウイッチはオフにされる。ドレインパツド
54は異万性ヒートシンクの導通ロッド‘こ対するベー
スを形成する。マトリックス形成でFETスウィツチを
製造する方法は当業者にはよく知られているので、その
技術をより詳細には説明しない。第5a図〜第5c図に
示された異方性ヒートシンク36(第2図)はFETス
ウイツチ42のドレィンパッド54上に形成された複数
個の離隔した導体ロッド60をとりかこむ真空を含む。
導体ロッドすなわちリード線60の電気抵抗は4・さく
なければならないが、その−方では熱抵抗は大きくなけ
ればならない。これはFETスウィツチ42が形成され
るシリコンの熱伝導率が大きく熱インピーダンスが提供
されないと検出器素子44間で熱的短絡をするように働
くので必要である。したがって、導体ロッド60の熱抵
抗は重要さでは主要な要素である。熱伝導率は表面への
垂直な熱の流れにより定義され、すなわちH;KA鷲 H=熱 K=伝導率 A=導体ロッドの断面稀 妻=表面の温豚ぅ配 説明上、この表現はつぎのように簡単にされる。
なければならないが、その−方では熱抵抗は大きくなけ
ればならない。これはFETスウィツチ42が形成され
るシリコンの熱伝導率が大きく熱インピーダンスが提供
されないと検出器素子44間で熱的短絡をするように働
くので必要である。したがって、導体ロッド60の熱抵
抗は重要さでは主要な要素である。熱伝導率は表面への
垂直な熱の流れにより定義され、すなわちH;KA鷲 H=熱 K=伝導率 A=導体ロッドの断面稀 妻=表面の温豚ぅ配 説明上、この表現はつぎのように簡単にされる。
H=−K△T
ここで、Kは素子の熱コンダクタンスでありK=KA/
Lであたえられ、Lは温度差が計測される導体ロッドの
長さであり、△Tは温度差である。
Lであたえられ、Lは温度差が計測される導体ロッドの
長さであり、△Tは温度差である。
技後の公式から、有効な低熱コンダクタンスを得るには
2つの方法があることは明らかである。
2つの方法があることは明らかである。
第1は材料を選択することによりKを小さくすることで
あり、第2は縦横比A/Lを製造技術により小さくする
ことである。Kの値の範囲は電気伝導率と製造技術のた
めむしろ制限されているので、第2の方法が好ましい。
この結論は全伝導率公式によっても支持され、Ke=K
c十Ki=Kc(AC/L) 十Ki(Ae−AC/C)/L ここで添字e,cおよびiはそれぞれ全検出素子領域、
伝導領域および絶縁領域である。
あり、第2は縦横比A/Lを製造技術により小さくする
ことである。Kの値の範囲は電気伝導率と製造技術のた
めむしろ制限されているので、第2の方法が好ましい。
この結論は全伝導率公式によっても支持され、Ke=K
c十Ki=Kc(AC/L) 十Ki(Ae−AC/C)/L ここで添字e,cおよびiはそれぞれ全検出素子領域、
伝導領域および絶縁領域である。
KiはKcよりずっと小さいものにされるので、縦横比
Ac/Lを非常に小さくすることによりKeを小さくす
る要求が最も実現される。したがって、導体ロッドの断
面積を長さ1こ比べて小さくすることにより、各検出器
素子の導体ロッドの縦横比が小さくなる。たとえば異方
性ヒートシンクが真空中にあり、検出器の中心から中心
までの間隔が10.16×10‐3弧である場合、長さ
が2.払×10‐3仇で断面積が1.03×10‐6仇
の導体ロッドの熱コンダクタンスKcは1/100に減
少する。第6a図を参照すると、ドレィンパッド54、
ゲ−ト58およびソースパッドには導体ロッドを決める
適当な材料62たとえばE.1.duPontdeNe
mou岱 & Companyによって商標RISTO
NM811で販売されているフオトレジストが被着され
ている。
Ac/Lを非常に小さくすることによりKeを小さくす
る要求が最も実現される。したがって、導体ロッドの断
面積を長さ1こ比べて小さくすることにより、各検出器
素子の導体ロッドの縦横比が小さくなる。たとえば異方
性ヒートシンクが真空中にあり、検出器の中心から中心
までの間隔が10.16×10‐3弧である場合、長さ
が2.払×10‐3仇で断面積が1.03×10‐6仇
の導体ロッドの熱コンダクタンスKcは1/100に減
少する。第6a図を参照すると、ドレィンパッド54、
ゲ−ト58およびソースパッドには導体ロッドを決める
適当な材料62たとえばE.1.duPontdeNe
mou岱 & Companyによって商標RISTO
NM811で販売されているフオトレジストが被着され
ている。
次にマスク64(第6b図)がフオトレジスト62の層
の上に配置され、フオトレジストは紫外光に露光される
。露光の後に、マスクの像は現像され、露光されなかっ
たフオトレジストの領域は取り除かれ、それらの領域の
ドレィンパツド54はむき出しにされる。つぎにニクロ
ム、ニッケルまたは金のような導体ロッド60(第6c
図)は真空蒸着かまたは電気メッキかにより形成される
。所定の動作のための高さが小さくたとえば0.127
×10‐3奴であるとき、真空蒸着が用いられる。しか
しこの高さでも多くの動作を必要とし空所が生ずる可能
性が大きくなる。このことから、導体ロッドの材料を選
択する余地ごは減少しドレィンパツド54に負のポテン
シャルを印加するのが困難になるが、電気メッキが望ま
しい。電気メッキの場合、水槽のポテンシャルに対して
負のポテンシャルが抵抗をオンにすることによりパッド
54に印加される。もう1つの方法はドレィンを形成す
るパッド54の代りに交互の金属マスクを用いることで
ある。この技術ではチップのエッヂで接触する電極を形
成するようにフオトレジストを印加するのに先立って表
面全体が金属化される。それからフオトレジストパター
ンがおかれロッドが電気メッキにより形成される。ロッ
ド端すなわちパッド66(第6d図)は必要に応じてよ
り滑らかにしより均一な高さにするようにみがかれ、フ
オトレジストは取り除かれる。金属表面電極技術が用い
られる時、導体ロッド60の間の金属はエッチングされ
る。この製造法はロッドの厚さが検出器構造を支持する
のに必要な機械的強度を提供する場合は都合がよい。導
体ロッド60の長さがフオトレジストパタ−ンが所定の
ロッドパッド直径で製造できないようなものである時、
多重被着が使用される(第6e図)。
の上に配置され、フオトレジストは紫外光に露光される
。露光の後に、マスクの像は現像され、露光されなかっ
たフオトレジストの領域は取り除かれ、それらの領域の
ドレィンパツド54はむき出しにされる。つぎにニクロ
ム、ニッケルまたは金のような導体ロッド60(第6c
図)は真空蒸着かまたは電気メッキかにより形成される
。所定の動作のための高さが小さくたとえば0.127
×10‐3奴であるとき、真空蒸着が用いられる。しか
しこの高さでも多くの動作を必要とし空所が生ずる可能
性が大きくなる。このことから、導体ロッドの材料を選
択する余地ごは減少しドレィンパツド54に負のポテン
シャルを印加するのが困難になるが、電気メッキが望ま
しい。電気メッキの場合、水槽のポテンシャルに対して
負のポテンシャルが抵抗をオンにすることによりパッド
54に印加される。もう1つの方法はドレィンを形成す
