JPS60229345A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPS60229345A
JPS60229345A JP59084043A JP8404384A JPS60229345A JP S60229345 A JPS60229345 A JP S60229345A JP 59084043 A JP59084043 A JP 59084043A JP 8404384 A JP8404384 A JP 8404384A JP S60229345 A JPS60229345 A JP S60229345A
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JP
Japan
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wiring
heat
electrode
pellet
insulating substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP59084043A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobushi Suzuki
鈴木 悦四
Mitsuhiro Yoshida
光宏 吉田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/79Apparatus for Tape Automated Bonding [TAB]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
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Abstract

PURPOSE:To perform a highly reliable wiring at a high speed by a method wherein a necessary wiring is formed on a heat-dissipating insulated substrate, and said wiring is connected to a plurality of electrodes simultaneously. CONSTITUTION:A thin heat-resisting insulating film 11 is formed on one surface of a metal plate 10, and the above is used as a heat-dissipating insulated substrate 12. A plurality of insulated wirings 13 are formed on the film 11. The wiring 13 is extended toward the outer edge of the substrate 12 from the center part, one end of the wiring 12 located on the center part side is corresponded to the pattern electrode formed on a semiconductor pellet 18, the other end located on the outer edge side is corresponded to the external electrode of a lead frame. A ball 14 is formed at both ends of the wiring 13. The substrate 12 is positioned on a pedestal 16 with the film 11, namely, the face where the wiring 13 is formed facing upward. The back side of the pellet 18 is attracted by a pick up 17 which is heated up to a fixed temperature, the pattern forming surface is opposed to the substrate 12, and the electrode of the pellet 18 and one end of the wiring 13 are positioned. The electrode 18 is moved to the direction A as shown in the diagram, and the electrode of the pellet 18 is pressure-welded to one end of the wiring 13.

Description

【発明の詳細な説明】 [!!明の技術分野] この発明は半導体装置に関する。[Detailed description of the invention] [! ! Ming technology field] The present invention relates to a semiconductor device.

[発明の背景技術とその間朗点] 一般に半導体集積回路などの半導体装置は、半導体ウェ
ーハ上に独立しfc複数のパターンを形成したのち、こ
のパターンを一つづつ含むベレットに分割し、この分割
したベレットをリードフレームに固定したのち、このペ
レットに形成された電極とリードフレームに形成された
外部を極とを電気的に接続して組立てられる。従来この
ペレットに形成された電極と外部電極との接続は、機械
的に動作するワイヤボンディング装置により、金細線を
順次各電極に圧接する方法によりおこなわれているが、
集積回路が高密度化すると、それにつれて電極の数が増
加するので、1個の半導体装置を組立てるために要する
醋酸時間が長くなり、前後の生産工程との均合がとれな
くなる。勿論このワイヤボンディング装置を高速化する
ことは進められているが、機械的に動作するワイヤボン
ディング装置では、電極1個当りに要する時間は0.1
〜0.15 secが限度であり、期待を満足する高速
化はあまり望まれない。
[Background technology of the invention and advantages thereof] In general, semiconductor devices such as semiconductor integrated circuits are manufactured by forming a plurality of independent fc patterns on a semiconductor wafer, and then dividing the fc patterns into pellets each containing one pattern. After the pellet is fixed to the lead frame, the pellet is assembled by electrically connecting the electrode formed on the pellet and the external pole formed on the lead frame. Conventionally, the electrodes formed on the pellet and the external electrodes are connected by a method in which thin gold wires are sequentially pressure-bonded to each electrode using a mechanically operated wire bonding device.
As the density of integrated circuits increases, the number of electrodes increases accordingly, which increases the acetic acid time required to assemble one semiconductor device, making it difficult to maintain balance with previous and subsequent production processes. Of course, progress is being made to increase the speed of this wire bonding device, but with mechanically operated wire bonding devices, the time required per electrode is 0.1
The limit is ~0.15 sec, and it is not very desirable to increase the speed to meet expectations.

