JPS603109A - オルソロンビツク材料 - Google Patents

オルソロンビツク材料

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JPS603109A
JPS603109A JP58111349A JP11134983A JPS603109A JP S603109 A JPS603109 A JP S603109A JP 58111349 A JP58111349 A JP 58111349A JP 11134983 A JP11134983 A JP 11134983A JP S603109 A JPS603109 A JP S603109A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
garnet
film
pbo
liquid phase
phase epitaxial
Prior art date
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Pending
Application number
JP58111349A
Other languages
English (en)
Inventor
Taketoshi Hibiya
孟俊 日比谷
Hiroshi Makino
牧野 弘史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS603109A publication Critical patent/JPS603109A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/24Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids
    • H01F41/28Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids by liquid phase epitaxy

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は非磁性(110)ガリウムガーネット基板上に
育成δれた膜面に垂直な方向が磁化容易軸であるオルソ
ロンビック異方性をもつ磁性ガーネット液相エピタキシ
ャル膜からなるオルソロンビック材料に関する。
ベル・システムテクニカル・ジャーナル(DellSy
stem Technical Journal )第
58巻第6号第2部第1453頁(1979年)にボー
ベックらによって発表された二重導体パターン(デュア
ル・コンダクタ・パターン)を用いたバブル磁区素子は
、従来のバブル磁区素子と異なシ、1)回転磁場発生用
のコイルが不要である、11)バブル磁区の高周波駆動
が可能である、+rr)バブル磁区の径を微小化できる
ので素子の記憶密度を向上できる、などの特徴を有して
いる。
この素子を実現するためには、膜面に垂直な方向が磁化
容易軸であると同時に、膜面内にも磁気異方性を有する
オルソロ/ビック異方性を持つ材料の採用が提案されて
いる。オルソロ/ビック異方性を有する材料においては
、膜面内の異方性磁界が十分に大きければ、磁壁にこの
面内異方性磁界が働き、磁壁の移動速度の飽和値を通常
の材料におけるそれと比べ著しく大きくできる。また、
オルソロンビック材料ではハードバブルが生ぜず、磁壁
のS状態を低く保てるという特徴を有している。したが
って、導体パターンではなく通常のバ−マロイパターン
を用いた素子においても、i)ハード・バブル制御の工
程を省略できる、11)バブルの高周波駆動が可能であ
る、などの有利な点を有している。
また、磁気記録媒体の情報を磁気転写・光読み出しによ
って再生させる素子として磁性ガーネット膜を用いる場
合、電子通信学会技術研究報告MR−80−6(198
0年)第15頁に述べられているように、従来の材料を
用いる限りその磁壁移動速度に限界があることによって
磁気記録媒体の移動速度にガーネットの磁壁移動速度が
追随できない。このような素子にオルソロンピック異方
性材料が用いられれは磁壁の最高移動速度は通常の材料
の25〜30 m / secよシも格段に大きくなり
磁気転写・光読み出し技術における動特性を格段に改善
できる。
また、レーザー光偏向素子においてもオルソロンピック
材料を用いれば駆動周波数を改善できる。
オルソロノビツク異方性を有する材料は、通常のバブル
材料である(All)ガーネット膜からは得られない。
(110)ガーネット液相エピタキシャル膜においては
、オルソロンピック異方性が生ずる。ウォルフェらによ
ってアプライド・フィジックス・レターズ第29巻第1
2号第815頁(1976年)の論文に示されている如
< (110)ガーネット膜がオルソロノビツク異方性
を有し、しかも膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有する
ためには膜面に垂直方向と膜面内との二つの異方性エネ
ルギ一定数Ku、△が次の第1式、第2式および第3式
に示すいずれの関係をも満足する必要がある。
K、u ) O(+) 、Ku+△〉0 伐)、△”v
O(3)しかしながら、多くのガーネットにおいては、
 Ku〈0あるいはKu+△く0であシ、(110)面
をもつ非磁性ガーネット基板上に成長させたときに膜面
に垂直な(110)方向が磁化容易軸とはならない。し
たがって、第1式および第2式を同時に満たすようなオ
ルソロンピック異方性を有する(ilo)ガーネット膜
を提供できるようなガーネット膜組成及びその製造条件
