JPS60255797A - アセタ−ル型保護基の選択的脱保護法 - Google Patents
アセタ−ル型保護基の選択的脱保護法Info
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- JPS60255797A JPS60255797A JP59108607A JP10860784A JPS60255797A JP S60255797 A JPS60255797 A JP S60255797A JP 59108607 A JP59108607 A JP 59108607A JP 10860784 A JP10860784 A JP 10860784A JP S60255797 A JPS60255797 A JP S60255797A
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアセタール型保護基の選択的脱保護法に関する
。史に詳しくは、本発明は分子内に一種以上のアセター
ル型保護基及びシリルエーテル型保護基ヲ南する化合物
を加熱処理することにより、アセタール型保禮基のみを
選択的に脱保護する方法に関する。アセタール型保護基
は弱酸性〜酸性という緩和な条件で脱保護が行なえ、グ
ロスタグランジンや抗生物質の合成に水酸基等の保護基
として繁用されている。一方、近年シリルエーテル型保
護基もシリルエーテルの生成が容易である点と脱保護が
簡単であるという点でアセタール型保護基と同様グロス
タグランジンや抗生物質の合成条件下に脱保麹が出来る
点でアセタール型保護基と同様の機能を有している。し
かし、当然、両基が存在する場合は酸性条件下では選択
的脱保護の目的は達成されない。しかしながら、ｔ−ブ
チルジメチルシリル基の如きシリルエーテル型保護基は
テトラヒドロピラニル基の如きアセタール型保護基を残
したままでの、フッ素イオンによる選択的脱保護が行な
え、水酸基等の保護基としての有用性を増している。こ
の逆の反応性すなわち、ｔ−ブチルジメチルシリル基を
残した１までのテトラヒドロピラニル基の選択的脱保護
がｏＪ能になると、合成化学上二つの保−基の組合せの
幅が飛躍的に広がることが予想される。又、ｔ−ブチル
ジメチル７リル基の如きシリルエーテル型保護基の欠点
として近傍にアルコキシドアニオン等が存在すると転位
を起してし甘うことが知られている（ Ｙ−Ｔｏｒｉｓ
ａｗａ、 Ｍ−５ｈｉｂａｓａｋｉ ａｎｄ Ｓ。
。史に詳しくは、本発明は分子内に一種以上のアセター
ル型保護基及びシリルエーテル型保護基ヲ南する化合物
を加熱処理することにより、アセタール型保禮基のみを
選択的に脱保護する方法に関する。アセタール型保護基
は弱酸性〜酸性という緩和な条件で脱保護が行なえ、グ
ロスタグランジンや抗生物質の合成に水酸基等の保護基
として繁用されている。一方、近年シリルエーテル型保
護基もシリルエーテルの生成が容易である点と脱保護が
簡単であるという点でアセタール型保護基と同様グロス
タグランジンや抗生物質の合成条件下に脱保麹が出来る
点でアセタール型保護基と同様の機能を有している。し
かし、当然、両基が存在する場合は酸性条件下では選択
的脱保護の目的は達成されない。しかしながら、ｔ−ブ
チルジメチルシリル基の如きシリルエーテル型保護基は
テトラヒドロピラニル基の如きアセタール型保護基を残
したままでの、フッ素イオンによる選択的脱保護が行な
え、水酸基等の保護基としての有用性を増している。こ
の逆の反応性すなわち、ｔ−ブチルジメチルシリル基を
残した１までのテトラヒドロピラニル基の選択的脱保護
がｏＪ能になると、合成化学上二つの保−基の組合せの
幅が飛躍的に広がることが予想される。又、ｔ−ブチル
ジメチル７リル基の如きシリルエーテル型保護基の欠点
として近傍にアルコキシドアニオン等が存在すると転位
を起してし甘うことが知られている（ Ｙ−Ｔｏｒｉｓ
ａｗａ、 Ｍ−５ｈｉｂａｓａｋｉ ａｎｄ Ｓ。
