JPS60245132A - 電子ビ−ム露光装置等の電子レンズ - Google Patents

電子ビ−ム露光装置等の電子レンズ

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Publication number
JPS60245132A
JPS60245132A JP59100415A JP10041584A JPS60245132A JP S60245132 A JPS60245132 A JP S60245132A JP 59100415 A JP59100415 A JP 59100415A JP 10041584 A JP10041584 A JP 10041584A JP S60245132 A JPS60245132 A JP S60245132A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
electron beam
temperature
jacket
oil
Prior art date
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Pending
Application number
JP59100415A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaharu Ninomiya
二宮 正治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS60245132A publication Critical patent/JPS60245132A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/10Lenses
    • H01J37/14Lenses magnetic
    • H01J37/141Electromagnetic lenses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の@する技術分野〕 この発明は電子ビーム露光装置等の電子レンズに関する
〔従来技術とその問題点〕
一般に、電子ビーム露光装置に用いる電子レンズとして
は電磁レンズが広く使用されているが、この電磁レンズ
には数アンペアにも及ぶ電流を通じる為大量の熱を発生
し多くの不都合が生じている。すなわち励磁コイルから
発生する熱が被露光試料に到達して該被露光試料を熱膨
張させ露光されたパターンの寸法が所望の値から変化し
てしまうとか、発生ずる熱の為電子光学系の各部が熱膨
張して軸合わせが狂ったり特性が変化してパターンを誤
った位置に露光してしまう等である。
これらの不都合を除く為、従来は第1図に示す様にコイ
ル巻き枠1−’Pレンズヨーク2にパイプ3を嘔り付け
、該パイプ3の内側に温度調整した水を通す方法が用い
られていた。
しかしこの方法では、パイプ外壁の温度が水温より高(
なる事は避けられず、またパイプを溶接等でコイル巻き
枠やレンズヨークに取り付ける際に隙間な(配置する事
は加工上非常に困難であっ、た。
近年では電子ビーム露光装置で露光される回路パターン
が微細化されるに従って前述のパターン寸法や位置に許
容される誤差も小さくなっており、従来のコイル冷却方
法では不充分となって来ていた。
〔発明の目的〕
この発明は以上の欠点を改良し発熱により生じる不都合
をf、K<シた電、子レンズを提供することにある。
〔発明の概要〕
本究明は、励磁コイルをシリコンオイル中に浸漬し、そ
れを温度調整するものである。
〔発明の実施例〕
第2図は本発明による電子ビーム蕗光装置等の電子レン
ズの一実施例で、励磁コイル4を巻いたコイル巻き枠5
にジャケット6を組付ケ、該ジャケット内に温度調整機
7で温度調整したシリコンオイル8をポンプ9により流
入せしめ、励磁コイルを浸漬し、励起コイルで発生した
熱を受けて昇温したシリコンオイルを再び温度調整機に
戻す構成となっている。
斯くすれば励磁コイル4で発生した熱はほとんど全部が
シリコンオイル8に伝達され、ジャケット6’Pレンズ
ヨークlOの温度上昇はシリコンオイルの温度上昇より
低く押える事ができる。1夕uえば励起コイルが30ワ
ツトの発熱量がある場合、シリコンオイルの温度上昇%
 0.1°C以下に押える為には約10リツトル/分の
シリコンオイルを流す必要があるがこの程度の熱交換器
及びポンプは容易に実現でき、ジャケットやレンズヨー
クの温度上昇を0.1℃以下にする事ができる。
また、シリコンオイルを1更用するのは低粘度のものが
得られる為循環ポンプの負荷が小さい、熱伝導率が大な
為冷却能力にすぐれる、電気絶縁1生が良い為コイル弔
電1線の被覆にあるピンホールからの電流リークがない
、化学的に不活性な為周囲の材料を侵したり発錆させな
い等の性簀のバランスが他の冷却液、例えば水や変圧器
油等に比べて優れているからである。本究明は電子ビー
ム露光装置tこ限定されるものではなく、例えば電子顕
微鏡、電子ビームプローバ等励磁コイルの発熱の影響を
受けた場合に不都合が起きる装置に於いても同様の効果
を持つ事は明らかである。
〔発明の効果〕
以上の説明の如く、本発明により励磁コイルの発熱によ
る不都合をほとんど皆無にする事ができた。
【図面の簡単な説明】
第11図は従来用いられていた電子ビーム繕光装置等の
電子レンズの断面図、第2図は本発明による亀子ビーム
鑵光装置等の電子レンズの一実施例を不す断面図である
。 ■・・・コイル巻き枠、2・・・レンズヨーク、3・・
・パイプ、4・・・励磁コイル、5・・・コイル巻き枠
、6・・・ジャケット、7・・・温度調整機、8・・・
シリコンオイル、9・・・ポンプ、10・・・レンズヨ
ーク。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 励磁コイルをシリコンオイル中に浸漬し、該シリコンオ
    イルを温度調整することを特徴とTる遊子ビーム蕗光装
    置等の電子レンズ。
JP59100415A 1984-05-21 1984-05-21 電子ビ−ム露光装置等の電子レンズ Pending JPS60245132A (ja)

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