JPS6028656A - Process for treating laminated body for forming picture image - Google Patents

Process for treating laminated body for forming picture image

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JPS6028656A
JPS6028656A JP13596283A JP13596283A JPS6028656A JP S6028656 A JPS6028656 A JP S6028656A JP 13596283 A JP13596283 A JP 13596283A JP 13596283 A JP13596283 A JP 13596283A JP S6028656 A JPS6028656 A JP S6028656A
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JP
Japan
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image
photosensitive layer
layer
silicone rubber
exposed
Prior art date
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JP13596283A
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Japanese (ja)
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Norio Kawabe
川辺 紀雄
Mikio Tsuda
幹雄 津田
Sadao Kobashi
小橋 貞夫
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/265Selective reaction with inorganic or organometallic reagents after image-wise exposure, e.g. silylation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

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Abstract

PURPOSE:To improve adhesion of photosensitive layer to silicone rubber layer by reating a laminated layer comprising a quinonediazide photosensitive layer and silicone rubber layer with base after exposing through picuture image. CONSTITUTION:A laminated body for forming a picture image comprising a quinonediazide photosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate in this order is exposed through picture image and then treated with base. By performing development after base treatment or simultaneously with base treatment, a lithographic printing plate requiring no dampening water is obtd. Useful org. bases are ammonia, methylamine, ethylamine, dimethylamine, aniline, toluidine, alpha- or beta-naphthylamine, etc., and useful inorg. bases are NaOH, KOH, LiOH, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 本発明は画像形成用U【屠体の処理方法に関するもので
あり、更に詳しくは特に選ばれた感光層とシリコーンゴ
ム層からなる画像形成用積層体の処理方法に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to a carcass processing method for image forming. This relates to a processing method.

〈従来技術〉 感光層、シリコーンゴム層からなる画像形成用積層体と
しては1種々のものが知られているが。
<Prior Art> Various types of image forming laminates comprising a photosensitive layer and a silicone rubber layer are known.

なかでも支持体に裏打ちされた感光層」二にシリコーン
ゴム層を設けてなる画像形成用積層体としての湿し水不
要平版印刷版については、過去にいくつ力)提案されて
いる。
In particular, several proposals have been made in the past for a lithographic printing plate that does not require dampening water and is used as an image-forming laminate comprising a photosensitive layer backed by a support and a silicone rubber layer.

例えば、ポジ型用印刷版としてUSP 3677178
にはアルミ板に裏打ちされた光硬化型ジアゾ感光層の上
にシリコーンゴム層を設けた平版印刷版原版にポジフィ
ルムを通して露光し、未露光部の可溶性ジアゾ感光層と
シリコーンゴム層′fi:現像液を用いて洗い出し、ア
ルミ板全露出せしめて画像部とすることが提案されてい
る。
For example, USP 3677178 as a positive printing plate.
To do this, a lithographic printing plate precursor comprising a silicone rubber layer on a photocurable diazo photosensitive layer lined with an aluminum plate is exposed through a positive film, and the unexposed areas of the soluble diazo photosensitive layer and the silicone rubber layer are developed. It has been proposed that the aluminum plate be completely exposed and used as an image area by washing it out using a liquid.

捷たUSP 3894873には支持体に裏打ちされた
光接着層の」二にシリコーンゴム層を設けた平版印刷版
原版にボンフィルムを通して露光すると露光部の光接着
層が重合して、その上のシリコーンゴム層をしっかりと
接着させるが、未露光部の光接着層は、その」二のシリ
コーンゴム層に対シテ。
According to USP 3894873, when a lithographic printing plate precursor with a silicone rubber layer on the second side of the photoadhesive layer backed by a support is exposed to light through a Bon film, the photoadhesive layer in the exposed area polymerizes, and the silicone rubber layer on the photoadhesive layer on it polymerizes. The rubber layer is firmly adhered, but the photoadhesive layer in the unexposed area is attached to the second silicone rubber layer.

もとの弱い接着のま捷残っているので、現像液で処理す
るとシリコーンゴム層のみが容易に除去され、その下の
親油性の光接着層が露出するが、露光部のシリコーンゴ
ム層はその下の光接着層へ接着した1ま残る。印刷版と
しては光接着層の未露光表面がインキ受容部0山像部)
となり、シリコ−ンゴム層がインキ反撥部(非画像部)
となることが提案されている。
Since the original weak adhesion remains, only the silicone rubber layer is easily removed when treated with a developer, exposing the lipophilic photoadhesive layer underneath, but the silicone rubber layer in the exposed area is 1 remains attached to the photoadhesive layer below. As a printing plate, the unexposed surface of the photoadhesive layer is the ink receiving area (0 mountain image area)
The silicone rubber layer acts as an ink repellent area (non-image area).
It is proposed that

さらにネガ型用印刷版としてUSP 3511178に
はアルミ板に裏打ちされた光可溶化型ジアゾ感九層の上
に接着層を介してシリコーンゴム層を設けた平版印刷版
原版にネガフイルムを通して露光した後、現像液を用い
て感光層を溶解除去すると同時に、その土にあるシリコ
ーンゴム層も除去し。
Furthermore, as a negative printing plate, USP 3511178 describes a lithographic printing plate precursor in which a silicone rubber layer is provided on a photo-solubilized diazo-sensitive nine layer backed by an aluminum plate through an adhesive layer, and then exposed to light through a negative film. At the same time, the photosensitive layer was dissolved and removed using a developer, and at the same time, the silicone rubber layer on the soil was also removed.

支持体であるアルミ板を露出せしめ画像部とすることが
提案されている。
It has been proposed to expose the aluminum plate serving as the support and use it as an image area.

′?lだ、英国特i’l’ G E 2064803 
Aや英国特許G]3 2034911には支持体に裏打
ちされたキノンジアンドからなる光分解型感光層の上に
シリコーンゴム層を設けた平版印刷版原版に坏カフイル
ムを通して露光し、露光部のシリコーンゴム層。
′? It's British special i'l' G E 2064803
A and British Patent G] 3 2034911 discloses that a lithographic printing plate precursor in which a silicone rubber layer is provided on a photodegradable photosensitive layer made of quinone diand lined with a support is exposed to light through a resin film, and the silicone rubber layer in the exposed area is exposed. .

場合によって一1感光層も一緒に現像液を用いて除去し
、感光層場合によっては支持体を露出せしめて画像部と
することが提案されている。
It has been proposed that, in some cases, the photosensitive layer 11 may also be removed using a developer to expose the photosensitive layer and, in some cases, the support to form an image area.

」二層のような画像形成用積層体の処理方法、すなわち
両像形成用積層体を印刷版とする画像形成処理において
シリコーンゴム層と感光層の49着か重要なポイントで
あり、ただ単に接着が強けhばよいというものではなく
、いかにして露光部の感光層とシリコーンゴム層の接着
力と未露光部の感光層とシリコーンゴム層の接着力の間
に大きな差をつけるかが重要なことである。
In the processing method of a two-layer image-forming laminate, that is, in the image-forming process in which both image-forming laminates are used as printing plates, the bonding of the silicone rubber layer and the photosensitive layer is an important point. It is not just a matter of being strong, but it is important to create a large difference between the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer in the exposed area and the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer in the unexposed area. That's true.

またこれらの画像形成用積層体は同様にして感光層の膨
潤性、溶解性も重要なポイン]・であり。
Similarly, the swelling and solubility of the photosensitive layer are also important points for these image-forming laminates.

ただ単に溶解性や膨潤性がよけhばよいというものでは
なく、いかにして露光部感光層と未露光部感光層の現像
液に対する膨潤性、溶解1イ14に大きな差を生じせし
めるかどうかも重要なことである。
It is not just a matter of good solubility and swelling properties, but rather how to create a large difference in the swelling properties and solubility of the exposed photosensitive layer and the unexposed photosensitive layer in the developing solution. is also important.

かかる点において従来技術では神々の方法が47.!。In this respect, the method of the gods is 47. ! .

案されておシ1例えばジアゾ基の光架橋によつで感光層
を現像液に不溶にすること(USP ろ677178)
、光重合性の光接着層を利用して露光部の光接着層とシ
リコーンゴム層の間の4χ着を強固にすること(USP
 ろ894873など)、露光によって現像液に可溶化
するジアノ感光層を用いること(USP ろ51117
8)、ギノンジアジト系感光層金光にLつで現像液に可
溶化するということ(英国特許OB 2034911)
 露光によりシリコーンゴム層と感光層の接着力を低下
させ、現像液によってシリコーンゴム層を剥ぎとるとい
うことC英)fil % 許G B 2064803 
/4 ) カ挙げラレル。
It has been proposed to make the photosensitive layer insoluble in the developer, for example by photo-crosslinking of diazo groups (USP 677178).
, Utilizing a photopolymerizable photoadhesive layer to strengthen the 4χ bond between the photoadhesive layer in the exposed area and the silicone rubber layer (USP
U.S. Pat.
8) The guinone diazide photosensitive layer is solubilized in the developer using L (British patent OB 2034911).
The adhesive force between the silicone rubber layer and the photosensitive layer is reduced by exposure to light, and the silicone rubber layer is peeled off by a developer.
/4) Rarel.

これらを含めて今寸で提案された画像形成しうる積層体
としては、露光によってシリコーンゴム層と感光層の接
着を強くしたシ、あるいは逆に弱くしたり、またけ露光
によって感光層を現像液に不溶にしたり、あるいけ逆に
可Mにするという光によって直接的な変化(接着力、耐
溶剤性の点で)を生じせしめたものである。かかる従来
技術の画像形成法でU未露光部と露光部の/リコーンゴ
ム層と感光層の接着力の差−や、未露光部と露光部の感
光層の膨潤性やm解性の差が充分大きくない。
Including these, the laminates on which images can be formed have been proposed, such as those in which the adhesion between the silicone rubber layer and the photosensitive layer is strengthened by exposure to light, or conversely weakened, and the photosensitive layer is removed using a developing solution by cross-exposure. Direct changes (in terms of adhesive strength and solvent resistance) are caused by light, making it insoluble in M, or conversely, making it Mable. In such conventional image forming methods, the difference in adhesive strength between the unexposed area and the exposed area/the silicone rubber layer and the photosensitive layer, and the difference in the swelling property and dissolution property of the photosensitive layer between the unexposed area and the exposed area are sufficiently suppressed. not big.

そのため、現f&i条件のわずかな変化によって版面に
残るべき部分(シリコーン上層の湿し水不要平版印刷版
においては、非画像部を形成すべきシリコーンゴム層)
が全面あるいは部分的に除去されたり(非画像部のハガ
レ、ツブレとなる)、または逆に版面から除去されるべ
き部分(シリコーン上層の湿し水不要平版印刷版におい
ては画像部となる感光層上にあるシリコーンゴム層)が
全面あるいは部分的に残ったりすること(現像不能、現
像不良となる)が多々生じるなど満足のいくものではな
い。
Therefore, due to slight changes in the current F&I conditions, the portion that should remain on the plate surface (in a silicone upper layer that does not require dampening water, the silicone rubber layer that should form the non-image area)
may be completely or partially removed (resulting in peeling or blurring of non-image areas), or conversely, areas that should be removed from the plate surface (in the silicone upper layer of a lithographic printing plate that does not require dampening water, the photosensitive layer that becomes the image area) This is unsatisfactory, as the overlying silicone rubber layer often remains on the entire surface or partially (causing development to become impossible or poor development).

このように非画像部のハカレ、ツブレと現像不能、現像
不良が接近していて完全に画像が形成さルるラチチュー
ド(現像のラチチュード)が狭いこと、さらに現像液の
組成が少し変化しただけで。
In this way, flaking and blistering in non-image areas, failure to develop, and development defects are close to each other, and the latitude at which a complete image is formed is narrow (development latitude). .

」二層のハガレが生じたり、あるいは現像不能になった
りして像形成ができなくなる。
” The two layers may peel off or developability may become impossible, making it impossible to form an image.

さらに現像時の温度依存性、湿度依育1トドが大きく9
例えば実用的温度、湿度の範囲内でのj:、I融雪たは
高湿下、非両像部の・・ガレが生じfCシ、低61.1
1、または低温下現像不能が生じたシする。
Furthermore, the temperature dependence and humidity dependence during development are significantly 9.
For example, within the range of practical temperature and humidity, during snow melting or high humidity, scratches may occur in the non-image areas, fC, low 61.1
1, or inability to develop at low temperature.

捷た。上述のようなもの以外に現像時間(寸たは現像液
への浸α1時間)依存性が大きく1例えば印刷版面を現
像ブラシで長時[l」こすった9、あるいは長時間現像
液に印刷版を浸漬したシすると。
I cut it. In addition to the above, there is a strong dependence on development time (length or 1 hour of immersion in the developer) 1 For example, the printing plate surface is rubbed with a developing brush for a long time 9, or the printing plate is immersed in the developer for a long time When soaked in water.

本来強固に接着して印刷版を形成すべき感光層とシリコ
ーンゴム層の接着が現像液によっておかされ、積層体の
一部が除去されたシ、または残るべき感光層が現像液に
よって膨潤、溶解されて、現像時に除去されてし1った
シして、現像時間の長短によって画像再現性に差がみら
れる。
The adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, which should originally adhere strongly to form a printing plate, is disrupted by the developer, and a portion of the laminate is removed, or the photosensitive layer that should remain swells and dissolves due to the developer. Since the particles are removed during development, there are differences in image reproducibility depending on the length of development time.

さらに現像時のコスリ強度の点で、荷重とコスリ回数依
存性が大きく、かつその範囲は狭い。例えば2強くこす
る(大きな荷重、コスリ回数が犬)と、接着が破壊され
、非画像部のハガレを生じ。
Furthermore, the scratch strength during development is highly dependent on the load and the number of scrapes, and its range is narrow. For example, if you rub it hard (with a large load and too many times), the adhesive will be destroyed and the non-image area will peel off.

一方弱くこすると画像再現性が悪く微小網点1で充分再
現しにくいこと(画像再現性のラチチュードが狭い)、
キノンジアシドを感光性物質とすることによる。露光に
よって発生ずる窒素ガスにもとづく焼きほけか、もう一
つの大きな欠点であること、現像さJtた印刷版におい
て感光性がその件−ま保持されていること(定着されて
いないこと)による版面洗浄時などの印刷版の損傷の恐
れなどいろいろ問題を含んでいる。
On the other hand, if you rub it weakly, the image reproducibility will be poor and it will be difficult to reproduce it sufficiently with minute halftone dot 1 (the latitude of image reproducibility will be narrow).
By using quinonediaside as a photosensitive substance. Another major drawback is plate cleaning due to the fact that the photosensitivity is retained (not fixed) in the developed printing plate. This includes various problems such as the risk of damage to the printing plate during printing.

〈発明の目的〉 かかる意味において従来の技術による画像形成用積層体
およびそれを用いた画像形成法においてなかんづくシリ
コーンゴム層と感光層からなる画像形成用積層体として
の湿し水不要平版印刷版原版は画像再現性、面]溶剤性
、現像性などを含めてラチチュードが非常に狭いことが
解決すべき最大の問題の一つであり、こhは画像形成用
積層体の積層間の接着力および感光層のIIII現像液
性で露光部と未露光部の差が小さいことに主として起因
しており、このような問題を解決するために種々検A’
lがされているが、い1だ充分とは言えない。
<Object of the invention> In this sense, a lithographic printing plate precursor that does not require dampening water and is used as an image-forming laminate consisting of a silicone rubber layer and a photosensitive layer in a conventional image-forming laminate and an image-forming method using the same. One of the biggest problems to be solved is that the latitude is very narrow, including image reproducibility, surface properties, solvent properties, developability, etc. This is mainly due to the small difference between the exposed and unexposed areas due to the III developer properties of the photosensitive layer, and various tests have been carried out to solve this problem.
1 has been done, but 1 is not enough.

本発明者らは、上記のような問題点全解決すべく鋭意検
討した結果、以下に述べる本発明に到達した。
The inventors of the present invention have made extensive studies to solve all of the above-mentioned problems, and as a result, have arrived at the present invention described below.

〈発明のす14成〉 すなわち本発明は、支持体」二にキノンジアジド構造を
含む物質を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム
層をこの順に設けてなる画像形成用積層体を画像露光し
、かつ塩基処理することを特徴とする画像形成用積層体
の処理方法に関するものである。
<Structure 14 of the Invention> That is, the present invention provides an image-forming laminate in which a photosensitive layer containing a substance containing a quinone diazide structure and a silicone rubber layer are provided in this order on a support, and The present invention relates to a method for processing an image forming laminate, which is characterized by subjecting it to a base treatment.

本発明の画像形成用積層体は湿し水不要平版印刷版原版
、特にネガ、ポジ両性タイプの湿し水不要平版印刷版原
版として用いられるものである。
The image forming laminate of the present invention is used as a lithographic printing plate precursor that does not require dampening water, particularly as a negative or positive amphoteric type lithographic printing plate precursor that does not require dampening water.

画像形成用積層体の構成は、支持体に裏打ちされた感光
層、さらにその上にシリコーンゴム層ヲ設けてなるもの
である。
The structure of the image forming laminate includes a photosensitive layer backed by a support, and a silicone rubber layer provided thereon.

このような積層体からネガ型湿し水不要平版印刷版全作
成するには、たとえば前記の積層体に全面露光〔感光層
中のギノンシシド構造を含む物質のキノンジアジド単位
の5〜60モル%が光分解する量を全面に露光すること
をいうC以下同じ〕〕してからネガフィルムまたはネガ
原画を用いて画像露光C1ifii像露光i/41の感
光層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジアジ
ド単位の少なくとも70モル係以」二を光分解するて足
る量の露光をいう。(ネガ型版の画像露光は以下同じ)
〕を施すか、あるいは逆に画像露光してから非画像部を
含めて稍辰体に全面露光し2次りで画像形成用積層体を
塩基処理した後現像するかあるいは塩基処理と同時に現
像することによって、ネガ型溝し水不要平版印刷版が得
られる。
In order to create a negative-working lithographic printing plate that does not require dampening water from such a laminate, for example, the laminate is entirely exposed to light [5 to 60 mol% of the quinone diazide units of the substance containing the gynonide structure in the photosensitive layer are exposed to light]. [C refers to exposing the entire surface to light in an amount that causes decomposition]] and then image exposure using a negative film or negative original C1ifii image exposure i/41 This refers to the amount of exposure sufficient to photolyze 70 moles or more. (The image exposure for the negative version is the same below)
), or conversely, after image exposure, the entire surface of the solid body including the non-image area is exposed, and then the image forming laminate is subjected to base treatment and then developed, or alternatively, it is developed at the same time as base treatment. By this, a negative-grooved, water-free lithographic printing plate is obtained.

さらにネガ型湿し水不要平版印刷11反を作成するには
、たとえば前記構成の画像形成用積層体に9、ガフイル
ムまたはネガ原画を用いて画像露光をMuして9次いで
この画像形成用積層体を塩基処1WJ! t。
Furthermore, in order to create a negative-type lithographic printing sheet 11 that does not require dampening water, for example, the image forming laminate having the above structure is subjected to image exposure using a Gafilm or a negative original image, and then this image forming laminate is The base store 1WJ! t.

た後、現像するかあるいは塩基処理と同時に現像するこ
とによってイカ型湿し水不要平版印刷版がイ4tられる
After that, a squid-type lithographic printing plate that does not require dampening water is obtained by developing it or simultaneously developing it with a base treatment.