一方この半導体ペレットの電極と外部電極とを短時間に
接続する他の方法として、多数配線された部材を用いて
、半導体ペレットの電極に同時に接続する方法が開発さ
れている。しかしこの方法は、第1図に示すように薄い
樹脂フィルム(1)上に配線(2)を形成しこの薄いフ
ィルム(1)の中央開孔(8)に突出している配線(2
)の端部を、加熱圧着治具(4)により半導体ペレット
(6)に形成された電極(6)に熱圧着する方法である
ため、フィルム(1)およびその上に形成された配線(
2)が熱のために変形しゃすい。
On the other hand, as another method for connecting the electrodes of the semiconductor pellet and external electrodes in a short time, a method has been developed in which multiple wired members are used to simultaneously connect the electrodes of the semiconductor pellet to the external electrodes. However, as shown in Figure 1, this method involves forming the wiring (2) on a thin resin film (1) and protruding into the central opening (8) of this thin film (1).
) is thermocompression bonded to the electrode (6) formed on the semiconductor pellet (6) using a thermocompression jig (4), so the film (1) and the wiring (
2) is deformed due to heat.

またこの変形をさけるために、加熱圧着治具(4)の温
度を下げると、十分な圧接強度が得られないという欠点
がある。
Furthermore, if the temperature of the hot press jig (4) is lowered in order to avoid this deformation, there is a drawback that sufficient press bonding strength cannot be obtained.

また集積回路が萬密度化すると、各素子の発熱により温
度上昇して、特性が劣化するという問題もある。
Furthermore, when integrated circuits become denser, there is also the problem that the temperature rises due to the heat generated by each element, resulting in deterioration of characteristics.

[発明の目的] この発明は信頼性の高い配線を高速でおこなうことがで
き、かつ発熱に対しても効果のある半導体装置の組立方
法および半導体装置を形成することにある。
[Object of the Invention] The object of the present invention is to provide a method for assembling a semiconductor device and forming a semiconductor device that can perform highly reliable wiring at high speed and is also effective against heat generation.

[発明の概要] 放熱絶縁性基板に、半導体ペレットの電極と対応する位
置を一端とし、リードフレームなどの外部電極と対応す
る位置を他端とする引き出しリードの配線パターンを設
け、この放熱絶線性基板を半導体ペレットに密着させる
とともに、上記配線の一端を半導体ペレットの電極にg
M着一体化し、配線パターンの他端を外部電極に密着し
て半導体装置を構成したものである。
[Summary of the invention] A wiring pattern of a lead lead having one end at a position corresponding to an electrode of a semiconductor pellet and the other end at a position corresponding to an external electrode of a lead frame etc. is provided on a heat dissipating insulating substrate, and this heat dissipating insulating substrate is provided. While bringing the substrate into close contact with the semiconductor pellet, one end of the wiring is connected to the electrode of the semiconductor pellet.
A semiconductor device is constructed by integrating the M-bond and connecting the other end of the wiring pattern to an external electrode.

[発明の実施例コ 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
[Embodiments of the Invention] The present invention will be described below based on embodiments with reference to the drawings.

まず第2図(5)および(B)図に示すように熱良導体
例えばアルミニウムなどからなる金属板QOIの一方る
。この複数本の配線O8)は、それぞれ蒼熱絶1ム板□
□□の中央部から外縁に向って延在し、各配線図の中央
部側の一端は、後述するように半導体ペレットに形成さ
れたパターンの電極し対応し、また外縁側の他端はリー
ドフレームの外部電極に対応する。そしてこの配線Cl
9)の両端には、直径70〜100μm5度のボール0
41が形成されている。このような配線att+Vi、
通常上記耐熱絶縁被膜aη上にめっき、蒸着などの方法
によって、金、銀、銅、アルミニウム、その他金属な被
着して薄膜を作ったのち、フォトエツチングなどにより
不要の部分を取除くことにより形成することができ、両
端のボールに)は、その後同様の金属を溶融して付着す
ることにより形成することができる。またこのボールに
)ははんだを溶着して形成してもよい。
First, as shown in FIGS. 2(5) and 2(B), one of the metal plates QOI is made of a good thermal conductor such as aluminum. These multiple wires O8) are connected to a blue heat-proof board □
It extends from the center of □□ toward the outer edge, and one end on the center side of each wiring diagram corresponds to the electrode of the pattern formed on the semiconductor pellet as described later, and the other end on the outer edge corresponds to the lead. Corresponds to the external electrode of the frame. And this wiring Cl
9) A ball with a diameter of 70 to 100 μm and 5 degrees
41 is formed. Such wiring att+Vi,
Usually, it is formed by depositing gold, silver, copper, aluminum, or other metals on the heat-resistant insulating film aη using methods such as plating or vapor deposition, and then removing unnecessary parts by photoetching or the like. (on the balls at both ends) can then be formed by melting and depositing similar metals. Alternatively, the ball may be formed by welding solder.

