JPS6025174B2 - 湿式ガス処理装置 - Google Patents
湿式ガス処理装置Info
- Publication number
- JPS6025174B2 JPS6025174B2 JP52028651A JP2865177A JPS6025174B2 JP S6025174 B2 JPS6025174 B2 JP S6025174B2 JP 52028651 A JP52028651 A JP 52028651A JP 2865177 A JP2865177 A JP 2865177A JP S6025174 B2 JPS6025174 B2 JP S6025174B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- guide
- processing chamber
- gas
- chamber
- cone guide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Separating Particles In Gases By Inertia (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
- Cyclones (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は公害防止等に使用する湿式ガス処理装置に関す
るものであり、さらに詳言するとガスの除じん、脱臭、
脱硫、脱硝等の湿式浄化処理又はガス体と一種類以上の
液体との反応処理を連続的に行う簡単でエネルギー消費
の少ない装置に係わるものである。
るものであり、さらに詳言するとガスの除じん、脱臭、
脱硫、脱硝等の湿式浄化処理又はガス体と一種類以上の
液体との反応処理を連続的に行う簡単でエネルギー消費
の少ない装置に係わるものである。
従来の湿式ガス処理装置、例えばスクラバーは、処理室
内に処理液すなわち水を強制頃霧するか又はガスをベン
チュリで絞りそこへ水を噴射している。
内に処理液すなわち水を強制頃霧するか又はガスをベン
チュリで絞りそこへ水を噴射している。
したがって、水又はガスのどちらかのへツドをかなり高
くしなければならないので、エネルギーの消費は比較的
大きい。その上、処理したガス中には相当量の無が含ま
れるので、デミスター等を付設する必要があり、それだ
け装置が複雑になると共にその抵抗分だけエネルギー消
費も増加する。又、ノズル等の保守に相当な手間を要す
る。したがって、構造の簡単なエネルギー消費の少ない
緑式処理装置が要望されているのは当然である。本発明
は上記要望に応じ得る湿式ガス処理装置を提供すること
を目的とし、その要旨とするところは、中空円筒形の処
理室に渦流案内羽根を同軸に配設して上下の二室に区画
し、下室に吸入ダクトを接線方向に接続閉口し、上室に
下から順に正立切頭円すい形の下コーンガイド、倒立円
すし、ガイド、倒立切頭円すい形の上コーンガイド、及
び排出ダクトを同軸に配設し、処理液流入口を渦流案内
羽根の鞠心においてそれよりわずかに高い位置に閉口し
、少くとも下コーンガイドの外周と処理室内面を連結し
て環状溝状のレザーブを形成し、排出ダクトを吸引ファ
ンに連結して吸入ダクトよりガスを吸入し、渦流案内羽
根上面及び上室内部において処理液流出口より流出する
処理液とガスを接触させてガスを処理し、ガス中に飛上
った処理液の霧滴を倒立円錐ガイドと上コーンガイドで
ガスから分離してリザーブに落とし、処理したガスのみ
を排出ダクトから排気するようにしたことにある。
くしなければならないので、エネルギーの消費は比較的
大きい。その上、処理したガス中には相当量の無が含ま
れるので、デミスター等を付設する必要があり、それだ
け装置が複雑になると共にその抵抗分だけエネルギー消
費も増加する。又、ノズル等の保守に相当な手間を要す
る。したがって、構造の簡単なエネルギー消費の少ない
緑式処理装置が要望されているのは当然である。本発明
は上記要望に応じ得る湿式ガス処理装置を提供すること
を目的とし、その要旨とするところは、中空円筒形の処
理室に渦流案内羽根を同軸に配設して上下の二室に区画
し、下室に吸入ダクトを接線方向に接続閉口し、上室に