−また。ポジ型湿し水不要平版印刷版を作成するには、
たとえば前記構成の画像形成用積層体にポジフィルムま
たはポジ原画を用いて両像露光〔画像露光部の感光層中
のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位
の5〜60モル%が光分解するに足る量の露光をいう。
-Again. To create a positive dampening water-less lithographic printing plate,
For example, the image-forming laminate having the above structure is subjected to double-image exposure using a positive film or a positive original image [5 to 60 mol% of the quinonediazide units of the substance containing the quinonediazide structure in the photosensitive layer of the image-exposed area is sufficient for photodecomposition] It refers to the amount of exposure.

(ポジ型版の画像露光は以下同じ)〕を施して1次いで
この画で3:形成用積層体を塩基処j!14シた後現像
するかあるいは塩基処理と同時に現像することによって
、711シ型湿し水不要平版印刷版が得らり、る。
(Image exposure of the positive plate is the same below)] 1 and then in this image 3: The forming laminate is treated with a base j! A 711-type lithographic printing plate that does not require dampening water can be obtained by developing after 14 days or by developing at the same time as base treatment.

本発明の画像形成用積層体の処理方法を図面により説明
するに、第1図は画像形成用積層体、第2図、第ろ図お
よび第4図は画像形成用積層体を処理することによって
イ・ガ型湿し水不要平版印刷版を製造する手順の一例を
示す概略図、捷た第5図は同じくポジ型湿し水不要平版
印刷版を製版する手順の一例を示す概略図である。
To explain the processing method of the image forming laminate of the present invention with reference to the drawings, FIG. 1 shows the image forming laminate, and FIGS. A schematic diagram illustrating an example of the procedure for manufacturing an I-Ga type lithographic printing plate that does not require dampening water, and FIG. .

本発明の画像形成用積層体11″i第1図に示すよって
支持体1a、キノンジアジド構造を含む物質を構成成分
とする感光層C以下感光層という)11〕おJ:びシリ
コーンゴム層1Cからなるものである。
Image forming laminate 11''i of the present invention as shown in FIG. It is what it is.

この積層体1に坏カフイルム2f:密着し1画像露光を
施すことによシ感光層」二に画像露光された部分11〕
′か生成する〔第2図(〜参照〕。次いで。
By adhering the cuff film 2f to this laminate 1 and subjecting it to one image exposure, the image exposed portion 11 of the photosensitive layer 2 is formed.
' is generated [see Figure 2 (~)].Next.

ネガフィルム2を取り除いて積層体1に全面露光し、〔
第2図(B)参照〕塩基処理および現像することによっ
て画像露光部分1b’のシリコーンゴム層1Cを除去す
ることにより、ネガ型湿し水不要平版印刷版6となる〔
第2図(C)参照〕。この手順を第2図に示す。
The negative film 2 is removed and the entire surface of the laminate 1 is exposed to light.
Refer to FIG. 2(B)] By removing the silicone rubber layer 1C in the image-exposed area 1b' by base treatment and development, a negative-working lithographic printing plate 6 that does not require dampening water is obtained.
See Figure 2 (C)]. This procedure is shown in FIG.

また、上記の手順のうち、たとえば壕ず積層体1に全面
露光を施した後、イ・ガフイルム2を密着し2画像露光
を施し9次いで以下第2図と同じ手順によってもネガ型
湿し水不要平版印刷版ろが1:)られる。この手順を第
6図に示す。
In addition, among the above steps, for example, after exposing the entire surface of the trenchless laminate 1, applying the I-Ga film 2 in close contact with it and exposing it to 2 images, 9 then following the same procedure as shown in FIG. Unnecessary lithographic printing plates are removed 1:). This procedure is shown in FIG.

さらに第4図に示すように積層体1に9・ガフイルム2
を密着して画像露光し1次いで塩基処理および現像する
ことによって画像露光部分11)′の/リコーンゴム層
10を除去することにより、ネガ型湿し水不要平版印刷
版ろとなる〔第4図(n)参照〕。この手順を第4図に
示す。
Furthermore, as shown in FIG.
By closely contacting and imagewise exposing the plate, and then performing base treatment and development to remove the silicone rubber layer 10 of the imagewise exposed portion 11)', a negative-working lithographic printing plate plate that does not require dampening water is obtained (see Fig. 4). See n)]. This procedure is shown in FIG.

さらに第5図に示すように積層体1に寸ずポジフィルム
4を密着して1画像露光を施すことにより、感光層上に
画像露光さ、i′1.た部分1b″が生成する〔第5図
(A )参照〕。次いで塩基処理および現像することに
より未露光部の感光層」−のシリコーンゴム層を除去し
て、ポジ型湿し水不要平版印刷版5となる〔第5図CB
〕参照〕。
Furthermore, as shown in FIG. 5, a single image exposure is performed by closely contacting the positive film 4 to the laminate 1, so that the photosensitive layer is image exposed, i'1. Then, by base treatment and development, the silicone rubber layer of the photosensitive layer in the unexposed area is removed, resulting in positive type lithographic printing that does not require dampening water. This is version 5 [Figure 5 CB
〕reference〕.

以上の説明は画像部を形成する際に/リコーンゴム層の
みが除去されるケースであるがシリコーンゴム層と共に
感光層も除去されるケースも同じく説明できる。
The above explanation deals with the case where only the silicone rubber layer is removed when forming the image area, but the case where the photosensitive layer is also removed together with the silicone rubber layer can be similarly explained.

かかる画像形成用積層体から湿し水不要平版印刷版を作
成するうえで塩基処理は重要な役割をばたず。すなわち
、キノンジアジド構造を含む物質を構成成分とする感光
層中のキノンジアシド構造を含む物質のキノンジアジド
単位の5〜60モル係が光分解するように露光された部
分は、塩基処理を行うとその上部にあるシリコーンゴム
層との接着力が向上し、かつその耐溶剤性も著しく向上
するため、現像液によってかかる感光層上にあるシリコ
ーンゴム層は除去されることなく感光層とシリコーンゴ
ム層とが共に支持体上に残存して非画像部を形成すると
いう重要な役割を果たすのである。
Base treatment plays an important role in producing a lithographic printing plate that does not require dampening water from such an image-forming laminate. That is, in a photosensitive layer containing a substance containing a quinonediazide structure, a portion exposed to light such that 5 to 60 moles of quinonediazide units of the substance containing a quinonediazide structure are photodecomposed is treated with a base. Because the adhesive strength with a certain silicone rubber layer is improved and its solvent resistance is also significantly improved, the silicone rubber layer on the photosensitive layer is not removed by the developer and the photosensitive layer and the silicone rubber layer are bonded together. It plays an important role of remaining on the support and forming a non-image area.

さらに感光層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノ
ンジアジド単位の70モル係以上が光分解するように露
光された部分は塩基処理を行うと。
Furthermore, the exposed portions of the substance containing the quinonediazide structure in the photosensitive layer are treated with a base so that 70 moles or more of the quinonediazide units are photodecomposed.

その上部にあるシリコーンゴム層との接着力が逆に低下
し、場合によっては感光層の耐溶剤性も低下するため現
像液によってかかる感光層上にあるシリコーンゴム層重
たはシリコーンゴム層ト感光層が除去され1画像部を形
成するという重要な役割を果たすのである。
The adhesive strength with the silicone rubber layer on top of the photosensitive layer decreases, and in some cases, the solvent resistance of the photosensitive layer also decreases. It plays an important role in that a layer is removed to form an image area.

感光層に与えられる露光量は全面および画像露光を含め
て、いずれも最初の未露光時に含捷れるキノンジアジド
単位を基準とするものである。従って例えば全面露光し
て5〜60モル%九分jWさせ1次いで画像露光をする
場合、残っている95〜40モル係の70%以上ではな
く、1・−タルとして、最初の量の70モル係以上にな
るように5〜60モル係の全面露光にうわのせすること
を意味する。
The amount of exposure given to the photosensitive layer, including the entire surface and image exposure, is based on the quinonediazide unit contained in the initial unexposed layer. Therefore, for example, when exposing the entire surface to 5 to 60 mol% and then performing image exposure, the remaining 95 to 40 mol is not 70% or more, but 1.-Tal is 70 mol of the initial amount. This means applying a glaze to the entire surface of the film at a concentration of 5 to 60 molar ratios so that the ratio is higher than 100 molar ratios.

本発明にいう感光層とL+ 、公知のキノンジアシド構
造を含む物質から構成されるものであり、キノンジアシ
ド構造を含む物質とに9通常ポジ型J・S版、ワイボン
版、フォトレジストなどに用いられているキノンジアジ
ド類である。
The photosensitive layer and L+ referred to in the present invention are composed of a known substance containing a quinonediaside structure, and the substance containing a quinonediaside structure is commonly used in positive type J/S plates, Wibon plates, photoresists, etc. These are quinonediazides.

かかるキノンジアシド類はポリマ、オリゴ−ziたはモ
ノマとしてでもよく、水酸基をもつ化合物と縮合して得
られるキノンジアジドスルホン酸エステル寸たはアミン
類と縮合させて得られるキノンジアジドスルホン酸アミ
ドである。
Such quinonediasides may be polymers, oligo-zi or monomers, and are quinonediazide sulfonic acid esters obtained by condensation with compounds having a hydroxyl group, or quinonediazide sulfonic acid amides obtained by condensation with amines.

これらの例としては、ベンゾキノン−1,2−ジアジド
スルホン酸、ナフトキノン−1,2−シ’アンドスルホ
ン酸とポリヒドロキシフェニルとのエステル(以下エス
テルとは部分エステルも含める)。
Examples of these include esters of benzoquinone-1,2-diazide sulfonic acid, naphthoquinone-1,2-di'andosulfonic acid, and polyhydroxyphenyl (hereinafter, esters include partial esters).

ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸′!
1′たU°ナフI・キノン−1,2−ジアジド−5−ス
ルボン酸トビロガロールアセI・ン樹脂とのエステル。
Naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid'!
Ester of quinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid with tobirogallolacetin resin.

ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸またはナツ
トキノン−1,2−ジアジドスルホン酸トノポジツク型
フェノールホルムアルデヒド樹脂またはノボシック型ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂のエステル、ポリ(p−
アミノスチレン)とナフトキノン−1,2−ジアジド−
4−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸のアミド、ポリp−ヒドロキシスチレ
ンとナフトギノンー1,2−ジアジド−4−スルホン酸
またはナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸のエステル、ポリ“エチレングリコールとナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸才たはナフトキ
ノン−1,2−ジアジド−5−スルホン自(2ぴ)エス
テル、重合体アミンとナフトキノン−1,2=ジアジド
−4−スルホン酸才たはナフトキノ/−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸のアミド、ポリメタクリル酸p−ヒ
ドロキシアニリドとナフトキノン−1,2−ジアジド−
4−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸のエステル、天然樹脂ロジンをアミン
変性したものとナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸のアミド、ビスフェノールAとプロピレンオ
キシドからのエポキシ樹脂とナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸のエステル、(メタ)アクリル
酸トシヒドロキゾフェニルのモノエステルのポリマとナ
フトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸型たは
ナフトキノン−1,2−シアノド−5−スルホン酸のエ
ステル、アミノイソンタル酸シアリルエステルとナフト
キノンジアジドスルホン酸の縮合物を重合させたもの、
ポリカルボナートとのキノンジアジドスルホン酸エステ
ルまたはキノンジアシド類をイソシア坏−t−等で架橋
り、fcモの、ビスフェノールΔとナフトキノン−1゜
2−ジアジド−4−スルホン酸またはナフトキノン−1
,2−ジアジ)’−5−スルホン酸のエステル。
Poly(p-
aminostyrene) and naphthoquinone-1,2-diazide-
Amides of 4-sulfonic acid or naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid, poly p-hydroxystyrene and naphthogynone-1,2-diazide-4-sulfonic acid or naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid esters of polyethylene glycol and naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid or naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid esters, polymeric amines and naphthoquinone-1,2 = Amide of diazide-4-sulfonic acid or naphthoquino/-1,2-diazide-5-sulfonic acid, polymethacrylic acid p-hydroxyanilide and naphthoquinone-1,2-diazide
Esters of 4-sulfonic acid or naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid, amine-modified natural resin rosin and naphthoquinone-1,2-diazide-5-
Amides of sulfonic acids, epoxy resins from bisphenol A and propylene oxide and esters of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid, polymers of monoesters of tosihydroxophenyl (meth)acrylate and naphthoquinone-1,2 - diazide-4-sulfonic acid type or naphthoquinone-1,2-cyanodo-5-sulfonic acid ester, a polymerized condensate of aminoisontalic acid sialyl ester and naphthoquinonediazide sulfonic acid,
Cross-linking quinone diazide sulfonic acid ester or quinone diacid with polycarbonate using isocyanate-t-, etc., and fc mo, bisphenol Δ and naphthoquinone-1゜2-diazide-4-sulfonic acid or naphthoquinone-1
,2-diadi)'-5-sulfonic acid.

ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノール、p−クレゾールなどのフェノール力゛1.エ
チル、プロピル、ブチル、アミルアルコールなどのアル
コール類とのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸ドアニリン。
Naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol compounds such as phenol and p-cresol 1. Esters with alcohols such as ethyl, propyl, butyl, amyl alcohol, naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonic acid aniline.

p−ヒドロキシアニリンなどのアミン類との酸アミドな
どがあげられる。特に好1しくけキノンジ゛ノ′シト系
感光性樹脂が用いられる。
Examples include acid amides with amines such as p-hydroxyaniline. Particularly preferred is a quinone dioxide photosensitive resin.

ここでいうキノンジアシド構造を含む物質のキノンジア
ジド単位の光分解量とは、赤夕1線吸収スペクトル(F
 T −I R−A T R法)で感光層中のキノンジ
アジドのジアジド基に由来する2200〜2000cm
 領域の吸収強度(吸収スペクトルの面積強度)の露光
による変化量、即ち、ジアジド基の光分解量を未露光の
感光層の値を基準にしてめたものである。
Here, the amount of photodecomposition of quinonediazide units of a substance containing a quinonediazide structure refers to the red evening one-line absorption spectrum (F
2200 to 2000 cm derived from the diazide group of quinonediazide in the photosensitive layer by T-IRATR method)
The amount of change in the absorption intensity of a region (the area intensity of the absorption spectrum) due to exposure, that is, the amount of photodecomposition of the diazide group, is calculated based on the value of the unexposed photosensitive layer.

ここでいうキノンジアジドの光分解とにキノンジアシド
類について一般的に言われているもので露光によるキノ
ンジアシドからカルボン酸への変化である。たとえばナ
フトキノ/−1,2−ジアンビー5−スルホン酸とフェ
ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂を例にとると、
インデンカルボン酸である。
The term "photodecomposition of quinonediazide" as used herein is generally referred to for quinonediasides, and is the change from quinonediaside to carboxylic acid due to exposure to light. For example, taking naphthoquino/-1,2-diamby-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin,
It is indene carboxylic acid.

従って本発明において感光層中のキノンジアンド構造を
含む物質のキノンジアジド単位の特定量が光分解するよ
うに露光を与えるということしJ。
Therefore, in the present invention, exposure is applied so that a specific amount of quinone diazide units of a substance containing a quinone diand structure in the photosensitive layer is photodecomposed.

光分解によって特定量に対応するカルボン酸成分を生成
させることを意味する。
It means producing a specific amount of a carboxylic acid component by photolysis.

本発明で力えられる露光量は一義的に規定することはむ
ずかしくキノンジアシドの用1.照射光などによって異
なる。
It is difficult to uniquely define the exposure amount that can be achieved in the present invention. It varies depending on the irradiation light, etc.

本発明の塩基処理に用いられる塩基とに1通常の化学分
野で用いられている塩基を意味し、陽子受容体あるいは
電子供与体と定義さFLるものである。塩基として無機
首たは有機のいずれでもよく。
The base used in the base treatment of the present invention refers to a base used in the ordinary chemical field, and is defined as a proton acceptor or an electron donor. The base may be either inorganic or organic.

−例をあげると次のよう々ものである。- Examples include the following.

有機塩基としては、炭素数1から30の有機塩基(りだ
し、アンモニア、ヒドラジン、ヒドロキシアミンは例外
)が好1しく、これらの例とじてニレとえば、アンモニ
ア(アンモニウムハイドロキザイド)、メチルアミン、
エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリ
メチルアミン。
As the organic base, organic bases having 1 to 30 carbon atoms (with the exception of hydrazine, ammonia, hydrazine, and hydroxyamine) are preferable, such as elm, ammonia (ammonium hydroxide), methylamine, etc. ,
Ethylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine.

トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ア
ミルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、シア
ミルアミン、I・ジプロピルアミン。
Triethylamine, propylamine, butylamine, amylamine, dipropylamine, dibutylamine, cyamylamine, I-dipropylamine.

l・リブチルアミン、メチルジエチルアミン、エチレン
シアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンシア
ミン 、1r IJエチレンイミ/、ベンジルアミン、
IJ 、 N−ジメチルペンシルアミン、J<。
l-butylamine, methyldiethylamine, ethylenecyamine, trimethylenediamine, tetramethylenecyamine, 1r IJ ethyleneimine/, benzylamine,
IJ, N-dimethylpencylamine, J<.

N−ジエチルベンジルアミン、N、N−シプロピルベ/
ジルアミン、0−寸たはn+−寸たけp−メトキシまた
はメチルベンジルアミン、 N 、 N−シ(ノトギシ
ペンシル)アミン、β−フェニルエチルアミン、ε、δ
−フェニルアミルアミン、γ−フェニルプロピルアミン
、シクロヘキシルアミン。
N-diethylbenzylamine, N,N-cypropyrube/
Zylamine, 0-sun or n+-suntake p-methoxy or methylbenzylamine, N, N-cy(notogycypencyl)amine, β-phenylethylamine, ε, δ
-Phenylamylamine, γ-phenylpropylamine, cyclohexylamine.

アニリン、モノメチルアニリン、ジエチルアミン、l−
ルイシン、ベンジジン、α捷たdβ−ナフチルアミン、
oまたli m −”t fC,f’、、f J−”−
ノコ−ニレ/シアミン、ピロリジン、ピペリジン、ヒペ
ラジノ。
Aniline, monomethylaniline, diethylamine, l-
leucine, benzidine, α-dβ-naphthylamine,
oAlso li m −”t fC, f',, f J−”−
Elm/cyamine, pyrrolidine, piperidine, hyperazino.

モルホリン、ウロトロビン、ジアザビジクロウ/デカ/
、ピロール、ピリジン、キノリン、ヒドラジン、フェニ
ルヒドラジン、N、N’−ジフェニルヒドラジン、ヒド
ロキシルアミン、尿素、セミカルバジド、チオ原糸、リ
シン、ヒスチジン、キニン、フルシン、カフェイン、シ
/コ二ン、コカイン、ストリキニン、水酸化テトラアル
キルアンモニウト、アミノ安息香酸、ポルムアミド、ア
セタミh’、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−
ジメチルアセタミド、アセタニリド、モノエタノールア
ミン、ジェタノールアミン、トリエク/−ルアミン、2
−(2−アミノエチル)エタ/ −ル。
Morpholine, Urothrobin, Diazabijikuro/Deca/
, pyrrole, pyridine, quinoline, hydrazine, phenylhydrazine, N,N'-diphenylhydrazine, hydroxylamine, urea, semicarbazide, thioprotofilament, lysine, histidine, quinine, flucine, caffeine, cy/conine, cocaine, strychnine, tetraalkylammonium hydroxide, aminobenzoic acid, porumamide, acetamide h', N,N-dimethylformamide, N,N-
Dimethylacetamide, acetanilide, monoethanolamine, jetanolamine, triecule amine, 2
-(2-Aminoethyl)ethyl/-ol.