つぎに上記のように形成された耐熱性絶縁基板(2)を
、 (C)図に示すように耐熱絶縁被膜(ロ)すなわち
配線α匂の形成された面を上にして、台座◇6)上に位
置ぎめする。そして一定温度に加熱されたバキュームチ
ャックからなるピックアップ(17)で、半導体ベレン
) <181の裏面側を吸着してそのパターン形成面を
上Ne、耐熱性絶縁基板t121に対向させ半導体ペレ
ットa8)の電極と耐熱性絶縁基板0りに形成された配
線(18)の一端とを位置合せする。即ち半導体ペレッ
トμs)の電極の引出しリードとなるように配置i1 
QB+を位置合せする。この位置合せは、斤とλば耐熱
性絶縁基板(I21と半導体ペレット(2))とにそね
それ照合マークを設け、ピックアップ0乃を前後左右に
動かしまたその中心軸まわりを回転させて一致させるこ
とによりおこなうことができる。しかして上記のように
位置合せしたのち、矢印(5)で示す方向に動かして、
上記耐熱性基板(婿に形成された配線(181の一端に
半導体ベレツ) (18+の電極を圧接する。この圧接
は、ピンクアップ07)の加熱によって半導体ベレツ)
 O8’)も加熱されているので、熱圧着である。
Next, place the heat-resistant insulating substrate (2) formed as described above on the pedestal ◇6) with the side on which the heat-resistant insulating coating (b), that is, the wiring α, is formed, facing upward, as shown in the figure (C). position on top. Then, with a pickup (17) consisting of a vacuum chuck heated to a constant temperature, the back side of the semiconductor pellet A8) is sucked and the patterned surface is placed facing the heat-resistant insulating substrate T121. The electrode and one end of the wiring (18) formed on the heat-resistant insulating substrate are aligned. In other words, it is arranged so as to serve as an extraction lead for the electrode of the semiconductor pellet μs).
Align QB+. This alignment is done by placing matching marks on the loaf and the heat-resistant insulating substrate (I21 and semiconductor pellet (2)), and by moving the pickup 0 back and forth and left and right, and rotating it around its central axis. This can be done by letting After aligning as above, move in the direction shown by arrow (5),
The above heat-resistant substrate (wiring formed on the wire (semiconductor plate at one end of 181) (18+ electrode is pressed into contact with the semiconductor plate by heating the pink up 07)
Since O8') is also heated, it is thermocompression bonding.

なおこの圧着に際し、ピックアップ071に超音波を付
加すれば、接合強度の昼い圧着が得やすくなりまたピッ
クアップCI?)の加熱温度を下げることができる。上
記圧着によって、半導体ベレット帥)は、パターン形成
面が耐熱性絶縁波11601)に密着し電極と圧接され
た配線により耐熱性絶餉、基板−に支持される。なおこ
の支持に不安がある場合は、上記圧着に際して釦熱性絶
縁基板叫と半導体ベレット(財)との間に接着剤を介挿
して、圧着と同時に接着剤で接着するようにしてもよい
In addition, when performing this crimping, if ultrasonic waves are applied to the pickup 071, it becomes easier to obtain a crimped bond with high bonding strength, and the pickup CI? ) heating temperature can be lowered. By the above-mentioned pressure bonding, the patterned surface of the semiconductor pellet (11601) is brought into close contact with the heat-resistant insulation wave (11601), and is supported by the heat-resistant insulation wave (11601) by the wiring that is pressed into contact with the electrode. If there is any concern about this support, an adhesive may be inserted between the heat-resistant insulating substrate and the semiconductor pellets during the crimping process, and the adhesive may be used to bond them simultaneously with the crimping process.

