JPS6028403A - Photo-curable composition - Google Patents
Photo-curable compositionInfo
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- JPS6028403A JPS6028403A JP13574283A JP13574283A JPS6028403A JP S6028403 A JPS6028403 A JP S6028403A JP 13574283 A JP13574283 A JP 13574283A JP 13574283 A JP13574283 A JP 13574283A JP S6028403 A JPS6028403 A JP S6028403A
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- powder
- thermal conductivity
- oligomer
- monomer
- cured
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は窒化はう素粉束、ダイヤモンド粉末またはアル
ファアルミナ単結晶粉末をモノマーおよび/またはオリ
ゴマー中に分散し、これに更に光増感剤を添加して成る
組成物であって、紫外線照射によって硬化し、秀れた電
気絶縁性、熱伝導性のある塗装、接着などを行なうこと
ができる。Detailed Description of the Invention The present invention provides a composition comprising boron nitride powder bundle, diamond powder or alpha alumina single crystal powder dispersed in a monomer and/or oligomer, and a photosensitizer further added thereto. It is cured by ultraviolet irradiation and can be used for coatings, adhesives, etc. with excellent electrical insulation and thermal conductivity.
近時ICの発達により、電子部品の接着、塗装に電気絶
縁性を有し、かつ熱伝導性を有する接着剤や塗料が要求
されている。With the recent development of ICs, adhesives and paints that have electrical insulation properties and thermal conductivity are required for bonding and painting electronic parts.
更には、作業工程の短縮、省力化の面から、これ等接着
剤や塗料の硬化時間の短縮がめられているために、これ
等接着剤や塗料が光硬化性であることが要求されるよう
になってきた。Furthermore, in order to shorten the work process and save labor, the curing time of these adhesives and paints has been shortened, so it has become necessary for these adhesives and paints to be photocurable. It has become.
現在、電気絶縁性、熱伝導性を有する接着剤。Currently, adhesives have electrical insulation and thermal conductivity.
塗料としては、主としてエポキシ樹脂中に例えば多結晶
のアルミナの粉末を分散させた熱硬化性組成物が知られ
ているが、この型の接着剤、塗料は熱伝導性が十分満足
すべきものではないばかりでなく、組成物の硬化が加熱
によっているため作業性に劣るという難点がある。Thermosetting compositions in which, for example, polycrystalline alumina powder is dispersed in epoxy resin are known as paints, but these types of adhesives and paints do not have sufficiently satisfactory thermal conductivity. In addition, since the composition is cured by heating, there is a drawback in that workability is poor.
本発明者等は電気絶縁性と熱伝導性を有し、かつ生産性
の点から光硬化可能な接着、塗装用組成物として、窒化
はう素粉束、ダイヤモンド粉末またはアルファアルミナ
単結晶粉末をモノマーおよび/またはオリゴマー中に分
散し、これに光増感剤を添加した組成物が有効であるこ
とを見出した。The present inventors have used boron nitride powder, diamond powder, or alpha alumina single crystal powder as adhesive and coating compositions that have electrical insulation and thermal conductivity and are photocurable from the viewpoint of productivity. It has been found that a composition containing a photosensitizer dispersed in a monomer and/or oligomer and to which a photosensitizer is added is effective.
上記のごとく、一般に接着層或いは塗装面の硬化は加熱
によっているが、より迅速に硬化をすすめる必要のある
分野、例えば、コンピューターの組立等では紫外線硬化
法が一部で採用されているが、紫外線硬化のためには、
その配合剤に多くの制限があり、特に非または弱透光性
充填剤を用いたときには深部まで紫外線が透過しないの
で、紫外線硬化を行なうことが出来ない。従って紫外線
硬化法が余り用いられていないのが現状である。−
ここにおいて本発明者等は透明性に秀れた窒化はう素粉
束、ダイヤモンド粉末またはアルファアルミナの単結晶
粉末を充填剤として、モノマーおよび/またはオリゴマ
ー中に分散し、これに光増感剤を添加すれば、紫外線硬
化することが出来、しかも電気絶縁性、熱伝導性に秀れ
た硬化物が得られることを見出した。As mentioned above, adhesive layers or painted surfaces are generally cured by heating, but in some fields where more rapid curing is required, such as computer assembly, ultraviolet curing methods are used in some areas. For hardening,
There are many restrictions on the compounding agents, and in particular when non-transparent or weakly translucent fillers are used, ultraviolet light does not penetrate deep into the filler, making it impossible to cure with ultraviolet light. Therefore, at present, the ultraviolet curing method is not used much. - Here, the present inventors disperse highly transparent nitrided boron powder bundles, diamond powder, or alpha alumina single crystal powder as fillers in monomers and/or oligomers, and then photosensitize the monomers and/or oligomers. It has been found that by adding an agent, a cured product can be cured by ultraviolet rays and has excellent electrical insulation and thermal conductivity.