るパッド54の代りに交互の金属マスクを用いることで
ある。この技術ではチップのエッヂで接触する電極を形
成するようにフオトレジストを印加するのに先立って表
面全体が金属化される。それからフオトレジストパター
ンがおかれロッドが電気メッキにより形成される。ロッ
ド端すなわちパッド66(第6d図)は必要に応じてよ
り滑らかにしより均一な高さにするようにみがかれ、フ
オトレジストは取り除かれる。金属表面電極技術が用い
られる時、導体ロッド60の間の金属はエッチングされ
る。この製造法はロッドの厚さが検出器構造を支持する
のに必要な機械的強度を提供する場合は都合がよい。導
体ロッド60の長さがフオトレジストパタ−ンが所定の
ロッドパッド直径で製造できないようなものである時、
多重被着が使用される(第6e図)。
付加したロッドセグメント68各々に対してロッドパッ
ド66(第6d図)が取り除かれ、フオトレジストの付
加層が付着される。層7川まマスク72でマスクされる
。ロッドパターンの整合を容易にするために、マスクロ
ッドの直径は導体ロッド60の端部よりもわずかに大き
くされる。したがって、整合された時はロッドを形成す
るりングが一方の内部に1つ見える。それからフオトレ
ジスト70は紫外光により露光され、露光されたフオト
レジストはロッドセグメント68に対してパターンを形
成するように取り除かれる。ロッドセグメント68(第
6f図)はその後で先に説明した電気メッキにより形成
される。チップすなわちパッド74(第6g図)はそれ
から必要な際は滑らかになりかつ均一な高さになるよう
にみがかれる。みがいた後にフオトレジストは取り除か
れる。導体ロッド60の機械的強度が検出器マトリック
ス24を支えるのに充分でない場合、ガラス充填フオト
レジスト76(第6h図)が導体ロッド60の周囲のバ
ックフィル(舷ckml)の時用いられる。
ド66(第6d図)が取り除かれ、フオトレジストの付
加層が付着される。層7川まマスク72でマスクされる
。ロッドパターンの整合を容易にするために、マスクロ
ッドの直径は導体ロッド60の端部よりもわずかに大き
くされる。したがって、整合された時はロッドを形成す
るりングが一方の内部に1つ見える。それからフオトレ
ジスト70は紫外光により露光され、露光されたフオト
レジストはロッドセグメント68に対してパターンを形
成するように取り除かれる。ロッドセグメント68(第
6f図)はその後で先に説明した電気メッキにより形成
される。チップすなわちパッド74(第6g図)はそれ
から必要な際は滑らかになりかつ均一な高さになるよう
にみがかれる。みがいた後にフオトレジストは取り除か
れる。導体ロッド60の機械的強度が検出器マトリック
ス24を支えるのに充分でない場合、ガラス充填フオト
レジスト76(第6h図)が導体ロッド60の周囲のバ
ックフィル(舷ckml)の時用いられる。
それからフオトレジストが紫外光により露光されフオト
レジストはガラス粒子78をそこに残して取り除かれる
。その後にガラス粒子78はオーブンで焼くことにより
競結され、導体ロッド60(第6i図)をぎっしりと取
り囲み検出器機造を支えるのに必要な機械的強度を提供
する。検出器マトリックス24(第7b図)は対向する
主表面上に蒸着/エッチング技術により形成された縦の
1」ードパターン82(第7a図)とパッド84(第7
c図)を備えた強姦電体材料のウェハー80を含んでい
る。リード線82は強議電体ウェハー80の上部表面に
形成された列リード線であり、パッド84は強議電体ウ
ェーハ80の下部表面上に形成されたりード線である。
パッド84およびリードパターン82の交差位置は強謎
電体材料80と一体となって検出器マトリックス24の
素子を形成する。その結果検出器マトリックス24は第
7b図の方形で表わされるような複数個のコンデンサ型
熱センサ44である。強議電体ウェーハ80すなわち誘
電性を備える材料は周囲温度(00から150qo)近
くにキュリー温度をもつものが望ましく、たとえばチタ
ン酸バリウム(BaTi03)、硫酸三グリシン(TG
S)、チタン酸バリウムストロンチウム、チタン酸鉛、
第‐1燐酸カリウム、およびロッシヱル塩のようなもの
である。
レジストはガラス粒子78をそこに残して取り除かれる
。その後にガラス粒子78はオーブンで焼くことにより
競結され、導体ロッド60(第6i図)をぎっしりと取
り囲み検出器機造を支えるのに必要な機械的強度を提供
する。検出器マトリックス24(第7b図)は対向する
主表面上に蒸着/エッチング技術により形成された縦の
1」ードパターン82(第7a図)とパッド84(第7
c図)を備えた強姦電体材料のウェハー80を含んでい
る。リード線82は強議電体ウェハー80の上部表面に
形成された列リード線であり、パッド84は強議電体ウ
ェーハ80の下部表面上に形成されたりード線である。
パッド84およびリードパターン82の交差位置は強謎
電体材料80と一体となって検出器マトリックス24の
素子を形成する。その結果検出器マトリックス24は第
7b図の方形で表わされるような複数個のコンデンサ型
熱センサ44である。強議電体ウェーハ80すなわち誘
電性を備える材料は周囲温度(00から150qo)近
くにキュリー温度をもつものが望ましく、たとえばチタ
ン酸バリウム(BaTi03)、硫酸三グリシン(TG
S)、チタン酸バリウムストロンチウム、チタン酸鉛、
第‐1燐酸カリウム、およびロッシヱル塩のようなもの
である。
キュリー温度が約12500であるチタン酸バリウムが
望ましい。どのような強議電体材料80を選んだとして
も、それのキュリー温度すなわちその温度の上では強叢
電体材料は自発分極しなくなる温度近くで用いなければ
ならない。
望ましい。どのような強議電体材料80を選んだとして
も、それのキュリー温度すなわちその温度の上では強叢
電体材料は自発分極しなくなる温度近くで用いなければ
ならない。
キュリー温度の上では、チタン酸バリウムは強く分極に
感知する立体格子の結晶構造をもつ。したがって、その
誘電率は温度に強く依存する関数である。一方キュリー
温度以下の温度では強議電体材料は自発分極を示す。自
発分極によって内部電場が発生しそれから表面電荷がそ
の内部電場を抑制するように蓄積する。分極の大きさは
温度に依存するので、キュリー温度以下での動作は本発
明の一部をなしていないパィロ電気ビジコンの基礎とな
っている。第8a図〜第8c図を参照すると、検出器マ
トリックス24のもう1つの実施例が示されている。
感知する立体格子の結晶構造をもつ。したがって、その
誘電率は温度に強く依存する関数である。一方キュリー
温度以下の温度では強議電体材料は自発分極を示す。自
発分極によって内部電場が発生しそれから表面電荷がそ
の内部電場を抑制するように蓄積する。分極の大きさは
温度に依存するので、キュリー温度以下での動作は本発
明の一部をなしていないパィロ電気ビジコンの基礎とな
っている。第8a図〜第8c図を参照すると、検出器マ
トリックス24のもう1つの実施例が示されている。
この実施例では第7b図のものでもよいが電磁的ウェハ
ー8川ま金属導体86(第8a図)でメッキされた上部