2−アミノ−2−ノチルー1.ろ−ブロパ/ジオール、
2−アミノ−1,6−ブロパンシオール。
2-amino-2-notyl 1. Ro-bropa/diol,
2-amino-1,6-propanesiol.

2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1,ロープロパン
ジオールなどのアミン化合物(1紗’、 2 N&。
Amine compounds such as 2-amino-2-hydroxymethyl-1, low propanediol (1 gau, 2 N&.

3級アミン、モノアミン、ジアミン、トリアミン。Tertiary amines, monoamines, diamines, triamines.

テトラアミンからポリアミン1で、脂肪族鎖式アミン、
脂肪族環式アミン、芳香族アミン、ヘテロ環式アミン)
および酸アミドなどのアミン誘導体あるいはカルボン酸
とアミンの塩(例えばオクタン酸などとモノエタノール
アミン、ジェタノールアミンなどとの塩)などが用いら
れる。
From tetraamine to polyamine 1, aliphatic chain amine,
aliphatic cyclic amines, aromatic amines, heterocyclic amines)
and amine derivatives such as acid amides, or salts of carboxylic acids and amines (for example, salts of octanoic acid and monoethanolamine, jetanolamine, etc.).

また、すl・リウムメチラート、ナトリウムエチラート
、ナトリウムプロピラード、カリウムメチラート、カリ
ウムエチラ−1−、力υウムグロビシート、リチウムノ
チラート、リチウムエチラートなどのアルカリ金属アル
コラ−1・、ナトリウム。
Also, alkali metal alcohols such as sulfur methylate, sodium ethylate, sodium propylate, potassium methylate, potassium ethyl-1-, lithium globisheet, lithium notylate, and lithium ethylate, and sodium.

カリウム、リチウムのアミド、エチルアミド、ジプロピ
ルアミドなどのアルカリ金属アミドなどが用いられる。
Alkali metal amides such as potassium and lithium amides, ethylamide, and dipropylamide are used.

無機塩基としては水酸化すl−1)ツノ1.水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化バリ
ウム、炭酸すトリウム、炭酸カリウム。
As the inorganic base, hydroxide l-1) Horn 1. Potassium hydroxide, lithium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide, thorium carbonate, potassium carbonate.

炭酸リチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム。Lithium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate.

炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、シアン化カリ
、シアン化ナトリウム、リン酸すl・リウト。
Sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, potassium cyanide, sodium cyanide, phosphoric acid.

リン酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、り−イ酸カリ。Potassium phosphate, sodium silicate, potassium silicate.

ナトリウムメタシリケートなどのアルカリ金属。Alkali metals such as sodium metasilicate.

アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩などが用いられる
Alkaline earth metal hydroxides, carbonates, etc. are used.

また、塩基としてはマスクさJtて−るような形。Also, as a base, it has the shape of a mask.

たとえばカルボン酸、リン酸などの酸とアルカリ金属、
アルカリ土類金属との塩でも使用可能である。
For example, acids such as carboxylic acids and phosphoric acids and alkali metals,
Salts with alkaline earth metals can also be used.

これらの塩基のなかで特に好ましいものはイ」磯塩基で
あり、さらにその中でも特にアミン化合物が好ましい。
Particularly preferred among these bases are i'iso bases, and among these, amine compounds are particularly preferred.

これらの塩基は単独あるいは混合して、液状あるいは気
相状で用いられる。液状の場合は例えば塩基そのものあ
るいは溶液の形で月Jいる。溶液として用いる場合、溶
媒は水捷たはイ」機溶剤寸たは両者混合のいずf”Lで
もよい。寸だ現像液と一緒にしたものでもよい。
These bases may be used alone or in a mixture, in liquid or gas phase. If it is in liquid form, it may be in the form of a base itself or a solution, for example. When used as a solution, the solvent may be either an aqueous solution, an organic solvent, or a mixture of both.It may also be a mixture of the two with a developer.

気相、液相いずれで処理する場合でも用いる塩基の量と
しては、いちがいに決められない。効果を出す最小量(
絶対量)は明らかて必要であるが。
The amount of base to be used in either gas phase or liquid phase treatment cannot be determined exactly. The minimum amount to produce an effect (
(absolute amount) is clearly necessary.

多い場合でも伺ら効果をそこなうものではない。Even if there is a large amount, the effect will not be diminished.

その効果の発現には塩基の濃度が低い場合、必要量の塩
基が供給されるという条件下5時間をかけて処理さえす
ればよく、濃い場合は短時間でよい。
To achieve this effect, if the base concentration is low, it is sufficient to perform the treatment for 5 hours under the condition that the required amount of base is supplied, whereas if the base concentration is high, a short time is sufficient.

かかる意味において溶液として用いる場合の濃度は特に
限定されなく、塩基の強さ、あるいは操作のしやすさ、
安全上および実用的な処理時間から。
In this sense, the concentration when used as a solution is not particularly limited, and depends on the strength of the base, ease of operation,
From safety and practical processing times.

気相で一50係以下001%以」二、打首しくけ30〜
40係以下01L$以上、液相では100気以下0.0
ロ1グ以」−9好首しくに50係以下0.01係以上の
濃度範囲で充分効果が得られる。
In the gas phase, 150 or less, 001% or more” 2. Beheading mechanism 30~
40 or less 01L$ or more, liquid phase 100 or less 0.0
A sufficient effect can be obtained preferably in a concentration range of 50 parts or less and 0.01 part or more.

塩基で処理する時間に特に限定さ1%なく、塩基の強さ
と’1lAIkによって適宜選択できるが9通常処jj
lj KJ、に触1すると即時に効果があられれ、かつ
長時間jχ触させ、でも伺ら効果に変化Cない。通常約
2゜ろ秒〜60分間程度でよい。
The time for treatment with a base is not particularly limited to 1%, and can be selected appropriately depending on the strength of the base and the AIk, but 9 normal treatments
If you touch lj KJ, the effect will be felt immediately, and even if you touch it for a long time, there will be no change in the effect. Usually, the time is about 2° to 60 minutes.

池状で1/!i!即する場合に印刷版原版を塩基または
塩基溶液に浸漬するか、あるいは塩基′!f、たけ塩基
溶液で版面をぬらず程度でよい。丑た気相で処理する場
合は、該塩基を含む気相に版面を曝露すれ本発明の塩基
処理は画像形成用積層体を画像露光してから現像の前に
あるいは現像と同11ケに行・)ものである。
1/ in pond shape! i! If necessary, the printing plate precursor may be immersed in a base or a base solution, or a base'! f. It is sufficient to not wet the plate surface with the bamboo base solution. When processing in a gas phase, the plate surface is exposed to a gas phase containing the base.The base treatment of the present invention is carried out after image-forming laminate is exposed to light and before development, or at the same time as development.・)It is a thing.

また感光層中には本発明の効果を損わない範囲で塗膜形
成向 上や支持体との抜溝性向上なとの目的で他成分を
力1」えたり2画像部感光層の全部−dたは一部全残存
させるために現像液に小心なポリマまたはモノマ成分を
感光層にブレンドすること。
In addition, other components may be added to the photosensitive layer for the purpose of improving coating film formation and groove removal properties from the support within a range that does not impair the effects of the present invention. -d or blending a sensitive polymer or monomer component into the photosensitive layer in a developer solution in order to partially or completely remain.

また現像時あるいは露光時に画像をrjJ視化するf−
めに染料などを加えたりすることは可能である、。
Also, during development or exposure, the image is visualized using f-
It is possible to add dyes etc.

本発明で用いられる感光層の厚さは約01〜100μ、
好ましくは約05〜60μが適当で、薄ずきると塗工時
にビンポール等の欠陥が生じ易くなり。
The thickness of the photosensitive layer used in the present invention is about 01 to 100μ,
Preferably, it is about 05 to 60 μm; if it is too thin, defects such as pores will easily occur during coating.

一方厚すぎると経済的見地から不利である。On the other hand, if it is too thick, it is disadvantageous from an economic standpoint.

本発明に用いられるシリコ−/ゴム層は1次のようなく
9返し中位を有する分子M数千〜数十力の線状有機ポリ
シロキサンを主成分とするものである。
The silicone/rubber layer used in the present invention is mainly composed of a linear organopolysiloxane having a molecular weight of several thousand to several tens of degrees and having a nine-fold center, not a linear one.

このような線状有(幾ポリシロキザンを寸ばらに架橋す
ることによりシリコーンゴムが得られる。
Silicone rubber can be obtained by crosslinking such linear polysiloxane in pieces.

この線状有機ポリシロキサンを寸ばらに架橋するためシ
リコーン架橋剤が添加される。架橋剤はいわゆる室温(
低温)硬化型のシリコーンゴムに使われているアセトキ
シンラン、ケトオキシムシラン、アルコギンシラン、ア
ミノシラン、アミドシラン、゛j′ルケニ[−]キシシ
ランなどであり2通常線状fj機ポリシロギザノとして
末端が水酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢酸型
、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミ
ド型。
A silicone crosslinking agent is added to crosslink this linear organopolysiloxane piecemeal. The crosslinking agent is used at so-called room temperature (
These include acetoxin silane, ketoxime silane, alcogin silane, amino silane, amidosilane, and xysilane, which are used in low temperature) curing silicone rubber. When combined with certain types, they are respectively deaceticated type, deoxime type, dealcoholized type, deamined type, and deamidated type.

脱ケトン型(脱アセトン型)のシリコーンゴムとなる。It becomes a ketone-free (acetone-free) silicone rubber.

特に打型しくに9次にあげるシリコーン架橋剤が用いら
れるn fl) F−−B1(OR) s (脱アルコール型)
i2J R−8i(OAc)、 (脱酢酸型)(3t 
R−8i(ON−CR’、 )s(脱オキシム型)(4
) R−8i(QC(R’)CH= CH,)、(脱ケ
トン型)ここで、Rは上で説明したRと同じ意味であり
In particular, silicone crosslinking agents listed in the ninth order are used for molding.
i2J R-8i (OAc), (deacetic acid type) (3t
R-8i (ON-CR', )s (deoxime type) (4
) R-8i (QC(R')CH=CH,), (deketone type) where R has the same meaning as R explained above.

11′はメチル、エチルなどのアルギル基であり、A(
1はア士チル基である。
11' is an argyl group such as methyl or ethyl, and A(
1 is an acyl group.

才だ、シリコーンゴムには、更に触媒としで少i1iの
イ]機スズ化合物等が添加されるのが一般的である。シ
リコーンゴム層の厚さは、約05〜100/’ +好ま
しくは約05〜50μが適当であり、薄ずぎる場合は耐
耐力の点で問題を牛しることがあり、一方厚ずきる場合
は経済的に不利であるシ5」′かシでなく現像時シリコ
ーンゴム層を除去するのが困難となり画像再現性の低下
をもたらす1゜本発明の画像形成用積層体において、支
持体と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は。
It is common for silicone rubber to further contain a tin compound with a small amount of carbon dioxide as a catalyst. The appropriate thickness of the silicone rubber layer is about 0.5 to 100 μm + preferably about 0.5 to 50 μm; if it is too thin, it may cause problems in terms of yield strength, while if it is too thick, In the image-forming laminate of the present invention, the support and the photosensitive material are not economically disadvantageous. adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer.

画像再現性、耐刷力などの基本的な印刷版性能にとり、
非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接着層を
設けたり、各層に接着改良性成分を添加することが可能
である。
Regarding basic printing plate performance such as image reproducibility and printing durability,
Since it is very important, it is possible to provide an adhesive layer between each layer or to add an adhesion-improving component to each layer, if necessary.

特に感光層とシリコーンゴム層間の接渉のため層間に接
着層として種々のものが用いられているが、なかでもア
ミノシラン層が好ましい。ここでhうアミノンランとけ
一般に次式で表わさ1するものを言う。
In particular, various adhesive layers are used between the photosensitive layer and the silicone rubber layer for adhesion between the layers, and among them, an aminosilane layer is preferred. Here, h is generally expressed by the following formula.

R111R’ n S 1 (OR″) 4− m−n
代表的なものとしては1例えば、6−アミツグロピルト
リエトキシシラン、r*−(2−アミンエチル〕−6−
アミツプロピルトリメトキンシラン。
R111R' n S 1 (OR'') 4- m-n
Typical examples include 1, for example, 6-amituglopyltriethoxysilane, r*-(2-amineethyl]-6-
Amitupropyltrimethquine silane.

3−アミノグロビルトリメトキソ/ジン、ビス〔3−(
1−リットギンシリル)プロピル〕アミン。
3-aminoglobil trimethoxo/zine, bis[3-(
1-litginsilyl)propyl]amine.

ヒス[3−(f−’Jメトキ7ンリル)プロピル〕エチ
レンジアミン、N−(3−l・リメトキ/シリルプロピ
ル)モルホリ/lトリノトキシシリルプUlビルジエチ
レントリアミン、ビス(2−ヒト「」キシエチル)アミ
ノプロビルトリエトキシンラ7゜3−アミノプロピルメ
チルジェトキシシラン、(N、N−ジエチル−3−アミ
ン)プロビルトl) Jトキシ7ラン、(N、N−ジメ
チル−ろ−アミン)プロピルトリメトキシシラン、N−
メチルーツ゛ミノグロピルトリメトキシンラン、N−フ
ェニルアミノプロピルトリットキシシラン ンシリル−2−(p−m−アミノメチル)−フェニルエ
タン、トリットキシシリルプロピルアリルアミンなどが
挙げられる。
His[3-(f-'Jmethoxy7lyl)propyl]ethylenediamine, N-(3-l·rimethoxy/silylpropyl)morpholyl/ltrinotoxysilylpUlbildiethylenetriamine, bis(2-human "xyethyl)amino Probyltriethoxysilane 7゜3-aminopropylmethyljethoxysilane, (N,N-diethyl-3-amine)propyltoxy7lane, (N,N-dimethyl-ro-amine)propyltrimethoxysilane , N-
Examples include methylzminoglopyltrimethoxine, N-phenylaminopropyltritoxysilanesilyl-2-(p-m-aminomethyl)-phenylethane, and tritoxysilylpropylallylamine.

同様に感光層とシリコーンゴム層間の接着のために,有
機チク洋−F層が好ましい。ここでいう有機チタイ、−
1・どは、一般に次式で表わされるようなチタン系プシ
イマを言う。
Similarly, organic Chikuyo-F layers are preferred for adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. The organic chitai here, -
1. generally refers to titanium-based psiima as expressed by the following formula.

Ti(OR)、 、もしくはTi(OCOR’ )4.
−n(OR)n, 、もしくけ ここで、R,’s!はアルキル、アリール、ンクロアル
キルまたはアルケニルを表シ,同−せたは異なるもので
ある。
Ti(OR), or Ti(OCOR')4.
-n(OR)n, , where R,'s! represents alkyl, aryl, cycloalkyl or alkenyl, and the same and the same are different.

nは0.1寸たはろである。n is 0.1 sun.

これらの代表的なものとしては,例えばデトラーイノブ
L1ボキンチタン.テI・シー11−ブトキシチタン、
テトラステア「jキ/チクン,テトラキス−(2−エチ
ルヘギノル)チタイ、−トナどのテトラブルキルチタネ
ート。
Representative examples of these include, for example, Detra Inobu L1 Bokin Titanium. TeiC 11-butoxytitanium,
Tetrastea ``jki/chikun, tetrakis-(2-ethylheginol) titanate, -tona-do tetrablekyl titanate.

ジプロポキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタン、ジ
ブトキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタン、ジブト
キシ・ビス(トリエタノールアミナト)チタン、ジヒド
ロキシ・ビス(ラクタト)チタン、テトラキス(2−エ
チルヘキサンシオラト)チタンなどのチタニウムキレ−
1・0トリ〜n−ブトキンチタンモノステアレー1・。
Dipropoxy bis(acetylacetonato) titanium, dibutoxy bis(acetylacetonato) titanium, dibutoxy bis(triethanolaminate) titanium, dihydroxy bis(lactato) titanium, tetrakis(2-ethylhexanethiolato) titanium, etc. titanium clean
1.0 tri to n-butquine titanium monostearate 1.

チタニウムテトラベンゾニー1・などのチタニ1□ツノ
、アシン〜1・、もしくはこり、らの会合体」・・よび
重合体等が挙げられる。
Examples include aggregates of titanium 1□ horns such as titanium tetrabenzony 1.

接着層の厚みは原卯的には単分子層以上あればよいが実
際の塗布操作上10+nμm2 /Zの範囲かノ“1り
ばノする。jワ<なりずぎると杼道的に不才1]である
t1゛〃・シでなく 、 F.p’.光層への現像液の
浸透に唐、影響を及ぼす。
In principle, the thickness of the adhesive layer should be at least a monomolecular layer, but in actual coating operations, it will be within the range of 10+nμm2/Z. ], but not t1゛〃・shi, F.p'. has a significant influence on the penetration of the developer into the optical layer.

同様に感光層とシリコーンゴム層間のJど危の4yめに
,シリコーンゴム層に接着成分としーこ,神々のものが
添力I(されているが、 f:fかでも−)゛ハノ7シ
ン捷たは有機チタネートが好ましい。ここで水うアミノ
シランまたは有様チタイーI U先に説明したものと同
じである。
Similarly, at the 4th point between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, an adhesive component is added to the silicone rubber layer, and the gods are added (although it is, f: f -)゛Hano 7 Synthetic titanates or organic titanates are preferred. Here, the water-containing aminosilane or titanium-IU is the same as previously described.

シリコーンゴム層中に含1れるアミノ/シ/−マたは有
機チタイ、−1・の量(主成分の線状,j仙ノン【ノキ
ザンに対する)は好ましくは0. 0 5〜10重(、
:係、より打型しくは01〜5重量係が選ばれる。
The amount of amino/cyamium or organic titanium (-1) contained in the silicone rubber layer (relative to the main component linear, j-xenone) is preferably 0. 0 5 to 10 weights (,
: Weight type, more preferably 01 to 5 weight type is selected.

才たアミノリシンと有機チタ坏−トの混合、または他の
接着成分と混合しても用いられる。
It can also be used as a mixture of aminolysine and organic titanate, or as a mixture with other adhesive components.

支持体としては1通常の平版印刷機等にセットできるた
わみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるものでなければ
なら万い。代表的なものとしてはアルミ、銅、鋼等の金
属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチッ
クフィルムもしくはシートあるいはコート紙、ゴム等が
あげられる。
The support must be flexible enough to be set in a normal lithographic printing machine and capable of withstanding the load applied during printing. Typical examples include metal plates such as aluminum, copper, and steel, plastic films or sheets such as polyethylene terephthalate, coated paper, and rubber.

斗た複合された支持体、ゴム弾性をイコする支持体、ゴ
ム弾性層を有する支持体、シリンダー状の支持体を用い
ることもできる。
It is also possible to use a composite support, a support with equal rubber elasticity, a support with a rubber elastic layer, and a cylindrical support.

上記の7−ト秋物の」二にノーレーション防止その他の
目的でさらにコーティングを施して支持体とすることも
用油である。
It is also a useful oil to further apply a coating to the above-mentioned 7-Autumn material to prevent nolation or for other purposes.

以」二説明したようにして構成された画像形成用積層体
の表面を形成するシリコーンゴム層を保護するなどの目
的で、シリコーンゴム層の表面にプレーンオたは凹凸処
理が施されたポリエチレンテレフタレート、ポリプロピ
レン、ホリエチレン。
Polyethylene terephthalate, the surface of which has been subjected to plain or uneven treatment for the purpose of protecting the silicone rubber layer forming the surface of the image forming laminate constructed as described above; Polypropylene, polyethylene.

ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
セロファンなどの薄い保護フィルA tたはシートをラ
ミ不−1・することもできる。ががるイ呆護フィルムは
特に限定されなく1両f3;露光(イ、カ型、ポジ型と
も)前に除去ずればよい。1lIII豫露光(オ、ガ型
、ポジ型とも)時にも使用できるJ2うな保護フィルム
としては上d己のような月夕!tのブレーンまたは凹凸
処理が施されたフィルムで紫外線を透過しうる透明性と
露光時の焼きはけを防ぐために100μ以下、好捷しく
け60μ以下のノリ°みを有するものである。
polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride,
It is also possible to laminate a thin protective film or sheet such as cellophane. The protective film is not particularly limited and may be removed before exposure (for both A, F, and positive types). As a protective film for J2 that can be used during exposure (both O, G, and positive types), it is like the above! It is a film that has been subjected to a t-brane or uneven treatment, and has a transparency that allows ultraviolet rays to pass through, and a thickness of 100 μm or less to prevent burn-out during exposure, and a thickness of 60 μm or less for a favorable mechanism.

かかる画像形成用積層体の層構成としては1次のように
なる。
The layer structure of such an image forming laminate is as follows.

順に支持体、必要なら接着層重たはプシイマ層をはさん
で感光層、さらに必扱なら接メ1テ層をdさんでシリコ
ーンゴム層、最後に必要なし保護1曽2・らなるもので
ある。
In this order, the support, if necessary, the adhesive layer or psiima layer, the photosensitive layer, and if necessary, the contact layer, the silicone rubber layer, and finally the protective layer, which is not necessary. be.

本発明をなす、感光層に全面露光を行う場合。In the case where the entire surface of the photosensitive layer is exposed, which constitutes the present invention.

製造ライン上捷たはライン外にて感光層または感光層と
シリコーン層を塗設した状態、場合にょっては保護層ま
でつけた印刷版原版の状態で必要量の露光を与えればよ
い。
The necessary amount of exposure may be applied to the printing plate precursor coated with a photosensitive layer or a photosensitive layer and a silicone layer, or even a protective layer in some cases, on or off the production line.

画像露光の場合は、製版時通常の露光操作で画像形成用
積層体に必要量の露光を与えることが必要である。特定
量の露光として短時間に露光を与えうるフラッシュ露光
も利用できる。かかる意味において9画像形成層積層体
の全面にフラッシュ露光した後2画像露光をする方法あ
るいは画像露光全してから全面にフラッシュ露光する方
法などの後に塩基処理した後現像するか才たは塩基処理
と同時に現像することによってイ・ガ型湿し水不要平版
印刷版が得られる。
In the case of image exposure, it is necessary to expose the image-forming laminate to the required amount of light through a normal exposure operation during plate making. Flash exposure can also be used to provide a specific amount of light exposure over a short period of time. In this sense, a method in which the entire surface of the 9-image forming layer laminate is exposed to flash light and then exposed to two images, or a method in which the entire surface is exposed to flash light after all of the image-forming layers is exposed, followed by base treatment and then development or base treatment. By simultaneous development, an I-Ga type lithographic printing plate that does not require dampening water can be obtained.

同様にして画像形成用積層体に画像状にフラッシュ露光
して塩基処理したあと現像するかまたは塩基処理と同時
に現像するとポジ型湿し水不要平版印刷版が得らノする
Similarly, if the image-forming laminate is imagewise exposed to flash light, treated with a base, and then developed, or developed simultaneously with the base treatment, a positive-working lithographic printing plate that does not require dampening water can be obtained.

感光層中のキノ/ジアジド構造を含む物質のキノンジア
ジド単位の70モル係以]二が光分解してカルボン酸成
分を画像状に生成させる場合は、製版時1通常の露光操
作で画像形成用積層体に必要な露光を与えることが必要
である。
70 molar ratio of quinone diazide units of the substance containing the quinone/diazide structure in the photosensitive layer] When the carboxylic acid component is photodecomposed to form an image, during plate making 1. It is necessary to give the body the necessary exposure.

以上述べた場合のように感光層中のキノンジアジド構造
のキノンジアジド単位のある特定JLiを光分解するた
めの露光に用いらfLる光#il if 、特に限定す
れるものではなく、キノンシアントタカルボン酸に変化
きせる波長領域の光を発生ずるイ)のであり、ばいずれ
でもよい。例えば超高圧水銀月、カーボンプータ月、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル灯、け
い光灯、太陽光などが用いらizる。
As in the case described above, the light #il if used for exposure to photodecompose a certain JLi of the quinonediazide unit of the quinonediazide structure in the photosensitive layer is not particularly limited, and the quinonecyantotacarboxylic acid (b) Generates light in a wavelength range that can be changed to For example, ultra-high pressure mercury moons, carbon puta moons, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps, fluorescent lamps, sunlight, etc. are used.

以上説明したような本発明にもとつく画像形成用積層体
は5例えば次のようにして製造される。
The image-forming laminate according to the present invention as described above is manufactured, for example, in the following manner.

t f 支持体のうえに、リバースロールコーク、ゴ−
アーナイフコータ、メーヤバーコータなどの通常のコー
クあるいけホエラーのような回11シく塗布装置を用い
感光層を構成すべき組成物m液を塗布、乾燥および必要
に応じて熱キュア後、必要ならば該感光層のうえに同様
な方法で接着層を塗布、乾炊ミしてからシリコーンガム
溶液を感光層重たは接着層上に同様の方法で塗布し1通
常1oD〜130’にの温度で数分間熱処理して、十分
に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成する。必要なら
ば、保護フィルムを該シリコーンゴム層」二にラミイ・
−ター等を用いカバーする。このようにして得られる画
像形成用積層体をイカ型湿し水不要平版印刷版原版とし
て使用する場合は、感光層を塗設した後1才たはシリコ
ーン層を塗設した後型たは保護フィルムをラミ不−トシ
た後に全面露光を施して、製造さノtたものでなければ
ならない。
t f On top of the support, reverse roll coke, go-
Using an ordinary Coke or Ike Whaler coating device such as an Arnife coater or a Meyer bar coater, apply the composition M to form the photosensitive layer, dry it, heat cure it as necessary, and then apply it as required. If so, apply an adhesive layer on the photosensitive layer in the same manner, dry it, and then apply a silicone gum solution on the photosensitive layer or adhesive layer in the same manner. It is heat treated at a high temperature for several minutes to fully cure and form a silicone rubber layer. If necessary, laminate a protective film over the silicone rubber layer.
- Cover with a tar etc. When the image-forming laminate obtained in this way is used as a squid-type lithographic printing plate precursor that does not require dampening water, it can be used for one year after coating the photosensitive layer or for molding or protection after coating the silicone layer. It must be manufactured by fully exposing the film after lamination.

製造工程でかかる全面露光′f:施さ、Itずに製造さ
れた画像形成用AI【屠体をイ・ガ型湿し水不要平版印
刷版として使用する場合、製版工程で、すなわち画像露
光の11か後で非画像部に画像部を含めて全面露光を“
−ノブえなければならない。
Full-face exposure during the manufacturing process: When the carcass is used as a type lithographic printing plate that does not require dampening water, the entire surface is exposed during the plate-making process. Or later, expose the entire surface including the image area in the non-image area.
-You have to turn the knob.

あるいけ特にかかる操作をしなくてもネガ型湿し水不要
平版印刷版原版としてその一1′1使用することもでき
る。
Alternatively, it can also be used as a negative type planographic printing plate precursor that does not require dampening water without any particular operation.

一方、ポジ型湿し水不要平版印刷版原版として使用する
場合には、特にかかる操作は必要としない。
On the other hand, when used as a positive type planographic printing plate precursor that does not require dampening water, such operations are not particularly required.

かかる意味において同〜の画像形成用積層体から画像を
得るため露光秒数の変更(・こ61、って、即らポジフ
ィルムまたはポジ原(+IBを用いる149合IC6:
E h(\、光層中のキノンジアンド構造を含む物′1
′↓のキノ、−ジアジド単位の5〜60モル係が光分解
する、1、うに画像露光全力えて、塩基処ljlと現像
をイーJ” ”、+:う1゜一方、ネガフィルム−iた
はイ、ガ原両を用いる場合には1通常の画像露光を与え
るか、その露光の前か後に非画像部の感光層中のキノン
ジアシド構7:1.。
In this sense, in order to obtain an image from the same image forming laminate, the number of exposure seconds must be changed (i.e., a positive film or a positive original (149 using +IB) IC6:
E h(\, substance containing a quinone diand structure in the optical layer'1
5 to 60 moles of Kino, -diazide units in '↓ are photodecomposed, 1. After full image exposure, base treatment and development are performed. When using both A and G, either a normal image exposure is applied, or the quinonediaside structure 7:1. .

k 含fJ 物質のキノンジアジド栄位の5〜6し)」
−ノ【係がつ1L分解するように画像rrll k 壽
め−C仝ili itニー H,16)y;をんえてか
ら、または単に通′畠の画イ9コ露ケc、のみ6゜j、
7えてから塩基処理と現像を7jlう。このよう1・′
して一つの印刷版原版からポジ早、イカ型のいずhの型
式からでも印刷版が出来る。
5 to 6 of the quinonediazide valence of fJ-containing substances)
- ノ [Relationship 1L to decompose the image rrll k 廽目-C仝ili it knee H, 16) y; Or just to take a look at the picture 9 of Tsu'hatake c, only 6° j,
After 7 hours, base treatment and development were carried out for 7 times. Like this 1・′
With this, printing plates can be made from a single printing plate precursor, even from any type of positive or squid type.

かかる画像形成用積層体から両像形成のための露光とし
ては次のようなものが挙げら−hる。例えば真空密着さ
れたイ、力寸たU−ボシンイルj、を通して活性光線で
露光すること(密着露光)、あるいは、ネガ寸たはポジ
フィルムを通して話P1−光島1(透過光)で投影露光
すること(投影製版)、ネガ寸たけポジ原画からの反射
光で露光するとと(直接製版)などである。露光に際し
ては保護層、特にカバーフィルムの有無による大きな影
響はない。
Examples of exposure for forming both images from such an image-forming laminate include the following. For example, exposure to actinic light through a vacuum-adhesive film (contact exposure), or projection exposure through a negative or positive film (transmitted light). (projection plate making), exposing the negative to the light reflected from the positive original (direct plate making), etc. The presence or absence of a protective layer, especially a cover film, does not have a significant effect on exposure.

この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発生
するものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ。
The light sources used in this exposure process are those that generate abundant ultraviolet light, and include mercury lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, and metal halide lamps.

螢光灯などを使うことができる。さらに紫外線以外にも
レーザー光等を用いられる。
You can use fluorescent lights, etc. Furthermore, in addition to ultraviolet rays, laser light and the like can also be used.

塩基処理−露光ずみの画像形成用積層体を現像の前にあ
るいけ現像と同時に行なわれる。ここでいう現像と同時
には塩基を加えた現像液で現像操作を行なうことである
。現像で版面を現像液を含んだ現像用バットでこすると
イ、ガ型湿し水不要平版印刷版の場合2画像露光さf’
したシリコーンゴム層が場合によっては感光層も共に除
去され、インキ受容部となる感光層重たは支持体表面が
露出する。
Base treatment--Prior to and simultaneous with development of the exposed imaging laminate. Simultaneously with development as used herein means to carry out a development operation using a developer to which a base has been added. During development, when the plate surface is rubbed with a developing vat containing developer, a, two-image exposure f' in the case of a G type lithographic printing plate that does not require dampening water.
The silicone rubber layer and, if necessary, the photosensitive layer are also removed to expose the photosensitive layer layer or the surface of the support, which will serve as an ink receiving area.

ポジ型湿し水不要平版印刷BFj、の場合、未露光部の
シリコーンゴム層が、場合によっては感光層も共に除去
され、インキ受容部となる感光層t 4.= 1:1支
持体表面が露出する。
In the case of positive type planographic printing BFj that does not require dampening water, the unexposed silicone rubber layer and, in some cases, the photosensitive layer are also removed, and the photosensitive layer t becomes the ink receiving area.4. = 1:1 support surface exposed.

本発明において用いられる現像液としては7(11”し
水不要平版印刷版の現像液として公知のものが使用でき
る。たとえば脂肪族炭化水素類(ヘキーリ”ン。
As the developer used in the present invention, there can be used those known as developers for lithographic printing plates that do not require water. For example, aliphatic hydrocarbons (hekylene).

ヘゲタン、パアインパー112.H,(J″′Cエツソ
化学製脂肪族炭化水素類の商標名)あるいはガソリン、
灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエン。
Hegetan, Paainpa 112. H, (J″′C trade name of aliphatic hydrocarbons manufactured by Etsuo Chemical) or gasoline,
kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, etc.).

ギシレ/にど)あるいはハロゲン化炭化水しく・ξ類(
トリクレンなど)に下記の極性溶媒を添加しf二ものが
好適である。
(squeaky/nido) or halogenated hydrocarbons/
It is preferable to add the following polar solvent to (such as trichlene).

アルコール類(メタノール、エタノール、A(/I、と
〕 エーテル類(メチルセロソルブ、エヂルセ[Jノルゾ、
プチルヒロンルブ、メチルカルピトール。
Alcohols (methanol, ethanol, A(/I, and) Ethers (methyl cellosolve, Edilse [J Norzo,
Petyl hironlube, methylcarpitol.

コーチルカルビトール、)0チルカルヒ゛!・−ル、シ
オキザンなど) ケトン類(アセトン、メチルエチルク゛I・ンなど)エ
ステル類(酢酸エチル、メチルセロソルプアセテ−1・
、セロソルブアセテ−1・、カルビト−ルアセテートな
ど) f、 fc CV 、アセドラシンレッドなどの染料を
限像液に加えて現像と感光層の染色化を同時に行なうこ
ともできる。
Coachyl Carbitol,) 0 Chill Carbitol! Ketones (acetone, methyl ethyl carbon, etc.) Esters (ethyl acetate, methyl cellosol, acetate, etc.)
, cellosolve acetate-1, carbitol acetate, etc.) f, fc CV, acedracin red, and other dyes may be added to the image-limiting solution to simultaneously carry out development and dyeing of the photosensitive layer.

以上において詳細に説明してきた画像形成用積層体の処
理方法9表りわけ選ばれた感光層とシリコーンゴム層か
らなる画像形成用積層体を湿し水不要平版印刷版とする
画像形成法において、得られる印刷版は9次のような形
のものである。
Processing method for image forming laminate described above in detail 9 In an image forming method in which an image forming laminate consisting of a selected photosensitive layer and a silicone rubber layer is used as a lithographic printing plate that does not require dampening water, The resulting printing plate has the shape of the 9th order.

すなわち、非画像部は塩基処〕即する前の感光層中のキ
ノンジアシド構造を含む物質のキノ/ジアジド単位の5
〜60モル係が光分解するに足る露光を受けた部分であ
り、この露光を画像状に施したJ場合に・〕ぞジ型の非
画像部を形成しくポジ型とはポジ原画またはボシフイル
ノ、を用いて画像を形成し1画像状の1&3光部が非1
11+j像部を形成するタイプ)1≧而露光でこiz金
施した場合にネガ型の非画像部を形成する(イガ型とは
イ・ガ原画−またはオ・ガフイルムを用いて画像を形成
し2画像露光部が画像部を形成するタイプ)。
That is, the non-image area is treated with a base.
~60 mol is the part that has been exposed to enough light to photodecompose, and when this exposure is applied in an image form, it forms a di-shaped non-image part. An image is formed using
11 + J type that forms an image area) Forms a negative non-image area when exposed to light with 1 ≧ (Iga type is a type that forms an image using Iga original picture or Oga film) A type in which two image exposure areas form an image area).

これに対する画像部は感光層中のキノンジアシド構造を
含む物質のキノンジアジド冒1′1位が実7′↓的に光
分解しない部分または該−中位の70 ;t ノlダ・
以」二が光分jゲrするに足る露光を受けた部分−コ5
()す。
In contrast, the image area is the part of the substance containing the quinonediazide structure in the photosensitive layer where the 1'1 position of the quinonediazide is not actually photodecomposed or the 70 of the intermediate position;
Part 5 of the part that received enough exposure to emit light.
()vinegar.

実質的に光分解しない部分の未露光部かポジII、If
 U)画像部を形成し、該当部分の感光層中の4′//
ジアジド構造を含む物質のキノ/ジアジド1li−位の
70モル%以」二が光分解するに足る露光を受けた部分
がイガ型の画像部を形成する。
The unexposed part of the part that is not substantially photodecomposed or positive II, If
U) Forming an image area, 4'// in the photosensitive layer of the corresponding area
The portion of the substance containing the diazide structure that has been exposed to sufficient light to photodecompose 70 mol % or more of the chino/diazide 1li-positions forms a burr-shaped image area.

さら+C、もう一方のネガ型ば、、11両fAf部が1
1・ト光層中のキノンジアシド構造を含む物fiのキノ
ンジアシド単位が実質的に光分解しない部分の末露、)
′L部であり1画像部が感光層中のキノ/ジアジド単位
1;1゜を含む物質のキノンジアシド単位の70士ル乃
以上が光分解するに足る露光を受シナた部分からイ11
4成する。
+C, the other negative type, 11 both fAf parts are 1
1. End-exposure of the portion of the substance fi containing the quinone diaside structure in the photolayer where the quinone diaside units are not substantially photodecomposed,)
11 from the part that is the L part and one image part has received enough exposure to photodecompose 70 or more quinonediaside units of a substance containing quinone/diazide units 1;1° in the photosensitive layer.
4.

本発明で用いる画像形成用積層体は塩基の作用によって
感光層を構成するギノンジーfシト+1“I)造’tf
含む物質の少なくとも一部が変性してノリコーンゴム層
と感光層の接着力および感光層の顛R1渭性が向上する
と考えられろ。即ち塩基処理による感光層の変化を感光
層の耐溶剤性の変化、感光層とシリコーンゴム層との接
着性の変化としてとらえたことにあると考えられる。し
かるに光分解によってキノンジアジドから生成したカル
ボン酸はかかる塩基とキノンジアジドとの作用を選択的
に行わしめるためにただ単に版外から版内−\塩基を引
きつける働きをしているものと考えらノーしる。
The image forming laminate used in the present invention is formed by forming a photosensitive layer by the action of a base.
It is thought that at least a part of the contained substance is modified to improve the adhesion between the noricorn rubber layer and the photosensitive layer and the texture R1 properties of the photosensitive layer. That is, it is thought that the change in the photosensitive layer due to base treatment is interpreted as a change in the solvent resistance of the photosensitive layer and a change in the adhesiveness between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. However, it is thought that the carboxylic acid generated from quinonediazide by photolysis simply functions to attract the base inside the plate from outside the plate in order to selectively interact with the base and quinonediazide. .

かかる変化において例えばカルボン酸成分、好井しくけ
キノンジアジドから光分1%で生成したカルボン酸成分
が感光層に存在する場合のみ、塩基処理に」:る感′1
1L層とノリコーンゴム層の4u着と感光層の面j溶剤
性の著しい向」二が水元り]にもとづく画像形成用UC
層体において実用的容易さで実現さ1する。特定量以」
−の露光によってカルボン酸成分が生成さ九たところは
、かがる効果が期待できないため、感光層とノリコーン
ゴム層の接着が弱く。
In such a change, for example, only when a carboxylic acid component, such as a carboxylic acid component generated from quinone diazide Yoshii at 1% of the light intensity, is present in the photosensitive layer, the base treatment is possible.
UC for image formation based on the 4U adhesion of the 1L layer and the noricorn rubber layer and the significant increase in solvent resistance on the surface of the photosensitive layer.
It can be realized with practical ease in a layered structure. More than a certain amount
- If a carboxylic acid component is generated by exposure to light, no darkening effect can be expected, and therefore the adhesion between the photosensitive layer and the noricone rubber layer is weak.