Ｉｋｅｇａｍｉ、 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ
ｅｒｓ、ｌ ８５５（１９７９））、 このことは、プロスタグランノン合成において１１位水
酸基のみを修飾後酸性条件で他の保物基を脱保誇する場
合、重要な問題となる。すなわち上記目的を達成するた
めには、１１位水酸基はシリルエーテルで採機しておく
ことが必要であるが、コーリー法を用いるプロスタグラ
ンジン合成でＬ、α−鎖導入時にシリル基の転位が生じ
てし１い合て−１ 成効率をはなはだしく落としてしま刃ｄこれとは逆に１
１位水＃ｉ基をテトラヒドロピラニル基の如きアセター
ル型保諌基で保機しておくと上述のα−鎖導入反応は定
量的に進行する。斯様なことがらシリルエーテル存在下
でのアセタール型保護基の選択的脱保護が切望される所
以である。
ｅｒｓ、ｌ ８５５（１９７９））、 このことは、プロスタグランノン合成において１１位水
酸基のみを修飾後酸性条件で他の保物基を脱保誇する場
合、重要な問題となる。すなわち上記目的を達成するた
めには、１１位水酸基はシリルエーテルで採機しておく
ことが必要であるが、コーリー法を用いるプロスタグラ
ンジン合成でＬ、α−鎖導入時にシリル基の転位が生じ
てし１い合て−１ 成効率をはなはだしく落としてしま刃ｄこれとは逆に１
１位水＃ｉ基をテトラヒドロピラニル基の如きアセター
ル型保諌基で保機しておくと上述のα−鎖導入反応は定
量的に進行する。斯様なことがらシリルエーテル存在下
でのアセタール型保護基の選択的脱保護が切望される所
以である。
このような点を背景に最近アセタール型保護基を選択的
に脱保護する方法が見出された［Ｙｕｊｉ（Ｊｇａｗａ
ａｎｄ Ｍａｓａｋａｔｓｕ ５ｈｉｂａｓａｋｉ
、 Ｔｅｔｒａｈｅｄ−ｒｏｎ、 Ｌｅｔｔｅｒｓ＋
２５＋ ６６３ （１９８４） ） ｏ しかしながら
近年注目を集めているＰＧＤ２を合成する際にアルキル
アルミニウムハライドで収率よくアセタール型保護基を
脱保護することは困難であった。
に脱保護する方法が見出された［Ｙｕｊｉ（Ｊｇａｗａ
ａｎｄ Ｍａｓａｋａｔｓｕ ５ｈｉｂａｓａｋｉ
、 Ｔｅｔｒａｈｅｄ−ｒｏｎ、 Ｌｅｔｔｅｒｓ＋
２５＋ ６６３ （１９８４） ） ｏ しかしながら
近年注目を集めているＰＧＤ２を合成する際にアルキル
アルミニウムハライドで収率よくアセタール型保護基を
脱保護することは困難であった。
本発明者等は更に汎用性のあるアセタール型保く
謹基の選択的脱保護法を関発すべ￥検討した結果本発明
を見出し完成した。
を見出し完成した。
本発明のアセタール型保画基としては、例えばテトラヒ
ドロピラニル基、１−エトキシメチル基、メトキシメチ
ル基、メチルチオメチル基、べ／ジルオキ／メチル基、
ｔ−ブトキンメチル基、２−メトキシエトキシメチル基
、２，２．２−トリクロロエトキシメチル基、ビス（２
−クロロエトキシ）メチル基、２−（トリメチルシリル
）エトキシメチル基、３−ブロモテトラヒドロピラニル
基、テトラヒドロチオピラニル基、４−メトキシ−テト
ラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−メ
チル−１−メトキシエチル基等を例示でき、シリルエー
テル型保護基としてはｔ−ブチルジメチルシリル基、ト
リエチルシリル基、トリベンジルシリル基、（トリフェ
ニルメチル）ジメチルシリル基、ｔ−ブチル−ジフェニ
ルシリル基、メチルジイソプロピルシリル基、メチルジ
−ｔ−ブチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリメ
チルシリル基等を例示することができる。とりわけこれ
らの採機基を有する化合物としては例えは下記の化合物
を挙けることができる。
ドロピラニル基、１−エトキシメチル基、メトキシメチ
ル基、メチルチオメチル基、べ／ジルオキ／メチル基、
ｔ−ブトキンメチル基、２−メトキシエトキシメチル基
、２，２．２−トリクロロエトキシメチル基、ビス（２