これにより電気絶縁性と熱伝導性をもった接着、塗装を
短期間で行うことが出来る。This makes it possible to bond and paint with electrical insulation and thermal conductivity in a short period of time.
本発明を実施するには、窒化はう素粉束、ダイヤモンド
粉末またはアルファアルミナの単結晶粉末をモノマーも
しくはオリゴマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合
物中によく分散し、これに光増感剤を添加して組成物を
得る。窒化はう素粉束、ダイヤモンド粉末またはアルフ
ァアルミナの単結晶粉末は、0.5〜100ミクロンの
粒径のものが望ましい。窒化はう素粉束としては、立方
晶系、六方晶系のいずれを使用してもよい。またダイヤ
モンド粉末としては、天然および合成ダイヤモンドのい
ずれでもよく、天然ダイヤモンド粉末としては工型結晶
およびII型結晶が用いられ、合成ダイヤモンド粉末と
してはII型が用いられる。さらにアルファアルミナの
単結晶粉末としては、例えばショーライト、アルフィツ
ト(登録商標、昭和電工株式会社製)等を使用すること
ができる。これらの窒化はう素粉束、ダイヤモンド粉末
およびアルファアルミナの単結晶粉末は混合して使用し
てもよい。To carry out the invention, a boron nitride powder bundle, diamond powder or alpha alumina single crystal powder is well dispersed in a monomer or oligomer or a mixture of monomer and oligomer, and a photosensitizer is added thereto. to obtain a composition. The particle size of the boron nitride powder bundle, diamond powder or alpha alumina single crystal powder is preferably from 0.5 to 100 microns. As the boron nitride powder bundle, either cubic system or hexagonal system may be used. The diamond powder may be either natural or synthetic diamond; engineered type crystal and type II crystal are used as the natural diamond powder, and type II crystal is used as the synthetic diamond powder. Further, as the alpha alumina single crystal powder, for example, Showlite, Alfit (registered trademark, manufactured by Showa Denko K.K.), etc. can be used. These boron nitride powder bundles, diamond powder, and alpha alumina single crystal powder may be used in combination.
本発明は、窒化はう素粉束、ダイヤモンド粉末またはア
ルファアルミナの単結晶をモノマーおよび/またはオリ
ゴマーに配合することを特徴とするものであり、これら
以外の他の無機粉末を配合すると、ある場合には光硬化
性が不十分であったり、あ°る場合には電気絶縁性や熱
伝導性が不十分であるという難点がある。例えば熱伝導
性を有する炭化珪素粉末、グラファイト粉末、金属粉末
等をモノマーおよび/またはオリゴマーに混合して、こ
れに光増感剤を加えた組成物に紫外線照射を行なうと表
面のみが硬化して内部までは硬化しないという欠点を有
する。またガラス粉末、酸化珪素粉末等をモノマーおよ
び/またはオリゴマーに分散し、これに光増感剤を加え
た組成物の場合には、紫外線照射によって内部まで硬化
するが、その反面、硬化物の熱伝導率は極めて低いとい
う欠点を有する。The present invention is characterized in that nitriding is performed by blending a boron powder bundle, diamond powder, or single crystal of alpha alumina with the monomer and/or oligomer, and if other inorganic powders other than these are blended, in some cases. However, there are disadvantages in that the photocurability is insufficient, and in some cases, the electrical insulation and thermal conductivity are insufficient. For example, if a composition in which thermally conductive silicon carbide powder, graphite powder, metal powder, etc. is mixed with a monomer and/or oligomer and a photosensitizer is added thereto is irradiated with ultraviolet rays, only the surface will be hardened. It has the disadvantage that it does not harden to the inside. In addition, in the case of compositions in which glass powder, silicon oxide powder, etc. are dispersed in monomers and/or oligomers, and a photosensitizer is added thereto, the inside is cured by ultraviolet irradiation, but on the other hand, the heat of the cured product It has the disadvantage of extremely low conductivity.