かつ感光層の1IiJ溶剤性も劣るため、現像操作によ
り相当するシリコーンゴム層重たは感光層を含めて除去
されることになる。
In addition, since the photosensitive layer has poor 1IiJ solvent properties, the corresponding silicone rubber layer or photosensitive layer is removed by the development operation.

すなわち1本発明のポイントは従来の概念による露光部
と未露光部の現像にかかわる1ζ着ソバ(簀解性の差を
利用して、即ち、露光によってひきおこされた直接的な
変化を現像で感知して画像を形成しているのでl−1な
く現像にかかわる1u着ツバ浴解性または膨潤性の差全
塩基処理すこよって増幅して画像を形成するものであり
1両r1;部と男両豫部のオン−オフが従来より大きい
吉いう〃ましい概念し′こよる画像部、非画像部の形成
である。
In other words, the key point of the present invention is to develop the direct change caused by exposure by utilizing the difference in solubility of the 1ζ-adhesive layer, which is related to the development of exposed and unexposed areas according to the conventional concept. Since the image is formed by sensing the difference in 1U bath bath dissolution or swelling, which is involved in development, the image is formed by amplifying it by processing all the bases. An advantageous concept is that the on-off times of both the image and non-image areas are greater than in the past.

〈発明の効果〉 このようにして得られた画像形成用積層体およびその画
像形成法によれば。
<Effects of the Invention> According to the thus obtained image forming laminate and its image forming method.

(1) 特に感光層とノリコーン’J’ A層との接着
かWしく向」二すること。
(1) In particular, the adhesion between the photosensitive layer and the Noricone 'J' A layer should be carefully monitored.

(2) 感光層の11i1浴剤性ひいては画像形成用積
層体の耐溶剤性が著しく向上すること、。
(2) The 11i1 bath agent properties of the photosensitive layer and the solvent resistance of the image forming laminate are significantly improved.

(3) 画像形成において才、ガ型とポジ型版が同一版
材からできること。
(3) In image formation, it is possible to produce a positive type plate and a positive type plate from the same plate material.

(4)露光部と未露光部の差(感光層とノリコーンゴム
層との接着、感光層の面Jkf剤jコL)が人き1./
)ので現像のラチチュードが著しく拡大し、温湿度。
(4) The difference between the exposed area and the unexposed area (adhesion between the photosensitive layer and the noricorn rubber layer, the surface of the photosensitive layer) is important.1. /
), so the development latitude is significantly expanded, and the temperature and humidity.

現像時間等の外的因子の影響をうけにくくなること。Less susceptible to external factors such as development time.

(5)版製造条件を広くとっても一定条件の品質の印刷
版f:力えること(製造ラチチュードの拡大)。
(5) Printing plate f with constant quality even if plate manufacturing conditions are widened: Strengthening (expansion of manufacturing latitude).

(6) 高感度ポジ型湿し水不要平版印刷版拐が得られ
ること。
(6) A high-sensitivity positive type lithographic printing plate that does not require dampening water can be obtained.

(力 露光で発生ずる窒素による焼きぼけが著しく防止
されること。
(Power: Blurred images caused by nitrogen caused by exposure to light are significantly prevented.

(8) 感光層の染色化ができるため9画像部はもちろ
ん非画像部のシリコーン層のハガレも検出でき、検版性
が著しく向上すること。
(8) Since the photosensitive layer can be dyed, it is possible to detect peeling of the silicone layer not only in the image area but also in the non-image area, and plate inspection performance is significantly improved.

(9) 塩基処理によって非画像部は褐色に発色するの
で、現像操作および印刷版等において画像部とJ1画像
部の識別が容易であること。
(9) Since the non-image area develops a brown color due to base treatment, it is easy to distinguish between the image area and the J1 image area during development operations, printing plates, etc.

00) 印刷版の非画像部は塩基処理により、感光1イ
1金失っているため明室下の印刷版の取扱いに何んら注
煮を必要とすることがない。そのための特別な定着も不
要であること などの効果が発現される。
00) The non-image area of the printing plate has lost all of its photosensitive properties through base treatment, so there is no need for any pouring when handling the printing plate in a bright room. Effects such as no special fixation required for this purpose are achieved.

〈実施例〉 以丁、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。な
お実施例中に用いられる部1重金て重量部である。
<Examples> The present invention will now be described in more detail with reference to Examples. Note that parts used in the examples are parts by weight.

実施例1 厚み0.24 mmのアルミ板(住友軽金属製)にンエ
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミシイトレジ
ンpc−i、住友デュレズ製)を2μの厚みに塗布し、
190’C,ろ分間キュアしたものを支持体として、こ
の上に下記の感光I!U、組成物を塗布し、12D’c
、2分間加熱熱]]! I、 テI’ノさ271の感光
層を設けた。
Example 1 Enol formaldehyde resol resin (Sumishiite Resin PC-I, manufactured by Sumitomo Durez) was applied to a thickness of 2μ on an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals) with a thickness of 0.24 mm,
The material cured at 190'C and filtration is used as a support, and the following photosensitive I! U, apply the composition, 12D'c
, heat for 2 minutes]]! A photosensitive layer of 271 degrees was provided.

ナフ]・キノン−1,2−ジアジド−5−スル;j、ン
酸トフェノールホルムアルデヒドノボシツク樹脂のFi
l(分エステル(IR法によるニスデル化巣47チ )
 100 Φ置Iニ一部 4.4L ジンエニルメタンシイソ/アネート60中;
1[部 ジブチル錫シラウレー1− 0.2爪;i::部ジオキ
サ、 74o爪[IX一部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組成物を回
転塗布後、120°C2露点30.2分間湿熱硬化させ
て2μのシリコーンゴム層を設けて。
Naf]・quinone-1,2-diazide-5-sul;
l (minute ester (47 Nisdell formations by IR method)
100 Φ place I part 4.4L in ginenylmethane iso/anate 60;
1 [part dibutyltin silaure 1-0.2 nails; i:: part dioxa, 74 o nails [IX part] Subsequently, after spin-coating a silicone rubber composition having the composition below, 120°C2 dew point 30.2 Apply a 2μ silicone rubber layer by curing with moist heat for minutes.

画像形成用積層体を作成した。An image forming laminate was created.

ジメチルボリシロキザン(分子量約25,000゜末端
水酸基) 100重量部 ビニルトリス(メチルエチルケラキシム)シラン 8重
量部 ジブチル錫シアセテー1・ 02重爪部7・−アミノゾ
ロビルトリメトキ/シラン1重量部 アイソパーIC(エクソン化学製、脂肪放炎化水素系溶
剤) 1800 、tl1部 かかる画像形成相U【屠体にノクルノ・ライドラッグ(
宕崎″市気領)製アイドルフィン2000 )を用い、
1mの距離でUVメーター(m3オ一ク製作所シイトメ
ジャアタイプU V−40211) 11m〜V/cm
’の照度で全面露光全6砂施した。この露光により感光
層中のキノンジアシドの18モル係が光分解してカルボ
ン酸成分を生成したことが赤外スペクトルで確認さit
だ。
Dimethylborisiloxane (molecular weight approx. 25,000°, terminal hydroxyl group) 100 parts by weight Vinyltris(methylethylchelaxime) silane 8 parts by weight Dibutyltin cyacetate 1.02 double claw part 7.-aminozorobyltrimethoxy/silane 1 part by weight Isopar IC (manufactured by Exxon Chemical, fat release hydrogen solvent) 1800, image forming phase U that requires 1 part of tl
Using the idol fin 2000 manufactured by Misaki (Ichikiryo),
UV meter at a distance of 1m (m3 Okuku Seisakusho Seat Measure Type UV-40211) 11m to V/cm
The whole surface was exposed to 6 sands at an illuminance of '. It was confirmed by the infrared spectrum that 18 moles of quinone diaside in the photosensitive layer were photodecomposed to produce a carboxylic acid component due to this exposure.
is.

上記のように全面露光をして得らhだ画像形成用積層体
に真空密着した150&!/インチの網点画像を持つネ
ガフィルムを通してJ−rieのメタルノ・ライドラン
プを用い、1mの距離から60秒両豫露光した。次いで
、ノフパソド(ろIA社製現像パッド)を塩基処理液(
アイソパー)1 /ブチルカルピト−ル/エチルセロソ
ルブ/エタノールアミン=90151510.1重量比
)にひたし、露光ずみの版面を完全にぬらず。1分間す
ると全面露光のみをした部分が褐色に着色する。ゴムス
ギ−シーで版面土の塩基処理液を除去し2次いで版面と
現像パッドに現像液(アイソパーn /ブチルカルピト
−ル/エチルカルピトール−20/40/40重1、ニ
ー比)を注き、現像パッドで版面を軽くこすると画像状
に露光された部分のシリコーンゴム層が除去さノtで感
光層表面が露出した。−力、全面露光のみりさオtだ部
分にはシリコーンゴム層が強固に残イ1しており、ネガ
フィルムを忠実に再現した画像が1jIられた。
150&! vacuum-adhered to the image-forming laminate obtained by full-surface exposure as described above! A negative film having a halftone dot image of /inch was exposed to light for 60 seconds from a distance of 1 m using a J-rie Metalno Ride lamp. Next, NofpasoD (development pad manufactured by RoIA) was added to a base treatment solution (
Isopar) 1/butylcarpitol/ethyl cellosolve/ethanolamine = 90151510.1 weight ratio) without completely wetting the exposed plate surface. After 1 minute, the area exposed entirely to light turns brown. Remove the base treatment solution from the plate soil using a rubber squeegee, then pour a developer (Isopar n/butylcarpitol/ethylcarpitol - 20/40/40 weight 1, knee ratio) onto the plate and development pad, and develop. When the plate surface was lightly rubbed with a pad, the silicone rubber layer in the imagewise exposed area was removed, and the surface of the photosensitive layer was exposed. - The silicone rubber layer remained firmly in the exposed areas where the entire surface had been exposed, and an image faithfully reproduced the negative film.

この印刷版をオフセント印刷機(小森スプリント2カラ
ー)に取シ付け、東洋インキ製”アクワレスST藍″を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ150線/
インチの網点5幅〜95グがFlliJlされた極めて
良好な画像を持つ印刷物が得られ/ζ。5万部刷了後も
地汚れおよび版面の損傷は全く見られず、さらに印刷を
継Hしできる状態であった。印刷物の画像1J現目4も
印刷期間を通じ全く変化がなかった。
This printing plate was attached to an off-cent printing machine (Komori Sprint 2 Color) and printed using Toyo Ink's "Aquares ST Indigo" without using dampening water, resulting in 150 lines/print.
Printed matter with an extremely good image in which halftone dots of 5 to 95 inches wide were obtained was obtained. Even after 50,000 copies had been printed, no scumming or damage to the plate surface was observed, and the plate was in good condition for further printing. Image 1J Current 4 of the printed matter did not change at all throughout the printing period.

一力、」−記のようにして製造された画イ9:形成用積
層体に先と同じメタルハライドランプとUVメーターを
用い、1mの距離で11mvi/cm2の照度で全面露
光を60秒流した。この露光により感光層中のギノンシ
アシドの95モル係が光分解していることが赤ダIスペ
クトルから判った。以下、前記と同様VC画像露光、塩
基処理、現像をしたところ/リコーンゴム層が全面Uこ
わたってハガレ9画像は形成されなかった。
- Image 9 manufactured as described above: Using the same metal halide lamp and UV meter as before, the entire surface was exposed for 60 seconds at a distance of 1 m at an illuminance of 11 mvi/cm2. . It was found from the red I spectrum that 95 moles of guinone siaside in the photosensitive layer was photodecomposed by this exposure. Thereafter, VC image exposure, base treatment, and development were carried out in the same manner as above, and the silicone rubber layer covered the entire surface U, and no peeling 9 image was formed.

実施例2 実施例1に記載の通りに製造し、かつ露光して得られた
画像形成用積層体と現像パッドに/’ ”、iit基A
Jの現像液(アイソパーH/ブチルカルピト−ル/エチ
ルセロソルブ/モノエタノールアミン−9015157
0,2重量比)を注き、現像パッドで版面を均一にぬら
すと全面露光のみをうけた部分か褐色に着色する。そこ
で、軽く現像パッドでこすると画像状に露光された部分
のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露出した
。−カ、仝面露光のみを受けた部分はシリコーンゴム層
が強[・1・1に残存しており、実施例1と同じく、イ
・ガフィルン、に忠実な画像を出現した印刷版かイ1す
ら)tだ。
Example 2 An image forming laminate and a developing pad produced as described in Example 1 and exposed to light contained /''', iit group A.
J developer solution (ISOPAR H/butylcarpitol/ethyl cellosolve/monoethanolamine-9015157
0.2 weight ratio) and uniformly wet the plate surface with a developing pad, only the areas exposed to the entire surface will be colored brown. Then, by lightly rubbing it with a developing pad, the imagewise exposed portions of the silicone rubber layer were removed and the surface of the photosensitive layer was exposed. - The silicone rubber layer remained strong in the areas that were only exposed on the other side, and as in Example 1, the printing plate produced an image faithful to I. Gaffirun. Even) T.

実施例ろ イ、ガフイルムを通して画像露光を行なってかしノタル
ハライトランプによる全面露光を・実/Itli L 
f、=以外は、すべて実施例1に記載の通りに行なっA
二ところ、実施例1で得られた印刷版と伺ら変ゎ2)と
ころのないものか付られた。
Example 2: Image exposure was carried out through a Gafilm and the entire surface was exposed using a Kashinotarhalite lamp.
Everything except f and = was carried out as described in Example 1.
2) However, the printing plate obtained in Example 1 was completely different from the printing plate obtained in Example 1.

実施例4 厚み0240のアルミ板(住友軽金属製)にンエノール
ホルムアルデヒドレゾール樹脂(−7,6>イトレジン
pc−i、住友デュレズ製)を17μの厚みに塗布し、
180’a、3分間キュアして支持体とした。この支持
体上に下記の感光層組成物を回転ケ布、120’c、2
分間加熱硬化させ、厚み26μの感光層を設ケた。
Example 4 Enol formaldehyde resol resin (-7,6>Itresin PC-I, manufactured by Sumitomo Durez) was applied to a thickness of 17μ on an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals) with a thickness of 0240,
It was cured at 180'a for 3 minutes to form a support. The following photosensitive layer composition was applied onto this support using a rotating cloth, 120'c, 2
The photosensitive layer was cured by heating for a minute to form a photosensitive layer with a thickness of 26 μm.

(a) エステル化度48係のフェノールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂(スミライトレシンPR50235
、住友デュレズ製)のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルポン酸エステル ioo部 (j)) 4.4/−シフェニルメタンシイソシアナ−
1・3 07i15 (C) ジブチル錫ジシウレート 02部(d) シA
キー!I’ 7 2.00 D H’1(hiいてこの
上に1・記の組成のノリコーンゴム組成物をメーヤバー
コータで塗布?& 、120 ’0 、 DJ”30’
c、4分で加熱硬化して厚み26μのシリコーンゴム層
を設けた。
(a) Phenol formaldehyde novolac resin with degree of esterification of 48 (Sumilight Tresin PR50235)
Naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester (Ioo part (j)) of 4.4/-cyphenylmethane cyisocyana (manufactured by Sumitomo Durez)
1.3 07i15 (C) Dibutyltin disiurate 02 parts (d) Shea
Key! I' 7 2.00 D H'1 (hi Apply the noricorn rubber composition of composition 1. on the lever with a Meyer bar coater? & , 120 '0, DJ"30'
c. A silicone rubber layer having a thickness of 26 μm was provided by heating and curing for 4 minutes.

(a) シメチルポリシロキサン(分子量約25.。(a) Simethylpolysiloxane (molecular weight approximately 25.

oo、末端水酸基) 1’ O0部 (b) ビニルI・す(メチルエチルクトオ・\・/1
、)8部 (C) ジブチル錫ジアセテート 口1部(d)r−7
ミノプロビルトリメトキノシラン[]、 5 i’:l
: (0) フイソバー」C(エフノン化学製) 440 
部上記のようにしてイ!Iられた画像形成用(’+T層
体屠体150線/インチの網点画像を有するボシノイル
ノ・を、常法に従って真空密着し、実施例1で用いたメ
タルハライドランプを用いて1 mの距1)jlfで実
施例1で用いfi U Vメーターで11 m W /
cm’のljイ度で9秒露光を施した。続いてこの版を
アイソパーII /プロピレングリコール1−ツメチル
ニーjル/エチルセロソルブ/モノエタノールアミン−
9U/ 5 / 5 / 0ろ重4ji比)からなる塩
基入りDJ、保液C(浸し、現像パッドで軽くこすると
、未露光部の/リコーノゴム層が除去されて感光層表面
が露出し画像部を形成するが、露光部/リコーン′J)
、層。J現像液に侵されずに残シ、非画像部となり、原
画フィルムに忠実な画像の印刷版が得られた。
oo, terminal hydroxyl group) 1' O0 part (b) Vinyl I・su (methylethylcutio・\・/1
) 8 parts (C) Dibutyltin diacetate 1 part (d) r-7
Minoprobil trimethoquinosilane [], 5 i':l
: (0) Fisovar” C (manufactured by Efnon Chemical) 440
Do it like above! For image formation ('+T layer carcass), a Bosino illumination film having a halftone image of 150 lines/inch was vacuum-adhered according to a conventional method, and a distance of 1 m was set using the metal halide lamp used in Example 1. ) jlf used in Example 1. 11 mW/fi UV meter.
Exposure was carried out for 9 seconds at lj degree of cm'. This plate was then mixed with Isopar II/propylene glycol 1-methyl nitrate/ethyl cellosolve/monoethanolamine.
DJ with a base consisting of 9U/5/5/0 filter weight 4ji ratio), retaining liquid C (soaking and rubbing lightly with a developing pad removes the /licon rubber layer in the unexposed area and exposes the surface of the photosensitive layer, forming an image area) However, the exposed area/recone'J)
,layer. A printing plate with an image faithful to the original film was obtained, with no residual marks or non-image areas being affected by the J developer.

この印刷版をオフセット印刷機C小森スプリント2カラ
ー)に取シ付け、東洋インキ製パアクヮレスS T藍″
ヲ用いて、湿し水を用いないで印刷したところ150線
/インチの網点5〜95%がifG現された極めて良好
な画像を持つ印刷物が得ら′itだ。1万部刷了後も地
汚れおよび版面の損傷は全く見られず、さらに印刷を継
続できる状態であった。
This printing plate was attached to an offset printing machine (C Komori Sprint 2 Color), and was printed using Toyo Ink's PaQuares S T Indigo.
When I printed using this product without using dampening water, I was able to obtain a printed matter with an extremely good image in which 5 to 95% of halftone dots of 150 lines/inch were expressed as ifG. Even after printing 10,000 copies, no scumming or damage to the plate surface was observed, and printing could continue.

