JPS60239344A - Insulating paste for thick film printing - Google Patents

Insulating paste for thick film printing

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JPS60239344A
JPS60239344A JP9625284A JP9625284A JPS60239344A JP S60239344 A JPS60239344 A JP S60239344A JP 9625284 A JP9625284 A JP 9625284A JP 9625284 A JP9625284 A JP 9625284A JP S60239344 A JPS60239344 A JP S60239344A
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paste
insulating
insulating paste
pattern
zno
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Sunao Abe
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an insulating layer which is influenced by the resistance value of the substrate conductor only slightly in its preparation by using a paste consisting of a PbO-SiO2-B2O3 glass frit contg. a specified amt. of ZnO and TiO2. CONSTITUTION:An insulating paste compsn. for thick film printing consists of a base material having about 600 deg.C softening point selected from glass frits of PbO-SiO2-B2O3 system, contg. 5-15wt% ZnO and 50-80wt% TiO2 and vehicle. The insulating paste can provide a patterned insulating layer having high adhesion and good precision by the calcination at middle temp. region. Furthermore, a multilayered circuit, pattern, or head are obtd. without requiring selection of the kind of the substrate conductor.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、厚膜印刷用絶縁ペースト組成物に関する。特
に、本発明は、中温領域で焼成可能であり、精度のよい
パターンの焼成絶縁層が得られる絶縁ペースト組成物に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Field of Application) The present invention relates to an insulating paste composition for thick film printing. In particular, the present invention relates to an insulating paste composition that can be fired in a medium temperature range and provides a fired insulating layer with a highly accurate pattern.

(従来技術) 従来の絶縁ペーストは、ガラス フリットとビヒクルを
混合し、次に、3本ローラー混合機などの混合機により
均一混合しペースト状にすることにより作られた。この
−ような従来の絶縁ペーストには、非晶質と結晶化タイ
プの2種がある。非晶質ガラス ペーストとは、主に6
00°C以下で焼成できるものを云い、結晶化タイプ 
ガラス ペーストとは、850℃以上で焼成しなければ
ならないものである。
Prior Art Conventional insulation pastes are made by mixing glass frit and vehicle and then homogeneously mixing into a paste using a mixer, such as a three-roller mixer. There are two types of conventional insulation pastes: amorphous and crystalline. Amorphous glass paste mainly consists of 6
Crystallization type refers to those that can be fired at temperatures below 00°C.
Glass paste is something that must be fired at 850°C or higher.

このような従来の絶縁ペーストでは、第一に、非晶質の
場合は、銀電極の拡散が発生し、また結晶化タイツ−で
は、高温焼成が必要であり、下部電極の抵抗値が変化し
、安定性に欠ける。第二に、結晶化タイプの場合、更に
、酸、アルカリ等に浸漬すると、密着力がなくなり、又
、非晶質の場合、パターンのダレ発生か大きくなり、そ
して、パターン精度を失う。第三に、銀電極拡散が在る
ために、用いることのできる下部導体の種類に制約があ
り、選択の幅が狭い。このように従来の絶縁ペーストに
は、多層回路作成上、種々の制約、制限があり、使いに
くいものであった。
With such conventional insulation pastes, firstly, if the paste is amorphous, diffusion of the silver electrode will occur, and if the paste is crystallized, high temperature firing is required, which may change the resistance value of the lower electrode. , lacks stability. Second, in the case of a crystalline type, if it is further immersed in acid, alkali, etc., the adhesion will be lost, and in the case of an amorphous type, the pattern will sag significantly and the pattern accuracy will be lost. Third, due to the presence of silver electrode diffusion, there are restrictions on the types of lower conductors that can be used, and the range of selection is narrow. As described above, conventional insulating pastes have various restrictions and limitations in the production of multilayer circuits, and are difficult to use.