表面を持つ。金属導体86は母線バイアスリード線88
および90と電気的接触をする。バイアスリード線88
および90は上部プレート86をチャージするためのバ
イアス電流電源に結合するようにプレート86の対向す
るエッヂに隣接して配置される。金属パッド92(第8
c図)は強議蟹体ウェハー80の下部表面に配燈される
。金属パッド92は強誘電体ウェハ−80と上部プレー
ト86と一体になって検出器マトリックスの素子44を
形成する。(第8b図)第1の実施例の検出器マトリッ
クス24、異方性ヒートシンク36およびスウィッチマ
トリックス34を組み合せたものが第9図に示されてい
る。異方性ヒートシンク36の導体ロッド6川まスウイ
ツチマトリツクスのスウイツチ42のドレィンパッド5
4の上に延びている。導体ロッド60の端部すなわちパ
ッド66は検出器マトリックス24の下部パッド84に
たとえばバンプボンドによりとりつけられる。感知ライ
ンも形成するストリップ82は増幅器の入力にたとえば
ボールボンドで結合される。第3図を参照すると、各行
のFETスウィツチ42はリード線55により行yアド
レス回路94に結合されたゲート58とりード線96に
よりバイアス(Vバイアス)電極に結合されたソース4
8をもつ。
ー8川ま金属導体86(第8a図)でメッキされた上部
表面を持つ。金属導体86は母線バイアスリード線88
および90と電気的接触をする。バイアスリード線88
および90は上部プレート86をチャージするためのバ
イアス電流電源に結合するようにプレート86の対向す
るエッヂに隣接して配置される。金属パッド92(第8
c図)は強議蟹体ウェハー80の下部表面に配燈される
。金属パッド92は強誘電体ウェハ−80と上部プレー
ト86と一体になって検出器マトリックスの素子44を
形成する。(第8b図)第1の実施例の検出器マトリッ
クス24、異方性ヒートシンク36およびスウィッチマ
トリックス34を組み合せたものが第9図に示されてい
る。異方性ヒートシンク36の導体ロッド6川まスウイ
ツチマトリツクスのスウイツチ42のドレィンパッド5
4の上に延びている。導体ロッド60の端部すなわちパ
ッド66は検出器マトリックス24の下部パッド84に
たとえばバンプボンドによりとりつけられる。感知ライ
ンも形成するストリップ82は増幅器の入力にたとえば
ボールボンドで結合される。第3図を参照すると、各行
のFETスウィツチ42はリード線55により行yアド
レス回路94に結合されたゲート58とりード線96に
よりバイアス(Vバイアス)電極に結合されたソース4
8をもつ。
FETスウィッチ42は検出器マトリックス24を形成
する強議電体コンデンサ44の下部リード線ストリップ
すなわちプレート84に異万性ヒートシンク結合ロッド
6川こより結合されたドレィン46をもつ。下部リード
線84の各々はコンデンサの列を相互結合する。コンデ
ンサ44の各列の上部リード線ストリップすなわちプレ
ート82は前置増幅器100に結合されているリード線
98にポールボンドされる。前贋増幅器10川ま各コン
デンサ44の増幅された電気的信号を謙出すようにxア
ドレス回路95により画像処理装置18に多重送信され
る。画像処理装置18の出力は1′−ド線102により
表示手段22に結合されている。原理上、yアドレス回
路94は1つの行のスウィッチ42のゲート58に高い
電圧を提供しスウィッチの残りの他の行のゲートには低
い電圧を提供する。
する強議電体コンデンサ44の下部リード線ストリップ
すなわちプレート84に異万性ヒートシンク結合ロッド
6川こより結合されたドレィン46をもつ。下部リード
線84の各々はコンデンサの列を相互結合する。コンデ
ンサ44の各列の上部リード線ストリップすなわちプレ
ート82は前置増幅器100に結合されているリード線
98にポールボンドされる。前贋増幅器10川ま各コン
デンサ44の増幅された電気的信号を謙出すようにxア
ドレス回路95により画像処理装置18に多重送信され
る。画像処理装置18の出力は1′−ド線102により
表示手段22に結合されている。原理上、yアドレス回
路94は1つの行のスウィッチ42のゲート58に高い
電圧を提供しスウィッチの残りの他の行のゲートには低
い電圧を提供する。
ゲート68に印加された高い電圧によりその行のスゥィ
ッチ42はオンにされ、強議電体コンデンサ44は抵抗
Rを介して電圧E(第10図)までチャージされる。ス
ウイツチがオンにされている時、チョッパ10(第1図
)は画像から発散しコンデンサ44にあたる赤外線ェネ
ルギ−を連続的にさまたげる。1つの行のFETスウィ
ッチ42(第3図)が連続的にオフされるとチョッパは
連続的に(左から右へ)赤外線エネルギーを強議電体コ
ンデンサ44に通しそれらの電気容量はそこにあたる赤
外線エネルギー(Vc)に比例して変化する。
ッチ42はオンにされ、強議電体コンデンサ44は抵抗
Rを介して電圧E(第10図)までチャージされる。ス
ウイツチがオンにされている時、チョッパ10(第1図
)は画像から発散しコンデンサ44にあたる赤外線ェネ
ルギ−を連続的にさまたげる。1つの行のFETスウィ
ッチ42(第3図)が連続的にオフされるとチョッパは
連続的に(左から右へ)赤外線エネルギーを強議電体コ
ンデンサ44に通しそれらの電気容量はそこにあたる赤
外線エネルギー(Vc)に比例して変化する。
それからチョツパが再び赤外線エネルギーをさまたげる
前に1つの行のスウイツチ42は閉じ、チョッパと同期
調整されているxアドレス回路95は連続的に1つの行
の各コンデンサ44をアドレス指定する。各コンデンサ
はスウイツチ42を閉じることにより印加されたバイア
ス電圧に保持された電圧E(第10図)まで放電する。
したがって、出力はコンデンサにあたる赤外線エネルギ
ーの強さに等しい。(V=E−Vc)。Vcはスウイッ
チが閉じる前のCの電圧なので、VC=Q(0)/C(
T)、ここでQ(0)はCに最初あった電荷で、C(T
)は時刻(T)でのC値である。さらに、Q(0)=E
C(0)であり、したがってV=E一EC(0)/C(
T)すなわちV=E〔C(T)−C(0)/C(T)〕
。
前に1つの行のスウイツチ42は閉じ、チョッパと同期
調整されているxアドレス回路95は連続的に1つの行
の各コンデンサ44をアドレス指定する。各コンデンサ
はスウイツチ42を閉じることにより印加されたバイア
ス電圧に保持された電圧E(第10図)まで放電する。
したがって、出力はコンデンサにあたる赤外線エネルギ
ーの強さに等しい。(V=E−Vc)。Vcはスウイッ
チが閉じる前のCの電圧なので、VC=Q(0)/C(
T)、ここでQ(0)はCに最初あった電荷で、C(T
)は時刻(T)でのC値である。さらに、Q(0)=E
C(0)であり、したがってV=E一EC(0)/C(
T)すなわちV=E〔C(T)−C(0)/C(T)〕
。
ライン98の出力は前贋増幅器100により各々バッフ
ァされ、xアドレス回路95により多重送信され、各コ
ンデンサ44毎の信号レベルに対応する1つのライン画
像を表示手段22の表示の行に提供するように画像処理
装置18で処理される。
ァされ、xアドレス回路95により多重送信され、各コ
