JPS60245132A - 電子ビ−ム露光装置等の電子レンズ - Google Patents
電子ビ−ム露光装置等の電子レンズInfo
- Publication number
- JPS60245132A JPS60245132A JP59100415A JP10041584A JPS60245132A JP S60245132 A JPS60245132 A JP S60245132A JP 59100415 A JP59100415 A JP 59100415A JP 10041584 A JP10041584 A JP 10041584A JP S60245132 A JPS60245132 A JP S60245132A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- electron beam
- temperature
- jacket
- oil
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 11
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 11
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の@する技術分野〕
この発明は電子ビーム露光装置等の電子レンズに関する
。
。
一般に、電子ビーム露光装置に用いる電子レンズとして
は電磁レンズが広く使用されているが、この電磁レンズ
には数アンペアにも及ぶ電流を通じる為大量の熱を発生
し多くの不都合が生じている。すなわち励磁コイルから
発生する熱が被露光試料に到達して該被露光試料を熱膨
張させ露光されたパターンの寸法が所望の値から変化し
てしまうとか、発生ずる熱の為電子光学系の各部が熱膨
張して軸合わせが狂ったり特性が変化してパターンを誤
った位置に露光してしまう等である。
は電磁レンズが広く使用されているが、この電磁レンズ
には数アンペアにも及ぶ電流を通じる為大量の熱を発生
し多くの不都合が生じている。すなわち励磁コイルから
発生する熱が被露光試料に到達して該被露光試料を熱膨
張させ露光されたパターンの寸法が所望の値から変化し
てしまうとか、発生ずる熱の為電子光学系の各部が熱膨
張して軸合わせが狂ったり特性が変化してパターンを誤
った位置に露光してしまう等である。
これらの不都合を除く為、従来は第1図に示す様にコイ
ル巻き枠1−’Pレンズヨーク2にパイプ3を嘔り付け
、該パイプ3の内側に温度調整した水を通す方法が用い
られていた。
ル巻き枠1−’Pレンズヨーク2にパイプ3を嘔り付け
、該パイプ3の内側に温度調整した水を通す方法が用い
られていた。
しかしこの方法では、パイプ外壁の温度が水温より高(
なる事は避けられず、またパイプを溶接等でコイル巻き
枠やレンズヨークに取り付ける際に隙間な(配置する事
は加工上非常に困難であっ、た。
なる事は避けられず、またパイプを溶接等でコイル巻き
枠やレンズヨークに取り付ける際に隙間な(配置する事
は加工上非常に困難であっ、た。
近年では電子ビーム露光装置で露光される回路パターン
が微細化されるに従って前述のパターン寸法や位置に許
容される誤差も小さくなっており、従来のコイル冷却方
法では不充分となって来ていた。
が微細化されるに従って前述のパターン寸法や位置に許
容される誤差も小さくなっており、従来のコイル冷却方
法では不充分となって来ていた。
この発明は以上の欠点を改良し発熱により生じる不都合
をf、K<シた電、子レンズを提供することにある。
をf、K<シた電、子レンズを提供することにある。
本究明は、励磁コイルをシリコンオイル中に浸漬し、そ
れを温度調整するものである。
れを温度調整するものである。
第2図は本発明による電子ビーム蕗光装置等の電子レン
ズの一実施例で、励磁コイル4を巻いたコイル巻き枠5
にジャケット6を組付ケ、該ジャケット内に温度調整機
7で温度調整したシリコンオイル8をポンプ9により流
入せしめ、励磁コイルを浸漬し、励起コイルで発生した
熱を受けて昇温したシリコンオイルを再び温度調整機に
戻す構成となっている。
ズの一実施例で、励磁コイル4を巻いたコイル巻き枠5
にジャケット6を組付ケ、該ジャケット内に温度調整機
7で温度調整したシリコンオイル8をポンプ9により流
入せしめ、励磁コイルを浸漬し、励起コイルで発生した
熱を受けて昇温したシリコンオイルを再び温度調整機に
戻す構成となっている。
斯くすれば励磁コイル4で発生した熱はほとんど全部が
シリコンオイル8に伝達され、ジャケット6’Pレンズ
ヨークlOの温度上昇はシリコンオイルの温度上昇より
低く押える事ができる。1夕uえば励起コイルが30ワ
ツトの発熱量がある場合、シリコンオイルの温度上昇%
0.1°C以下に押える為には約10リツトル/分の
シリコンオイルを流す必要があるがこの程度の熱交換器
及びポンプは容易に実現でき、ジャケットやレンズヨー
クの温度上昇を0.1℃以下にする事ができる。
シリコンオイル8に伝達され、ジャケット6’Pレンズ
ヨークlOの温度上昇はシリコンオイルの温度上昇より
低く押える事ができる。1夕uえば励起コイルが30ワ
ツトの発熱量がある場合、シリコンオイルの温度上昇%
0.1°C以下に押える為には約10リツトル/分の
シリコンオイルを流す必要があるがこの程度の熱交換器
及びポンプは容易に実現でき、ジャケットやレンズヨー
クの温度上昇を0.1℃以下にする事ができる。
また、シリコンオイルを1更用するのは低粘度のものが
得られる為循環ポンプの負荷が小さい、熱伝導率が大な
為冷却能力にすぐれる、電気絶縁1生が良い為コイル弔
電1線の被覆にあるピンホールからの電流リークがない
、化学的に不活性な為周囲の材料を侵したり発錆させな
い等の性簀のバランスが他の冷却液、例えば水や変圧器
油等に比べて優れているからである。本究明は電子ビー
ム露光装置tこ限定されるものではなく、例えば電子顕
微鏡、電子ビームプローバ等励磁コイルの発熱の影響を
受けた場合に不都合が起きる装置に於いても同様の効果
を持つ事は明らかである。
得られる為循環ポンプの負荷が小さい、熱伝導率が大な
為冷却能力にすぐれる、電気絶縁1生が良い為コイル弔
電1線の被覆にあるピンホールからの電流リークがない
、化学的に不活性な為周囲の材料を侵したり発錆させな
い等の性簀のバランスが他の冷却液、例えば水や変圧器
油等に比べて優れているからである。本究明は電子ビー