本発明において用いられるモノマー、オリゴマーとして
は次のものがあげられる。The monomers and oligomers used in the present invention include the following.
(1) 光重合可能なビニル系モノマービニルエステル
(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、08〜12分岐脂
肪酸ビニル等)、アクリル酸エステル(アクリル酸アル
キルエステル、アクリル酷グリシジル、ジエチレングリ
コールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート
等)、メタクリル酸エステル(メタクリル酸アルキルエ
ステル、メタクリル酸グリシジル、ジエチレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、ペンタエリスリト−ルテトラメタクリレー
ト等)、芳香族不飽和炭化水素(スチレン、アルキルス
チレン、ジビニルベンゼン等)、含塩素不飽和化合物(
クロルスチレン、クロルアクリル酸エステル等)、含フ
ツ素不飽和化合物(フルオロスチレン、アクリル酸フル
オロアルキル、メタクリル酸フルオロアルキル等)およ
びこれらの混合物等が用いられる。(1) Photopolymerizable vinyl monomers vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl 08-12 branched fatty acids, etc.), acrylic esters (acrylic acid alkyl esters, acrylic glycidyl, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane trichloride, etc.) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, etc.), methacrylic acid esters (alkyl methacrylate, glycidyl methacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, etc.), aromatic unsaturated hydrocarbons (styrene , alkylstyrene, divinylbenzene, etc.), chlorine-containing unsaturated compounds (
chlorostyrene, chloroacrylic acid ester, etc.), fluorine-containing unsaturated compounds (fluorostyrene, fluoroalkyl acrylate, fluoroalkyl methacrylate, etc.), and mixtures thereof.
(2) 光付加反応が可能なモノマー
不飽和化合物とメルカプタンとの光付加反応でポリマー
を生成するもので、不飽和化合物としては前記ビニル系
モノマーのほか多価アリル化合物(ジアリルフタレート
、トリアリルイソシアヌレート)、1分子中に少なくと
も2個のシクロアセタール基を有する化合物(ジアリリ
デンペンタエリスリトール等)が用いられる。メルカプ
タンとしてはトリメチロールプロパントリチオプロピオ
ネート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレ−)
・、ジペンタエリスリトールへキサチオグリコレート等
の多価チオールが用いられる。(2) A monomer that can undergo a photoaddition reaction A polymer is produced by a photoaddition reaction between an unsaturated compound and a mercaptan. In addition to the vinyl monomers mentioned above, the unsaturated compounds include polyvalent allyl compounds (diallyl phthalate, triallyl isocyanate, etc.). (nurate), and a compound having at least two cycloacetal groups in one molecule (diarylidenepentaerythritol, etc.) is used. Mercaptans include trimethylolpropane trithiopropionate, pentaerythritol tetrathioglycole)
- Polyvalent thiols such as dipentaerythritol hexathioglycolate are used.
(3) オリゴマー
分子量が200〜300oの光硬化可能なオリゴマーが
用いられ、代表的なものとしてはエポキシ(メタ)アク
リレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエ
ーテル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリ
レート、シリコーン(メタ)アクリレート等があげられ
る。(3) Oligomer A photocurable oligomer with a molecular weight of 200 to 300o is used, and typical examples include epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, Examples include silicone (meth)acrylate.
上記(1)、(2)および(3)は混合して使用しても
よい。The above (1), (2) and (3) may be used in combination.