(発明の目的) 本発明は、以上のような従来の絶縁ペーストの問題点を
解決する事を目的としている。即ち、本発明は、下部導
体の抵抗値に対して製造工程上影響の少ない絶縁層を作
ることの出来る絶縁ペーストを提供することを目的とす
る。すなわち下部抵抗に対して層着性が良好で焼成によ
る印刷パターンのダレ発生がなく、精度のよいパターン
が得られ、史に、下部導体の種類を違択しない絶縁ペー
ストを提供する。
(Objective of the Invention) The object of the present invention is to solve the problems of conventional insulation pastes as described above. That is, an object of the present invention is to provide an insulating paste that can create an insulating layer that has little influence on the resistance value of the lower conductor in terms of manufacturing process. That is, the present invention provides an insulating paste that has good layer adhesion to the lower resistor, does not sag in the printed pattern due to firing, provides a highly accurate pattern, and is compatible with any type of lower conductor.

(発明の構成) 本発明の絶縁ペーストは、厚膜印刷用のもので本発明の
絶縁ペーストは、Pb0 8102 B2O3系のガラ
スフリットの中で軟化点が600℃付近のものをベース
として用い、添加物としてTiO2、〃0を用いて、そ
れに、ビヒクルを加えたものである。本発明の絶縁ペー
ストは、軟化点600℃付近のガラス フリット、Ti
O2、ZnO及びビヒクル1 硅4′臥幻′°4°−′
−1側味母08−混合し、ペースト状の絶縁ペーストを
作る。
(Structure of the Invention) The insulating paste of the present invention is for thick film printing, and the insulating paste of the present invention uses Pb0 8102 B2O3-based glass frit with a softening point of around 600°C as a base, and TiO2,〃0 was used as the substance, and a vehicle was added to it. The insulating paste of the present invention is made of glass frit with a softening point of around 600°C, Ti
O2, ZnO and vehicle 1 4'°4°-'
-1 side taste mother 08- Mix to make a pasty insulation paste.

本発明の絶縁ペーストを用いて回路、多層回路電気部品
を製造するには、例えば、アルミナ基板に下部電極を形
成し、其の上に本発明の絶縁ペーストを印刷し、750
℃付近の中湿度領域で焼成を行ない、更に、其の上に上
部電極を形成し、多層回路を形成すれはよい。
In order to manufacture circuits and multilayer circuit electrical components using the insulating paste of the present invention, for example, a lower electrode is formed on an alumina substrate, the insulating paste of the present invention is printed thereon, and
It is preferable to perform firing in a medium humidity region around 0.degree. C., and then form an upper electrode thereon to form a multilayer circuit.

本発明の絶縁ペーストの組成割合は、 PbO−5j02− B2O3系のガラス フリットに
対して、その重量を基礎として、znOを5〜15重量
s、TiQzを50〜80重量係添加した組成割合であ
る。
The composition ratio of the insulating paste of the present invention is as follows: based on the weight of PbO-5j02-B2O3-based glass frit, 5 to 15 weight s of znO and 50 to 80 weight s of TiQz are added. .

ZnOは、主に結晶核形成剤として、効果があり、通常
は10チ前後の量で用いられる。
ZnO is effective mainly as a crystal nucleating agent, and is usually used in an amount of about 10%.

ZnOの添加量が5重量%以上であると、焼成後の絶紘
膜の表面に凹凸ができ、才たピンホールができやすくな
り、そのため、絶縁性が悪くなる。
If the amount of ZnO added is 5% by weight or more, the surface of the diaphragm film after firing becomes uneven and easy to form pinholes, resulting in poor insulation properties.

かO添加量が15重量%以上であると、やはり、ピンホ
ールかできやすくなり、絶縁性が悪くなる。
If the amount of O added is 15% by weight or more, pinholes are likely to form, resulting in poor insulation.

TiO2の添加は、主に、焼成時の流動を防止するのに
効果があるためである。
This is because the addition of TiO2 is mainly effective in preventing flow during firing.