つぎにこの耐熱性絶縁基板−に支持された半導体ベレッ
ト(ト)を、(ロ)tさ+に示すヒータブロック(社)
Next, the semiconductor pellet (g) supported on this heat-resistant insulating substrate is assembled into a heater block shown in (b) ts+.
.

圧着治具体l)からなる圧着装置を用いてリードフレー
ム−(−取付ける。上記ヒータブロック(イ)は、リー
ドフレーム支持面に圧着時耐熱性絶縁基板四の板面より
突出した半導体ベレット(ト)が挿入される凹孔−)を
有し、リードフレームに)は、このヒータブロック彌の
リードフレーム支持面上に位置ぎめされて支持され、ヒ
ータブロック−〇加熱によって加熱される。一方、圧着
治具(転))は、その先端にバキュームチャック−に接
続されたたとえばポーラスな金#i部材からなるピック
アップ端子に)を有し、半導体ベレット(財)は、この
半導体ベレット(ト)を支持する耐熱性絶縁基板(2)
がピックアップ端子怖;に密着するように吸着支持され
る。まず圧着に先立って、耐熱性絶縁基板θ匂に形成さ
れた配線o匂の他端とリードフレームに)外部市、極四
)との位置合せをおこなう。この位置合せは、前記した
半導体ベレット08)と耐熱性絶縁基板(12+との位
置合せと1ri1じようにおこなわれる。しかるのち圧
着治J4 tallを矢印(B)で示す方向に勤かして
、図中一点鎖線で示すように耐熱性絶縁基板(121に
形成さね、た配#o3)の他端をリードフレーム−に形
成された外部%極(2))に圧接する。この場合の圧接
つ−ドフレーム關が加熱されているので、前記半導体ベ
レット(ト)の圧接と同様熱圧着である。またこの圧接
(:際して超音波を付加することも任意である。
The lead frame (-) is attached using a crimping device consisting of a crimping jig (1). The lead frame has a concave hole into which the lead frame is inserted, and the lead frame is positioned and supported on the lead frame support surface of the heater block, and is heated by the heater block. On the other hand, the crimping jig (roller) has a pick-up terminal made of, for example, a porous gold #i member connected to a vacuum chuck at its tip, and the semiconductor pellet ) A heat-resistant insulating substrate (2) that supports
is suctioned and supported so that it is in close contact with the pickup terminal. First, prior to crimping, the other end of the wiring formed on the heat-resistant insulating substrate θ is aligned with the lead frame (external center, pole 4). This alignment is performed in the same way as the alignment of the semiconductor pellet 08) and the heat-resistant insulating substrate (12+) described above.Then, by applying the crimping jig J4 tall in the direction shown by the arrow (B), As shown by the dashed line in the figure, the other end of the heat-resistant insulating substrate (formed on 121, wiring #o3) is pressed into contact with the external electrode (2) formed on the lead frame. In this case, since the pressure-welded frame is heated, it is thermocompression bonding, similar to the pressure-welding of the semiconductor pellet (g). It is also optional to apply ultrasonic waves during this pressure welding.

以上の操作により半導体ベレットI)7υは、耐熱性絶
縁基板−に支持され、またその電極は、耐熱性絶縁基板
−に形成された配線Q81によって、リードフレームに
)の外部電極−)に接続される。したがってこのように
組立てられたものを、つぎに第3図に示すように樹脂封
止して一体のモールド成形物例とし、さらにモールド樹
脂外に突出している外部電極卿)を成形すれば、所要の
半導体装置とすることができる。
Through the above operations, the semiconductor pellet I)7υ is supported by the heat-resistant insulating substrate, and its electrode is connected to the external electrode of the lead frame by the wiring Q81 formed on the heat-resistant insulating substrate. Ru. Therefore, if the product assembled in this way is then sealed with resin to form an integral molded product as shown in Fig. 3, and the external electrodes protruding outside the molded resin are further molded, the required amount can be obtained. can be made into a semiconductor device.

