JPS6034474Y2 - レ−ザ加工装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は、溶断装置或はレーザ加工装置などにおける
ドロス、或は有害ガスまたは切粉などを吸引排出する装
置を備えたレーザ加工装置に関する。

従来、この種の排出装置には真空ポンプを利用した装置
または高速度の気体をノズルから噴出させて他の気体を
排出するエジェクター等が利用されている。

上記真空ポンプを利用するのは、その保守上で問題があ
り、またエジェクターを利用する場合には、高速度で噴
射する気体のソースを必要とするが、一般には工場に配
設されているエアー源（４ｋｇ／ａ＃）が利用される。

しかし、従来のエジェクターの場合には、噴出する気体
の速度を制御するのが困難であった。

この考案は、かかる従来の問題点を有効に解決したもの
で、その目的とするところは、ワークの固定テーブル下
方に、ベンチュリー管を内装したハウジングを装着する
とともに、ベンチュリー管の上部から高圧流体を噴出さ
せることにより、ドロス、あるいは有害ガスまたは切粉
等を能率良く排出することができるレーザ加工装置を提
供するものである。

以下、添付図面を用いて、この考案の好適一実施例を説
明する。

第１図、第２図は、この発明を実施したＮＣ制御される
レーザ加工装置１の正面図と、平面図とを示し、このレ
ーザ加工装置は１は、主としてレーザ加工機３と、炭酸
ガスレーザを使したレーザ発振器５と、このレーザ発振
器５の電源装置７と、レーザ発振器５における発振用混
合ガスを冷却するための図示しない冷却システムとから
構成され、このレーザ加工機３に載置されたワークＷ（
被加工物Ｗ）は、ＮＣ制御により位置決めされるもので
ある。

前記レーザ加工機３には、レーザ発振器５から発振され
たレーザビーム９を、固定テーブル１１上に載置された
ワークＷに照射させる複数の反射ミラー１３ａ、１３ｂ
、１３ｃが調整自在に取付けられている。

また上記レーザビーム９は、加工ヘッド１５内に設けら
れた集光レンズ１５ａによりワークＷ上に集光照射され
るものである。

前記固定テーブル１１の長手方向の一側部には、板状の
ワークＷを把持する位置決め装置１７が設けられており
、この位置決め装置１７には、図示しないワークＷのＹ
方向の基準ストッパが具備されるとともに、Ｘ軸ガイド
レール１９に沿って第２図において前後方向に移動する
Ｘ軸キャリッジ２１が取付けられている。

Ｘ軸ガイドレール１９は、固定テーブル１１の長手方向
（第２図において左右方向）に敷設された図示しないＹ
軸ガイドレールに沿って移動するＹ軸キャリッジ２３上
に敷設されている。

なお、Ｙ軸ガイドレールニ１９と、図示しないＹ軸ガイ
ドレールとは直交して敷設されるとともに、上記Ｘ軸ガ
イドレール１９にガイドされるＸ軸キャリッジ２１は、
サーボモータ２５により駆動され、またＹ軸ガイドレー
ルにガイドされるＹ軸キャリッジ２３は、図示しないサ
ーボモータにより駆動されるものである。

また２７は、Ｙ軸キャリッジ２３と一体的に設けられた
移動テーブルであって、この移動テーブル２７上には、
ワークＷを支承する複数のフリーストロークベアリング
２９が回転自在に埋設されている。

また前記移動テーブル２７の一側部には、Ｘ軸方向の基
準ストッパ３１が設けてあって、この基準ストッパ３１
は、ワークＷの通過する面（パスライン）に対して出没
自在に設けられている。

前記固定テーブル１１の下方には、レーザ加工によって
発生するドロス、或は有害ガス、又は切粉等を吸引する
吸引排出装置３３が設置しである。

上記吸引排出装置３３は、第３図に示すように固定テー
ブル１１の加工部３５の下面に、中空筒状のハウジング
３７がボルト３９により固定されている。

前記ハウジング３７には、その上端部に固定テーブル１
１の加工部３５に形成された加工孔３５ａと連通接続す
るテーパ状のノズル４１が形成シてあり、またハウジン
グ３７の内壁面には、段部４３とねじ部４５と更に高圧
流体の供給孔４７とが形成されている。

上記ハウジング３７の内部には、上部内壁にベンチュリ
一部４９ａを備えたベンチュリー管４９カ螺合してあり
、このベンチュリー管４９のベンチュリ一部４９ａの外
壁と、前記ハウジング３７の内壁面に形成された段部４
３との間には、高圧流体の環状通路５１が形成されてい
る。

また前記ハウジング３７のノズル４１の内側面と、ベン
チュリー管４９の上端開口部との間には、環状通路５１
と連通する間隙５３が形成されており、この間隙５３は
ハウジング３７の供給孔４７から環状通路５１に流入さ
れた高圧流体を流量を調整しつつベンチュリー管４９の
上端部からベンチュリ一部４９ａに導（ものである。