を見出すことが二重導体パターンバブル素子や周波数帯
域の広い磁気転写・光読み出し素子又は高い周波数域で
駆動可能なレーザ光偏向素子を実用化する上で何よシも
大切である、 さらに、アイ・イー・イー・イー・トランザクションズ
・オン・マグネティクス(IEEETr−ans on
 Magnetics )第MAGl 3巻、第108
7頁(1977年)にブリードらが発表した論文および
第25回応用物理学関係連合講演会講演予稿集講演番号
30a−F−5(1978年)第558頁に数軒および
檀高が発表した論文に知られているように、一般に(l
tO)ガーネット膜では抗磁力(L(c)が大きく、バ
ブル素子として用いるときの安定性を保証しえないこと
がある。
本発明の目的は、二重導体パターンバブル素子、周波数
帯域の広い磁気転写・光読み出し素子および高い周波数
で駆動可能なレーザ光偏向素子に不可欠であシ、膜面に
垂直な磁化容易軸を有しかつ抗磁力が低いオルソロンピ
ック材料を提供スルコとにある。
本発明のオルソロンピック材料の構成は、非磁性ガーネ
ット基板上にPbOおよびBi2O3を主成分としPb
OとBi2O3とのモル比が4.5以下である融液よシ
その基板方位を(110)として育成され、その膜組成
が(LuBi )3Fe601zであるガーネット液相
エピタキシャル膜からなることを特徴とする。
本発明の発明者は、PbOおよびBi2O3を主成分と
しこれらのモル比が4.5以下である融液よシ(110
)非磁性ガーネット基板上に育成した(LuBi)3F
e5012ガーネツト膜が、膜面に垂直な方向を磁化容
易軸とするような磁気異方性を有することを見出した。
以下実施例によυ本発明の詳細な説明する。
〔実施例1〕 第1表の実施例1の組成に示すように、PbOとB s
 203とのモル比が64.70725.88−=2.
5の融液を用いて、723℃において(llo)面のガ
ドリニウム・ガリウム・ガーネット単結晶基板上に(L
uB1 )a Fe5O12ガーネツト液相エピタキシ
ヤ1ル膜を育成した。この被膜は、第1表の実施例1の
特性に示すように、Ku)OかつKu+バ〉0であるオ
ルソロンピック磁気異方性が得られ、膜面に垂直な方向
に磁化容易軸をもつバブル磁区材料が得られた。
第1表 〔実施例2〕 第1表の実施例2の組成に示すように、PbOとBi2
O3とのモル比が74.25/16.50=4.5であ
る融液を用いて、81O℃において(110)ガドリニ
ウム・ガリウム・ガーネット単結晶基板上に(LuBi
)3Fe50□2ガーネツト液相エピタキシヤル膜を育
成した。この被膜によシ、第1表の実施例2の特性に示
すように、Ku)0かつKu+△〉Oであるようなオル
ソロンピック磁気異方性が得られ、膜面に垂直な方向に
磁化容易軸をもつバブル材料が得られた、 〔比較例〕 第1表の比較例の組成に示すように、pbo とBi2
O3とのモル比が72.5 / 14.5 = 5.0
であるような融液を用いて、777℃において(LuB
i)3Fe5012ガーネツトを(110)ガドリニウ
ム・ガリウム・ガーネット単結晶基板上に育成した。こ
の場合には、第1表の比較例の特性に示すように、Ku
 (0となシ膜面に垂直な方向が磁化容易軸とはならず
そのためバブル材料となることはできなかった。
以上説明したように、PbOおよびB 1203を主成
分とし、これらPbOとB i20Bとのモル比が4.
5以下である融液によ、!l) (LuB1 )3Fe
、01□液相エピタキシヤル膜を(110)方向に成長
させることによシ、オルソロンピック磁気異方性を有す
るバブル材料が得られる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 非磁性ガーネット基板上に、PbOおよびBi2O3を
    主成分としPbOとB I 203とのモル比が4.5
    以下である融液よりその基板面方位を(110)として
    育成qi、その膜組成が(L u B r ) 3 F
     e 5012であるガーネット液相エピタキシャル膜
    からなることを特徴とするオルソロンビック材料。
JP58111349A 1983-06-21 1983-06-21 オルソロンビツク材料 Pending JPS603109A (ja)

Priority Applications (1)

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JP58111349A JPS603109A (ja) 1983-06-21 1983-06-21 オルソロンビツク材料

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JP58111349A JPS603109A (ja) 1983-06-21 1983-06-21 オルソロンビツク材料

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JPS603109A true JPS603109A (ja) 1985-01-09

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ID=14558936

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JP58111349A Pending JPS603109A (ja) 1983-06-21 1983-06-21 オルソロンビツク材料

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