ンデンサ44毎の信号レベルに対応する1つのライン画
像を表示手段22の表示の行に提供するように画像処理
装置18で処理される。
この処理は検出器マトリックス24の各行に対してくり
返される。その結果の単一ライン画・像情報は第1のフ
レームでは正の極性であり第2のフレームでは負の極性
である。外部極性変換装置(図示されていない)がすべ
ての負の極性のフレームの極性を変換するのに用いられ
る。強議電体画像表示装置の検出器アセンブリ14の第
2の実施例の説明のために第11図を参照すると検出器
マトリックス24は第8a図〜第8c図に関係して図示
し説明したものである。
返される。その結果の単一ライン画・像情報は第1のフ
レームでは正の極性であり第2のフレームでは負の極性
である。外部極性変換装置(図示されていない)がすべ
ての負の極性のフレームの極性を変換するのに用いられ
る。強議電体画像表示装置の検出器アセンブリ14の第
2の実施例の説明のために第11図を参照すると検出器
マトリックス24は第8a図〜第8c図に関係して図示
し説明したものである。
検出器マトリックス24は男方性ヒートシンク36の導
体ロッド60の端部すなわちパッド66または74にた
とえばボールボンドにより取りつけられる。導体ロット
60はドレィンパッド54から延びており、スウイツチ
マトリツクス34のFETスゥィッチは検出器マトリッ
クス24の検出素子に一つ一つ対応して結合されたドレ
ィンをもつ。FETスウイツチ42のゲートはデュアル
ゲート58および58′であり、ゲート58は列により
×アドレス回路95にゲート58′は行によりyアドレ
ス回路94に結合されている。FETスウイッチ42の
ソース48はリード線106の行によりバッファ増幅器
108とプリチャージFETスウイッチ112のドレイ
ン110に結合される。プリチャージFETスウイツチ
112のゲート114はプリチャージ電圧電源に結合さ
れ、それらスウィッチのソース116は基準電圧に結合
される。ハウジング26と温度制御ヒートシンク30(
第2図)はまた第11図に示された実施例で用いられた
ものでありここでは図示していない。第12a図〜第1
2c図を参照すると、強叢電体画像表示装置の第2の実
施例の3つの配置が示されている。
体ロッド60の端部すなわちパッド66または74にた
とえばボールボンドにより取りつけられる。導体ロット
60はドレィンパッド54から延びており、スウイツチ
マトリツクス34のFETスゥィッチは検出器マトリッ
クス24の検出素子に一つ一つ対応して結合されたドレ
ィンをもつ。FETスウイツチ42のゲートはデュアル
ゲート58および58′であり、ゲート58は列により
×アドレス回路95にゲート58′は行によりyアドレ
ス回路94に結合されている。FETスウイッチ42の
ソース48はリード線106の行によりバッファ増幅器
108とプリチャージFETスウイッチ112のドレイ
ン110に結合される。プリチャージFETスウイツチ
112のゲート114はプリチャージ電圧電源に結合さ
れ、それらスウィッチのソース116は基準電圧に結合
される。ハウジング26と温度制御ヒートシンク30(
第2図)はまた第11図に示された実施例で用いられた
ものでありここでは図示していない。第12a図〜第1
2c図を参照すると、強叢電体画像表示装置の第2の実
施例の3つの配置が示されている。
各々の場合、xライン98とyライン55は同期してア
ドレス指定され、xライン98は低速度ラインである。
画像から発散する赤外線エネルギーはチョッバ10(第
1図)によりチョップされる。チョッパェッヂ10はx
方向に動く。チョッパの動作より検出器マトリックス2
4の各検出素子はその特定検出素子に対する画像の輝き
の差にしたがって加熱されるかまたは冷却される。この
加熱または冷却サイクルは感知されるスウィッチマトリ
ックス34により画像に変換されるべきそのコンデンサ
素子に変化をもたらす。電気容量の変化はチョッパェッ
ヂがその素子を通過する時各素子に対して最大になる。
スウィッチマトリツクスのサンプリングプロセスはチヨ
ツパの通過に同期される。第12a図を参照すると、各
強誘電体コンデンサ44は左上隅にあるスウィッチ42
Aとコンデンサ44Aから出発して対応するFETスウ
ィツチ42の2つのゲート58と58′により×および
yアドレス指定される。
ドレス指定され、xライン98は低速度ラインである。
画像から発散する赤外線エネルギーはチョッバ10(第
1図)によりチョップされる。チョッパェッヂ10はx
方向に動く。チョッパの動作より検出器マトリックス2
4の各検出素子はその特定検出素子に対する画像の輝き
の差にしたがって加熱されるかまたは冷却される。この
加熱または冷却サイクルは感知されるスウィッチマトリ
ックス34により画像に変換されるべきそのコンデンサ
素子に変化をもたらす。電気容量の変化はチョッパェッ
ヂがその素子を通過する時各素子に対して最大になる。
スウィッチマトリツクスのサンプリングプロセスはチヨ
ツパの通過に同期される。第12a図を参照すると、各
強誘電体コンデンサ44は左上隅にあるスウィッチ42
Aとコンデンサ44Aから出発して対応するFETスウ
ィツチ42の2つのゲート58と58′により×および
yアドレス指定される。
システム開始の時、x,ライン98はチョツパが動くに
つれて列x,にあるスウイッチ42のゲート58をオン
にすることによりアドレス指定される。これらのゲート
58が一度オンにされるとy,ライン55がアドレス指
定され、行け,のゲート58′がオンにされる。このと
きにスウイツチ42AのドレインからラインI06を介
してバッファ増幅器108への低抵抗径路がある。この
低抵抗径路がバッファ増幅器にまで形成されると、高速
度プリチャージFETスウィッチ112は感知ライン1
06に基準電圧Vrerを発生するようにパルス信号を
受ける。このスウィッチング動作により強議電体コンデ
ンサに(Vref−Vバイアス)の電圧が発生される。
それから高速度プリチャージスウィツチ112がオフに
され、y2ライン55がアドレス指定され、プリチャー
ジスウィッチ動作がコンデンサ42Bに電圧(Vref
−Vバイアス)を発生するように繰り返される。このx
〜yアドレス指定の連続はすべてのyライン55が活性
化されチョッパのりーディングェツヂがX2ライン98
まで動き終るまで繰り返される。この時X2ライン98
がチャージされ、X2ラインの検出器素子をプリチャー
ジするようにyライン55は多重化される。このプロセ
スはすべての検出器素子がプリセットされるまで続けら
れる。すべての検出器素子が順次にプリセットされチョ
ッパの次のIJーデンェッヂがX,ライン98に対応す
る位置に到達すると、論出しサイクルが始まる。
つれて列x,にあるスウイッチ42のゲート58をオン
にすることによりアドレス指定される。これらのゲート
58が一度オンにされるとy,ライン55がアドレス指
定され、行け,のゲート58′がオンにされる。このと
きにスウイツチ42AのドレインからラインI06を介
してバッファ増幅器108への低抵抗径路がある。この
低抵抗径路がバッファ増幅器にまで形成されると、高速