窒化はう素粉末、ダイヤモンド粉末またはアルファアル
ミナの単結晶粉末の使用量は、モノマーおよび/または
オリゴマ−1oo重量部に対して10〜90重量部、好
しくは3o〜80重量部である。窒化はう素粉末、ダイ
ヤモン下粉末またはアルファアルミナの単結晶粉末の使
用量がlOi量部より少ない場合は、硬化物の熱伝導性
が十分でなく、一方使用量が90重量部より多い場合に
は、硬化物の強度が不十分である。The amount of boron nitride powder, diamond powder or alpha alumina single crystal powder used is 10 to 90 parts by weight, preferably 3 to 80 parts by weight, per 10 parts by weight of monomer and/or oligomer. If the amount of boron nitride powder, sub-diamond powder or alpha alumina single crystal powder used is less than 10 parts by weight, the thermal conductivity of the cured product will be insufficient; on the other hand, if the amount used is more than 90 parts by weight. The strength of the cured product is insufficient.
光増感剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオ
キサントン、アゾビスイソブチロニトリル、2−ヒドロ
キシプロピオフェノンなどが用いられる。またエポキシ
化合物の光硬化には、オニウム塩(たとえばジメチルフ
ェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、4
.4′−ジメチルジフェニルヨードニウムヘキサフルオ
ロアーセネートなど痛いられる。As the photosensitizer, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, thioxanthone, azobisisobutyronitrile, 2-hydroxypropiophenone, etc. are used. In addition, for photocuring of epoxy compounds, onium salts (e.g. dimethylphenylsulfonium hexafluorophosphate,
.. 4'-Dimethyldiphenyliodonium hexafluoroarsenate etc.
これら光増感剤の添加量はモノマーおよび/またはオリ
ゴマーに対して0.01〜5重量%であり、添加量がこ
れよりも少ないと硬化が不完全で、添加量がこれよりも
多いと着色して不都合が生ずる。The amount of these photosensitizers added is 0.01 to 5% by weight based on the monomer and/or oligomer. If the amount added is less than this, curing will be incomplete, and if the amount added is more than this, coloring will occur. This causes inconvenience.
本発明に係わる組成物には物性を損なわない範囲で種々
の添加物を加えることも可能である。例えばレベリング
剤、紫外線吸収剤、撥水剤、溶剤などの稀釈剤を用いる
ことができる。It is also possible to add various additives to the composition according to the present invention as long as the physical properties are not impaired. For example, diluents such as leveling agents, ultraviolet absorbers, water repellents, and solvents can be used.
本発明の光硬化性組成物は、電気絶縁性、導熱性および
透光性に秀れているところから電子部品の接着や塗装、
および注型品の製造用等として有用である。The photocurable composition of the present invention has excellent electrical insulation, heat conductivity, and translucency, so it can be used for adhesion of electronic parts, coating, etc.
It is also useful for manufacturing cast products.
以下、実施例によって本発明をさらに詳しく説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例1
粒径50ミクロンの立方晶窒化はう素粉末100gをメ
タクリル酸メチル40g、トリメチロールプロパントリ
アクリレートLog、ベンゾインインプロピルエーテル
0.5gからなる混合物中によく分散させて脱胞したの
ち、巾3cm。Example 1 100 g of cubic boron nitride powder with a particle size of 50 microns was well dispersed in a mixture consisting of 40 g of methyl methacrylate, Log trimethylolpropane triacrylate, and 0.5 g of benzoin propyl ether, and then defosolated. Width 3cm.
長さ5°m、深さ0・3cmの型に流し込み、20 W
/ c mの高圧水銀灯を用いて30秒間紫外線照射
した。完全に硬化したので脱型した。得られた成形品の
比抵抗と熱伝導率を測定した。結果を第1表に示した。Pour into a mold with a length of 5 mm and a depth of 0.3 cm, and heat at 20 W.
Ultraviolet rays were irradiated for 30 seconds using a high-pressure mercury lamp of / cm. After it was completely cured, it was removed from the mold. The specific resistance and thermal conductivity of the obtained molded article were measured. The results are shown in Table 1.