Tt02の添加量が50重量%以下であると、パターン
のブレが生じ、パターン寸法変化率が大きくなり、パタ
ーン精度が落ちる。史に、絶縁抵抗値が低くなり、絶縁
性に問題が生じ、またM拡散にも問題が生じ易い。’[
” i 02添加Iが80重量%を超えるき、絶縁抵抗
性に問題が生じ、且つ、酸、アルカリ浸漬後の密着性(
剥離)が悪くなる。
If the amount of Tt02 added is less than 50% by weight, pattern blur will occur, pattern dimensional change rate will increase, and pattern accuracy will decrease. Historically, the insulation resistance value has become low, causing problems in insulation, and also tends to cause problems in M diffusion. '[
"i02 When the additive I exceeds 80% by weight, problems occur in insulation resistance, and the adhesion after acid or alkali immersion (
peeling) becomes worse.

(発明の実施例) 第1表の3つの成分を、前述の如く混合し、3本ローラ
ー混合機で均一混合し、絶縁ペーストを作る。
(Example of the Invention) The three components shown in Table 1 are mixed as described above and uniformly mixed using a three-roller mixer to form an insulation paste.

第1表 実施例(1)〜(7)の各絶縁ペーストを、第2表に示
す重量比で作る。
Each of the insulating pastes of Examples (1) to (7) in Table 1 was prepared in the weight ratio shown in Table 2.

第2表 (1) 1 09 0.1 1.0 (2110B O,10,95 (3) 1 0.7 0.1 0.9 (4) 1 oBolo、5 (5) 1 0S O,10,6 (6) 1 (1130,10,6 (7111/l 01 1.25 ビヒクルは、重量比で他の3成分(ガラスフリット−T
i02− ZnO) 1に対して、約0.5の割合で添
加した。ビヒクルの添加量は、絶縁ペーストの印刷性(
印刷後の絶縁ペーストの表面平担特性、タレ)を考慮し
て決められる。印刷性を満足するレベルの1例が、上記
のものであるが、下部体の特性などに依存するものであ
り、−概に決められないものである。
Table 2 (1) 1 09 0.1 1.0 (2110B O,10,95 (3) 1 0.7 0.1 0.9 (4) 1 oBolo, 5 (5) 1 0S O,10, 6 (6) 1 (1130,10,6 (7111/l 01 1.25)
i02- ZnO) It was added at a ratio of about 0.5 to 1. The amount of vehicle added is determined by the printability of the insulating paste (
It is determined by considering the surface flatness and sag of the insulating paste after printing. An example of a level that satisfies the printability is the one mentioned above, but it depends on the characteristics of the lower body, etc., and cannot be generally determined.

第2表に示した実施例の各絶縁ペーストによって作った
絶縁層及び、従来の非晶質及び結晶化りイブの絶縁層に
ついて、焼成後及び酸、アルカリ浸漬後の密着性、下部
導体に対する反応性、下部導体の抵抗値変化、パターン
のダレ(パターン寸法変化率)及び絶縁抵抗性などの物
理特性を測定した。其の比較結果を第3表に示す。
Regarding the insulating layers made with the insulating pastes of the examples shown in Table 2 and the conventional amorphous and crystallized insulating layers, the adhesion after firing and immersion in acid and alkali, and the reaction to the lower conductor. Physical properties such as resistance, change in resistance value of the lower conductor, sagging of the pattern (rate of change in pattern dimension), and insulation resistance were measured. The comparison results are shown in Table 3.

第3表 本発明のガラスペースト 市販のガラスペースト実施例 番 号(11(21(31(4) (51(6) (7
) 非晶質 結晶質請 目 ABCD 密着性 焼 成 後 ○ ○ OO○ ○ ○ ○ ○ ○ ム
醍−アルカリ 浸 漬 後ム○○○○○×○○×× 下部導体 hu OO’OOO○ ○ 0000 Ag Q○○QO△○××○Q 抵 抗 oooooo ○ ○ Δ × ×パターンの
ダレ OO○ ○ Δ X ○ × × Δ ○、 e
*4″1 °0000°x x x OO*密着性測定
は、セロテースによる試験により行なった。Δ印は、一
部剥離したものであり、x印は、半分以上の面積が剥離
したものである。
Table 3 Glass paste of the present invention Commercially available glass paste Example number (11 (21 (31 (4) (51 (6) (7)
) Amorphous Crystalline material ABCD After adhesion firing ○ ○ OO○ ○ ○ ○ ○ ○ After immersion in alkaline ○○○○○×○○×× Lower conductor hu OO'OOOO○ ○ 0000 Ag Q○○QO△○××○Q Resistance ooooooo ○ ○ Δ × × Pattern sag OO○ ○ Δ X ○ × × Δ ○, e
*4″1 °0000°x x x OO *Adhesion measurement was performed by a test using Serotes. The Δ mark indicates that a portion of the adhesive has peeled off, and the x mark indicates that more than half of the area has peeled off. .

