JPS6031085Y2 - spotting device - Google Patents

spotting device

Info

Publication number
JPS6031085Y2
JPS6031085Y2 JP10708881U JP10708881U JPS6031085Y2 JP S6031085 Y2 JPS6031085 Y2 JP S6031085Y2 JP 10708881 U JP10708881 U JP 10708881U JP 10708881 U JP10708881 U JP 10708881U JP S6031085 Y2 JPS6031085 Y2 JP S6031085Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
nozzles
mask
nozzle
plated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP10708881U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5815661U (en
Inventor
幸吉 小林
雅治 石坂
靖志 今浜
Original Assignee
田中電子工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 田中電子工業株式会社 filed Critical 田中電子工業株式会社
Priority to JP10708881U priority Critical patent/JPS6031085Y2/en
Publication of JPS5815661U publication Critical patent/JPS5815661U/en
Application granted granted Critical
Publication of JPS6031085Y2 publication Critical patent/JPS6031085Y2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案はICフレームその他の電気用部材等に部分的に
メッキを施こすスポットメッキ装置、詳しくは複数の透
孔を開口せるマスク上に陰極をかけられた被メツキ素材
を密着させるとともにマスク下に複数のノズルを配設し
素材に向はメッキ液を噴射させて素材にメッキを施こす
ようにした装置の改良に関する。
[Detailed description of the invention] This invention is a spot plating device for partially plating IC frames and other electrical components, and more specifically, the material to be plated has a cathode placed on a mask with multiple through holes. The present invention relates to an improvement of an apparatus for plating a material by plating the material in close contact with the material and by disposing a plurality of nozzles under the mask and spraying a plating liquid onto the material.

従来装置に使用されるスズルは一般に円筒形ノズルであ
って、該ノズルを複数配設する構造にあっては各ノズル
の流動抵抗により、あるいはポンプ圧により各ノズルか
ら噴射するメッキ液の噴射高さにバラツキが生ずる現象
があられれ、その結果、被メッキ面にメッキムラが生じ
均一なメッキ効果が得られないとともにノズル径が制約
されるため素材側の陰極面積とノズル側の陽極面積との
比率をさほど大きくとれないので、メッキの電流密度を
上げることが難かしくメッキ作業の高速化が望めない。
The nozzles used in conventional equipment are generally cylindrical nozzles, and in structures with multiple nozzles, the jet height of the plating solution jetted from each nozzle is determined by the flow resistance of each nozzle or by the pump pressure. As a result, uneven plating occurs on the surface to be plated, making it impossible to obtain a uniform plating effect and restricting the nozzle diameter. Since it cannot be made very large, it is difficult to increase the current density of plating, and it is difficult to increase the speed of plating work.

又、複数ノズルの個々に陽極を通電させなければならな
いので、その配線構造が複雑である。
Furthermore, since the anode must be energized individually for each of the plurality of nozzles, the wiring structure is complicated.

本考案は成上従来不具合をノズル孔のスリット形状と金
網配設構造とによって解消し、陽極側の通電構造を簡単
にするとともに作業性及びメッキ効果に優れたスポット
メッキ装置を提供せんとすることを目的とする。
The present invention aims to solve the problems of conventional products by using the slit shape of the nozzle hole and the wire mesh arrangement structure, simplify the current-carrying structure on the anode side, and provide a spot plating device with excellent workability and plating effect. With the goal.

本考案の実施例を図面のより説明すれば、第1図は槽(
図示せず)内に設置されたメッキ装置を示し、1はマス
ク2を備えた受板であって、そのマスク2上に被メツキ
素材aが適時に移送されてくるようにするとともに押圧
板3を上下動自在に設置し、この押圧板3の下動により
素材aをマスク2上に密着させるようにする。
To explain the embodiment of the present invention with reference to the drawings, Fig. 1 shows a tank (
1 is a receiving plate equipped with a mask 2, which allows the material a to be plated to be transferred onto the mask 2 in a timely manner, and a press plate 3. is installed so as to be able to move up and down, and the downward movement of this press plate 3 brings the material a into close contact with the mask 2.

上記受板1下に複数のノズル10,10・・・・・・を
設置する(第2図)。
A plurality of nozzles 10, 10, . . . are installed under the receiving plate 1 (FIG. 2).

マスク2はゴム、ポリ塩化ビニルなどの可撓弾性、耐薬
品性を有するシートであって、素材aの所定位置にメッ
キ液4をふきつけるため透孔5゜5・・・・・・が開口
され、この透孔5の形状に応じて素材aにメッキが施こ
される被メッキ面aが設定される。
The mask 2 is a flexible, chemical-resistant sheet made of rubber, polyvinyl chloride, etc., and has through holes 5° 5... to spray the plating solution 4 onto predetermined positions of the material a. A plated surface a on which the material a is plated is set according to the shape of the through hole 5.