度プリチャージFETスウィッチ112は感知ライン1
06に基準電圧Vrerを発生するようにパルス信号を
受ける。このスウィッチング動作により強議電体コンデ
ンサに(Vref−Vバイアス)の電圧が発生される。
それから高速度プリチャージスウィツチ112がオフに
され、y2ライン55がアドレス指定され、プリチャー
ジスウィッチ動作がコンデンサ42Bに電圧(Vref
−Vバイアス)を発生するように繰り返される。このx
〜yアドレス指定の連続はすべてのyライン55が活性
化されチョッパのりーディングェツヂがX2ライン98
まで動き終るまで繰り返される。この時X2ライン98
がチャージされ、X2ラインの検出器素子をプリチャー
ジするようにyライン55は多重化される。このプロセ
スはすべての検出器素子がプリセットされるまで続けら
れる。すべての検出器素子が順次にプリセットされチョ
ッパの次のIJーデンェッヂがX,ライン98に対応す
る位置に到達すると、論出しサイクルが始まる。
X,ライン96は多重化され高速度プリチャージスゥィ
ッチ112はパルス信号を受ける。これにより感知ライ
ン106のすべての寄生電気容量はVrefまで充電さ
れる。それから感知ライン106を絶縁するように高速
度プリチャージスウイツチはオフにされる。そしてスウ
イツチ42Aのドレィンから感知ライン106を介して
バッファ増幅器108までの低抵抗径路を再び形成する
ようにy,ライン55がアドレス指定される。強諺電体
コンデンサ44Aのセッティングとサンプリングの間に
は1つのフィールド時間があったことが認められるであ
ろう。この時間の間第1のチョツパ素子のトレーリング
エッヂはxライン98を通過し素子44Aは画像からの
赤外線ヱネルギ−で満ちしたがってそれの電気容量が変
化する。検出器素子の電気容量の変化はぶつかる放射線
のために電気容量の変化に比例する変化をバッファ増幅
器108への電圧入力に発生させる。チョッパ位置の同
期すなわち閉から関への同期が反転されることが認めら
れる。タイミングコントロール回路20(第1図)は検
出器アドレス、表示駆動およびチョッパ同期に必要な信
号を発生する。
ッチ112はパルス信号を受ける。これにより感知ライ
ン106のすべての寄生電気容量はVrefまで充電さ
れる。それから感知ライン106を絶縁するように高速
度プリチャージスウイツチはオフにされる。そしてスウ
イツチ42Aのドレィンから感知ライン106を介して
バッファ増幅器108までの低抵抗径路を再び形成する
ようにy,ライン55がアドレス指定される。強諺電体
コンデンサ44Aのセッティングとサンプリングの間に
は1つのフィールド時間があったことが認められるであ
ろう。この時間の間第1のチョツパ素子のトレーリング
エッヂはxライン98を通過し素子44Aは画像からの
赤外線ヱネルギ−で満ちしたがってそれの電気容量が変
化する。検出器素子の電気容量の変化はぶつかる放射線
のために電気容量の変化に比例する変化をバッファ増幅
器108への電圧入力に発生させる。チョッパ位置の同
期すなわち閉から関への同期が反転されることが認めら
れる。タイミングコントロール回路20(第1図)は検
出器アドレス、表示駆動およびチョッパ同期に必要な信
号を発生する。
これを実行する種々の方法がある。1つの方法は基本的
素子として‘1}発振器、■ピクセル(pixel)ア
ドレスとラインレート(lineraに)信号のために
発振器からクロツク信号を受ける高速度カウントダウン
回路(3’ラインアドレスとフィールドレート信号のた
めの低速度カウントダウン回路、および‘4}機械的チ
ョツパをフイールドレ−ト信号に同期させるためのフェ
ーズ。
素子として‘1}発振器、■ピクセル(pixel)ア
ドレスとラインレート(lineraに)信号のために
発振器からクロツク信号を受ける高速度カウントダウン
回路(3’ラインアドレスとフィールドレート信号のた
めの低速度カウントダウン回路、および‘4}機械的チ
ョツパをフイールドレ−ト信号に同期させるためのフェ
ーズ。
ックループがある。表示の水平および垂直掃引信号がラ
イン信号およびフィールド信号からそれぞれ発生される
。電圧の変化の大きさは装置の電気等価回路から導き出
される。
イン信号およびフィールド信号からそれぞれ発生される
。電圧の変化の大きさは装置の電気等価回路から導き出
される。
(第13図)この回路ではデュアルゲートFETスウィ
ッチ42は単一極スウィッチSPとして示されおり、高
速度プリチャージFETスウイツチ112はスウイッチ
SPCとして、検出器素子電気容量はコンデンサCoと
して、プリチャージFETスウイツチ112の寄生電気
容量と増幅器入力電気容量はCPGとして、ボンデング
作業により導入された検出器素子パラスティック電気容
量はCPoとして、および感知ライン106のパラステ
ィック電気容量はCPsとして示されている。強叢電体
検出器14のコンデンサ44がプリチャージされる時、
すべてのスウイツチは閉じている。各コンデンサ上の電
荷(Q(C))は次式で与えられる。QD(C)=C。
ッチ42は単一極スウィッチSPとして示されおり、高
速度プリチャージFETスウイツチ112はスウイッチ
SPCとして、検出器素子電気容量はコンデンサCoと
して、プリチャージFETスウイツチ112の寄生電気
容量と増幅器入力電気容量はCPGとして、ボンデング
作業により導入された検出器素子パラスティック電気容
量はCPoとして、および感知ライン106のパラステ
ィック電気容量はCPsとして示されている。強叢電体
検出器14のコンデンサ44がプリチャージされる時、
すべてのスウイツチは閉じている。各コンデンサ上の電
荷(Q(C))は次式で与えられる。QD(C)=C。
(C)(Vrer一Vバイアス)QP。(C)=CP。
VrCrQPG(C)=CPsVr。
VrCrQPG(C)=CPsVr。
「全電荷QT(C)は
QT(C)=Q。
(C)+QPD(C)+QPs(C)ここでCo(C)
はチョツパが閉じている時の検出器素子の電気容量であ
る。それからスウィツチは開かれ、次のフィールドの間
高速度FETスウィッチ(SPc)は寄生電気容量CP
。
はチョツパが閉じている時の検出器素子の電気容量であ
る。それからスウィツチは開かれ、次のフィールドの間
高速度FETスウィッチ(SPc)は寄生電気容量CP
。
がCPsVrefにリセットされるように開閉される。
電荷QPoおよびQoの値は検出器素子上の電気容量(
C。)がC。(C)からC。(0)に変化する間一定に
保たれる。次にバッファ増幅器108に新しい電圧を提
供するように電気容量CO.CPoおよびCPGを平衡
状態にさせるようにFETスウィツチSPが閉じられる
。
電荷QPoおよびQoの値は検出器素子上の電気容量(
C。)がC。(C)からC。(0)に変化する間一定に
保たれる。次にバッファ増幅器108に新しい電圧を提
供するように電気容量CO.CPoおよびCPGを平衡
状態にさせるようにFETスウィツチSPが閉じられる
。
数学的に表すと、Q。
(0)=C。(0)(VG一Vバイアス)QP。(0)
=CPoVGQPS(0)=CPsV。
=CPoVGQPS(0)=CPsV。