上記のよう1半導体装置を形成すると、半導体ベレット
(ト)に形成された複数の電極と配線QB)を同時に接
続することができ、また外部電極■と配線CI鴇につい
ても同様に同時に接続できるので、金細線を用いて電極
を一つづつ接続する従来方法にくらべて短時間に組立て
ることができる。
When one semiconductor device is formed as described above, multiple electrodes formed on the semiconductor pellet (G) and wiring QB) can be connected at the same time, and the external electrode (2) and the wiring CI can also be connected at the same time. Compared to the conventional method of connecting electrodes one by one using thin gold wire, it can be assembled in a shorter time.

また、耐熱性絶縁基板−に配線08)を形成して、圧接
の際の加熱に対して変形しないようにしたので、圧接の
条件を任意にW4整して、十分な圧接強度をもつ信頼性
の高い組立をおこなうことができる0 また、組立てられた半導体装置については、半導体ベレ
ット(ト)のパターン形成面に耐熱性絶縁基板(至)が
密着するので、この耐熱性絶縁基板(1訝が熱伝導、放
熱がよいことから、たとえば高密度半導体集積回路のよ
うに素子数が多くなって発熱量が増加しても、その熱を
速かに放散し、特性劣化を防止することができる。
In addition, the wiring 08) is formed on a heat-resistant insulating substrate so that it does not deform due to heating during pressure welding, so the pressure welding conditions can be adjusted arbitrarily to ensure reliability with sufficient pressure welding strength. In addition, since the heat-resistant insulating substrate (1) is in close contact with the patterned surface of the semiconductor pellet (1) of the assembled semiconductor device, this heat-resistant insulating substrate (1) is Because it has good heat conduction and heat dissipation, even if the number of elements increases and the amount of heat generated increases, such as in a high-density semiconductor integrated circuit, the heat can be quickly dissipated and property deterioration can be prevented.

また、この半導体装置は、従来から作られている半導体
装置と同じ外部電極■を有するので、耐熱性絶縁基板(
121を介して、この外部電極(転))から多量の熱を
放散させることができる。
Furthermore, since this semiconductor device has the same external electrodes as conventional semiconductor devices, it also has a heat-resistant insulating substrate (
121, a large amount of heat can be dissipated from this external electrode.

また、この半導体装置は、上記のよう(二従来の半導体
装置と同じ外部電極(社)1を有するので、たとえば配
線基板に実装するにあたり、従来の半導体装置と同じ取
扱いができる。
Furthermore, since this semiconductor device has the same external electrode 1 as the conventional semiconductor device as described above, it can be handled in the same way as the conventional semiconductor device when it is mounted on a wiring board, for example.

以上、この発明を一実施例(二ついて説明したが、この
発明は、上記実施例に限定されるものでなく、その要旨
を変更しない範囲において釉々変更することができる。
Although this invention has been described above using one embodiment (or two), this invention is not limited to the above embodiment, and can be modified in detail without changing the gist thereof.

たとえば上記実施例においては、放熱耐熱性絶縁基板(
支)は金属板fIG rtri熱絶縁被膜(9)を設け
て形成し友が、放熱耐熱性絶縁基板であれは例えば放熱
性のよいセラミックス板例えば8iCセラミツク、Aハ
セラミック、 BeOセラミックなどで形成することも
でき、この場合被覆工程が不要である効果がおる。また
、耐熱性絶縁基板−に形成された配線a四の両端にボー
ル04)を設けたが、半導体チップの電極と配線08)
との接続が可能であればこのポールは省略してもよい。
For example, in the above embodiment, a heat dissipating heat-resistant insulating substrate (
The base) is formed by providing a metal plate fIG rtri thermal insulation coating (9), and the other is a heat dissipating heat-resistant insulating substrate, for example, a ceramic plate with good heat dissipation properties, such as 8iC ceramic, A-ceramic, BeO ceramic, etc. In this case, there is an advantage that the coating step is not necessary. In addition, balls 04) were provided at both ends of the wiring a4 formed on the heat-resistant insulating substrate, but the electrodes of the semiconductor chip and the wiring 08)
This pole may be omitted if connection is possible.

[発明の効果] (1)耐熱性絶縁基板に所要の配線を形成しておき、こ
の配線を複数の電極に同時に接続するので、短時間に組
立てることができる。
[Effects of the Invention] (1) Since the required wiring is formed on the heat-resistant insulating substrate and the wiring is connected to a plurality of electrodes at the same time, assembly can be completed in a short time.