参考例1
実施例1において使用した立方晶窒化はう素粉末の代り
に粒径50ミクロンの溶融シリカ粉末を用いた以外は、
実施例1と同様に行なった。成形品の比抵抗と熱伝導率
を測定したところ、結果は第1表の通りであった。Reference Example 1 The cubic nitriding used in Example 1 had the following exceptions: fused silica powder with a particle size of 50 microns was used instead of boron powder.
The same procedure as in Example 1 was carried out. When the specific resistance and thermal conductivity of the molded product were measured, the results were as shown in Table 1.
参考例2
実施例1において使用した立方晶窒化はう素粉末の代り
に粒径50ミクロンのグラファイト粉末を用いた以外は
、実施例1と同様に行なった。紫外線照射を10分間続
けたが、表面のみ硬化し、0.03cm以下の深部は硬
化しなかった。Reference Example 2 The cubic nitriding used in Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, except that graphite powder with a particle size of 50 microns was used instead of boron powder. Although ultraviolet irradiation was continued for 10 minutes, only the surface was cured, and the deep part below 0.03 cm was not cured.
第1表
実施例1.参考例1の成形品はともに比抵抗が大きく、
電気絶縁性が認められたが、熱伝導率については実施例
1の成形品の方が100倍以上すぐれていることが認め
られた。また参考例2は熱伝導性のすぐれたグラファイ
ト粉末を用いたが、紫外線照射で硬化しなかった。Table 1 Example 1. The molded products of Reference Example 1 both had high specific resistance;
Although electrical insulation was observed, the molded product of Example 1 was found to be 100 times or more superior in thermal conductivity. Further, in Reference Example 2, graphite powder with excellent thermal conductivity was used, but it was not cured by ultraviolet irradiation.
実施例2
粒径10ミクロンの立方晶窒化はう素粉末100gをジ
アリリデンペンタエリスリトール10g、ペンタエリス
リトールテトラチオグリコレートLog、hリフチロー
ルプロパントリアクリレート10g、2−ヒドロキシプ
ロピオフェノン0.01gからなる混合物中によく分散
させて脱胞したのち、巾3cm、長さ50m、深さ0.
3cmの型に流し込み、20 W / c mの高圧水
銀灯を用いて40秒間紫外線照射した。完全に硬化した
ので脱型した。得られた成形品の比抵抗と熱伝導率を測
定した。結果を第2表に示した。Example 2 100 g of cubic boron nitride powder with a particle size of 10 microns was prepared from 10 g of diarylidene pentaerythritol, pentaerythritol tetrathioglycolate Log, 10 g of hrifthyrol propane triacrylate, and 0.01 g of 2-hydroxypropiophenone. After being well dispersed in a mixture of 3cm wide, 50m long, and 0.5cm deep.
It was poured into a 3 cm mold and irradiated with ultraviolet rays for 40 seconds using a 20 W/cm high pressure mercury lamp. After it was completely cured, it was removed from the mold. The specific resistance and thermal conductivity of the obtained molded article were measured. The results are shown in Table 2.
参考例3
実施例2において使用した立方晶窒化はう素粉末の代わ
りに粒径10ミクロンの石英ガラス粉末を用いた以外は
、実施例2と同様に行なった。成形品の比抵抗と熱伝導
率を測定したところ、結果は第2表の通りであった。Reference Example 3 The cubic nitriding used in Example 2 was carried out in the same manner as in Example 2, except that quartz glass powder with a particle size of 10 microns was used instead of boron powder. When the specific resistance and thermal conductivity of the molded article were measured, the results were as shown in Table 2.
参考例4
実施例2において使用した立方晶窒化はう素粉末の代わ
りに粒径10ミクロンの炭化珪素粉末を用いた以外は、
実施例2と同様に行なった。紫外線照射を10分間続け
たが、表面のみ硬化し、0.03cm以下の深部は硬化
しなかった。Reference Example 4 The cubic nitridation used in Example 2 was as follows, except that silicon carbide powder with a particle size of 10 microns was used instead of boron powder.
The same procedure as in Example 2 was carried out. Although ultraviolet irradiation was continued for 10 minutes, only the surface was cured, and the deep part below 0.03 cm was not cured.
