JPS6038112A - Dicing device - Google Patents
Dicing deviceInfo
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- JPS6038112A JPS6038112A JP58146333A JP14633383A JPS6038112A JP S6038112 A JPS6038112 A JP S6038112A JP 58146333 A JP58146333 A JP 58146333A JP 14633383 A JP14633383 A JP 14633383A JP S6038112 A JPS6038112 A JP S6038112A
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- Japan
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- dicing
- wafer
- sample
- cut
- magnetic material
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Dicing (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は切断技術に関し、特に半導体製造装置として半
導体ウェーハをベレットに切断するためのダイシング技
術に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a cutting technique, and particularly to a dicing technique for cutting a semiconductor wafer into pellets as a semiconductor manufacturing apparatus.
一般に半導体装置の製造に際しては、多数の素子パター
ンを形成した半導体ウェーハな素子ベレットに切断分離
するためのダイシング工程が必要とされる。このダイシ
ング工程においては、所印スクライビングのようにウェ
ーハの全厚さの半分にまで切込みを入れ後にこれを折り
割って分離するハーフダイシング方式が使われているが
、一方ではウェーハの全厚さにわたって切断を行なうフ
ルダイシング方式も利用されている(例えば特開昭48
−58771号公報参照)。Generally, when manufacturing a semiconductor device, a dicing process is required to cut and separate semiconductor wafers into device pellets on which a large number of device patterns are formed. In this dicing process, a half-dicing method is used, in which a cut is made to half the total thickness of the wafer, and then the cut is broken and separated, similar to stamp scribing. A full dicing method for cutting is also used (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 48
(Refer to Publication No.-58771).
ところで、このフルダイシングにあっては、ウェーハを
完全切断してしまうため、切断された各ベレットがばら
ばらにならぬようにウェーハの下側に粘着テープを敷設
し、これにウェーハを粘着固定する方式がとられている
。この場合、切断後にベレットを粘着テープから外し易
いように粘着テープの粘着度はそれ程強いものを使用し
ておらず、またウェーハは粘着テープの裏面側における
真空吸着によってダイシングテーブル上に支持されるよ
うになっている。By the way, in this full dicing, the wafer is completely cut, so in order to prevent the cut pellets from falling apart, an adhesive tape is laid under the wafer and the wafer is adhesively fixed to this. is taken. In this case, the adhesive tape used is not very strong so that the pellet can be easily removed from the adhesive tape after cutting, and the wafer is supported on the dicing table by vacuum suction on the back side of the adhesive tape. It has become.
したがって、このような支持状態のウェーハなフルダイ
シングすると、ダイシングツ・−(ブレード)の高速回
転に伴なう振動が切断されつつあるベレットに伝わると
、ベレットは真空吸着、粘着度の弱い粘着テープによる
支持のみであるため極めて簡単に振動され、この振動に
よってベレット側面(特に下側縁)がダイシングソーと
干渉し、ペレット側面に傷や欠けが発生することを本発
明者は見い出した。このような傷や欠けは、後工程にお
けるベレットボンディングを良好に行ない得ない原因に
なると共に、著しいときにはベレット表面の素子回路を
破損することもある。Therefore, when full dicing a wafer in such a supported state, the vibrations caused by the high-speed rotation of the dicing tool (blade) are transmitted to the pellets being cut, and the pellets are vacuum-adsorbed and the adhesive tape with weak adhesiveness The present inventor found that since it is only a support, it is extremely easily vibrated, and this vibration causes the side surface of the pellet (particularly the lower edge) to interfere with the dicing saw, causing scratches and chips on the side surface of the pellet. Such scratches and chips may not only cause poor pellet bonding in subsequent steps, but also may damage the element circuits on the surface of the pellet if they are severe.
本発明の目的は試料を完全切断あるいはほとんど切削し
た状態であってもダイシング面に傷や欠けが発生するこ
とのないダイシング技術を提供することにある。An object of the present invention is to provide a dicing technique that does not cause scratches or chips on the dicing surface even when the sample is completely or almost cut.
また本発明の目的は完全切断されたあるいはほとんど切
削されたペレット側面の傷や欠けを防止することのでき
るダイシング技術を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a dicing technique that can prevent scratches and chips on the side surfaces of pellets that have been completely cut or almost cut.