*下部導体は、絶縁ペーストにより作られた絶縁層とそ
の下にある導体との反応について、観察した結果を示す
。Au及び、鵠の導体について観察した。Ag拡散の著
しいものは、X印で示す。抵抗は、絶縁ペースト焼成に
よる抵抗値変化のを示す。Δ印は、5%以下で、x印は
、10%以上である。
*The lower conductor shows the results of observations regarding the reaction between the insulating layer made of insulating paste and the conductor underneath. Observations were made regarding Au and Mouse conductors. Significant Ag diffusion is indicated by an X mark. Resistance indicates the change in resistance value due to insulation paste firing. The Δ mark is 5% or less, and the x mark is 10% or more.

−*パターンのダレは、焼成工程による、絶縁層パター
ン精度の但滅の程度を示し、06ビツチ、0.25キヤ
ツプのパターンで325Mスクリーン印刷について、測
定した。
-*Pattern sag indicates the degree of degradation of insulating layer pattern accuracy due to the baking process, and was measured for 325M screen printing with a 06 bit, 0.25 cap pattern.

*絶縁抵抗は、絶縁ペーストにより製造したカラス絶縁
薄膜(30μm)を導体の間に挾んで、100■印加し
た時の絶縁抵抗性を示している。
*Insulation resistance indicates the insulation resistance when a glass insulation thin film (30 μm) made of insulation paste is sandwiched between conductors and an applied voltage of 100 μm is applied.

*実施例(1)〜(7)は、第2表に示す組成割合のも
のである。
*Examples (1) to (7) have the composition ratios shown in Table 2.

*○印は、良、Δ印は、可、x印は否を表わす。*○ mark indicates good, Δ mark indicates pass, and x mark indicates fail.

測定した絶縁抵抗値及びパターンのダレの程度(パター
ン寸法変化率)については、第1図(a)のグラフに示
す。
The measured insulation resistance value and degree of pattern sag (pattern dimensional change rate) are shown in the graph of FIG. 1(a).

市販のガラスフリット、サンプルA、B、C。Commercially available glass frits, samples A, B, and C.

Dについて、測定した絶縁抵抗値及びパターン寸法変化
率を第4表に示す。
Table 4 shows the measured insulation resistance value and pattern dimensional change rate for D.

第4表 サンプルA 非晶質 5に0 55% t+ Btt 2にΩ 110% 〃 C結晶質500GΩ 25% *絶縁抵抗は、厚さ30μmの膜でIli定した。Table 4 Sample A Amorphous 5 to 0 55% t + Btt 2 to Ω 110% 〃C crystalline 500GΩ 25% *Insulation resistance was determined by Ili for a film with a thickness of 30 μm.

第3表及び第1図(a)より明らかなように、実施例(
1)〜(5)の組成割合のものが、最適である。即ち、
ガラスフリット重量に対するTi0z添加量は、50〜
80重量%か好適である。
As is clear from Table 3 and FIG. 1(a), Example (
The composition ratios of 1) to (5) are optimal. That is,
The amount of TiOz added to the weight of the glass frit is 50~
80% by weight is preferred.

(発明の効果) の絶縁層として、安定性良く又取り扱い易い。特にサー
マル ヘッド等の作成のために、中温の領域で焼成可能
であり、サーマル ヘッド或いはハイブリッドICの製
造に使用出来る。更に、ビデオ ヘッドなどのa’lH
加工を必要とするものにも使用が考えられる。
(Effects of the Invention) As an insulating layer, it has good stability and is easy to handle. In particular, it can be fired in a medium temperature range for the production of thermal heads, etc., and can be used for the production of thermal heads or hybrid ICs. Furthermore, a'lH of video heads etc.
It can also be used for items that require processing.