第1図及び第2図においては被メッキaが長尺矩形状と
なるように透孔5を、それに略適合する長尺矩形としで
ある。
In FIGS. 1 and 2, the through hole 5 is formed in a long rectangular shape that substantially fits the plated object a so that it has a long rectangular shape.

受板1には前記マスク2の透孔5,5・・・・・・に夫
々対応して透孔5′を開口してなり、この透孔5’、
5’・・・・・・下に夫々前記ノズル10が対向状に配
設される。
The receiving plate 1 is provided with through holes 5' corresponding to the through holes 5, 5, . . . of the mask 2, respectively.
5'... The nozzles 10 are disposed facing each other below.

ノズル10は扁平筒体であって、そのノズル孔11をス
リット形状、すなわち断面細長孔形状に開口し、該ノズ
ル孔11を前記受板1の透孔5′の略全長に渉り対向さ
せる。
The nozzle 10 is a flat cylindrical body, and has a nozzle hole 11 having a slit shape, that is, an elongated hole shape in cross section, and the nozzle hole 11 is opposed to the through hole 5' of the receiving plate 1 over substantially the entire length thereof.

上記各ノズル10は送液槽12上に連通状に起設され、
ポンプ(図示せず)により送液槽12に供給されたメッ
キ液4が各ノズル孔11,11・・・・・・を通し夫々
上向に噴射するようにする。
Each of the nozzles 10 is installed in a communication manner on the liquid feeding tank 12,
The plating liquid 4 supplied to the liquid sending tank 12 by a pump (not shown) is sprayed upward through each nozzle hole 11, 11, . . . .

送液槽12内には全網シートなどの整流材13を横架し
、メッキ液4の流れを整流するようにする。
A rectifying material 13 such as a full-mesh sheet is placed horizontally in the liquid feeding tank 12 to rectify the flow of the plating solution 4.

そして上記複数のノズル10.10・・・・・・と受板
1との間には金網シート20を介在させる。
A wire mesh sheet 20 is interposed between the plurality of nozzles 10, 10, . . . and the receiving plate 1.

実施例図面においては金網シート20はノズル10゜1
0・・・・・・の各上端面に渉り被張着した構造を示す
In the drawings of the embodiment, the wire mesh sheet 20 has a nozzle of 10°1.
0... shows a structure in which each upper end surface is covered and covered.

金網シート20はステンレス製、白金製又はチタンに白
金メッキを施こしたもの等であって、できるだけ細かい
メツシュのものを使用することが好ましい。
The wire mesh sheet 20 is made of stainless steel, platinum, titanium plated with platinum, etc., and it is preferable to use a mesh that is as fine as possible.

上記金網シート20の一部に通電ワイヤ14を接続して
陽極を通電させ、また被メツキ素材aには陰極を通電す
るようにする。
An energizing wire 14 is connected to a part of the wire mesh sheet 20 to energize an anode, and a cathode energizes the material a to be plated.

而して上記ノズル10,10・・・・・・より噴射する
メッキ液4は金網シート20を通り、透孔5′。
The plating solution 4 sprayed from the nozzles 10, 10, . . . passes through the wire mesh sheet 20 and passes through the through holes 5'.

5を通して素材aの各被メッキ面a′、a′・・・・・
・にふきつけられて各面にメッキが施こされる。
Each plating surface a', a' of material a through 5.
・Plating is applied to each side by wiping.

次に第3図はマスク2の透孔5が小孔、すなわち被メッ
キ面a′が小形面の場合のノズル10の配設変形例を示
し、ノズル10を複数の透孔5・・・・・・下に対向さ
せて配設させる構造である。
Next, FIG. 3 shows a modification of the arrangement of the nozzle 10 when the through hole 5 of the mask 2 is a small hole, that is, the plated surface a' is a small surface. ...It has a structure in which they are placed facing each other at the bottom.

上記ノズル10を並列又は直列状に複数配列させ、ある
いは1個のノズル10を前記第2個のノズル10,10
・・・・・・と組合わせて配設し、それらノズル10上
端面に前述したと同様に金網シート20を張架させ、該
金網シート20に陽極をかける。
A plurality of the nozzles 10 are arranged in parallel or in series, or one nozzle 10 is connected to the second nozzle 10, 10.
.

本考案は成上の如く、スポットメッキ装置のノズルを扁
平筒状にしそのノズル孔をスリット形状に開口させたの
で、従来円形ノズルの複数本に相当する広い範囲が1個
のノズル孔で構成され該ノズル孔より噴射するメッキ液
の噴射高さは一様に形成されるとともに複数のノズルと
マスクとの間に介在させた金網シートによって全ノズル
から噴射するメッキ液が整流され全範囲に渉り噴射高が
均一となる。
In this invention, the nozzle of the spot plating device is made into a flat cylinder shape and the nozzle hole is opened in the shape of a slit, so that a wide area corresponding to multiple conventional circular nozzles can be made up of one nozzle hole. The spray height of the plating solution sprayed from the nozzle hole is uniform, and the plating solution sprayed from all the nozzles is rectified by the wire mesh sheet interposed between the plurality of nozzles and the mask, so that it covers the entire range. The injection height becomes uniform.