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。The above and other objects and novel features of the present invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、試料に磁力吸着力が作用し得るよう構成する
ことにより、完全切断されるある(・はほとんど切削さ
れる試料の支持力を増大し、これによりダイシングした
時における試料の振動およびダイシング用ブレードとの
干渉を防止して傷や欠けの発生を防止するものである。In other words, by configuring the sample so that magnetic adsorption force can act on it, the supporting force of the sample to be completely cut is increased, and this reduces the vibration of the sample during dicing and the dicing blade. This prevents scratches and chips from occurring by preventing interference with the material.
第1図は本発明のダイシング装置を半導体ウェーハのダ
イシング装置に適用した実施例であり、第2図にその詳
細を示している。図において、1は試料、即ちダイシン
グする対象としての半導体ウェーハであり、その表面に
は多数の素子パターンを桝目状に形成しており、このパ
ターンのスクライプラインに油ってこれをダイシングす
れば多数個の素子ベレット(チップ)が得られるように
なっている。2はこのウェーハ1を支持するためのキャ
リア治具であり、全体欠円環状に形成すると共にその下
面には比較的に粘着度の高い粘着テープ3を上向きに貼
り、かつこの上面には粘着度の低い粘着テープ4を上向
きに貼った上でウェーハ1の下面を貼着支持している。FIG. 1 shows an embodiment in which the dicing apparatus of the present invention is applied to a semiconductor wafer dicing apparatus, and FIG. 2 shows the details thereof. In the figure, 1 is a sample, that is, a semiconductor wafer to be diced. On its surface, a large number of element patterns are formed in the form of squares. This makes it possible to obtain individual element pellets (chips). Reference numeral 2 denotes a carrier jig for supporting the wafer 1, which is formed entirely in the shape of an annular ring, and has an adhesive tape 3 with relatively high adhesiveness affixed upward to its lower surface, and a highly adhesive tape 3 on its upper surface. The lower surface of the wafer 1 is supported by pasting an adhesive tape 4 with a low pressure upward.
そして、このキャ“リア治具2はダイシングテーブル5
上に支持される。This carrier jig 2 is attached to the dicing table 5.
supported above.
前記ダイシングテーブル5は図外の駆動機構によりてX
方向に連続移動できると共に、Y方向にはステップ移動
できまたZ方向にも移動できる。The dicing table 5 is moved by a drive mechanism (not shown).
It can move continuously in the direction, step move in the Y direction, and move in the Z direction as well.
そして、その上面には複数本の凹溝6を形成し、この凹
溝6を通路7を介して真空源(図示せず)に連通ずるこ
とにより、ダイシングテーブル5上に載置されたキャリ
ア治具2およびこれに貼着支持されたウェーハ1をテー
ブル面に真空吸着することができる。更に、前記ダイシ
ングテーブル5は表面を磁性体8にて形成している。な
お、この磁性体8はそれ自身で磁性を帯びている。A plurality of grooves 6 are formed on the upper surface of the carrier jig placed on the dicing table 5 by communicating the grooves 6 with a vacuum source (not shown) through a passage 7. The tool 2 and the wafer 1 attached and supported thereon can be vacuum-adsorbed onto the table surface. Furthermore, the surface of the dicing table 5 is made of a magnetic material 8. Note that this magnetic body 8 itself has magnetism.
一方、テーブル5上に支持された絶縁性のウェーハ1に
は、ウェーハに被されるようにしてクロムやニッケル等
の磁性体からなる薄膜、本例では薄板9を設けている。On the other hand, an insulating wafer 1 supported on a table 5 is provided with a thin film, in this example a thin plate 9, made of a magnetic material such as chromium or nickel so as to cover the wafer.
この薄板9はウェーハ1の上面のみならず周辺部にも延
在されており、この結果前記テーブル5の磁性体8との
間に磁力吸着力が作用され、この吸着力によって薄板9
はウェーハlをテーブル面に押圧することになる。This thin plate 9 extends not only to the upper surface of the wafer 1 but also to the periphery of the wafer 1, and as a result, a magnetic attraction force is exerted between it and the magnetic body 8 of the table 5, and this attraction force causes the thin plate 9 to
will press the wafer l onto the table surface.
また、前記ダイシングテーブル5の一側上には、テーブ
ル5の前記した移動によって結果的に相対移動される回
転ブレードからなるダイシングソーIOが支持され、高
速回転可能とされる。このソー10にはノズル11から
清浄水が供給される。Further, on one side of the dicing table 5, a dicing saw IO consisting of a rotating blade that is relatively moved as a result of the above-mentioned movement of the table 5 is supported, and is capable of rotating at high speed. Clean water is supplied to this saw 10 from a nozzle 11.