1例として、本発明の絶縁ペーストを用い、サーマル 
ヘッドの基板上に多層回路を形成した栴造を第2図に示
す。図示のごとく、アルミナ基板1上に、蓄熱層2、発
熱抵抗体3及び下部電極4を形成し、下部電極4を被う
ように、本発明の絶縁ペーストによる絶縁層5を形成す
る。更に、この絶縁層の上に、上部電極6を形成し、多
層回路を作成した。
As an example, using the insulating paste of the present invention, thermal
Fig. 2 shows the SEIZO with a multilayer circuit formed on the substrate of the head. As shown in the figure, a heat storage layer 2, a heating resistor 3, and a lower electrode 4 are formed on an alumina substrate 1, and an insulating layer 5 made of the insulating paste of the present invention is formed so as to cover the lower electrode 4. Furthermore, an upper electrode 6 was formed on this insulating layer to create a multilayer circuit.

以上のように、本発明の絶縁ペーストは、孔着性が良く
、精度の良いパターン絶縁層を、中温領域での焼成工程
により、作成出来るものである。
As described above, with the insulating paste of the present invention, a patterned insulating layer with good porosity and precision can be created by a firing process in a medium temperature range.

更に、本発明の絶縁ペーストにより作成した絶縁層は、
接触する導体の選択の自白度を広くとるこ、J−力Sで
★、父、溶成時における接触導体の祇杭仙の変化が少な
く、そのため、品質の安定した優れた多層回路、パター
ン或いはヘッドか得られる。
Furthermore, the insulating layer created using the insulating paste of the present invention is
In J-Force S, there is little change in the contact conductor during melting, which allows for excellent multilayer circuits, patterns, and patterns with stable quality. You can get the head.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a)、(b)は、本発明の絶縁ペースト及び従
来の絶縁ペーストについて、絶縁抵抗値及びパターン寸
法変化率を示したグラフである。第2図は、本発明の絶
縁ペーストを用いて作成した多層回路 ビトアルミナ基
板 5・・絶に層 − 叡 2・・蓄熱層 6・・上部電極 円 う 特許出願人 アルプス電気株式会社 第 IN¥1(0) +0 20 30 40 50 60 70 80 9
0添加DJ比専 ; Ti /ガラスXソットtt’J
%)第1図(b) +0 20 30 40 50 60 70AジオCm
比・苧−TiO2+ZnO/11−ラススソット+Ti
0z+Zn0(4f%ンJl’、2図
FIGS. 1(a) and 1(b) are graphs showing insulation resistance values and pattern dimensional change rates for the insulating paste of the present invention and the conventional insulating paste. Figure 2 shows a multilayer circuit made using the insulating paste of the present invention Bit-alumina substrate 5. Absolute layer - Ei 2. Heat storage layer 6. Upper electrode Patent applicant Alps Electric Co., Ltd. IN¥1 (0) +0 20 30 40 50 60 70 80 9
0 additive DJ ratio; Ti/Glass X sottt'J
%) Figure 1 (b) +0 20 30 40 50 60 70A GeoCm
ratio・苧-TiO2+ZnO/11-Lassusot+Ti
0z+Zn0(4f%nJl', Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] PbO5iOz−B203系のガラス フリットに対し
て、その重量を基礎として、ZnOを5〜15重蓋チ、
−〇2を50〜80重量%添加した組成割合であること
を特徴とする厚膜印刷用絶縁ペースト組成物。
For PbO5iOz-B203-based glass frit, 5 to 15 layers of ZnO are added based on its weight.
- An insulating paste composition for thick film printing, characterized in that the composition ratio is 50 to 80% by weight of 〇2.
JP9625284A 1984-05-14 1984-05-14 Insulating paste for thick film printing Granted JPS60239344A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007184369A (en) * 2006-01-05 2007-07-19 Kyocera Corp Wiring board and its manufacturing method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007184369A (en) * 2006-01-05 2007-07-19 Kyocera Corp Wiring board and its manufacturing method

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