−クロロエトキシ）メチル基、２−（トリメチルシリル
）エトキシメチル基、３−ブロモテトラヒドロピラニル
基、テトラヒドロチオピラニル基、４−メトキシ−テト
ラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−メ
チル−１−メトキシエチル基等を例示でき、シリルエー
テル型保護基としてはｔ−ブチルジメチルシリル基、ト
リエチルシリル基、トリベンジルシリル基、（トリフェ
ニルメチル）ジメチルシリル基、ｔ−ブチル−ジフェニ
ルシリル基、メチルジイソプロピルシリル基、メチルジ
−ｔ−ブチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリメ
チルシリル基等を例示することができる。とりわけこれ
らの採機基を有する化合物としては例えは下記の化合物
を挙けることができる。
ル３几２Ｒ’Ｓｉ −０−（ＣＨ２＞、０−０−ＣＨ４
Ｒ８−Ｘ Ｒ６、ＣＲ４Ｒ’ Ｘ−１−Ｌ’ ＯＣＲ４Ｒ５−ＸＲ６ ０８ｉＲ’几２）Ｌ３ （式中、ｌ（、Ｉ、ｌ（２及び几３はアルキル基又はア
リール基であり、几４及び几５は水素原子、アルキル基
、Ｒ６はアルキル基でおり、凡４又は几５と几６は一体
となりポリメチレン類を形成することもできる。
Ｒ８−Ｘ Ｒ６、ＣＲ４Ｒ’ Ｘ−１−Ｌ’ ＯＣＲ４Ｒ５−ＸＲ６ ０８ｉＲ’几２）Ｌ３ （式中、ｌ（、Ｉ、ｌ（２及び几３はアルキル基又はア
リール基であり、几４及び几５は水素原子、アルキル基
、Ｒ６はアルキル基でおり、凡４又は几５と几６は一体
となりポリメチレン類を形成することもできる。
Ｘは酸素原子又はイオウ原子である。）本発明の選択的
脱離反応を行うには、加熱処理することが必要である。
脱離反応を行うには、加熱処理することが必要である。
加熱処理温度は１００〜２５０Ｃの範囲が目的物が収率
よく得られる点で好ましい。
よく得られる点で好ましい。
本発明は溶媒中で行なうことが望１しくベンゼン、トル
エン、キシレンの如き芳香族炭化水素、ヘキサン、アセ
トニトリル、ｔ−ブチルアルコール、ｔ−アミルアルコ
ール等を溶媒として好適に使用することができる。
エン、キシレンの如き芳香族炭化水素、ヘキサン、アセ
トニトリル、ｔ−ブチルアルコール、ｔ−アミルアルコ
ール等を溶媒として好適に使用することができる。
以下、実施例及び参考例により本発明を更に詳細に説明
する。
する。
実施例１
−
ＴＨＰ（Ｊ ＣＨ２（ＣＨｘ）ｓ ＣＨ２０Ｓ Ｉ；；
：：：］° −ミミ）−才 ＨＯＣＨ２（（、’Ｈ□）ｓＣ）（ｚＯ８＋で（ＴＨＰ
＝ テトラヒドロピラニル基）（Ｓ Ｌ−＝ｔ−フチル
ジメチル７リル基）＼ １−テトラヒドロピラニルオキシ−１０−１−ブチルジ
メチルシリルオキシデカン（２９，８Ｗ。
：：：］° −ミミ）−才 ＨＯＣＨ２（（、’Ｈ□）ｓＣ）（ｚＯ８＋で（ＴＨＰ
＝ テトラヒドロピラニル基）（Ｓ Ｌ−＝ｔ−フチル
ジメチル７リル基）＼ １−テトラヒドロピラニルオキシ−１０−１−ブチルジ
メチルシリルオキシデカン（２９，８Ｗ。
０．０８ｍｍｏ Ｉ ）をトルエン（０，５ａ／）に溶
解し、封管中１８０Ｃで２０時間加熱した。溶媒を留去
後、残留物を７リカゲルカラムクロマトグラフイー（ヘ
キサン／エーテル−２７１）により精製し、１−ｔ−ブ
チルジメチルンリルオキシ−１０−デカノールＣ２１，
２ｑ、９２％）を得た。
解し、封管中１８０Ｃで２０時間加熱した。溶媒を留去
後、残留物を７リカゲルカラムクロマトグラフイー（ヘ
キサン／エーテル−２７１）により精製し、１−ｔ−ブ
チルジメチルンリルオキシ−１０−デカノールＣ２１，
２ｑ、９２％）を得た。
ＮＭＲδ（［）ｍ） ； ３．４０〜３．７０ （４Ｈ
）、 １．１０〜１．６５ （１７Ｈ）、 ０．９０
（９ａ ｓ）＋０．０５ （６Ｈ，ｓ）・ ＩＲ（ｎｅａｔ）； ３４００Ｉ２９８０，２９００．
１４７０゜１２６０．１１０２，８４０．７８０ｃｒｎ
’。
）、 １．１０〜１．６５ （１７Ｈ）、 ０．９０