下から順に正立切頭円すい形の下コーンガイド、倒立円
すし、ガイド、倒立切頭円すい形の上コーンガイド、及
び排出ダクトを同軸に配設し、処理液流入口を渦流案内
羽根の鞠心においてそれよりわずかに高い位置に閉口し
、少くとも下コーンガイドの外周と処理室内面を連結し
て環状溝状のレザーブを形成し、排出ダクトを吸引ファ
ンに連結して吸入ダクトよりガスを吸入し、渦流案内羽
根上面及び上室内部において処理液流出口より流出する
処理液とガスを接触させてガスを処理し、ガス中に飛上
った処理液の霧滴を倒立円錐ガイドと上コーンガイドで
ガスから分離してリザーブに落とし、処理したガスのみ
を排出ダクトから排気するようにしたことにある。
吸引ファンのヘッドは−１０仇ｈｍＡｑ以下で十分であ
る。
る。
又、処理液の流出ヘッドは０なし、し−５仇ｈｍＡｑと
して処理液が流出口から吸引ファンの作用により吸出さ
れて流出するようにすることが望ましい。レザーブは下
コーンガイドだけでなく、上コーンガイドの外周と処理
室の内周の間にも形成し、それぞれにドレーンパィプを
連続する。ドレーンパィプは下室の底部にも取付ける。
排出ダクト径は吸入ダクト径に等しいかやや大きく形成
し、上コーンガイドの下内径は排出ダクトの入口内径に
ほぼ等しく形成し、円すし、ガイドの頂角は９０ｏとし
て外径はその位置まで上コーンガイドを延長した場合の
内径に等しかやや小さく形成することが望ましい。本発
明の処理装置を図面に示す実施例に基づいて説明する。
第１図ないし第３図に示すように、本発明のスクラバー
においては、直立して設置した円筒処理室１の内部を渦
流板２により下室３と上室４に区画している。下室４に
は被処理ガスを供給する吸入ダクト５が接線ないし弦方
向に開□し、処理液パイプ６は下室４の中心を鞠方向に
貫通して渦流板２の上面よりわずかに突出した位置にそ
の流出口７を開□する。渦流板２において同心等に間隔
に並ぶ複数個の扇状の三方を切り、下方に傾斜させて渦
流案内羽根８を形成する。上室４の源流板２の上方に下
コーンガイド９を取付け、その下周緑を処理室１の内面
に連結して下しザーブ１０を形成する。下コーンガイド
９は正立円すし、台形であり、その底面の直径は処理室
１の９割程度にする。下コーンガイド９の上方に処理室
１内を水平に渡るサポート１１を設け、そのサポートに
頂角９００倒立円すし、ガイド１２を取付ける。
して処理液が流出口から吸引ファンの作用により吸出さ
れて流出するようにすることが望ましい。レザーブは下
コーンガイドだけでなく、上コーンガイドの外周と処理
室の内周の間にも形成し、それぞれにドレーンパィプを
連続する。ドレーンパィプは下室の底部にも取付ける。
排出ダクト径は吸入ダクト径に等しいかやや大きく形成
し、上コーンガイドの下内径は排出ダクトの入口内径に
ほぼ等しく形成し、円すし、ガイドの頂角は９０ｏとし
て外径はその位置まで上コーンガイドを延長した場合の
内径に等しかやや小さく形成することが望ましい。本発
明の処理装置を図面に示す実施例に基づいて説明する。
第１図ないし第３図に示すように、本発明のスクラバー
においては、直立して設置した円筒処理室１の内部を渦
流板２により下室３と上室４に区画している。下室４に
は被処理ガスを供給する吸入ダクト５が接線ないし弦方
向に開□し、処理液パイプ６は下室４の中心を鞠方向に
貫通して渦流板２の上面よりわずかに突出した位置にそ
の流出口７を開□する。渦流板２において同心等に間隔
に並ぶ複数個の扇状の三方を切り、下方に傾斜させて渦
流案内羽根８を形成する。上室４の源流板２の上方に下
コーンガイド９を取付け、その下周緑を処理室１の内面
に連結して下しザーブ１０を形成する。下コーンガイド
９は正立円すし、台形であり、その底面の直径は処理室
１の９割程度にする。下コーンガイド９の上方に処理室
１内を水平に渡るサポート１１を設け、そのサポートに
頂角９００倒立円すし、ガイド１２を取付ける。
円すし、ガイド１２の上方に側周を処理室１の内面に連
結した上コーンガイド１３を設けると共に上りザーブ１
４を形成する上コーンガイド１３にわずかに入口のはま
排出ダクト１５を処理室１の天井に取付ける。各ガイド
９，１２，１３及び排出ダクト１５の入口は、渦流板２