ここでQT(0)=Q。
(0)十Qp。(0)十Qps(〇)QT(0)こQT
(C)であり、 CD(C)〔VM−Vバイアス〕十CpoVref+C
PSVrer;C。
(C)であり、 CD(C)〔VM−Vバイアス〕十CpoVref+C
PSVrer;C。
(0)〔VG−Vバイアス〕十Cp。VG十CPsVG
VG=〔Cp(0)一CD(C)Vバイアス+〔CD(
C)+CPD+CPS〕Vref/〔CD(〇)十CP
。
VG=〔Cp(0)一CD(C)Vバイアス+〔CD(
C)+CPD+CPS〕Vref/〔CD(〇)十CP
。
十CPS〕信号電圧は増幅器入力での電圧の変化であり
、VSigニVG−Vrefニ〔CD(〇)−C。
、VSigニVG−Vrefニ〔CD(〇)−C。
(C)〕Vバイアス十〔C。(C)+C。p十CpS〕
VrCr一〔C。(〇)一CDP十CP8〕Vrぱ/〔
CD(〇)十CPD+CPS〕ニ〔C。(C)−CD(
0)〔VM一Vバイアス〕/〔C。(0)十Cp。十C
P3〕信号電圧(VSig)はチョッパの開閉から発生
する電気容量の変化に比例し画像処理装置18により感
知されその特定のピクセル素子に対する表示装置22に
加えられる。
VrCr一〔C。(〇)一CDP十CP8〕Vrぱ/〔
CD(〇)十CPD+CPS〕ニ〔C。(C)−CD(
0)〔VM一Vバイアス〕/〔C。(0)十Cp。十C
P3〕信号電圧(VSig)はチョッパの開閉から発生
する電気容量の変化に比例し画像処理装置18により感
知されその特定のピクセル素子に対する表示装置22に
加えられる。
スウィツチ(SP)が開けられる前に、SPcは閉じら
れ開けられる。
れ開けられる。
この動作に検出素子の電荷は次式にセットされる。Q。
(0)=C(0)〔Vrer一Vバイアス〕したがって
、つぎのフィールドでこの素子がアドレス指定される時
、信号電圧(Vsig)は同じ画像に対しては同じ大き
さを持っているが符号は逆である。このため画像処理装
層18はフィールドからフィールドへの位相反転回路を
含む。コンデンサたとえば44Aをリセットすることは
次のコンデンサ44Bを読み出すのに先立って感知ライ
ン106をプリチャージすることと同じである。したが
って、プリチヤージスウイツチ112(Spc)が開け
られた後に、スウィッチ42Aは開かれスウィッチ42
Bは閉じられ、それにより信号はコンデンサ44Bに対
して表示される。この一連の動作はフィールド全体に続
く。フィールドからフィ−ルドへの位相反転装贋の例に
次のものがある。
、つぎのフィールドでこの素子がアドレス指定される時
、信号電圧(Vsig)は同じ画像に対しては同じ大き
さを持っているが符号は逆である。このため画像処理装
層18はフィールドからフィールドへの位相反転回路を
含む。コンデンサたとえば44Aをリセットすることは
次のコンデンサ44Bを読み出すのに先立って感知ライ
ン106をプリチャージすることと同じである。したが
って、プリチヤージスウイツチ112(Spc)が開け
られた後に、スウィッチ42Aは開かれスウィッチ42
Bは閉じられ、それにより信号はコンデンサ44Bに対
して表示される。この一連の動作はフィールド全体に続
く。フィールドからフィ−ルドへの位相反転装贋の例に
次のものがある。
情報のわくに2つのフィールドが含まれ、1つはチョッ
パ閉に対してのものでありもう1つはチョツパ開に対す
るものである。前に説明したように、信号情報は2つの
フィールドの間で反対の極性をもつ。FLOおよびFL
Dと示されたフィールドレートに対応する1組の信号は
タイミングコントロール回路により発生される。FLD
はチョツパ関の間「高一レベルチョッパ閉の間は「低一
レベルをもつ。FLD信号は逆の論理意味をもつ。信号
ライン画像は計装増幅器の正および負の入力両方に加え
られ、信号は切換えられる。生成画像は一貫した符号を
もこ)。第12b図の装置を参照すると、検出器マトリ
ックス24の強議電体コンデンサ44をアドレス指定す
るためのスウィッチ42の2重ゲート58〜58′が単
一ゲート58により置き換えられている。
パ閉に対してのものでありもう1つはチョツパ開に対す
るものである。前に説明したように、信号情報は2つの
フィールドの間で反対の極性をもつ。FLOおよびFL
Dと示されたフィールドレートに対応する1組の信号は
タイミングコントロール回路により発生される。FLD
はチョツパ関の間「高一レベルチョッパ閉の間は「低一
レベルをもつ。FLD信号は逆の論理意味をもつ。信号
ライン画像は計装増幅器の正および負の入力両方に加え
られ、信号は切換えられる。生成画像は一貫した符号を
もこ)。第12b図の装置を参照すると、検出器マトリ
ックス24の強議電体コンデンサ44をアドレス指定す
るためのスウィッチ42の2重ゲート58〜58′が単
一ゲート58により置き換えられている。
したがって、行×.がアドレス回路95によりアドレス
指定される時、それの各スウイッチは閉じられ、対応す
るコンデンサ44は同時にその感知ライン106、プリ
チャージスウィツチ112および前層増幅器108に結
合される。各前層増幅器108の出力はマルチプレクサ
スウィッチ120を介してバッファ増幅器130の入力
に結合される。y,〜ynのマルチプレクサスウイツチ
のゲート122はyアドレス回路94の出力y,〜yn
に結合される。マルチプレクサスウイツチ120のドレ
ィン124もリード線126によりプリチヤージFET
スウイツチ128のドレインとバッファ増幅器13川こ
結合される。バッファ増幅器130はリード線132に
より画像処理装置18に結合され、画像処理装置は表示
装置22に結合されている。原理的には、プリチャージ
動作はxライン走査レートで実行され、各ラインの検出
器コンデンサはそれらの情報を同時に増幅器108の出
力に提供する。
指定される時、それの各スウイッチは閉じられ、対応す
るコンデンサ44は同時にその感知ライン106、プリ
チャージスウィツチ112および前層増幅器108に結
合される。各前層増幅器108の出力はマルチプレクサ
スウィッチ120を介してバッファ増幅器130の入力
に結合される。y,〜ynのマルチプレクサスウイツチ
のゲート122はyアドレス回路94の出力y,〜yn
に結合される。マルチプレクサスウイツチ120のドレ
ィン124もリード線126によりプリチヤージFET
スウイツチ128のドレインとバッファ増幅器13川こ
結合される。バッファ増幅器130はリード線132に
より画像処理装置18に結合され、画像処理装置は表示
装置22に結合されている。原理的には、プリチャージ
動作はxライン走査レートで実行され、各ラインの検出
器コンデンサはそれらの情報を同時に増幅器108の出
力に提供する。
それから情報のラインはバッファ増幅器130を介して
yマルチプレクススウィッチ124により多重化される
。第12a図の装置の場合のように、yラインは各xラ
インの後にONサイクルされる。強議電体画像表示装置
の第2の実施例で第3の装置に対して第12c図を参照
する。
yマルチプレクススウィッチ124により多重化される
。第12a図の装置の場合のように、yラインは各xラ