図中、12は補助支持爪である。In the figure, 12 is an auxiliary support claw.
以上の構成によれば、ダイシングテーブル5を2方向お
よびX方向にシーケンス動作すればつ工−ハ1をダイシ
ングソー10に対して移動でき、ウェーハをX方向に切
断でき、合わせてY方向に動作すればX方向の多数本の
切断溝を形成する。According to the above configuration, by sequentially operating the dicing table 5 in two directions and in the For example, a large number of cutting grooves in the X direction are formed.
次いでテーブル5全体を90度回転して同様の切断を行
なえば、ウェーハを各ペレット単位に切断分離すること
ができる。このとき、切断は粘着テープ4に切り込まれ
る程度の深さであり、ウェーハ1は完全に切断される。Next, by rotating the entire table 5 by 90 degrees and performing similar cutting, the wafer can be cut and separated into individual pellets. At this time, the cutting is deep enough to cut into the adhesive tape 4, and the wafer 1 is completely cut.
このような切断動作の間、ウェーハ1はキャリア治具2
や粘着テープ3.4と共にテーブル5上に真空吸着され
ているが、これと同時にテーブル5の磁性体8と、薄板
9との磁力吸着力がウェーハ1に作用され、ウェーハ1
はテーブル5上に強固に抑圧支持されている。この状態
は、ウェーハ1の切断に伴なって薄板9が切断されても
、各ペレット上に存在している薄板(小片)によって維
持される。したがって、ウェーハが各ペレットに完全切
断される状態となっても各ペレットは前述のように強固
にテーブル上に支持されているので、ダイシングソー1
0の振動がクゴーハ1ないしペレットに伝達されてもペ
レットが共に振動されることは抑止でき、ペレット側面
とダイシングツ=10との干渉を防止して傷や欠けの発
生を防止することができるのである。During such a cutting operation, the wafer 1 is placed in the carrier jig 2.
At the same time, the magnetic attraction force between the magnetic body 8 of the table 5 and the thin plate 9 is applied to the wafer 1, and the wafer 1 is
is strongly suppressed on Table 5. This state is maintained by the thin plates (small pieces) present on each pellet even if the thin plates 9 are cut as the wafer 1 is cut. Therefore, even when the wafer is completely cut into pellets, each pellet is firmly supported on the table as described above, so the dicing saw
Even if the vibration of 0 is transmitted to Kugoha 1 or the pellet, it is possible to prevent the pellet from being vibrated together, and it is possible to prevent interference between the side surface of the pellet and the dicing tool 10, thereby preventing the occurrence of scratches and chips. .
なお、薄板9の厚さは粘着テープ3,4や真空吸着等に
よる支持力や切断能力等によって適宜調節すればよい。The thickness of the thin plate 9 may be adjusted as appropriate depending on the supporting force and cutting ability of the adhesive tapes 3, 4, vacuum suction, etc.
また、かならずしも薄板9をウェーッSlの上面及び側
面に被覆する必要はなく、少なくとも、ウェーハ1の表
面が覆われていればよい。Further, it is not always necessary to cover the top and side surfaces of the wafer Sl with the thin plate 9, and it is sufficient that at least the surface of the wafer 1 is covered.
(1)試料に磁性力が作用するような機構をテーブルに
設けることにより、試料をテーブル上に強固に支持させ
ることができ、試料に振動が伝えられても試料の振動を
抑止でき、試料とダイシング用ブレシトとの干、渉を防
止して傷や欠けの発生を防止できる。(1) By providing the table with a mechanism that applies magnetic force to the sample, the sample can be firmly supported on the table, and even if vibrations are transmitted to the sample, the vibrations of the sample can be suppressed, and the It can prevent scratches and chips from occurring by preventing interference with the dicing plate.
(2)試料とは別体に設けた薄板を試料上に被覆させる
一方、テーブルには磁性体2強磁性体を設けるだけでよ
いので、既在の装置への組込みも容易であり、極めて簡
単に構成できる。(2) Since it is only necessary to cover the sample with a thin plate provided separately from the sample, and to provide two ferromagnetic substances on the table, it is easy to integrate into existing equipment, making it extremely simple. It can be configured as follows.