（９ａ ｓ）＋０．０５ （６Ｈ，ｓ）・ ＩＲ（ｎｅａｔ）； ３４００Ｉ２９８０，２９００．
１４７０゜１２６０．１１０２，８４０．７８０ｃｒｎ
’。
実施例２
ｌ−（１−エトキシ）−エトキシ−１（ｌｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシデカン（３５，４ＪＩＦ。
メチルシリルオキシデカン（３５，４ＪＩＦ。
０．１０ｍｍｏ ｌ ） ｆ へキサｙ（０，５ａＯに
溶解し、封管中１８０Ｃで２０時間加熱した。溶媒を留
去後、残留物を７リカゲルカラムクロマトグラフイーく
ベキサン／エーテルニ１／１）で精！！後、１−１−ブ
チルンメチルシリルオキシー１０−デカノール（２５，
３η、８５％）を得た。
溶解し、封管中１８０Ｃで２０時間加熱した。溶媒を留
去後、残留物を７リカゲルカラムクロマトグラフイーく
ベキサン／エーテルニ１／１）で精！！後、１−１−ブ
チルンメチルシリルオキシー１０−デカノール（２５，
３η、８５％）を得た。
ＮＭＲδ（＋）Ｉ）ｍ） ； ３．４０〜３．７０ （
４１−１）、 １．１０〜１．６５ （１７Ｈ）、 ０
．９０ （９Ｈ，ｓ）＋０．０５ （６）Ｌ ｓ）。
４１−１）、 １．１０〜１．６５ （１７Ｈ）、 ０
．９０ （９Ｈ，ｓ）＋０．０５ （６）Ｌ ｓ）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）； ３４００，２９Ｂ０．２９００．
１４７０゜１２６０．１１０２，８４０．７８０ｃｒｎ
。
１４７０゜１２６０．１１０２，８４０．７８０ｃｒｎ
。
実施例３
〔２−オキサ−３−オキソ−６−ニキンー１−ブチルジ
メチルシリルオキシメチル−７−エンドーデトラヒドロ
ビラニルオキシビシクロ（３，３，０）オクタン） （
１０８ａｖ、０．３０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（０
，５１ａ／）に溶解し、−１ｋｊ管中１８０１．テ２゜
時間加熱した。溶媒を留去後、残留物を７す力ゲルカラ
ムクロマトダラフィーで精製し、〔２−オキサ−３−オ
キソ−６−エキソ−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−７−エンド−ヒドロキシビンクロ（３，３，０）
オクタン） （７５，０ｊＷ、 ９０チ）を得た。
メチルシリルオキシメチル−７−エンドーデトラヒドロ
ビラニルオキシビシクロ（３，３，０）オクタン） （
１０８ａｖ、０．３０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（０
，５１ａ／）に溶解し、−１ｋｊ管中１８０１．テ２゜
時間加熱した。溶媒を留去後、残留物を７す力ゲルカラ
ムクロマトダラフィーで精製し、〔２−オキサ−３−オ
キソ−６−エキソ−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−７−エンド−ヒドロキシビンクロ（３，３，０）
オクタン） （７５，０ｊＷ、 ９０チ）を得た。
ＮＭ）も δ （ｐｐｍ） ； ４．９０ （ＩＩ−Ｌ
ｍ）、４．１５ （ＩＨ。
ｍ）、４．１５ （ＩＨ。
ＡＢｑ）、 ３．６５ （２Ｈ，ｄｄ）、 ０．９０（
９）１． ｓ）＋ ｏ、ｏｓ （６Ｈ，ｓ）・１Ｒ（ｎ
ｅａｔ）； ３４６０，２９５０，２７８０゜１７７０
ｍ ’。
９）１． ｓ）＋ ｏ、ｏｓ （６Ｈ，ｓ）・１Ｒ（ｎ
ｅａｔ）； ３４６０，２９５０，２７８０゜１７７０
ｍ ’。
実施例４
ＨＰＯ
品
２−（６−メドキンカルボニルー２−Ｚ−ヘキセニル）
３−エキソ−１−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−４−エンドーテトシヒドロビラニルオキシ−１−７ク
ロベンチリデン（１８，９’％０．０４ｍｍｏｌ）を１
−ブチルアルコール（０，５ｍｌ ）に溶解し、封管中
１８０Ｃで２０時間加熱した。