、流出口７と共に処理室１の軸心に同軸に配置する。排
出ダクト１５の内径は吸入ダクト５に等しいか又はや）
大きなものとし、吸入ダクト５の内径は処理室１の内半
径よりも小さいものにする。上コーンガイド１３の下内
蓬は排出ダクト１５の入口内径に等しいかや大きく、円
すし、ガイド１２の外径は上コーンガイド１３をその位
置まで延長した場合の内径よりもやや小さく形成する排
出ダクト１５は少くとも１０伍ｈｍａｑ程度の吸引ヘッ
ドを持つファン１ ６に接続する。
結した上コーンガイド１３を設けると共に上りザーブ１
４を形成する上コーンガイド１３にわずかに入口のはま
排出ダクト１５を処理室１の天井に取付ける。各ガイド
９，１２，１３及び排出ダクト１５の入口は、渦流板２
、流出口７と共に処理室１の軸心に同軸に配置する。排
出ダクト１５の内径は吸入ダクト５に等しいか又はや）
大きなものとし、吸入ダクト５の内径は処理室１の内半
径よりも小さいものにする。上コーンガイド１３の下内
蓬は排出ダクト１５の入口内径に等しいかや大きく、円
すし、ガイド１２の外径は上コーンガイド１３をその位
置まで延長した場合の内径よりもやや小さく形成する排
出ダクト１５は少くとも１０伍ｈｍａｑ程度の吸引ヘッ
ドを持つファン１ ６に接続する。
処理液パイプ６は流出口よりも所定値、例えば２仇ｈｍ
Ａｑ低いヘッドに維持した処理液槽１ ７に連結されて
いる。
Ａｑ低いヘッドに維持した処理液槽１ ７に連結されて
いる。
下室３、下しザーブ１０、上しザーブ１４にはそれぞれ
ドレーン抜パイプ１８，１９，２０を接続しドレーンを
排出する。第４図に示すように、処理液槽等の定へッド
処理液供給装置を二個以上設け、各供給装置から処理液
パイプ６１，６２を渦流板の中心へ配管しそれらの流出
口を同軸多重管７川こ形成すれば、二種類以上の処理液
を使用することも可能である。
ドレーン抜パイプ１８，１９，２０を接続しドレーンを
排出する。第４図に示すように、処理液槽等の定へッド
処理液供給装置を二個以上設け、各供給装置から処理液
パイプ６１，６２を渦流板の中心へ配管しそれらの流出
口を同軸多重管７川こ形成すれば、二種類以上の処理液
を使用することも可能である。
次に、本発明の装置によるガスの除じん処理について説
明する吸引ファン１６の作用により有害粉じん等を含む
被処理ガスは、第１図において複線矢印で示すように、
吸入ダクト５を通して処理室１の下室３内へ吸入されて
施回し、渦流板２の渦流案内羽根８に沿って渦流状に上
室４へ流入する。一方、実線の矢印で示すように、パイ
プ６内において流出口７よりも低いヘッドに維持されて
いた処理液である水も引ファン１６の作用を受けて流出
口７より吸上げられ、渦流板２の渦流案内羽根８の上面
に沿って水腰を形成しながら下室３へ流下する。したが
って、渦流案内羽根８面に沿つて流下する水と上昇する
ガスとが接触し、ガス中の粉じん等は水膜に捕そくされ
水と共に下室３へ流下する。残りの水は、点線の矢印で
示すように、ガスと共に飛末となって上昇しガス中に残
っている粉じんを緒そくして下しザープ１０内に落ちる
。すなわち、ガスは下コーンガイド９を通過した後に再
び円すし、ガイド１２より渦流状に広がり、粉じんと水
飛末は遠心力でガスから分離して処理室１の内周に当た
り、両者は結合して下しザーブ１０‘こ落下する。浄化
されたガスは上コーンガイド１３を経て排出ダクト１５
に入り吸引ファン１６により排出される。上コーンガイ
ド１３は上方に広がっているので、そこに残っている粉
じんと水飛末は渦流で排出ダクト１５に入らずに外側の
上しザーブ１４に落ちる。下室３の底部及び上下レザー
ブ１０，１４にたまった粉じんを含む水はドレーンパィ
プ１８，１９，２０１こより排出される。このようにガ
ス中の水滴は遠心力で除去され排出ガス中にはほとんど
含まれないので、湿式除じんであるにもかかわらずデミ
スタ一等の水分除去装置は不要である。しかし、他の湿
式除じん装置と同様に本発明の装置も溢式として除じん
効果が非常に高いことはいうまでもない。本発明の装置
はスクラバー以外にもガス処理装置として広範囲の用途
を有する。
明する吸引ファン１６の作用により有害粉じん等を含む
被処理ガスは、第１図において複線矢印で示すように、