(2)耐熱性絶縁基板に配線を形成したので、圧接の際
の加熱に対して変形せず、十分な圧接強度をもつ信租性
の高い組立をおこなうことができる。
(2) Since the wiring is formed on a heat-resistant insulating substrate, it will not be deformed by heating during pressure welding, and a highly reliable assembly with sufficient pressure welding strength can be performed.

(81放熱性のよい耐熱性絶縁基板が半導体ペレットの
パターン形成面に密着するので半導体装置の発熱を速や
かに放散させることができ、半導体装置の特性劣化を防
止することができる。
(81) Since the heat-resistant insulating substrate with good heat dissipation properties is in close contact with the patterned surface of the semiconductor pellet, the heat generated by the semiconductor device can be quickly dissipated, and deterioration of the characteristics of the semiconductor device can be prevented.

(4)従来の半導体装置と同じ外部電極を有するので、
耐熱性絶縁基板を介して外部電極から多量の熱を放散さ
せることができる。
(4) Since it has the same external electrodes as conventional semiconductor devices,
A large amount of heat can be dissipated from the external electrode via the heat-resistant insulating substrate.

(5)従来の半導体装置と同じ外部電極を有するので、
配線基板などに実装するにあたり、従来の半導体装置と
同様に取扱うことができる。
(5) Since it has the same external electrodes as conventional semiconductor devices,
When mounted on a wiring board or the like, it can be handled in the same way as a conventional semiconductor device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は半導体ペレットの電極に多数の配線を同時に接
続する従来方法を説明するための図、第2図はこの発明
の組立方法の説明図であって、(5)図は配線が形成さ
れた耐熱性絶縁基板の平面図、(B)図はそのn−n線
断面図、(C)図Fi半導体ベレットの電極に耐熱性絶
縁基板に形成された配線を圧接する工程図、(ロ)図け
り一ドフレームに形成された外部電極に耐熱絶縁基板に
形成さハた配線を圧接する工程図、第3図は完成した半
導体装置の断面図である。 べ 叫・・・耐熱杜絶1基板 1sl・・・配線に)・・・
ポール 06)・・・台座 αη・・・ピックアップ (ト)・・・半導体ベレット
翰・・・ヒータブロック 叫)・・・圧着治具−・・・
リードフレーム a!61・・・外部電極代理人 弁理
士 井 上 −男 第 1 図 −r−粘′己 ネ市 +1’−+’:=(自発)特a’
+庁長′1′l 志 r′C学 殿1、事イ″1の表小 昭和59年特 許願第8404′、g号2、発明の名称 半導体装置 3、補正をする名 事(’lとの関係 特許出願人 (307)株式会社 東芝 電話736−3558 Jン、袖11の月7に (1)明細、1:の特許請求の範囲の欄(2)明細、り
の発明の詳細な説明のWa(3) 明細−F tl) 
H+r+i tl) flfI jli す説明ノtl
!46、 補正の内容 別紙jJ正明細δのとおり。 以上 訂 正 明 細 、1( 1、発明の名称 半導体装置 2、特許請求の範囲 (1)↑瑯■−烙−レーノー上の3順に対応才る位置を
 一端□ζ」ヶ外in+ ’m 4@は札妄すケlを他