３−エキソ−１−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−４−エンドーテトシヒドロビラニルオキシ−１−７ク
ロベンチリデン（１８，９’％０．０４ｍｍｏｌ）を１
−ブチルアルコール（０，５ｍｌ ）に溶解し、封管中
１８０Ｃで２０時間加熱した。
溶媒を留去後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサノ／エーテル・１／１）で精製し２−（
６−メドキシカルボニルー２−Ｚ−へキセニル）−３−
エキソ−１−ブチルジメチルシリルオキシメチル−４−
エンド−ヒドロキシ−１−シクロペンチリデン（１４，
１ｑ、９２チ）を得た。
フィー（ヘキサノ／エーテル・１／１）で精製し２−（
６−メドキシカルボニルー２−Ｚ−へキセニル）−３−
エキソ−１−ブチルジメチルシリルオキシメチル−４−
エンド−ヒドロキシ−１−シクロペンチリデン（１４，
１ｑ、９２チ）を得た。
ＮＭＲδ（１）Ｉ）ｍ） ； ５．４０ （２Ｈ）、
４．８０〜４．９５（２Ｈ）、３．３０〜４．２０ （
４Ｈ）、 ３．６５（３Ｈ，ｓ）、 ０．９０ （９Ｈ
，ｓ）、 ０．１０（６１ｔＳ）・ ＩＲ（ｎｅａｔ）； ３４５０，２９５０．２７８０，
１７４５゜１７３０ （ｓｈ−）ｔＭ−’。
４．８０〜４．９５（２Ｈ）、３．３０〜４．２０ （
４Ｈ）、 ３．６５（３Ｈ，ｓ）、 ０．９０ （９Ｈ
，ｓ）、 ０．１０（６１ｔＳ）・ ＩＲ（ｎｅａｔ）； ３４５０，２９５０．２７８０，
１７４５゜１７３０ （ｓｈ−）ｔＭ−’。
Ｍａ ｓ ｓ ｍｌｚ （％）； ３２５ （２３）、
２３３ （３２）。
２３３ （３２）。
２０１ （４０）、 １８３ （２２）、 １５９（２
７）、７５（１００）。
７）、７５（１００）。
Ｍｉ ｌ ｉ −ＭＳ ； ３２５．１８３２ （Ｍ＋
−５７）。
−５７）。
Ｍ”−５７＝（ｇ７Ｈ２ｇＵ４Ｓｉ ＝３２５．１８３
３゜ 実施例５ ４−（２−テトラヒドロビラニルオキシエチル）−アゼ
チジン−２−オン（２６，４ｑ＋ ０．０８４ｍｍｏｌ
）をｔ−アミルアルコール（０，５５Ｉｊ）に溶解し、
封管中１ｓｏｃで２０時間加熱した。溶媒？１１−笛去
裳、残留物を７リカゲルカラムクロマトグラフイー（メ
チレンクロリド／アセトン−４／１）により精製し、４
−（２−ヒドロキシ−エチル）−アゼチジン−２−オン
（１３，８岬、７１％）を粘癩な油状？！Ｉ負として侍
た。
３゜ 実施例５ ４−（２−テトラヒドロビラニルオキシエチル）−アゼ
チジン−２−オン（２６，４ｑ＋ ０．０８４ｍｍｏｌ
）をｔ−アミルアルコール（０，５５Ｉｊ）に溶解し、
封管中１ｓｏｃで２０時間加熱した。溶媒？１１−笛去
裳、残留物を７リカゲルカラムクロマトグラフイー（メ
チレンクロリド／アセトン−４／１）により精製し、４
−（２−ヒドロキシ−エチル）−アゼチジン−２−オン
（１３，８岬、７１％）を粘癩な油状？！Ｉ負として侍
た。
ＮＭＩＬ δ（ｐｐｍ） ； ０．２６ （ｓ＋ ６Ｈ
） ０．９８ （ｓ、 ９Ｈ）。
） ０．９８ （ｓ、 ９Ｈ）。
１．８（１−２，２８（ｍ＋ ２Ｈ）、 ２．６９ ＜
ｄｄ。
ｄｄ。
Ｊ：）５．３Ｈｚ、 ＩＨ）、 ３．２０ （ｄｄ、
Ｊ＝１５．５Ｈｚ＋ ＩＨ）１３．７４ （１，Ｊ＝＝
７Ｈｚ。
Ｊ＝１５．５Ｈｚ＋ ＩＨ）１３．７４ （１，Ｊ＝＝
７Ｈｚ。
２Ｈ）、 ３．６０〜４．３５ （ｍ、 ２Ｈ）−１１
（、（ｎｅａｔ）； ３４１０＋ １７１８ｃｙ ’。
（、（ｎｅａｔ）； ３４１０＋ １７１８ｃｙ ’。
実施例６
ＴＨＰＯＵＳ＋−
９α、１５α−ジ−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−
１１α−テトラヒドロビラニルオキシプロスターシス−
５−トランス−１３−）エン酸メチルエステル（２３５
ａｒ＋ ０．３４６ｍｍｏｌ） ′ｊｔ無水トルエン（
２，５ｍ）に溶解し、脱気後封管して１９０Ｃにて３０