(31ウェーハからペレットを形成する際に、ペレット
側面の傷、欠けt防止できるので、後工程におけるペレ
ットポンディングを良好に行ない得ると共にペレット表
面の回路の損傷を防止でき、品質、信頼性を向上できる
。(When forming pellets from 31 wafers, it is possible to prevent scratches and chips on the sides of the pellets, allowing for good pellet pounding in the post-process and preventing damage to the circuits on the pellet surface, improving quality and reliability. can.
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、薄板(薄膜
)をそれ自身で磁性を帯びている磁性体で形成して、テ
ーブルに設けた磁性体との間に磁力が作用するようにし
てもよい0また、テーブルに電磁石を設けて、試料を被
覆する磁性体との間に磁力が作用するようにしてもよい
。なお、試料それ自身が磁性体であるときは、磁性体ケ
被覆する必要はない。Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, a thin plate (thin film) may be made of a magnetic material that is magnetic by itself, so that a magnetic force acts between it and the magnetic material provided on the table.Also, an electromagnet may be provided on the table. , a magnetic force may act between the sample and a magnetic material covering the sample. Note that when the sample itself is a magnetic material, it is not necessary to cover it with a magnetic material.
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体ウェーハのダ
イシング装置に適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、他の分野における精密加工
用の薄板切断又は切削装置に適用することができる。In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to a semiconductor wafer dicing apparatus, which is the background field of application, but it is not limited to this, and is applicable to precision processing in other fields. It can be applied to thin plate cutting or cutting equipment for.
第1図は本発明の一実施例の全体構成図、第2図は一部
の拡大破断斜視図である。
1・・・試料(ウェーハ)、2・・・キャリア治具、3
゜4・・・粘着テープ、5・・・ダイシングテーブル、
6・・・凹溝、8・・・磁性体、9・・・薄膜(薄板)
、10・・・ダイシング用ブレード。FIG. 1 is an overall configuration diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partially enlarged perspective view. 1... Sample (wafer), 2... Carrier jig, 3
゜4...Adhesive tape, 5...Dicing table,
6... Concave groove, 8... Magnetic material, 9... Thin film (thin plate)
, 10... Dicing blade.
Claims (1)
と、このテーブルに対して相対移動して試料を切削又は
切断できるダイシング用ブレードを有し、前記試料に磁
性力が作用するような機構を前記テーブルに設げてなる
ダイシング装置。 2、前記機構はテーブルの表面部またはその近傍が磁性
体で構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のターイシング装置。 3、前記機構はテーブルの表面部またはその近傍に電磁
石を配設していることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のダイシング装置。 4、前記試料が絶縁性の物体であるときには、少なくと
も表面上が磁性体で被覆されていることを特徴とする特
許請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載のダイシン
グ装置。 5、前記磁性体はクロム、ニッケル等の金属薄膜又は、
それらを含有している薄膜であることを特徴とするダイ
シング装置。[Claims] 1. It has a table on which a sample is placed and supports it, and a dicing blade that can cut or cut the sample by moving relative to the table; A dicing device in which the table is provided with a mechanism that applies force. 2. The tercing device according to claim 1, wherein the mechanism is constructed of a magnetic material at or near the surface of the table. 3. Claim 1, wherein the mechanism is characterized in that an electromagnet is disposed on or near the surface of the table.
The dicing device described in section. 4. The dicing apparatus according to claim 1, 2, or 3, wherein when the sample is an insulating object, at least the surface thereof is coated with a magnetic material. 5. The magnetic material is a metal thin film such as chromium or nickel, or
A dicing device characterized by a thin film containing them.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58146333A JPS6038112A (en) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | Dicing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58146333A JPS6038112A (en) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | Dicing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6038112A true JPS6038112A (en) | 1985-02-27 |
Family
ID=15405311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58146333A Pending JPS6038112A (en) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | Dicing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6038112A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005101505A (en) * | 2003-03-13 | 2005-04-14 | Ventec-Ges Fuer Venturekapital & Unternehmensberatung Mbh | Mobile and transportable type electrostatic substrate holder |
WO2023238452A1 (en) * | 2022-06-07 | 2023-12-14 | 坂東機工株式会社 | Grinding system |
-
1983
- 1983-08-12 JP JP58146333A patent/JPS6038112A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005101505A (en) * | 2003-03-13 | 2005-04-14 | Ventec-Ges Fuer Venturekapital & Unternehmensberatung Mbh | Mobile and transportable type electrostatic substrate holder |
WO2023238452A1 (en) * | 2022-06-07 | 2023-12-14 | 坂東機工株式会社 | Grinding system |
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