第2表
実施例2.参考例3の成形品はともに比抵抗が大きく、
電気絶縁性が認められたが、熱伝導率については実施例
2の成形品の方が100倍以上すぐれていることが認め
られた。また参考例4は熱伝導性のすぐれた炭化珪素粉
末を用いたが、紫外線照射で硬化しなかった。Table 2 Example 2. The molded products of Reference Example 3 both have high specific resistance;
Although electrical insulation was observed, the molded product of Example 2 was found to be 100 times or more superior in thermal conductivity. Further, in Reference Example 4, silicon carbide powder with excellent thermal conductivity was used, but it was not cured by ultraviolet irradiation.
実施例3
粒径50ミクロンのアルファアルミナ単結晶粉末100
gをビスフェノールAエポキシアクリレート(分子量
524)20g、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート10g、ベンゾインイソプロピルエーテル0.2g
からなる混合物中によく分散させて脱胞したのち、巾3
c m 、長さ5cm、深さ0.3cmの型に流し込
み、20W/ c mの高圧水銀灯を用いて45秒間紫
外線照射した。完全に硬化したので脱型した。得られた
成形品の比抵抗と熱伝導率を測定した。結果を第3表に
示した。Example 3 Alpha alumina single crystal powder 100 with a particle size of 50 microns
g is bisphenol A epoxy acrylate (molecular weight
524) 20g, pentaerythritol tetraacrylate 10g, benzoin isopropyl ether 0.2g
After being well dispersed in a mixture consisting of
The mixture was poured into a mold having a diameter of 5 cm, a length of 5 cm, and a depth of 0.3 cm, and was irradiated with ultraviolet rays for 45 seconds using a 20 W/cm high-pressure mercury lamp. After it was completely cured, it was removed from the mold. The specific resistance and thermal conductivity of the obtained molded product were measured. The results are shown in Table 3.
参考例5
実施例3において使用したアルファアルミナ単結晶粉末
の代わりに粒径50ミクロンの溶融シリカ粉末を用いた
以外は、実施例3と同様に行なった。成形品の比抵抗と
熱伝導率を測定したところ、結果は第3表の通りであっ
た。Reference Example 5 The same procedure as in Example 3 was conducted except that fused silica powder with a particle size of 50 microns was used instead of the alpha alumina single crystal powder used in Example 3. When the specific resistance and thermal conductivity of the molded product were measured, the results were as shown in Table 3.
参考例6
実施例3において使用したアルファアルミナ単結晶粉末
の代わりに粒径50ミクロンのアルミナ多結晶粉末を用
いた以外は、実施例3と同様に行なった。紫外線照射を
10分間続けたが、表面のみ硬化し、0.1cm以下の
深部は硬化しなかった。Reference Example 6 The same procedure as in Example 3 was conducted except that alumina polycrystalline powder having a particle size of 50 microns was used instead of the alpha alumina single crystal powder used in Example 3. Although ultraviolet irradiation was continued for 10 minutes, only the surface was cured, and the deep part of 0.1 cm or less was not cured.
第3表
実施例3.参考例5の成形品はともに比抵抗が大きく、
電気絶縁性が認められたが、熱伝導率については実施例
3の成形品の方が10倍以上すぐれていることが認めら
れた。また参考例6は多結晶アルミナを使用した例であ
るが、この場合は紫外線で深部まで硬化しなかった。Table 3 Example 3. The molded products of Reference Example 5 both had high specific resistance;
Although electrical insulation was observed, the molded product of Example 3 was found to be 10 times or more superior in thermal conductivity. Further, Reference Example 6 is an example in which polycrystalline alumina was used, but in this case, it was not hardened to the deep part by ultraviolet rays.