ム露光装置tこ限定されるものではなく、例えば電子顕
微鏡、電子ビームプローバ等励磁コイルの発熱の影響を
受けた場合に不都合が起きる装置に於いても同様の効果
を持つ事は明らかである。
以上の説明の如く、本発明により励磁コイルの発熱によ
る不都合をほとんど皆無にする事ができた。
る不都合をほとんど皆無にする事ができた。
第11図は従来用いられていた電子ビーム繕光装置等の
電子レンズの断面図、第2図は本発明による亀子ビーム
鑵光装置等の電子レンズの一実施例を不す断面図である
。 ■・・・コイル巻き枠、2・・・レンズヨーク、3・・
・パイプ、4・・・励磁コイル、5・・・コイル巻き枠
、6・・・ジャケット、7・・・温度調整機、8・・・
シリコンオイル、9・・・ポンプ、10・・・レンズヨ
ーク。
電子レンズの断面図、第2図は本発明による亀子ビーム
鑵光装置等の電子レンズの一実施例を不す断面図である
。 ■・・・コイル巻き枠、2・・・レンズヨーク、3・・
・パイプ、4・・・励磁コイル、5・・・コイル巻き枠
、6・・・ジャケット、7・・・温度調整機、8・・・
シリコンオイル、9・・・ポンプ、10・・・レンズヨ
ーク。
Claims (1)
- 励磁コイルをシリコンオイル中に浸漬し、該シリコンオ
イルを温度調整することを特徴とTる遊子ビーム蕗光装
置等の電子レンズ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59100415A JPS60245132A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 電子ビ−ム露光装置等の電子レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59100415A JPS60245132A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 電子ビ−ム露光装置等の電子レンズ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60245132A true JPS60245132A (ja) | 1985-12-04 |
Family
ID=14273347
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59100415A Pending JPS60245132A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 電子ビ−ム露光装置等の電子レンズ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60245132A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103038855A (zh) * | 2010-10-27 | 2013-04-10 | 株式会社Param | 电子透镜和电子束装置 |
EP3200216A1 (en) * | 2016-01-26 | 2017-08-02 | Advantest Corporation | Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5360557A (en) * | 1976-11-12 | 1978-05-31 | Hitachi Ltd | Electron lens |
JPS5360558A (en) * | 1976-11-12 | 1978-05-31 | Hitachi Ltd | Electron lens |
-
1984
- 1984-05-21 JP JP59100415A patent/JPS60245132A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5360557A (en) * | 1976-11-12 | 1978-05-31 | Hitachi Ltd | Electron lens |
JPS5360558A (en) * | 1976-11-12 | 1978-05-31 | Hitachi Ltd | Electron lens |
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EP2587517A1 (en) * | 2010-10-27 | 2013-05-01 | Param Corporation | Electron lens and the electron beam device |
EP2587517A4 (en) * | 2010-10-27 | 2014-05-07 | Param Corp | ELECTRON LENS AND ELECTRON BEAM DEVICE |
US9418815B2 (en) | 2010-10-27 | 2016-08-16 | Param Corporation | Tubular permanent magnet used in a multi-electron beam device |
EP3200216A1 (en) * | 2016-01-26 | 2017-08-02 | Advantest Corporation | Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus |
CN107017142A (zh) * | 2016-01-26 | 2017-08-04 | 爱德万测试株式会社 | 带电粒子束透镜装置、带电粒子束柱及带电粒子束曝光装置 |
TWI632586B (zh) * | 2016-01-26 | 2018-08-11 | 美商英特爾公司 | Charged particle beam lens device, charged particle beam cylinder, and charged particle beam exposure device |
US10049854B2 (en) | 2016-01-26 | 2018-08-14 | Intel Corporation | Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus |
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