実施例5 実施例4で得られた画像形成用積層体に、拡大投影殖版
機(犬[」本スクリーン製)を用い、原画ポジフィルム
の5倍の拡大サイズで実施例1のUVメーターでろ6 
m W / cm’の照度1.15秒投影露光した。1
かかる露光の後、実施例4で実施したように現像全行な
うと、ポジ原画の5倍の画像全忠実に出現した印刷版か
得られた。
Example 5 The image forming laminate obtained in Example 4 was imaged using the UV meter of Example 1 at an enlarged size of 5 times that of the original positive film using an enlarged projection printing machine (manufactured by Inu ['' Hon Screen]). 6
Projection exposure was performed at an illumination intensity of mW/cm' for 1.15 seconds. 1
After such exposure, full development was carried out as carried out in Example 4, resulting in a printing plate which appeared with full image fidelity five times that of the positive original.

実施例6 実施例4で得ら、!tた画像形成用積層体を用いて反射
原稿によるダイレクト製版を以下のように行なった。2
本の2万w メタルハライドランプ(岩崎電気■製)か
ら20 cmの距離にあるポジ原画企“製版カメラを通
してその反射光でもって画像形成用積層体」二に画像を
結ばせ1画像形成用積層体1゜の照度が1 m W /
 cm’ (実施例1で用いたUVメーターで測定)の
条(’l下でシャツタースヒ−1・56秒の露光をした
。かかる露光の後、実施例4で実施したようU′C,現
像を行なうと、ボン原画を忠実に再現した印刷版が得ら
れた。
Example 6 Obtained in Example 4! Direct plate making using a reflective original was performed as follows using the image forming laminate. 2
A 20,000W metal halide lamp (manufactured by Iwasaki Electric) is placed at a distance of 20 cm from a positive original picture plan "image-forming laminate using the reflected light through a plate-making camera". Illuminance at 1° is 1 mW/
cm' (measured with the UV meter used in Example 1) was exposed for 1.56 seconds under Schotter heat. After such exposure, U'C and development were carried out as in Example 4. The result was a printing plate that faithfully reproduced the original Bonn drawing.

実施例7 化成処理アルミ板(住友軽金属製)にニスプール化i4
4%のフェノールホルムアルデヒ1ノボシック樹脂(子
l友ベークライト製;スミライトレンンI−’R502
ろ5)のプーフトキノンー1.2−シアンドー5−スル
ホン酸エステル(エタノール11に; I’m成分成分
9置 から定量)の6重置係ジオキザン溶液全ホエラーで回転
塗布後60°0,3分間乾燥させて12μの感光層を形
成した。この上に次の組成を持つノリコーンガム組成物
の7%アイソバー 1c W: 液に,シリコーン組成
物に対し4重置係のγーアミノプロピルトリエトキシシ
ラン を添加し,均一に攪拌後ホエラーで回転塗布した。
Example 7 Varnish spool i4 on chemical conversion treated aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals)
4% phenol-formaldehyde 1 Novosic resin (manufactured by Shiyou Bakelite; Sumitoren I-'R502
Filter 5) Pouftoquinone-1,2-cyando-5-sulfonic acid ester (in ethanol 11; quantitatively measured from I'm component 9) in 6-layer dioxane solution After spin coating with Whaler, dry at 60° for 3 minutes. A photosensitive layer having a thickness of 12 μm was formed. On top of this, 7% isobar 1c W of a Noricone gum composition having the following composition: To the solution, γ-aminopropyltriethoxysilane was added in a quadruple ratio to the silicone composition, and after uniformly stirring, it was coated by rotation using a Whaler. did.

乾燥後121:Me,Dp25°4分間加熱硬化し22
μのシリコーンゴム層を得た。
After drying 121: Me, Dp 25° heat curing for 4 minutes 22
A silicone rubber layer of μ was obtained.

(a) シメチルボリシロキザン (分子量約80,000,両末端O H基)100部 (b) エチルトリアセトギシンンン 5 ilJ(C
) ジブチル錫ジアセテート 02部」二記のようにし
て得られた画像形成用積層体にメタルハライドランプ(
七崎7に気[有]e製アイドルフィン2000)’.(
用い,11nの距n1tで実施例1のUVメーターで1
1mW/cm2の照度−ト,10秒間の全面露光(感光
層中のキノンジアジドの25モル%が光分IW L,て
カルボン酸成分を生成する光量)した。
(a) 100 parts of dimethylborisiloxane (molecular weight approximately 80,000, OH groups at both ends) (b) Ethyltriacetogycine 5 ilJ (C
) Dibutyltin diacetate 02 parts" A metal halide lamp (
Nanasaki 7 ni ki e idol fin 2000)'. (
1 with the UV meter of Example 1 at a distance n1t of 11n.
The entire surface was exposed to light for 10 seconds at an illuminance of 1 mW/cm<2> (the amount of light at which 25 mol % of the quinonediazide in the photosensitive layer was generated at a light intensity of IW L) to form a carboxylic acid component.

かかる全面蕗)゛(、全施して得られた積層体に,真2
密着した150線/インチの網点画像を持つネガフィル
ムを通してメタルハライドランプ(岩崎電気製アイドル
フィン20口0)を用い,1mの距離から60秒照射し
た。露光された版の版面をエタノール8部,アイソパー
1!′2部,ペンシルアミン06部からなる塩基入り現
像液に浸漬し現f′4′.パッドで軽くこすると,画像
露光した:’:l(、分(r.f /’J :J−ンゴ
ム層と感光層の両方が容易に除去さJして化成処理アル
ミ表面が露出し,−り全面露光のみをした部分にはシリ
コーンゴム層と感光層がつ1;国に残存しておシ.イガ
フィルムを忠実に71j現した両件が得らitた。
The laminate obtained by applying such full-surface coating)
The film was irradiated for 60 seconds from a distance of 1 m using a metal halide lamp (20 idle fins, 0, manufactured by Iwasaki Electric) through a closely-contact negative film having a dot image of 150 lines/inch. The surface of the exposed plate was treated with 8 parts of ethanol and 1 part of Isopar! f'4'. By rubbing lightly with a pad, both the rubber layer and the photosensitive layer were easily removed and the chemically treated aluminum surface was exposed. There was a silicone rubber layer and a photosensitive layer in the area where only the entire surface was exposed.

この印刷版を実施例1と同じJ:うB’(>1’ 7 
に]I・印刷機(小森スブ゛リント2カラー)に取り旧
け。
This printing plate was used in the same manner as in Example 1.
] The printing machine (Komori Subprint 2 color) has become obsolete.

東洋インキ製゛アクアレスST藍″を月」い’N + 
7.’11!し水を用いないで印刷したところ150線
/イア/チの網点5%〜95係が再現された極めて良好
4:画像を持つ印刷物が2万部印刷できた。
Toyo Ink's ``Aquares ST Indigo'' is the month'N +
7. '11! When printed without using water, halftone dots of 5% to 95 with 150 lines/ear/h were reproduced.Excellent 4: 20,000 copies of printed matter with images could be printed.

実施例8 実施例7で11tられた画像形成用積層体(いかなる露
光もされていない)に、真空届着した150線/インチ
の網点画像を持つボンフィルムを通してメタルハライド
ランプ(岩崎電機■製アイトルフィン2000)を用い
、1mの距離から実施例1で用いfl U Vメーター
で11 m W / cm’の照度で10秒照射した。
Example 8 The image-forming laminate prepared in Example 7 (without any exposure) was exposed to a metal halide lamp (Iwasaki Electric Co., Ltd.) through a vacuum-delivered film having a halftone image of 150 lines/inch. Thorfin 2000) was used for 10 seconds at an illumination intensity of 11 mW/cm' using the fl UV meter used in Example 1 from a distance of 1 m.

版面をアイソパー E /エタノール/ペンシルアミン
ー5015015 (重量比)からなる塩基入り現像液
に浸漬してから、ソフパツドC大F」本スクリーン製)
で軽くこすると未露光部のシリコーンゴム層が容易に除
去され画線部どなるが。
After immersing the plate in a base-containing developer consisting of Isopar E/Ethanol/Pencilamine-5015015 (weight ratio), the printing plate was immersed in a base-containing developer consisting of Isopar E/Ethanol/Pencilamine-5015015 (weight ratio), and then developed with Softpad C F (manufactured by this screen).
If you rub it lightly, the silicone rubber layer in the unexposed areas will be easily removed, and the image area will be damaged.

露光部のシリコーンゴム層は強固に接着して残存し非画
線部となる。このJ−うにして得られた印刷版はボンフ
ィルムを忠実に出現した両像をイJしておシ平版印刷で
?!tit L水を用いずに良好な印刷物乞Jiえる。
The silicone rubber layer in the exposed area is strongly adhered and remains, forming a non-image area. The printing plate obtained by this method is a lithographic printing method in which both images faithfully appear on the Bonn film. ! You can get good prints without using water.

実施例? 住友軽金檎製、化成処111jアルミ板(厚さ0.3 
mm IVこ一ト記の感光層組成物を回転塗布し、12
0°C12分加熱処理して厚さ2,6μの感光層を設け
た。
Example? Made by Sumitomo Light Metal, chemically treated 111j aluminum plate (thickness 0.3
mm IV The photosensitive layer composition described above was spin-coated, and 12
A photosensitive layer having a thickness of 2.6 μm was formed by heat treatment at 0° C. for 12 minutes.

(a) エステル化度44%のフェノールホルムアルデ
ヒドノホランク(刺脂(スミライトレシンPR501S
5.住友デュレズ製)のナフトキノン−112−ジアジ
ド−5−スルホン酸エステル ’l OO、”l: (b) 4.4’−ジノエニルメタンシイノンーJ゛ナ
ート2(]部 (C) ジブチル錫ジラウレート 口2 :’1)(d
) メチルーヒI」ソルブアセデート 2 CI OO
jiltこの上にγ−アミノプロビルトリエトキンシジ
ン(UCC製:Δ1100)の0.577jH41’、
i循−J°イソバーE(エッソ化学製)溶液をポエラー
で回転?t−イli後、110’e、30秒間乾燥した
(a) Phenol formaldehyde nophoranc with a degree of esterification of 44% (Sumirai Toresin PR501S
5. (manufactured by Sumitomo Durez) naphthoquinone-112-diazide-5-sulfonic acid ester 'lOO,'l: (b) 4,4'-dinoenylmethaneshinone-J'nato 2 (] Part (C) Dibutyltin dilaurate 2 :'1)(d
) Methyruhi I” Solvacedate 2 CI OO
On top of the jilt, add 0.577jH41' of γ-aminopropyltrietoquincidine (UCC: Δ1100),
i Circulation - Rotating J° Isobar E (Esso Chemical) solution with Poeler? After t-li, it was dried at 110'e for 30 seconds.

続いてこの」二にf” it1の組成物を回転と7゛布
後。
Subsequently, this "second f" it1 composition was rotated and after 7゛ cloth.

120(シ、 ]) ]:” 30.2分で力II熱何
り化してjワみ22μのシリコーンゴム層を設けた。
120(shi, ])]:" After 30.2 minutes of heat treatment, a silicone rubber layer with a warp of 22μ was provided.

(1) ジノチルポリシロキリンC分子量約so、oo
o。
(1) Dinotylpolysiloquiline C molecular weight approximately so, oo
o.

両末端水酸基) 1oO部 (b) エチルトリアセトキン7ラン (C) ジブチル錫ジアセテ−1・ 02部(d) ア
イソパー1!: 1 6 b O 、’71i上記のよ
うにしてイ5tられた画像形成用積層体ば超高圧水銀灯
(オーク製作所製ンエノトライトろ300, 2 kv
i ) f用い,11nの距廟1で実施例1のUVノー
ターで’ 1 m W / cm2の照度で12秒全面
露光した。この露光により感光層中のキノンジアジドの
68モル%が光分解したことを赤外スペクトルで確認し
た。
Both terminal hydroxyl groups) 1oO parts (b) Ethyltriacetquine 7ran (C) Dibutyltin diacetate-1.02 parts (d) Isopar 1! : 16 b O, '71i The image forming laminate prepared as described above was heated using an ultra-high pressure mercury lamp (Oak Seisakusho Nenotolite Filter 300, 2 kv).
i) The entire surface was exposed for 12 seconds at an illuminance of 1 mW/cm2 using the UV noter of Example 1 at a distance of 11n using f. It was confirmed by an infrared spectrum that 68 mol% of the quinonediazide in the photosensitive layer was photodecomposed by this exposure.

このようにして特定量のカルボン酸成分を感光層に生成
させた画像形成用積層体に真空密着した150線/イン
チの網点画像を持つオ、ガフイルムを通して上記水銀灯
を用い,’In+の距離から60秒画像露光した。
In this way, a specific amount of carboxylic acid component was generated in the photosensitive layer, and the image forming laminate was vacuum-adhered to the 150-line/inch dot image using the above mercury lamp through an O-Ga film and from a distance of 'In+. Image exposure was carried out for 60 seconds.

次いで9現像パツドに塩基入りの現像液(アイソパー+
−+ /プロビレ/グリコールモノメチルニーデル/エ
チルセロソルフ/モノエタノールアミン= 8 0/1
 0/1 0/1重量比)をひたし、版面を均一にごく
軽くぬらして全面露光のみをうけた部分が褐色に変化し
たら,現像パッドでこすると,画像状に露光を受け14
部分のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露出
し画像部を形成するが。
Next, add a base-containing developer (Isopar +
-+ / Probile / Glycol Monomethyl Needle / Ethyl Cellosol / Monoethanolamine = 8 0/1
0/1 0/1 weight ratio), wet the plate evenly and very lightly, and when the area exposed only to the entire surface turns brown, rub it with a developing pad and it will be exposed imagewise.
When the silicone rubber layer is removed from a portion of the photosensitive layer, the surface of the photosensitive layer is exposed to form an image area.

−万全面露光のみを受けた部分のシリコーンゴム層は強
固に残存し,非画像部を形成する。かくしてネガフィル
ムに忠実な画像を再現した印刷版が得られ,湿し水を用
いずに平版印刷すると良好な印刷物が25万枚印刷でき
た。
-The silicone rubber layer in the areas exposed only to full-surface exposure remains strongly and forms non-image areas. In this way, a printing plate was obtained that reproduced an image faithful to the negative film, and 250,000 good-quality prints were printed when lithographic printing was performed without using dampening water.

実施例10 実施例9で得らitり画像形成用積層体(全面露光,画
像露光とも未実施)υこrJ”4と密着し7日5(コ線
/インチの網点画保全4)つボンフィルム・全通してメ
タルハライドランプ(沼崎電イ幾e宋製ア・イトルフィ
ン2000)を用い,1mの短評(から実施例1で用い
7’−(uvメーターで1 1 m W / cm’の
照度で15秒露光した。
Example 10 The image forming laminate obtained in Example 9 (both full surface exposure and image exposure not performed) was in close contact with υkorJ" 4 and 7 days 5 (halftone dot image preservation of ko line/inch 4). A metal halide lamp (Numazaki Den Ikie Sung Dynasty Aitorfin 2000) was used throughout the film, and the illumination intensity was 7'-(11 m W/cm' using a UV meter). Exposure was made for 15 seconds.

次いで現像パン)に塩基入り現像液(アイソパ−H /
 フロピレンクリコールモノノフールJ− − jル/
エチルセロソルフ/モノエタノール−)′ミノ−・90
151510、2重量比)をしみこ1せ. IIy面蒼
−均一にぬらして露光部が褐色に変化したら,その41
で現像バンドでこすると,未露光部の7リコ一ンゴム層
が除去され感光層が露出し,露光部の/リコーンゴム層
はしっかりと感光層共眞残イfしており,ポジフィルム
を忠実にII)現した画像かイIIらオL7’iヒ 。
Next, add a base-containing developer (Isopa-H/
Flopylene glycol mononofur J--j/
Ethyl Cellosol/Monoethanol-)'Mino-90
151510, 2 weight ratio). IIy Surface blue - When the exposed area turns brown after wetting it evenly, the 41
When rubbed with a developing band, the 7 silicone rubber layers in the unexposed areas are removed and the photosensitive layer is exposed. II) The image that appeared.

実施例11 厚み0.24 mmのアルミ板(住友軽金属製)にフエ
/−ルホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレジ
ンPC−11住友デュレズ製)を2μの厚みに塗布し、
200°C,3分間キュアしたものを支持体として、こ
の上にエステル化度44係のフェノールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂(住友ベークライト製;スミライトレ
ジンPR50265)のナフトギノンー1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸エステル(エタノール可溶1トL成
分97重鼠%。
Example 11 An aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals) with a thickness of 0.24 mm was coated with fluoroformaldehyde resol resin (Sumilight Resin PC-11 manufactured by Sumitomo Durez) to a thickness of 2 μm,
The support was cured at 200°C for 3 minutes, and naphthogynon-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of phenol formaldehyde novolak resin (manufactured by Sumitomo Bakelite; Sumilite Resin PR50265) with a degree of esterification of 44 was placed on the support. (Ethanol soluble 1 liter ingredient 97%.

エステル化度は工Rスペクトルから定量)の7重置係ジ
オキサン溶液をホエラーで回転塗布後60°C16分間
乾燥させて27/lの感光層を形成した。
A 7-layer dioxane solution (the degree of esterification was determined from the E-R spectrum) was spin-coated using a Whaler and dried at 60°C for 16 minutes to form a 27/l photosensitive layer.

この」二にγ−アミノプロピル (チツン■製:A0800)の05重重量子イツノく一
E(エクソン化学製)m液をホエラーで回転塗布後,1
20’c,30秒間乾燥した。この」二に次(7) &
11 成k 持つシリコーン組成物の7%アイソパーE
箔液をホエラーで回転塗布後,120℃,Dr30 4
分加熱硬化した。この場合得ら九たシリコーンゴム層の
厚みは2. 2 /Iであった。
After spin-coating γ-aminopropyl (manufactured by Chitsun ■: A0800) 05 heavy weight Itsunokuichi E (manufactured by Exxon Chemical) m solution with a Whaler, 1
Dry at 20'C for 30 seconds. This” second (7) &
11 composition of silicone composition with 7% Isopar E
After spin coating the foil liquid with Whaler, 120℃, Dr30 4
Cured by heating for 1 minute. The thickness of the silicone rubber layer obtained in this case is 2. It was 2/I.

(a)シメチルボリシロギザン (分子量約80,000末端O H基) 10口部(b
) ビニル、トリス(エチルメヂルタトオギンム)シラ
ン 6部 (C) ジブチル錫シアセテ−1・ 02部上記のよう
にして得られた画像形成用イ,1(屠体V(ケミカル灯
(トーコー,マスタープリンターA3)を用い,5cm
の距離で実施例1のUVメーターで2、 5 rn W
 / cm’の照度で10秒全面面光した。この露光量
は予め検量線よりめておいた感光層のキノンジアジドの
15モル係が光分解する一吊に相当するものである。
(a) 10 parts of dimethylbolysilogyzan (molecular weight approximately 80,000, terminal O H group) (b
) Vinyl, tris(ethylmethyltatoginum) silane 6 parts (C) Dibutyltin cyacetate-1.02 parts 5cm using master printer A3)
With the UV meter of Example 1 at a distance of 2,5 rn W
The entire surface was illuminated for 10 seconds at an illuminance of /cm'. This exposure amount corresponds to one photodecomposition of 15 moles of quinonediazide in the photosensitive layer, which was determined in advance from a calibration curve.

このようにして特定量のキノンジアシド全カルボン酸に
変化させた画像形成用積層体に真ごと乱′着した150
線/インチの網点画像を持つ不カフイルムを通して超高
圧水銀力1(オーク製作所製シェツトライl−,2kV
/)i用い, 1 +rIの距ttillから70秒画
像露光した。
The 150 particles randomly deposited on the image forming laminate that had been converted into a specific amount of quinone diacid total carboxylic acid in this way
Ultra-high pressure mercury power 1 (Oak Manufacturing Co., Ltd. Shetztry l-, 2kV
/)i, image exposure was performed for 70 seconds from a distance ttill of 1 +rI.