端とする配−線バー外二ン−が殻−(Lシカ−た少くζ
−も一表−面が絶縁性をイ1す6−#t F:)!、 
’r’X Jtli 41ii 者、−sI欠隻−仮y
 f= ;g−配線−パターンの二端超M苺ル又貫議二
葬進−)吾f: ’l’=−導体ベレ導体−レノ1〜ζ
上記基板!炙久二?−Φイ岨端にメ・1応して密潅工□
俸イ1立りな欠遥畢皿煮を具備してなることを特徴とす
る半導体装置。 (2)酎−然作妻−仮埼蒸−第1性を一侑−1々基板で
ある特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 (3) tli、t、[はセラミックス薄板により構成
したものである特許請求の範囲第1項記載の゛14樽体
装置。 (4) 1烏性基板の配線パ之:−ンー楊−半」g一体
−ベレノ1へぬrv外R1S r、’11棒−を一脩−
五 −生イ(するf段は超1゛1−唸振−例(利1−レ
ズーボースデイーンクしたものである↑旨’lol’1
」\の範囲第1頂記・1(の゛1′、心体装置。 、(、発明の詳細な説明 〔発明の技術分野〕 この発明は半導体装i6に関する。 〔発明の背景技術とその問題点〕 般に半導体集積回路なとの半導体装置は、半導体ウェー
ハ」二に独立した複数のパターンを形成したのち、この
パターンを一つづつ含むペレットに分割し、この分割し
たペレットをリードフレームに固定したのち、このベレ
ン1〜に形成された電極とリードフレームに形成された
外部電極とを電気的に接続して組立てられる。従来この
ペレットに形成された電極と外部電極との接続は、機械
的に動作するワイヤボンディング装置により、金細線を
順次各電極に圧接する方法によりおこなわJしているが
、集積回路が高密度化すると、それにっjして電極の数
が増加するので、1個の1こ導体装置を組立てるために
要する配線時間が長くなり、前後の生産工程との均合が
とれなくなる。勿論このワイヤボンディング装置を高速
化することは進められているが、開城的に動(11イ、
・ツイヤポンチインク装置では、電極1個当りに要−4
る時間は0.1−O,l5sc+−が限度てあり、期(
’j ’c 満5tす/、I高速化はあまり望まれない
。 一力この゛1−導体ペレットの゛、且1:liどタト部
電(・壇ど6短時間に接続する他の方/、lrとして、
多数配線された部材を用いて、半導体べ1ツノ1〜の電
(41に同時に接続する方法が開発されている。しかし
この力θ、は、第1図に示すように薄い樹脂フィルム(
I)1に配線(2)を形成し、このF、シいフィルン、
(1)の中火開孔(3)に突出している配線(2)の端
部を、加熱圧着冶具(4)により半導体ペレノ1〜(5
)に形成さ才1だ電極(6)に熱圧着する方法であるた
め、フィルl、(1)およびその」―に形成された配線
(2)が・′すの!−めに変形しやすい。またこの変化
をさけるために、加熱圧着冶具(4)の温度を下げると
、]分なノ!接強度が得られないという欠点がある。 また沫積回路が高密度化すると、各索r・の発λゞ・に
より温度−上昇して、特許1か劣化するという問題もあ
る。 〔発明の目的〕 この発明は(ハ頼性の高い配線を高速でおこなうことが
でき、かつ発熱に対しても効果のある半導体装F°゛1
の組立)i tAおよび半導体装1こを形成することに
ある。 〔発明の概要〕 耐熱性基板に、半導体ベレッ1への電極と対応する位置
を一端とし、リードフレーl、などの外部電極と対応す
る位置を他端とする引き出しリートの配線パターン什設
け、この耐熱性基板を半導体ペレットに密着させるとと
もに、上記配線の一端を゛ト導体ペレットの電極に密着
一体化し、配線パターンの他端を外部電極に密着して半
導体装置を構成したものである。 〔発明の実施例〕 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。 まず第2図(A)および(B)図に示すように熱良導体
例えばアルミニウムなどからなる金属板(lO)の一方
の面にアルミナなどからなる薄い耐熱絶8被股(11)
を形成して放慈絶れ′性J、l、 +# (12)とし
、その耐熱絶縁被膜(II)l−に互に絶縁された複数
本の配線(+ 3 )を形成する。この複数本の配線(
Ml)は、それぞれ放熱絶縁性基板(12)の中火部か
ら外縁に向って延在し、各配線(12)の中央部側の・
端は、後述するように半導体ペレノ1〜に形成されたパ
ターンの電極に対応し、また外縁側の他端はり−トフレ
ームの外部電極に対応する。そしてこの配線(13)の