吸入ダクト５を通して処理室１の下室３内へ吸入されて
施回し、渦流板２の渦流案内羽根８に沿って渦流状に上
室４へ流入する。一方、実線の矢印で示すように、パイ
プ６内において流出口７よりも低いヘッドに維持されて
いた処理液である水も引ファン１６の作用を受けて流出
口７より吸上げられ、渦流板２の渦流案内羽根８の上面
に沿って水腰を形成しながら下室３へ流下する。したが
って、渦流案内羽根８面に沿つて流下する水と上昇する
ガスとが接触し、ガス中の粉じん等は水膜に捕そくされ
水と共に下室３へ流下する。残りの水は、点線の矢印で
示すように、ガスと共に飛末となって上昇しガス中に残
っている粉じんを緒そくして下しザープ１０内に落ちる
。すなわち、ガスは下コーンガイド９を通過した後に再
び円すし、ガイド１２より渦流状に広がり、粉じんと水
飛末は遠心力でガスから分離して処理室１の内周に当た
り、両者は結合して下しザーブ１０‘こ落下する。浄化
されたガスは上コーンガイド１３を経て排出ダクト１５
に入り吸引ファン１６により排出される。上コーンガイ
ド１３は上方に広がっているので、そこに残っている粉
じんと水飛末は渦流で排出ダクト１５に入らずに外側の
上しザーブ１４に落ちる。下室３の底部及び上下レザー
ブ１０，１４にたまった粉じんを含む水はドレーンパィ
プ１８，１９，２０１こより排出される。このようにガ
ス中の水滴は遠心力で除去され排出ガス中にはほとんど
含まれないので、湿式除じんであるにもかかわらずデミ
スタ一等の水分除去装置は不要である。しかし、他の湿
式除じん装置と同様に本発明の装置も溢式として除じん
効果が非常に高いことはいうまでもない。本発明の装置
はスクラバー以外にもガス処理装置として広範囲の用途
を有する。
例えば、第５図に示すように、吸入ダクト５に粉粒活性
炭混入装置５０を付設してガス中に活性炭混入すると、
ガスの悪臭は活性炭に吸着され、活性炭は処理室１内に
おいて水で回収されるので、ガス脱臭装置として使用す
ることもできる。又、処理液として若硝水溶液等を使用
すると、本発明の装置は排煙脱硫脱硝装置として公害防
止の一端を担うことができる。さらに、気体と一種類以
上の液体の接触反応装置として使用できることも容易に
理解し得るであろう。又、第６図に示すように必要に応
じて本発明の装置を直列連結の多段方式にすれば、より
高度な処理を行うことができる。上記の通り、本発明の
装置は、ガスの湿式処理装置として、浄化、除じん、脱
臭、脱硫、脱硝、気液反応等に広範囲の用途を持ち、そ
の構造は簡単で可動部分が全くなく、製作並びに設置は
非常に容易である。
炭混入装置５０を付設してガス中に活性炭混入すると、
ガスの悪臭は活性炭に吸着され、活性炭は処理室１内に
おいて水で回収されるので、ガス脱臭装置として使用す
ることもできる。又、処理液として若硝水溶液等を使用
すると、本発明の装置は排煙脱硫脱硝装置として公害防
止の一端を担うことができる。さらに、気体と一種類以
上の液体の接触反応装置として使用できることも容易に
理解し得るであろう。又、第６図に示すように必要に応
じて本発明の装置を直列連結の多段方式にすれば、より
高度な処理を行うことができる。上記の通り、本発明の
装置は、ガスの湿式処理装置として、浄化、除じん、脱
臭、脱硫、脱硝、気液反応等に広範囲の用途を持ち、そ
の構造は簡単で可動部分が全くなく、製作並びに設置は
非常に容易である。
本発明の装置は緑式としての高い効率を持つが、従来の
湿式装置には不可欠であったデミスター等の水分除去装
置の付設は全く不要である。
湿式装置には不可欠であったデミスター等の水分除去装
置の付設は全く不要である。
第１図は本発明の装置の一実施例の縦断面図、第２図及
び第３図は第１図のローロ線、ｍ−ｍ線に沿うそれぞれ
の断面図、第４図ないし第６図は他の実施例を示す略図
である。 １・・・…処理室、２・・・・・・渦流板、３・・・・
・・下室、４・…・・上室、５・・・・・・吸入ダクト
、６・・・・・・処理液パイプ、７・・・・・・流出口
、８・・・・・・渦流案内羽機、９・・・・・・下コー
ンガイド、１０……下しザープ、１２円すし、ガイド、
１３……上コーンガイド、１４……上しザーブ、１５・
・・・・・排出ダクト、１６・・・・・・吸引ファン、