インの後にONサイクルされる。強議電体画像表示装置
の第2の実施例で第3の装置に対して第12c図を参照
する。
この装置は第12a図と第12b図の装贋の組み合せで
ある。第3の装置では、第12b図の前瞳増幅器108
とコンデソサ118が除外されており、リード線126
によりyアドレススウイッチ124に結合されたバッフ
ァ増幅器13川ま前層増幅器としても働く。本発明のい
くつかの実施例をこれまで説明してきたが、図示および
説明された構造の詳細な部分に対し種々の組み合せおよ
び修正が本発明の範囲から離れないでできることは当業
者には明らかである。
ある。第3の装置では、第12b図の前瞳増幅器108
とコンデソサ118が除外されており、リード線126
によりyアドレススウイッチ124に結合されたバッフ
ァ増幅器13川ま前層増幅器としても働く。本発明のい
くつかの実施例をこれまで説明してきたが、図示および
説明された構造の詳細な部分に対し種々の組み合せおよ
び修正が本発明の範囲から離れないでできることは当業
者には明らかである。
第1図は改良された強議電体画像表示装置のブロック線
図である。 第2図は強養蚕体画像表示装置の検出器装置の断面図で
ある。第3図は強諺蟹体画像表示装置の一実施例を1部
概略して示した図面である。第4図は強姦電体画像表示
装置のスウィッチマトリックスを形成する電界効果トラ
ンジスターの断面図である。第5a図〜第5c図は強議
電体画像表示装置の異万性ヒートシンク装置の断面図で
ある。第6a図〜第6d図は第5a図の異万性ヒートシ
ンクの製造法を示す図面である。第6e図〜第6g図は
第5b図の異万性ヒートシンクの製造法を示す図面であ
る。第6h図〜第6i図は第5c図の異方性ヒートシン
クの製造法を示す図面である。第7a図〜第7c図は強
談電体検出器マトリックスの第1の実施例の製造法を示
している。第8a図〜第8c図は強談電体検出器マトリ
ックスの第2の実施例の製造法を示している。第9図は
検出器装置の第1の実施例をハウジングを取り除き一部
断面図で示した図面である。第10図は第9図の検出器
マトリックス実施例の電気等価回路である。第11図は
検出器装置の第2の実施例をハウジングを取り除き一部
断面図で示した図面である。第12図a図〜第12c図
は強議電体画像表示装置の第2の実施例の装置を一部湖
略して示した図面である。第13図は第11図の検出器
装置の電気等価回路である。参照番号の説明、10・・
・・・・チョッパ、12・・・…レンズ装置、14…・
・・検出器アセンブリ、16…・・・駆動議出し電子装
置、18・・・・・・画像処理装置、20…・・・タイ
ミングコントロール装置、22……表示手段、24・・
…・検出器マトリックス、26…・・・ハウジング、2
8・・・・・・窓、30・・…・温度制御ヒートシンク
、32・・・…加熱素子、34・.....スウィツチ
マトリツクス、36・・・・・・異方性ヒートシンク、
42”””ソリツドステートスウイツチ、46……ドレ
イン、48……ソース、50……シリコン、54……パ
ッド、56“””ストリップ、58......ゲート
、60・・・…導体ロッド、62・・・・・・フオトレ
ジスト、64““”マスク、66”””/ぐツド、68
……ロッドセグメント、72……マスク、76・・・・
・・ガラス充填フオトレジスト、78・・・・・・ガラ
ス粒子、80…・・・ウェーハ、82……リードパター
ン、84“”“/fIンド、8 6……プレート、8
8および90・・・・・・/ぐィアスリード線、92・
・・・・・金属パッド、94・・・…yアドレス回路、
100・・・・・・別層増幅器、108・…・・バッフ
ァ増幅器、112・・・…プリチヤージFETスウイツ
チ、130・・・・・・制層増幅器。F′■9 / 〃夕,2 F/夕,3 F/9,4 〃夕.50 ‘ゆ6ク F/夕,5c (ータ,6o 「ンタ.6ク fンタ,6c Fゆ60 万枚6e 「汐6′ 〆/夕.69 rノ夕6〃 ‘杉6/ ‘杉スo ‘)タス△ (枚スC 「妙80 斤杉a○ ‘杉ac 〃9.9 Fノ9./0 F/〇// Fゆけ Fゆ′2o Fノ9.ノ20 斤9ぽC
図である。 第2図は強養蚕体画像表示装置の検出器装置の断面図で
ある。第3図は強諺蟹体画像表示装置の一実施例を1部
概略して示した図面である。第4図は強姦電体画像表示
装置のスウィッチマトリックスを形成する電界効果トラ
ンジスターの断面図である。第5a図〜第5c図は強議
電体画像表示装置の異万性ヒートシンク装置の断面図で
ある。第6a図〜第6d図は第5a図の異万性ヒートシ
ンクの製造法を示す図面である。第6e図〜第6g図は
第5b図の異万性ヒートシンクの製造法を示す図面であ
る。第6h図〜第6i図は第5c図の異方性ヒートシン
クの製造法を示す図面である。第7a図〜第7c図は強
談電体検出器マトリックスの第1の実施例の製造法を示
している。第8a図〜第8c図は強談電体検出器マトリ
ックスの第2の実施例の製造法を示している。第9図は
検出器装置の第1の実施例をハウジングを取り除き一部
断面図で示した図面である。第10図は第9図の検出器
マトリックス実施例の電気等価回路である。第11図は
検出器装置の第2の実施例をハウジングを取り除き一部
断面図で示した図面である。第12図a図〜第12c図
は強議電体画像表示装置の第2の実施例の装置を一部湖
略して示した図面である。第13図は第11図の検出器
装置の電気等価回路である。参照番号の説明、10・・
・・・・チョッパ、12・・・…レンズ装置、14…・
・・検出器アセンブリ、16…・・・駆動議出し電子装
置、18・・・・・・画像処理装置、20…・・・タイ
ミングコントロール装置、22……表示手段、24・・
…・検出器マトリックス、26…・・・ハウジング、2
8・・・・・・窓、30・・…・温度制御ヒートシンク
、32・・・…加熱素子、34・.....スウィツチ
マトリツクス、36・・・・・・異方性ヒートシンク、
42”””ソリツドステートスウイツチ、46……ドレ
イン、48……ソース、50……シリコン、54……パ
ッド、56“””ストリップ、58......ゲート
、60・・・…導体ロッド、62・・・・・・フオトレ
ジスト、64““”マスク、66”””/ぐツド、68
……ロッドセグメント、72……マスク、76・・・・
・・ガラス充填フオトレジスト、78・・・・・・ガラ
ス粒子、80…・・・ウェーハ、82……リードパター
ン、84“”“/fIンド、8 6……プレート、8
8および90・・・・・・/ぐィアスリード線、92・
・・・・・金属パッド、94・・・…yアドレス回路、
100・・・・・・別層増幅器、108・…・・バッフ
ァ増幅器、112・・・…プリチヤージFETスウイツ
チ、130・・・・・・制層増幅器。F′■9 / 〃夕,2 F/夕,3 F/9,4 〃夕.50 ‘ゆ6ク F/夕,5c (ータ,6o 「ンタ.6ク fンタ,6c Fゆ60 万枚6e 「汐6′ 〆/夕.69 rノ夕6〃 ‘杉6/ ‘杉スo ‘)タス△ (枚スC 「妙80 斤杉a○ ‘杉ac 〃9.9 Fノ9./0 F/〇// Fゆけ Fゆ′2o Fノ9.ノ20 斤9ぽC