なお、間隙５３の調整は、ベンチュリー管４９を回転す
ることによって任意に調節できる。

ベンチュリー管４９の下端には、ジャバラ５５を介して
、ドロス、或は有害ガスまたは切粉などの排出筒５７が
接続してあり、この排出筒５７の上部側壁には、有害ガ
スを外部に排出する排出口５９が設けられ、また底部に
は、ドロス、切粉等の落下したものを排出筒５７から取
出す受皿６１が内装されている。

なお、図中６３は、ハウジング３７に対するベンチュリ
ー管４９の固定用ねじであり、また６５は気密用のＯリ
ングである。

更に加工ヘッド１５内の集光レンズ１５ａの側部に設け
られた通孔６７は、アシストガス供給通路である。

次に上記のような構成から戊るこの考案の作用について
説明する。

先ずレーザ加工装置１における加工時において、図示し
ない高圧流体供給源からハウジング３７の供給孔４７を
介して環状通路５１内に例えば４ｋｏ／ｃＩｔの高圧流
体を供給すると、この高圧流体は、ノズル４１とベンチ
ュリー管４９の上端開口部に設けられた間隙５３からベ
ンチュリー管４９内のベンチュリ一部４９ａに向って高
速度で噴出し、更にこの高圧流体は排出筒５７に向って
下流する。

この高圧流体が上記ベンチュリ一部４９ａを通遇する際
、このベンチュリ一部４９ａの近傍が負圧状態となるた
め、レーザ切断時に使用されるアシストガス（例えば酸
素、窒素、アルゴン、ヘリウム等）が吸引されて、排出
筒５７の排出口５９から外部に排出されることとなる。

また金属切断の場合には、その切断時に発生するドロス
や切粉等も同時に排出筒５７側に吸引されるが、ドロス
や切粉等は重いため、排出筒５７の直下に設けられた受
皿６１に堆積される。

そして受皿６１にある程度ドロスや切粉等が堆積したな
らば受皿６１をハウジング３７から引出し、外部に排出
する。

なお、上記レーザ加工時には、供給する高圧流体の圧力
に対して吸引排出能力を最大にするように、前記間隙５
３をベンチュリー管４９を回転させて調節し、調節後は
ハウジング３７に設けた固定用ねじて固定するものであ
る。

なお、この考案に係わる吸引排出装置３３は、上記実施
例の如くレーザ加工装置に限定されず、例えばミーリン
グマシンやパンチプレス等、その他の機械にも適用でき
ることは言うまでもない。

この考案は、上記のようにレーザ加工装置の加工部にお
ける下方に、中空筒状のノ＼ウジングを設けるとともに
、このハウジングの内部に高圧流体の噴出する間隙を調
整自在に構成するベンチュリー管を嵌合させて設けたた
め、レーザ加工時における有害ガスやドロスあるいは切
粉等は、ベンチュリー管内のベンチュリ一部を通る高圧
流体の負圧作用によって排出筒側に吸引排出される。

従って、従来のように真空ポンプ等を使用せずに上記有
害ガスや廃棄物を有効に機外に排出することができる。

また、吸引する圧力も、ベンチュリー管を回転させるだ
けで簡単に行なうことができる。

なお、この考案は上記の実施例に限定されず他の実施態
様によることも可能であり、また、実用新案登録請求の
範囲に付した番号は、技術的範囲を限定するものではな
い。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、この考案を実施したレーザ加工装
置の正面図と平面図、第３図は、この考案の要部拡大断
面図である。 図面中に表わされた主要な符号の説明、１１・・・・・
・固定テーブル、３５・・・・・・加工部、Ｗ・・・・
・・ワーク、１５・・・・・・加工ヘッド、９・・・・
・・レーザビーム、１・・・・・・レーザ加工装置、３
７・・・・・・ハウジング、４９ａ・・・・・・ベンチ
ュリ一部、４９・・・・・・ベンチュリー管、４１・・
・・・・ノズル、５３・・・・・・間隙。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 固定テーブル１１の加工部３５に載置されたワークＷに
   、加工ヘッド１５のノズルからレーザビーム９を照射し
   てレーザ加工を行なうレーザ加工装置１において、前記
   固定テーブル１１における加工部の下方に、高圧流体供
   給源と接続する中空筒状のハウジング３７を装着し、こ
   のハウジング３７の内部に、ベンチュリ一部４９ａを備
   えた中空筒状のベンチュリー管４９を着脱自在に嵌合さ
   せて設けるとともに、前記ベンチュリー管４９の上端部
   とハウジング３７のノズル４１との間に高圧流体の噴出
   する調節自在な間隙５３を設けたことを特徴とするレー
   ザ加工装置。