時間加熱した。溶媒を粕去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製しくヘキサン／エーテル＝５／
１）、９α、１５α−ジー１−ブチルジメチルシリルオ
キシ−１１α−ヒドロキシブロスターシス−５７トラン
スー１３−ジエン醒メチルエステル（１３５〜、６６％
）をほぼ無色油状物負として得た。
１１α−テトラヒドロビラニルオキシプロスターシス−
５−トランス−１３−）エン酸メチルエステル（２３５
ａｒ＋ ０．３４６ｍｍｏｌ） ′ｊｔ無水トルエン（
２，５ｍ）に溶解し、脱気後封管して１９０Ｃにて３０
時間加熱した。溶媒を粕去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製しくヘキサン／エーテル＝５／
１）、９α、１５α−ジー１−ブチルジメチルシリルオ
キシ−１１α−ヒドロキシブロスターシス−５７トラン
スー１３−ジエン醒メチルエステル（１３５〜、６６％
）をほぼ無色油状物負として得た。
ＮＭＲ（＋ （ｐｐｍ） ； ｓ、２０〜５．７０ （
４Ｈ）、 ４．２５（１１（）、 ３．６５〜４．２０
（ＩＨ）、 ３．６５ （３Ｈ，ｓ）、 ０．９０
（２１Ｈ）・ＩＲ（ｎｅａｔ）； ３５００＋ １７５
０ｃｍ ’。
４Ｈ）、 ４．２５（１１（）、 ３．６５〜４．２０
（ＩＨ）、 ３．６５ （３Ｈ，ｓ）、 ０．９０
（２１Ｈ）・ＩＲ（ｎｅａｔ）； ３５００＋ １７５
０ｃｍ ’。
ＭＳ ｍ／ｚ （％）； ５４０ （１６）、５３９
（３６）、４４７（１０）、４０８ （１０）、４０７
（３１）。
（３６）、４４７（１０）、４０８ （１０）、４０７
（３１）。
３１６ （１１）、３１５ （３４）、２８３（１，４
）、２４１ （１６）、２１５ （１４）。
）、２４１ （１６）、２１５ （１４）。
２０１ （１ｏ）、７３ （１００）。
Ｍｉｌｉ −１’ｖｌｓ ； ５３９−３５９３ （Ｍ
＋−５７）Ｍ＋−５７＝＝Ｃ２，Ｈ５，Ｑ５Ｓｉ ２：
＝＝５３９．３５８６ 〔α禄０；＋１６．５° （ｃ＝１７６ ＣＨＣｌ３）
実施例７ ９α−トリエチルノリルオキシー１１α−テトラヒドロ
ビラニルオキシ １５α−１−プチルンメチルシリルオ
キシブロスターシス−５「トランス−１３−ジエン酸メ
チルエフフル（２００〜。
＋−５７）Ｍ＋−５７＝＝Ｃ２，Ｈ５，Ｑ５Ｓｉ ２：
＝＝５３９．３５８６ 〔α禄０；＋１６．５° （ｃ＝１７６ ＣＨＣｌ３）
実施例７ ９α−トリエチルノリルオキシー１１α−テトラヒドロ
ビラニルオキシ １５α−１−プチルンメチルシリルオ
キシブロスターシス−５「トランス−１３−ジエン酸メ
チルエフフル（２００〜。
０．２９４ｍｍｏ ｌ ）を無水）ルエ／（２ｒｎｌ）
に溶解し、脱気後封管して１９０Ｃにて２８時間加熱し
た。
に溶解し、脱気後封管して１９０Ｃにて２８時間加熱し
た。
＃媒を宙去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製しくヘキサン／エーテル−５／ｌ）９α−トリ
エチルシリルオキ７−１１α−ヒドロキシ−１５α−ｔ
−プチルジメチルンリルオキシグロスターシス−５−ト
ランス−１３−）エン酸メチルエステル＜４１１’Ｗ、
６９％）をは＃１無色油状物賀として侍た。
より精製しくヘキサン／エーテル−５／ｌ）９α−トリ
エチルシリルオキ７−１１α−ヒドロキシ−１５α−ｔ
−プチルジメチルンリルオキシグロスターシス−５−ト
ランス−１３−）エン酸メチルエステル＜４１１’Ｗ、
６９％）をは＃１無色油状物賀として侍た。
ＮＭ１七 δ（１）Ｉ）ｍ） ； ５．２０〜５−７０
（４Ｈ）、 ４．２５（ｌｌ−１）、３．６５〜４．
１ ５ （］ ＩＩ）、３．６５（３１４，ｓ）＋ ０
．８０〜１．００ （２１＋１） 。
（４Ｈ）、 ４．２５（ｌｌ−１）、３．６５〜４．
１ ５ （］ ＩＩ）、３．６５（３１４，ｓ）＋ ０
．８０〜１．００ （２１＋１） 。
０．４０〜０．８０ （６Ｈ）。
ＩＲ； ３５０５．１７４７ｃＩｎ”
ＭＳ ｍ／ｚ （％）； ５４０ （１３）、５３９