実施例4
粒径10ミクロンの合成ダイヤモンド粉末(II型)9
0gをビスフェノールA・エピクロルヒドリン縮合エポ
キシ樹脂(エポキシ当量 190)75g、ジメチルフ
ェニルスルホオキシニウムへキサフルオロフォスフェー
ト2gからなる混合物中によく分散させて脱胞したのち
、巾3cm、長さ5cm、深さ0.3cmの型に流し込
み、20W / c mの高圧水銀灯を用いて35秒間
紫外線照射した。完全に硬化したので脱型した。得られ
た成形品の比抵抗と熱伝導率を測定した。結果を第4表
に示した。Example 4 Synthetic diamond powder (type II) with a particle size of 10 microns 9
0g was well dispersed in a mixture consisting of 75g of bisphenol A/epichlorohydrin condensed epoxy resin (epoxy equivalent: 190) and 2g of dimethylphenylsulfooxynium hexafluorophosphate, and then defosolated, and then the size was 3cm wide, 5cm long, and deep. It was poured into a 0.3 cm mold and irradiated with ultraviolet rays for 35 seconds using a 20 W/cm high pressure mercury lamp. After it was completely cured, it was removed from the mold. The specific resistance and thermal conductivity of the obtained molded product were measured. The results are shown in Table 4.
参考例7
実施例4において使用した合成ダイヤモンド粉末(II
型)の代わりに粒径10ミクロンの石英ガラス粉末を用
いた以外は、実施例4と同様に行なった。成形品の比抵
抗と熱伝導率を測定したところ、結果は第4表の通りで
あった。Reference Example 7 Synthetic diamond powder (II
The same procedure as in Example 4 was conducted except that quartz glass powder with a particle size of 10 microns was used instead of the mold. When the specific resistance and thermal conductivity of the molded product were measured, the results were as shown in Table 4.
参考例8
実施例4において使用した合成ダイヤモンド粉末(II
型)の代わりに粒径10ミクロンのグラファイトを用い
た以外は、実施例4と同様に行なった。紫外線照射を1
0分間続けたが、表面のみ硬化し、0.05cm以下の
深部は硬化しなかった。Reference Example 8 Synthetic diamond powder (II
The same procedure as in Example 4 was carried out except that graphite having a particle size of 10 microns was used instead of the mold. UV irradiation 1
Although it continued for 0 minutes, only the surface was cured, and the deep part below 0.05 cm was not cured.
第4表
実施例4.参考例7の成形品はともに比抵抗が大きく、
電気絶縁性が認められたが、熱伝導率については実施例
7の成形品の方が200倍もすぐれていることが認めら
れた。また参考例8はグラファイト粉末を使用した例で
あるが、この場合は紫外線照射で深部まで硬化しなかっ
た。Table 4 Example 4. The molded products of Reference Example 7 both had high specific resistance;
Although electrical insulation was observed, the molded product of Example 7 was found to be 200 times better in thermal conductivity. Further, Reference Example 8 is an example in which graphite powder was used, but in this case, it was not hardened to the deep part by ultraviolet irradiation.
特許出願人 昭和電工株式会社 代 理 人 弁理士 菊 地 精 −Patent applicant: Showa Denko Co., Ltd. Representative Patent Attorney Kikuchi Sei -
Claims (1)
ミナの単結晶粉末をモノマーおよび/またはオリゴマー
中に分散し、これに光増感剤を添加して成ることを特徴
とする光硬化性組成物。A photocurable composition comprising a boron nitride powder bundle, diamond powder, or alpha alumina single crystal powder dispersed in a monomer and/or oligomer, and a photosensitizer added thereto.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13574283A JPS6028403A (en) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | Photo-curable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13574283A JPS6028403A (en) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | Photo-curable composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6028403A true JPS6028403A (en) | 1985-02-13 |
Family
ID=15158806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13574283A Pending JPS6028403A (en) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | Photo-curable composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6028403A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997036713A1 (en) * | 1996-04-02 | 1997-10-09 | Norton Company | Radiation curable formulations |
CN112592689A (en) * | 2021-02-26 | 2021-04-02 | 山东万圣博化工有限公司 | Electronic adhesive and preparation method thereof |
-
1983
- 1983-07-27 JP JP13574283A patent/JPS6028403A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997036713A1 (en) * | 1996-04-02 | 1997-10-09 | Norton Company | Radiation curable formulations |
CN112592689A (en) * | 2021-02-26 | 2021-04-02 | 山东万圣博化工有限公司 | Electronic adhesive and preparation method thereof |
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