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 強誘電体検出器装置を備えた強誘電体画像表示装置
であつて、該強誘電検出器装置は、(a) ハウジング
、 (b) ハウジングの一方の端に装着された温度制御ヒ
ートシンク、(c) ハウジング内の温度制御ヒートシ
ンク上に装着されたソリツドステートスウイツチマトリ
ツクス、(d) ソリツドステートスウイツチマトリツ
クスと電気結合してハウジングに装着された異方性ヒー
トシンク、(e) 異方性ヒートシンクを電気結合して
ハウジング内の異方性ヒートシンク上に装着された強誘
電体検出器マトリツクス、および(f) 温度制御ヒー
トシンクに対向したハウジングの末端に強誘電体検出器
マトリツクスと光学的に整合されて装着された窓を含み
、前記強誘電体検出器マトリツクスは赤外線エネルギー
にさらされる温度制御ヒートシンク、電圧バイアス装置
およびソリツドステートスウイツチマトリツクスに応答
して入射赤外線エネルギーを表わす電気信号を発生する
ように実質的にキユーリー点で動作することを特徴とす
る強誘電体画像表示装置。
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/861,754 US4143269A (en) | 1977-12-19 | 1977-12-19 | Ferroelectric imaging system |
| US861754 | 1977-12-19 | ||
| US861812 | 1977-12-19 | ||
| US05/861,812 US4162402A (en) | 1977-12-19 | 1977-12-19 | Ferroelectric imaging system |
| US05/862,269 US4142207A (en) | 1977-12-20 | 1977-12-20 | Ferroelectric imaging system |
| US862269 | 1986-05-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5492283A JPS5492283A (en) | 1979-07-21 |
| JPS6040751B2 true JPS6040751B2 (ja) | 1985-09-12 |
Family
ID=27420414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53145247A Expired JPS6040751B2 (ja) | 1977-12-19 | 1978-11-24 | 強誘電体画像表示装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6040751B2 (ja) |
| DE (1) | DE2854784A1 (ja) |
| GB (1) | GB2030023B (ja) |
| IT (1) | IT1158168B (ja) |
Cited By (1)
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| JPH02128071A (ja) * | 1988-11-08 | 1990-05-16 | Oji Kenzai Kogyo Kk | コンクリートの湿潤養生シート |
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|---|---|---|---|---|
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| US4551760A (en) * | 1983-09-16 | 1985-11-05 | Rca Corporation | Television camera with solid-state imagers cooled by a thermal servo |
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| GB2207501A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-01 | Philips Electronic Associated | Radiation detector arrangements and methods using resistors with high positive temperature coefficients |
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| DE102005018965B3 (de) * | 2005-04-23 | 2006-10-12 | HAWK Hochschule für angewandte Wissenschaft und Kunst | Bildwandler mit einer beheizbaren Wandlerschicht |
| CN113128267A (zh) * | 2019-12-30 | 2021-07-16 | 天津工业大学 | 一种基于改进2dpca-eoca的鲁棒手写数字识别方法 |
Family Cites Families (2)
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-
1978
- 1978-09-29 GB GB7838648A patent/GB2030023B/en not_active Expired
- 1978-11-24 JP JP53145247A patent/JPS6040751B2/ja not_active Expired
- 1978-12-15 IT IT52321/78A patent/IT1158168B/it active
- 1978-12-19 DE DE19782854784 patent/DE2854784A1/de active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02128071A (ja) * | 1988-11-08 | 1990-05-16 | Oji Kenzai Kogyo Kk | コンクリートの湿潤養生シート |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2854784C2 (ja) | 1989-09-07 |
| GB2030023A (en) | 1980-03-26 |
| JPS5492283A (en) | 1979-07-21 |
| IT1158168B (it) | 1987-02-18 |
| GB2030023B (en) | 1982-08-04 |
| IT7852321A0 (it) | 1978-12-15 |
| DE2854784A1 (de) | 1979-06-21 |
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