１７・・・・・・処理液供Ｖ給糟、１８，１９，２０…
…ドレーンパイプ。 第２図 第３図 第１図 第ム図 第５図 第６図
び第３図は第１図のローロ線、ｍ−ｍ線に沿うそれぞれ
の断面図、第４図ないし第６図は他の実施例を示す略図
である。 １・・・…処理室、２・・・・・・渦流板、３・・・・
・・下室、４・…・・上室、５・・・・・・吸入ダクト
、６・・・・・・処理液パイプ、７・・・・・・流出口
、８・・・・・・渦流案内羽機、９・・・・・・下コー
ンガイド、１０……下しザープ、１２円すし、ガイド、
１３……上コーンガイド、１４……上しザーブ、１５・
・・・・・排出ダクト、１６・・・・・・吸引ファン、
１７・・・・・・処理液供Ｖ給糟、１８，１９，２０…
…ドレーンパイプ。 第２図 第３図 第１図 第ム図 第５図 第６図
Claims (1)
- １ 直立円筒状処理室内に複数個の扇状案内羽根より成
る渦流板を配設して上下二室に区画し、下室に吸入ダク
トを接線方向に取付け、渦流板の中心に処理板パイプの
流出口を開口させ、渦流板の上方に正立切頭円すい形の
下コーンガイド、倒立円すいガイド、倒立切頭円すい形
の上コーンガイドを順設し、倒立円すい形ガイドの外側
を処理室内壁より引離して保持させ、上下コーンガイド
の下部を処理室内壁に連結してそれらの上部に環状溝状
の上下レザーブを形成させ、処理室の天井に吸引フアン
つきの排出ダクトを取付け該ダクトの入口を前記上コー
ンガイドの中心部に開口させ、処理室底部及びレザーブ
の外側にそれぞれドレーン抜パイプを接続させて成る湿
式ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52028651A JPS6025174B2 (ja) | 1977-03-17 | 1977-03-17 | 湿式ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52028651A JPS6025174B2 (ja) | 1977-03-17 | 1977-03-17 | 湿式ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53113771A JPS53113771A (en) | 1978-10-04 |
| JPS6025174B2 true JPS6025174B2 (ja) | 1985-06-17 |
Family
ID=12254405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52028651A Expired JPS6025174B2 (ja) | 1977-03-17 | 1977-03-17 | 湿式ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6025174B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5494177A (en) * | 1978-01-06 | 1979-07-25 | Iku Matsumoto | Wet gas treating device |
| JPS58177106A (ja) * | 1982-04-13 | 1983-10-17 | Jgc Corp | 多段式高流速気液接触装置 |
| JPS5980315A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-09 | World Honsha Kk | 脱臭方法及びその装置 |
| NO335786B1 (no) * | 2013-02-22 | 2015-02-16 | Marine Global Holding As | Marin eksosgassrensing |
-
1977
- 1977-03-17 JP JP52028651A patent/JPS6025174B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53113771A (en) | 1978-10-04 |
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