従って、メッキムラのない製品が得られ品質管理が容易
である。
Therefore, a product without uneven plating can be obtained, and quality control is easy.

そして上記金網シートに陽極をかけるようにしたので、
陽極をかけたノズルよりメッキ液を噴射する従来構造に
較べてメッキ液が接触する陽極面積が増大し、被メッキ
面の陰極面積に対する陽極面積比を大きくしてメッキの
電流密度を上げることができ、したがってメッキ作業の
高速化が可能である。
Then, I applied an anode to the wire mesh sheet, so
Compared to the conventional structure in which the plating solution is sprayed from a nozzle covered with an anode, the area of the anode in contact with the plating solution is increased, and the ratio of the anode area to the cathode area of the surface to be plated is increased, making it possible to increase the plating current density. Therefore, it is possible to speed up the plating work.

又、陽極をかける手段が金網の一部分に陽極電極を接続
し、又は複数配設したノズルの1個に陽極を通電させる
だけでよく、従来の各ノズルに陽極を接続するに較べて
その配線構造が簡単である。
In addition, the means for applying the anode only requires connecting the anode electrode to a part of the wire mesh or energizing the anode to one of a plurality of nozzles, and the wiring structure is simpler than the conventional method of connecting the anode to each nozzle. is easy.

依って所期の目的を達威し得る。Therefore, the intended purpose can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本考案の断面図、第2図は装置要部の一部切欠
せる分離斜視図、第3図は変形例を示す断面図である。 図中、2はマスク、4はメッキ液、5は透孔、10はノ
ズル、11はノズル孔、20は金網シート、aは被メツ
キ素材、a′は被メッキ面である。
FIG. 1 is a sectional view of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view with a portion of the main part of the device cut away, and FIG. 3 is a sectional view showing a modified example. In the figure, 2 is a mask, 4 is a plating solution, 5 is a through hole, 10 is a nozzle, 11 is a nozzle hole, 20 is a wire mesh sheet, a is a material to be plated, and a' is a surface to be plated.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 複数の透孔を開口せるマスク上に陰極をかけられた被メ
ツキ素材を密着させるとともにマスク下に複数のノズル
を配設し素材に向はメッキ液を噴射させて素材にメッキ
を施こすようにしたスポットメッキ装置において、上記
ノズル孔をスリット形状に開口させるとともにそれらノ
ズルとマスクとの間に金網シートを介在させ該シートに
陽極をかけたスポットメッキ装置。
The material to be plated, which has a cathode applied to it, is brought into close contact with a mask that has multiple through holes, and multiple nozzles are placed under the mask to spray plating liquid onto the material to plate the material. In the spot plating apparatus, the nozzle holes are opened in the shape of slits, a wire mesh sheet is interposed between the nozzles and the mask, and the sheet is anodized.
JP10708881U 1981-07-18 1981-07-18 spotting device Expired JPS6031085Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10708881U JPS6031085Y2 (en) 1981-07-18 1981-07-18 spotting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10708881U JPS6031085Y2 (en) 1981-07-18 1981-07-18 spotting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5815661U JPS5815661U (en) 1983-01-31
JPS6031085Y2 true JPS6031085Y2 (en) 1985-09-18

Family

ID=29901535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10708881U Expired JPS6031085Y2 (en) 1981-07-18 1981-07-18 spotting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6031085Y2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5815661U (en) 1983-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5819170Y2 (en) Semiconductor wafer plating equipment
US4452684A (en) Apparatus for selective electrolytic plating
GB2027054A (en) Electroplating of selected areas of a surface
JPS6031085Y2 (en) spotting device
JPS5849640B2 (en) spot plating equipment
JPS62297495A (en) Method for plating semiconductor wafer
JPS592117Y2 (en) spot plating equipment
JPS621238Y2 (en)
CN214160157U (en) Network transformer shell paint spraying apparatus
JPH052603Y2 (en)
JPS6394967U (en)
JPH0248433Y2 (en)
JPS5811062A (en) Lubricant applying device for punch
JPH023470U (en)
JPH0647012Y2 (en) Plating equipment
JP3275487B2 (en) Plating apparatus and plating method
JPS6350852Y2 (en)
JPS6245004Y2 (en)
JPH049500A (en) Electroplating device
JPH031054Y2 (en)
JPS596918B2 (en) Partial plating equipment
JPS62162263U (en)
JPH0318168U (en)
JPH04350194A (en) Partial plating device
JPH03140494A (en) Single face plating device