次いで現像パッドと露光部を塩基入り現像液(アイソパ
ーE/エクノール/水/2−アミノ−2−メチル−1,
5−プロパンジオール、、、35/65/ろ105重量
比)につけて、全面露光のみがさitでいる部分が褐色
に変化してから,版面を現像液をふく捷せた現像パッド
で軽くこすると,画像露光の部分はシリコーンゴム層と
感光層が容易に除去されて支持体表面が露出し,−万全
面露光のみの部分はシリコーンゴム層と感光層はしつか
り残存しており,ネガフィルムを忠実に再現した画像を
もつ印刷版が得られた。
Next, the development pad and the exposed area were treated with a base-containing developer (Isopar E/equonol/water/2-amino-2-methyl-1,
5-propanediol (35/65/105 weight ratio), and after the area where only the entire surface is exposed turns brown, lightly rub the plate surface with a developing pad dampened with developer. Then, in the image-exposed area, the silicone rubber layer and photosensitive layer are easily removed and the surface of the support is exposed, while in the area where only the entire surface is exposed, the silicone rubber layer and photosensitive layer remain firm, and the negative film is removed. A printing plate with an image faithfully reproduced was obtained.

実施例12 厚み0. 3 mmのアルミ板」二に,厚み0ろ胴,コ
゛ム硬度60(ンヨアA)のクロロプレンゴム層を設け
た複合基板上に,エステル化度44%のフェノールホル
ムアルデヒドノボラック樹脂( 住友ベークライト製;
スミライトレジンP R 5 0 2 3 5 )のす
/ l−キノン−1,2ージアジドー5ースルホン酸エ
ステルの10重量係ジオキザン溶液を塗布し。
Example 12 Thickness 0. A phenol formaldehyde novolac resin with a degree of esterification of 44% (manufactured by Sumitomo Bakelite;
A dioxane solution of 10% by weight of SUMILITE RESIN PR50235)/l-quinone-1,2-diazido-5-sulfonic acid ester was applied.

6 0 ’c熱風中で乾燥し,厚さ3μの感光層を設け
た。この上に次の組成を持つシリコーンゴム組成物の1
0重重置l〕ーヘキサン溶液を塗布し,120’0,D
P3D 熱風中で4分間加熱硬化して,厚さ2、 5 
/4のシリコーンゴム層を設ケタL、(a) ンメチノ
E・ポリ10ギザン (分子量30,000末端水酸基) 100部0)) 
メヂルトリアセトギンシラン 6部(c)酢酸ジブチル
スズ 02部 (d.) γーアミノプロビルトリメトギゾ/ランo.
 5 jli (o) シフ゛トキシ,ビス(エチルア十1・−j°セ
デート)チタン 6部 」二記のようにして得られた画像形成用4積層体4〜真
空密着したイ、ガフイルムを通して超1’;:+ It
−水釦月(オーク製作所製ジェノトライI・2kW)を
用い。
It was dried in hot air at 60'C to form a photosensitive layer with a thickness of 3μ. On top of this, 1 of a silicone rubber composition having the following composition:
0 layers stacked l] - Apply hexane solution, 120'0,D
P3D Heat cured in hot air for 4 minutes, thickness 2, 5
/4 silicone rubber layer (a) Nmethino E Poly 10 Gizan (molecular weight 30,000 terminal hydroxyl group) 100 parts 0))
Medyltriacetoginsilane 6 parts (c) Dibutyltin acetate 02 parts (d.) γ-aminoprobyltrimethogyzo/ran o.
5 jli (o) cyphtoxy, bis(ethyl acetate) titanium 6 parts 4 laminate for image formation obtained as described in 2. :+ It
-Using Mizubutsuki (Genotri I, 2kW manufactured by Oak Seisakusho).

1 mの距肉[「から60秒画像露光した。Image exposure was carried out for 60 seconds from 1 m of distance.

露光スみの版は,エタノール65部/アイツバーg35
音IS/水ろ部/モノエタノールーアミン02部からな
る現像液で版面をぬらし,現像パットで軽くこすると,
画像露光部分は゛容易に除去されて基板のゴム層が露出
し.一方,未露光部分には/リコーンゴム層が強固に残
存しており、ネガフィルムを忠実に再現した印刷版を得
た。
The exposed plate was made using 65 parts of ethanol/Izbar G35.
Sound IS/Water part/Wet the plate surface with a developer consisting of 2 parts of monoethanol-amine 0, and rub it lightly with a developer pad.
The image-exposed area is easily removed and the rubber layer of the substrate is exposed. On the other hand, the silicone rubber layer remained firmly in the unexposed areas, and a printing plate that faithfully reproduced the negative film was obtained.

実施例1ろ 厚み0.2mmのポリエステルフィルム(東し■製ルミ
ラー)の上に、厚み0.25 mm 、ゴム硬度(ショ
アA)70のニトリルゴム層を設けた複合基板」二に、
エステル化度44%のフェノールホルムアルデヒドノボ
ラック樹脂(住友ベークライト製;スミライトレシンP
R50235)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5
−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成分97重量
係、エステル化度は工l(スペクトルから定量)の7重
量係シオキザン溶液をホエラーで回転塗布後60 ’c
 、 6分間乾燥させて27μの感光層を形成した。こ
の」二にγ−アミノプロピルトリメI・ギシシラン(チ
ッソ■製; A 0800)の05重量係アイソパーE
(エッソ化学製)溶液をホエラーで回転塗布後、120
°C130秒間乾燥した。この上に次の組成を持つシリ
コーン組成物の7係アイソパーE溶液をホエラーで回転
塗布後、120°O,D、P、 3[]04分加熱硬化
した。この場合得られたシリコーンゴム層の厚みは2.
27+であった。
Example 1 A composite substrate in which a nitrile rubber layer with a thickness of 0.25 mm and a rubber hardness (Shore A) of 70 was provided on a polyester film (Lumirror, manufactured by Toshi ■) with a thickness of 0.2 mm.
Phenol formaldehyde novolac resin with esterification degree of 44% (manufactured by Sumitomo Bakelite; Sumitoreshin P
R50235) naphthoquinone-1,2-diazide-5
- Sulfonic acid ester (ethanol-soluble component 97% by weight, degree of esterification 7% by weight)
, and dried for 6 minutes to form a 27 μm photosensitive layer. 05 weight ratio isopar E of γ-aminopropyl trime I/gishisilane (manufactured by Chisso ■; A 0800)
(Manufactured by Esso Chemical) After spin-coating the solution with Whaler, 120
Dry for 130 seconds at °C. On top of this, a 7-Isopar E solution of a silicone composition having the following composition was spin-coated using a Whaler, and then cured by heating at 120 DEG O, D, P, 3[]04 minutes. The thickness of the silicone rubber layer obtained in this case was 2.
It was 27+.

(a) ジメチルポリシロキサン (分子量約80,000未満011基) 100部(b
) エチルドリア士トキシシラン 5部(C) ジブチ
ル錫ジアセテート 〔]2部このようにして得られた画
像形成1目積層体にメタルハライドランプ(岩崎電気■
製アイドルフィン2000)を用い、1mの距離で、実
施例1で用いたUVメーターで11 m W / cm
2の照度で9秒間全面露光した。次いでA空密着した1
00線/インチの網点両像を持つネガフィルムを通して
」−記ノタルハライドランプを用い、11nの距離から
9〔]秒画像露光した。
(a) 100 parts of dimethylpolysiloxane (molecular weight less than about 80,000 011 groups) (b
) 5 parts of ethyl diacetate (C) 2 parts of dibutyltin diacetate A metal halide lamp (Iwasaki Electric Co., Ltd.
11 m W/cm using the UV meter used in Example 1 at a distance of 1 m.
The entire surface was exposed for 9 seconds at an illuminance of 2. Next, A air-tight 1
Image exposure was carried out for 9 [] seconds from a distance of 11 nm using a notar halide lamp through a negative film having halftone images of 00 lines/inch.

全面露光と画像露光した版は実施例12と同様に現像す
ることにより良好な画像をイ」する印刷版が得られた。
The entire surface exposed and image-exposed plate was developed in the same manner as in Example 12 to obtain a printing plate with a good image.

実施例14 厚み0.3 +nmのアルミ板上に、厚みOろnom、
ゴム硬160(ショアA)のクロロブレンゴム層を設け
た複合基板上に下記の感光性組成物を塗布し。
Example 14 On an aluminum plate with a thickness of 0.3 + nm,
The following photosensitive composition was applied onto a composite substrate provided with a chloroprene rubber layer having a rubber hardness of 160 (Shore A).

120’c、2分間加熱処理して厚さ2μの感光層を設
けた。
A photosensitive layer having a thickness of 2 μm was formed by heat treatment at 120° C. for 2 minutes.

ナフトキノ/−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステ
ル(工R法によるエステル化度47係) 100重量部 ポリ(フェニレンメチレン)ポリイソンア坏−1・(日
本ポリウレタン製MR200)30重量部ジブチノー錫
ジラウレート 02重fit部ジオキザン 740重i
lt部 &Rいてこの」二に下記の組成のシリコーンゴム組成物
を回転塗布後、120’c、露点30,2分間加熱硬化
させて2μのシリコーンゴム層を設けて1画像形成用積
層体を作成した。
Partial ester of naphthoquino/-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin (degree of esterification 47 by Engineering R method) 100 parts by weight Poly(phenylene methylene) Polyison-A-1 (MR200 manufactured by Nippon Polyurethane) ) 30 parts by weight dibutynotin dilaurate 02 parts by weight dioxane 740 parts by weight i
After spin-coating a silicone rubber composition with the following composition on the lt part & R lever, heat curing at 120'C, dew point 30, for 2 minutes to provide a 2μ silicone rubber layer to create a laminate for image formation. did.

ジメチルポリシロキサン(分子量約25,000゜末端
水酸基) 100重量部 ビニルトリス(メチルエチルヶ!・キンム)シラ7 8
重量部 ジブチル錫ジアセテート 02重量部 γ−〔N−アミノエチルアミンプロピル〕トリメトキシ
シラン 1jlhi、部 アイソパーE 18−00屯;1′L部かかる画像形成
用積層体にメタルハライドランプ(岩崎電気(作製アイ
ドルフィン2000)fi:用い、11nの距離で[J
Vメーター(6宋オ一ク製作所ライトメジャアタイプU
V−402A)で11 m W/cm2の照度で全面露
光を16秒流した。
Dimethylpolysiloxane (molecular weight approx. 25,000° terminal hydroxyl group) 100 parts by weight Vinyltris (methyl ethyl!・Kimu) Sila 7 8
parts by weight dibutyltin diacetate 02 parts by weight γ-[N-aminoethylaminepropyl]trimethoxysilane 1jlhi, parts Isopar E 18-00 tons; 1'L parts A metal halide lamp (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) Fin 2000) fi: used, [J
V meter (6 Song Ok Ik Seisakusho Light Measure A Type U
V-402A) with an illumination intensity of 11 mW/cm2 for 16 seconds.

引き続き常法通シ、真空密着した100線/インチの網
点両像を持つネガフィルムを通してJl !iL’メタ
ルハライドランプを用い、1 r+1の距n[1がら7
5秒露光した。次いで、ノフバッド(3Mjl製現像パ
ッド)を塩基処理液(アイソパーH/ブチルカルピトー
ル/エチルセロンルブ/モノエタノールアミン−901
51510,1重量比)にひたし1版面を完全にぬらす
。1分間程度で全面露光のみをした部分が黒褐色に着色
する。その後1版面の塩基処理液を除去し、現像パッド
に現像液(アイツバ−11/ フチルカルヒトール/エ
チルカルピト−ル= 20/40/40重量比)を充分
しみこ捷ぜ、現像パッドで版面をこすると画像状に露光
された部分のノリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出する。一方、全面露光のみの部分はシリコーン層
が感光層に強固に接着して残っている。
Continuing with the conventional method, pass the Jl! iL' Using a metal halide lamp, the distance n[1 to 7
Exposure was made for 5 seconds. Next, Nofbad (developing pad made by 3Mjl) was treated with a base treatment solution (Isopar H/Butyl Calpitol/Ethylseron Lube/Monoethanolamine-901).
51510,1 weight ratio) completely wet the surface of the plate. In about 1 minute, the area where only the entire surface was exposed becomes blackish brown. After that, remove the base treatment solution from one plate surface, thoroughly soak the developing solution (Aituba 11/phthyl calhitol/ethyl calpitol = 20/40/40 weight ratio) onto the developing pad, and then apply the developing pad to the plate surface. By rubbing, the imagewise exposed portions of the noricone rubber layer are removed and the surface of the photosensitive layer is exposed. On the other hand, in the area where only the entire surface was exposed, the silicone layer remains firmly adhered to the photosensitive layer.

かくして画像露光部の露出した感光層が画線部。The exposed photosensitive layer in the image exposure area is thus the image area.

全面露光のみの部分の残ったシリコーンゴム層が非画線
部となる。イ・ガフイルムに忠実な画像を再現した印刷
版がイ4)られた。
The remaining silicone rubber layer in the area where only the entire surface was exposed becomes the non-image area. A printed version that faithfully reproduced the image of Lee Gafeilum was published.

実施例15 実施例1において、メタルハライドランプによる全面露
光を感光性組成物全塗布、熱処理した後。
Example 15 In Example 1, after the entire surface was exposed to light using a metal halide lamp, the photosensitive composition was applied and heat treated.

すなわち、この」−にシリコーンゴム層を塗設する前に
実施して、しかる後にシリコーンゴム層ヲ塗設して1;
Iられだ画像形成用積層体に実施例1と同様にイ、ツノ
フィルムを用いて画像露光して、塩基処理と現r象を施
しても何lり変わるところのない良好な画像の「1部刷
版が侍らh念。
That is, before applying the silicone rubber layer to this "-", after applying the silicone rubber layer, 1;
The laminate for image formation was subjected to image exposure using a horn film in the same manner as in Example 1, and a good image with no change was obtained even after being subjected to base treatment and phenomenon. The printed version is a samurai.

実Tm例16 実施例1で得らhfc画像形成用積層体に版面保護、真
空密着性向」二のためのカバーフィルムとしてポリプロ
ピレンフィルム(厚さ8μ)をラミネーターでラミ坏−
1・する。然る後、この」−から実施例1に記載の通り
に全面露光1画像露光あるいは逆に画像露光、全面露光
の順にしてから、カッ・−フィルムをはぎとって実施例
117”、=U2の記載通りに塩基処理と現像をしても
、焼きは′けの7:I:い。
Actual Tm Example 16 A polypropylene film (thickness 8μ) was laminated with a laminator to the HFC image forming laminate obtained in Example 1 as a cover film for plate protection and vacuum adhesion.
1. Do it. After that, from this film, the entire surface exposure and one image exposure were performed as described in Example 1, or conversely, the image exposure and the entire surface exposure were performed in the order, and then the film was peeled off, and Example 117",=U2 Even if I did the base treatment and development as described in 7:I: No printing.

良好な画像の印刷版が得られた。A printing plate with a good image was obtained.

実施例17 (A) 化成処理アルミ板(f、、lユ友i1i’it
金属製)にエステル化度44条のフェノールポルノ\ア
ルブヒラノボラソク樹脂(スミライトレシンP T< 
502 ’S 5.。
Example 17 (A) Chemical conversion treated aluminum plate (f,,l Yuyu i1i'it
Made of metal) with a degree of esterification of 44 levels of phenol porn\albuhiranoborasoc resin (Sumilight resin P T <
502'S 5. .

住友テュレズ製)のナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸エステル7部+ 塩素化””)−/ロピ
レン(゛スーパークロンろ06 ″、山陽国策パルプ製
)3gB、ジオキザン133部からなる。+11成物を
バーコーター(424)を用いで4イli 6.00で
乾煙し、厚み2.81tの感光層を形成しA−33この
」二に7・−アミノブロビルトリエトギ/シンノ(A1
1oo、ucc製)の02重M係アイツバーF(エッソ
化学製)R7液をホエラーを用い回転塗布後。
Naphthoquinone-1,2-diazide (manufactured by Sumitomo Turez)
Consisting of 7 parts of 5-sulfonic acid ester + chlorinated ``'')-/ropylene (Super Chron Ro 06'', manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp), 3 gB, and 133 parts of dioxane. A photosensitive layer with a thickness of 2.81 t was formed by dry-smoking at a temperature of 6.00 mm.
After spin-coating the 02-layer M Aituba F (manufactured by Esso Chemical) R7 liquid using a Whaler.

110’Gで1分間乾燥した。この上に次の組成を持つ
シリコーン組成物の7重i %アイソパーE溶液をホエ
ラーで回転塗布し、100゛0.2分間加熱硬化した。
It was dried at 110'G for 1 minute. A 7% by weight Isopar E solution of a silicone composition having the following composition was spin-coated onto this using a Whaler, and cured by heating at 100° for 0.2 minutes.

この場合得られたシリコーンゴム層の厚みは22μであ
った。
The thickness of the silicone rubber layer obtained in this case was 22μ.

(a) ジメチルボリア0キザン 100部(分子量杓
80,00ロ、末娼OH基)(b) エチルトリアセト
キシシラン 5部(c) −)ブチル錫シアセテ−1・
 02部上記のようにして得られた画像形成用積層体に
7クルハライドランプC岩崎電気便3製アイドルフィン
2000)f、用い、1mの距餅1で実施例1で用いた
UVメーターで11 m W / cm’の照度で5秒
間全面露光した。次いで、この全面露光した画像形成用
積層体にJiバと密着し/こioo、l/インチの網点
両像を持つイ、ガフイルムを通してメタルハライドラン
プを用いi mの距メ11から60秒照射した。
(a) Dimethylboria 0xane 100 parts (molecular weight 80.00 mm, terminal OH group) (b) Ethyltriacetoxysilane 5 parts (c) -) Butyltin cyacetate-1.
Part 02 The image forming laminate obtained in the above manner was treated with a 7-kil halide lamp C Iwasaki Denkibin 3 Idol Fin 2000) f, and with a 1 m distance 1 and the UV meter used in Example 1. The entire surface was exposed for 5 seconds at an illumination intensity of m W/cm'. Next, this entire surface of the exposed image forming laminate was irradiated for 60 seconds from a distance of 11 m using a metal halide lamp through a film having halftone dot images of 1/inch and 1/inch. .

版面をエタノール/アイツバ E/ベンジルアミン(5
/ 5 / 0.5 )混合液に浸漬して全面露光のみ
の部分が茶色に変化してから現像パッドで軽くこすると
画像露光部のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面
が露出した。
The plate surface was coated with ethanol/Aitsuba E/benzylamine (5
/5/0.5) After immersing it in the mixed solution, the area exposed entirely to light turned brown and then being rubbed lightly with a developing pad, the silicone rubber layer in the image-exposed area was removed and the surface of the photosensitive layer was exposed.

一方、全面露光のみの部分にはシリコーンゴム層が強固
に残存しておI)、4ガンイルムを忠実に再現した画像
が得られた。
On the other hand, the silicone rubber layer remained firmly in the area where only the entire surface was exposed, and an image that faithfully reproduced the 4 gun ilm was obtained.

実施例18 厚み0.24 mmのアルミ板(ト1:友軽金属製)に
フェノールホルムアルデヒドレゾールtit 脂(スミ
ライトレジンpc−1.住友デュレズ製) ’E 2 
/−’の厚みに塗イ+Jシ、 190 ’0.3分間キ
ュアしたものを支持体として、この」二に、1’i尼の
感光ゼL組成物を塗布し、120’c、2分間加熱処理
して厚さ271の感光層を設けた。
Example 18 Phenol formaldehyde resol tit resin (Sumilight Resin PC-1, manufactured by Sumitomo Durez) 'E 2 was applied to an aluminum plate with a thickness of 0.24 mm (T1: manufactured by Tomo Keiki Metals).
Coat to a thickness of /-' and cure for 0.3 minutes at 190' as a support. A photosensitive layer having a thickness of 271 cm was formed by heat treatment.