（３０）。
（３０）。
４０７ （３１）、３１６ （１２）、３１５（３５）
、２１５ （１５）、７３ （１００）。
、２１５ （１５）、７３ （１００）。
特許出願人
Claims (2)
- （１）分子内に一種以上のアセタール型保護基及びシリ
ルエーテル型保護基を持つ化合物を加熱処理することか
らなる、アセタール型保護基の選択的脱保護法。 - （２）１００〜２５０Ｃで加熱処理することからなる、
特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59108607A JPS60255797A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | アセタ−ル型保護基の選択的脱保護法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59108607A JPS60255797A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | アセタ−ル型保護基の選択的脱保護法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255797A true JPS60255797A (ja) | 1985-12-17 |
| JPH034558B2 JPH034558B2 (ja) | 1991-01-23 |
Family
ID=14489083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59108607A Granted JPS60255797A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | アセタ−ル型保護基の選択的脱保護法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60255797A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7534852B2 (en) | 1997-09-10 | 2009-05-19 | Rutgers, The State University Of New Jersey | Polyanhydrides with therapeutically useful degradation products |
| US8088405B2 (en) | 1999-12-07 | 2012-01-03 | Rutgers, The State University of New Jersery | Therapeutic compositions and methods |
-
1984
- 1984-05-30 JP JP59108607A patent/JPS60255797A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7534852B2 (en) | 1997-09-10 | 2009-05-19 | Rutgers, The State University Of New Jersey | Polyanhydrides with therapeutically useful degradation products |
| US8088405B2 (en) | 1999-12-07 | 2012-01-03 | Rutgers, The State University of New Jersery | Therapeutic compositions and methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH034558B2 (ja) | 1991-01-23 |
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