リーフト・〜′ノンー1,2−ジアジド−5−スルホン
酸とフェノールホルムアルデヒドノボラソク樹脂の1j
li分エステルC工R法によるエステル化度47係) 
100 、’i’lB 811部4.4′−ンフェニル
メタンジイソシア坏−r−30亜11′L部 ジブチル錫ンラウレート 02重量部 p−トルエンスルホン酸 08重量部 ジオキザ7 740重量部 HしいてとD上に下記の組成のシリコーンゴム組成物を
回転塗布後、12D’c、露点間 5分間加熱硬化させ
て2μのシリコーンゴム層を設けて1画像形成用積層体
を作成した。
Leaft ~'Non-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novorasoc resin 1j
Degree of esterification by li minute ester C/R method: 47)
100, 'i'lB 811 parts 4.4'-phenylmethane diisocyan-r-30 11' L parts dibutyltinlaurate 02 parts p-toluenesulfonic acid 08 parts dioxa 7 740 parts H A silicone rubber composition having the composition shown below was spin-coated on the substrates and D, and then heated and cured for 5 minutes at a dew point of 12D'c to form a silicone rubber layer of 2 .mu.m to form a laminate for forming one image.

ジノチルポリシロキーリーン(分子量約25,0[]t
ll。
Dinotylpolysilokylene (molecular weight approximately 25.0[]t
ll.

末広1シ水酸基) 100重量部 ビニルトリスCノチルエチルケトキンノ、〕シラ7 8
 重置ン゛1W ジブチル錫シアセテ−1・ 01亜鼠部γ−アミノプロ
ピルトリットキシシラン05重鼠部 アイソパーB: (エクソン化学製)1800 重量部
かかる画像形成用積層体にメタル/・ライドランプ(宥
崎″、((気屯)製アイドルフィン2000)を用い、
11nの距離でUVメーター(((宋オーク製作所うイ
トメジャアタイプUv−402A)で11mW/cm’
の照度で全面露光を10秒流した。
Suehiro 1 hydroxyl group) 100 parts by weight vinyl tris C notyl ethyl ketoquinone,] Shira 7 8
1W dibutyltin thiacetate 1.01 γ-aminopropyltritoxysilane 05 heavy Isopar B: (manufactured by Exxon Chemical) 1800 parts by weight Yusaki", using (idle fin 2000 manufactured by (Kitun)),
11 mW/cm' with a UV meter ((Song Oak Seisakusho Uitomejaa Type Uv-402A) at a distance of 11 nm.
The entire surface was exposed for 10 seconds at an illuminance of .

しかる後にカバーフィルムとして、厚さ16μのプロピ
レンフィルム(東しく作製〕をラミイ、−ノーで版面上
((ラミ坏−トする。
Thereafter, as a cover film, a 16 μm thick propylene film (manufactured by Toshiki) was laminated onto the plate surface.

引き続きカバーフィルムをかけたーよ−ま鹿法1111
す。
I continued to apply the cover film - Makaho 1111
vinegar.

真空密着し1(150線/インチの網点画像を]、1つ
イ・ガフイルムを通してメタルハライドう/ヅ゛を用い
、1mの距離から60秒画像露光した31次いでカバー
フィルムをはぎとpソフパツト(3)℃・1製現豫パツ
ド)全実施例1の塩基処理液にO・だし2版面庖′完全
にぬらず。画像状に版面が褐色に着色したら、塩基処理
液を版面から拭きとって、現像パットで現像液(アイソ
パーH/ブチルカルピト−ル/エチル力ルビ1−−ル/
2−エチルへキーリン酸/クリスタルバイオレツ1.2
0/40/40/ 2102重鼠重量を用い版面を軽く
こすると画像状に露光された部分のシリコーンゴム層が
除去され。
Apply vacuum contact 1 (150 lines/inch dot image) and expose the image for 60 seconds from a distance of 1 m using metal halide film through 1 film. 31 Then peel off the cover film and apply soft patch (3) ℃・1 made in the base treatment solution of Example 1. When the plate surface is colored brown in image form, wipe off the base treatment solution from the plate surface and add developer solution (Isopar H/Butyl Calpitol/Ethyl Calpitol/Ethyl Calpitol/
2-Ethyl key phosphoric acid/crystal violet 1.2
0/40/40/2102 When the plate surface was lightly rubbed using a heavy weight, the silicone rubber layer in the imagewise exposed areas was removed.

紫色に染色された感光層表面が露出した。−力。The surface of the photosensitive layer dyed purple was exposed. -Power.

全面露光のみをされた部分のシリコーンコl、層V」染
色されないで強固に接着して残存した。しかる後に常法
通り版面を水洗、乾燥して得られた印刷版はイガフィル
ムを忠実に再現し、かつ非画線部(未染色化)と画像部
(染色化)の区別がはつきりしており、良好なものであ
った。なお画線部の染色化は現像と同時にでなくとも、
即ち実施例1で用いた現像液で現像して、しかる後、染
色液(酢酸カルピト−ル/エチレングリコール/クリス
タルバイオレツ)−30/70/3 重量比)を用いて
染色しても何らかわるところはない。
The silicone layer V in the area exposed only to the entire surface was not dyed and remained strongly adhered. The printing plate obtained by washing and drying the printing plate in the usual manner faithfully reproduces the burr film and clearly distinguishes between the non-image area (unstained) and the image area (dyed). It was in good condition. Note that the dyeing of the image area does not have to be done at the same time as development.
That is, even if it is developed with the developer used in Example 1 and then dyed with a staining solution (carpitol acetate/ethylene glycol/crystal violets) (weight ratio: 30/70/3), no change occurs. There is no place.

実施例19 実施例1で得らり、た画像形成用積層体に実施例1と同
様な全面露光およびネガフィルムを通して画像露光して
得られた版を次表に示した塩基入り現像露光して得られ
た版を次表に示した塩基入り現像液で現像したところ、
良好ないしは適度の画像の印刷版が得られた。
Example 19 The image-forming laminate obtained in Example 1 was subjected to full-surface exposure and image exposure through a negative film in the same manner as in Example 1, and the obtained plate was subjected to development exposure with a base as shown in the following table. When the obtained plate was developed with the base-containing developer shown in the table below,
A printing plate with a good to moderate image was obtained.

実施例20 厚み200μの゛ルミラー”(束し■製ポリエステルフ
ィルム)上に厚み300μのゴム硬1i7DのN B 
R層を設けた複合基板を支持体として、この上にエステ
ル化度50tI)のフェノールホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂(スミライトレジンPR502ろ5.住友デュ
レズ製)のナフトキノンジアジド−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸エステルの4重敏係ンオキザン溶液をホ
エラで回転塗布し。
Example 20 Rubber hardness 1i7D N B with a thickness of 300μ on a 200μ thick “Lumirror” (polyester film made of bundled material)
A composite substrate provided with an R layer was used as a support, and naphthoquinonediazide-1,2-diazide of phenol formaldehyde novolak resin (Sumilight Resin PR502, manufactured by Sumitomo Durez) with an esterification degree of 50 tI was placed on the composite substrate as a support.
A solution of 5-sulfonic acid ester in 4-propyl oxane was spin-coated with a whirlpool.

100°0で2分間乾燥して厚み2 g / m’の感
光層を設けた。
It was dried at 100°0 for 2 minutes to provide a photosensitive layer with a thickness of 2 g/m'.

続いてこの土にジーn−ブトキシOビス(アセチルアセ
トナート)チタンの2.8重量係のアイソパーE(エク
ソン化学製)溶液ヲハーコーターで塗布後、120’c
、1分間乾燥して厚み0.1 g / m”の接着層を
設けfc。
Next, a 2.8 weight percent Isopar E (manufactured by Exxon Chemical) solution of di-n-butoxyObis(acetylacetonate) titanium was applied to this soil using a Hercoater, and then 120'C
, dry for 1 minute to form an adhesive layer with a thickness of 0.1 g/m'' fc.

さらにこの接着層の」二に下記の組成のシリコーンゴム
組成物をホエラで塗布後、120°C1露点304分で
加熱硬化して厚み2.5 g / m’のシリコーンゴ
ム層を設けた。
Furthermore, a silicone rubber composition having the following composition was coated on the second part of this adhesive layer using wheal, and then heated and cured at 120° C. and a dew point of 304 minutes to provide a silicone rubber layer having a thickness of 2.5 g/m'.

(a) ジメチルポリシロキサン 100部(分子量約
22,000.両末端水酸基)(b) エチル!・ジア
セトキシシラン/メチルトリアセトキシシラン(1/1
混合) 6部(C) ジブチル錫ジアセテー) 0.1
2部(d) アイソパーE 1ろ70部 上記のようにして得らitだ画像形成用積層体に超高圧
水鋼目(オーク製作所製ジエソトシイト2kW)i用い
、 1 mの距離から実施例1のU Vメーターで11
 m W / cm’の照度で真空密着した100線の
ネガフィルムを通して90秒露光し/こ。AゾLいてエ
タノール/アイソパー E /七ノエタノールアミン(
65/ろ510.5)の現像液に浸漬し1画像状に黒褐
色に版面が変化してから現像バットで軽くこすると1画
像露光部のシリコーンゴム層が感光層とともに除去さJ
t、複合基板表面が露出し、原画フィルムに忠実な画像
の印刷版がイ(Iらi″1.た。
(a) Dimethylpolysiloxane 100 parts (molecular weight approximately 22,000. Hydroxyl groups at both ends) (b) Ethyl!・Diacetoxysilane/methyltriacetoxysilane (1/1
Mixture) 6 parts (C) Dibutyltin diacetate) 0.1
2 parts (d) Isopar E 1 70 parts The image-forming laminate obtained as described above was coated with ultra-high pressure water steel (2kW manufactured by Oak Seisakusho) from a distance of 1 m. 11 on UV meter
Exposure was performed for 90 seconds through a 100-line negative film sealed in vacuum at an illuminance of m W/cm'. Azo L ethanol/isopar E/7-ethanolamine (
65/RO 510.5), the plate surface changes to blackish brown in one image, and then rubbed lightly with a developing bat, the silicone rubber layer in the exposed area of one image is removed along with the photosensitive layer.
t, the surface of the composite substrate was exposed, and a printing plate with an image faithful to the original film was created.

この印刷版を用いて直刷り印刷を行ったところ良好な印
刷物が2万枚得られた。
When direct printing was performed using this printing plate, 20,000 good prints were obtained.

実施例21 厚み024庇の化アルミ板(住友軽金属製〕にレゾール
樹脂(スミライトレジンPC−1.住友デュレズ製)を
ig/m’の厚みに塗布し、190°a、1.5分間キ
ュアして支持体とした。
Example 21 A resol resin (Sumilight Resin PC-1. manufactured by Sumitomo Durez) was applied to a 024-thick aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals) to a thickness of ig/m' and cured at 190°a for 1.5 minutes. and used as a support.

この支持体にフェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
エステルの1,4重量係のジオキサン溶液をホエラで回
転塗布し、100°Cで2分間乾燥して厚み0.5g/
 m’の感光層を設けた。
A dioxane solution of 1.4 weight percent of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of phenol formaldehyde novolac resin was spin-coated onto this support using a wheal, and dried at 100°C for 2 minutes to a thickness of 0. 5g/
m' photosensitive layer was provided.

続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組成物をバ
ーコーターで塗布後、120°0.露点60’c 4分
で加熱硬化して厚み2ろ /mlのシリコーンゴム層を
設けた。
Subsequently, a silicone rubber composition having the composition shown below was applied thereto using a bar coater, and then coated at 120°0. The silicone rubber layer was cured by heating at a dew point of 60'C for 4 minutes to form a silicone rubber layer with a thickness of 2 mm/ml.

(、) ジメチルポリシロキサン(分子量約22,00
0両末端水酸基) 100部 (b) ヒニルトす(メチルエチルケトオキシム)シラ
7 8部 (c) ジブチル錫ジアセテート 01部(d) シー
イソ−10ボキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタン
 49部 (e) アイソパー、、 360部 上記のようにして得られた画像形成用積層体に100線
/インチの網点画像を持つイ、ガノイ)L−1、を真空
密着し、メタルハライドランプ(岩崎’i11.気製ア
イドルフィン2000)を用い、11nの距離から60
秒露光した。さらにこの画像露光ずみ積層体に同じラン
プで実施例1で用いたUVメーターで版面上11mW/
cm’の照度で10秒全面露光した。
(,) Dimethylpolysiloxane (molecular weight approximately 22,00
0 both terminal hydroxyl groups) 100 parts (b) Hinyltos(methyl ethyl ketoxime) sila 7 8 parts (c) Dibutyltin diacetate 01 parts (d) Ciso-10 boxy bis(acetylacetonato) titanium 49 parts (e) Isopar ,, 360 copies of the image-forming laminate obtained as described above were vacuum-adhered with a metal halide lamp (Iwasaki'i11. 60 from a distance of 11n using idle fin 2000)
Second exposure. Furthermore, this image-exposed laminate was heated at 11 mW/W on the printing plate using the same lamp as the UV meter used in Example 1.
The entire surface was exposed for 10 seconds at an illuminance of cm'.

次いで塩基入り現像液(アイソパー1ij /ブチルカ
ルピトール/モノエタノールアミン−40/60 /1
 wtal))に浸清し、現像パッドで軽くこすると両
像露光部のシリコーン層と感光層が除去さ牙t、支持体
表面が露出したネガフィルムの画像を忠実に再現した印
刷版が得られた。
Next, a base-containing developer (Isopar 1ij/butylcarpitol/monoethanolamine-40/60/1
The silicone layer and the photosensitive layer in the exposed areas of both images are removed by immersing the plate in 100% water and lightly rubbing it with a developing pad.A printing plate that faithfully reproduces the image of the negative film with the exposed surface of the support is obtained. Ta.

実施例22 実施例1に記載された。ナフトキノン−1,2−−) 
7 シト−5−スルボン酸トフェノールポルムアルデヒ
ドノボラック樹脂の部分ニスデルと4,4′−ジフェニ
ルメタンシイソシアイ・−ト以M Its’ J−ヘて
同じにして以下に示す画像形成用積層体が待られた。
Example 22 As described in Example 1. naphthoquinone-1,2--)
7 Cyto-5-sulfonic acid tophenolpormaldehyde Novolac resin partial Nisdel and 4,4'-diphenylmethane isocyanate M Its' J-The same image forming laminate shown below is prepared. It was done.

かかる画像形成用積層体も実施例1と同様に全面露光し
て1次いで画像露光後、塩基処理と現像を行なうと、ネ
ガフィルムに忠実な画像の印刷版が得られた。
When this image-forming laminate was also entirely exposed to light in the same manner as in Example 1, and then subjected to image exposure, base treatment and development, a printing plate with an image faithful to the negative film was obtained.

実施例2ろ 実施例1の記載の通りに製造して得られた画像形成用積
層体に150線/インチの網点画像を有するネガフイル
ムを、常法に従って真空密着し。
Example 2 A negative film having a halftone image of 150 lines/inch was vacuum-adhered to the image-forming laminate produced as described in Example 1 in accordance with a conventional method.

実施例1で用いたメタルハライドランプを用いて1mの
距離で実施例1で用いflUVメーターで11mW/c
m’の照度で60秒露光を施した。この露光により画像
部感光層中のキノンジアジドの95モル係が光分解して
いた。続いてこの版を一アイソパーI■/フチルカルビ
ト−ル/モノエタノールアミン−40/60/1 (重
量比)からなる塩基入り現像液に浸し、現像パッドで軽
くこすると、露光部のシリコーンゴム層が除去されて感
光層表面が露出し、原画フィルムに忠実な印刷版が得ら
itだ。
The metal halide lamp used in Example 1 was used at a distance of 1 m, and the flUV meter used in Example 1 was used at a distance of 11 mW/c.
Exposure was performed for 60 seconds at an illuminance of m'. Due to this exposure, 95 moles of quinonediazide in the image area photosensitive layer was photodecomposed. Next, this plate was immersed in a base-containing developer consisting of Isopar I/phthyl carbitol/monoethanolamine-40/60/1 (weight ratio), and rubbed lightly with a developing pad to remove the silicone rubber layer in the exposed areas. It is removed to expose the surface of the photosensitive layer, resulting in a printing plate that is faithful to the original film.

実施例24 実施例7で得られた画像形成用積層体に150+%!/
インチの網点画像を有するネガフィルムを。
Example 24 150+% in the image forming laminate obtained in Example 7! /
Negative film with a halftone image of inches.

常法に従って真空密着し、実施例1で用いたメタルハラ
イドランプを用いて1mの距離で実施例1で用いたUV
メーターで11mW/咋2の照度で6゜秒置光を施した
。かかる露光により画像部感光層のキノンジアジドは殆
ど光分解していた。続いてこの版をエタノール/モノエ
タノールアミン−9[]/10(重量比)からなる塩基
入り現像液に浸し。
The UV light used in Example 1 was applied at a distance of 1 m using the metal halide lamp used in Example 1 after vacuum contact according to a conventional method.
Light was applied using a meter at an illuminance of 11 mW/x2 for 6°. Due to such exposure, most of the quinonediazide in the photosensitive layer in the image area was photodecomposed. Subsequently, this plate was immersed in a base-containing developer consisting of ethanol/monoethanolamine-9[]/10 (weight ratio).

現像パッドで軽くこすると、露光部のシリコーンゴム層
および感光層が除去さり、てアルミ表面が露出した。こ
のようにして得られた印刷版に1不ガノイルムを忠実に
再現した画像を用しており平版印刷で湿し水を用いずに
良好な印刷物を刀える。
When lightly rubbed with a development pad, the silicone rubber layer and photosensitive layer in the exposed areas were removed, exposing the aluminum surface. The printing plate thus obtained uses an image that faithfully reproduces the Fuganoilm, and can produce good printed matter in lithographic printing without using dampening water.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は画像形成用積層体、第2図、第6図および第4
図は画像形成用積層体から才、ガ型i:uj L水不要
平版印刷版を製版する手順を示す概略図の−・例であり
、第5図はポジ型湿し水不要平版印刷版を製版する手順
を示す概略Nの一例である。 1:画像形成用積層体 ろ:不ガ型湿し水不要平版印刷版 5:ポジ型湿し水不要平版印刷版 第 1 図 第2121 第3ド1 第牛閏 第5Lヤ1
Figure 1 shows the image forming laminate, Figures 2, 6 and 4.
The figure is an example of a schematic diagram showing the procedure for making a waterless lithographic printing plate from a laminate for image formation. This is an example of outline N showing the procedure for plate making. 1: Laminated body for image formation 2: Non-gauge type lithographic printing plate that does not require dampening water 5: Positive type lithographic printing plate that does not require dampening water 1st Figure 2121 3rd Do 1 5th L Ya 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 支持体上にキノンンアジド構造を含む物質を構成成分と
する感光層およびシリコーンゴム層をこの順に設けてな
る画像形成用積層体を画像露光しかつ塩基処理すること
を特徴とする画像形成用積層体の処理方法。
An image forming laminate comprising a support, a photosensitive layer comprising a substance containing a quinone azide structure and a silicone rubber layer provided in this order on a support, imagewise exposed and base treated. Processing method.
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