両端には、直径70−100 p +nJ’W度のボー
ル(14)が形成されている。このような配線(13)
は、通常上記耐熟絶才寥被股(11)上にめっき、黒石
などのh法によって、金、銀、銅、アルミニラ11、そ
の他金属を被着して薄膜を作ったのち、フォトエツチン
グなどにより不要の部分を取除くことにより形成するこ
とができ、両端のボール(14)は、その後同様の全屈
を溶融して付着することにより形成することができる。 またこのボール(14)ははんだを溶着して形成しても
よい。 つぎに上記のように形成された放熱18H性+、(板(
12)を、(C)図に示すように耐熱絶縁被1漠(11
)ずなわら配線(13)の形成さ土した面を1−にして
、台座(Ifi)lに位置ぎめする。そして・定温J、
へに加熱されたバキュー11チャックからなるピックア
ップ(17)で、゛1′導体ベレット(+8)の175
曲側を吸石してそのパターン形成面をト記放熱絶縁性基
板(12)に対向させ半導体ペレット(18)の電(セ
と放熱絶縁性」、1.板(12)に形成された配線(1
3)の一端とを位置合せする。即ち半Ig体ベレソl−
(+8)の電極の引出しリートとなるように配線(13
)を位置合せする。この位置合せは、たとえば放熱絶縁
性基板(12)と1t。 導体ベレ7h(18)とにそ才lぞれ照合マークに設け
、ピックアップ(17)を前後左右に動かし、またその
中心軸まわりを回転させて一致させることによりおこな
うことができる。しかして」−記のように位置合せした
のち、矢印(A)で示す方向に動かして、1、記数熱絶
縁性基板(I2)に形成された配m(13)の一端に半
導体ペレット(18)の電極を圧接する。このバー接は
、ピックアップ(17)の加熱によって半導体ペレット
(+g>も加熱されているので、熱圧着である。なおこ
の圧着に際し、ピックアップ(17)に超音波を付加す
れば、接合強瓜の高いハ、2′1が得やすくなり、また
ピックアップ(17)の加、’腺d、、X度ヲトげるこ
とができる。−」二記圧着によって、甲−J体ベレソI
−(18)は、パターン形成面が耐然性絶れ″X被形°
き(11)に密着し、電極と圧接された配線により放:
(!−絶H性基板(12)に支持される。なおこの支持
にイ・安がある場合は、」−記圧着に際して放熱絶縁性
」11゜JJ、(12)と半導体ペレッ1〜(18)と
の間に接箔剤を介挿して、圧着と同時に接着剤で接λ1
するようにしてもよい。 つぎにこの放熱絶縁性基板(12)に支持された甲導体
ペレッl−(+8)を、(1))図に示すヒータブロッ
ク(20)、圧着冶具(21)からなる圧着装置を用い
てリードフレーA(22)に取付ける。」−記ヒータブ
ロック(20)は、リードフレーム支持面にLl:4時
放熱絶縁性基板(12)の板面より突出した゛111f
1体ベレノh(18)が挿入される凹孔(23)を有し
、リードフレーム(22)は、このヒータブロック(2
0)のり−トフレーム支持面上に位置ぎめされて支持さ
れ、ヒータブロック(22)の加熱によって加熱される
。 力、L+i 7i冶JL(21)は、その先端にバ
キュームチャック(24)に接続されたたとえばポーラ
スな全屈部材からなるピンクアップ端J’−(25)を
イjし、゛ト導体ペレソ1〜(18)は、この゛1′、
心体ベレット(18)を支持する放熱絶縁性基板(12
)かピックアップ端子(25)に密着するように吸着支
持される。まず圧着に先立って、放熱絶縁性基板(12
)に形成された配線(13)の他端とリードフレーム(
22)外部電極(26)との位置合せをおこなう。この
位置合せは、前記した半導体ペレット(18)と放熱絶
縁性基板(12)との位置合せと同じようにおこなわれ
る。しかるのち圧着冶具(21)を矢印(B)で示す方
向に動がし、て、図中一点鎖線で示すように放熱絶縁性
基板(12)に形成された配線(13)の他端をリード
フレーム(22)に形成された外部電極(26)に圧接
する。この場合の圧接もリードフレーム(22)が加熱
されているので、前記半導体ペレット(18)の圧接と
同様熱圧着である。 またこの圧着に際して超音波を伺加することも任意であ
る。 以上の操作により半導体ペレット(18)は、放熱絶縁
性基板(12)に支持され、またその電(4シは、放熱
絶縁性基板(12)に形成された配線(13)によ−〕
で、リードフレーム(22)の外部型←j(23)に接
続さJしる。 したがってこのように躬しンてら、tlたものを、つき
に第3図に示すように樹脂封止し−C体のモールド成形
物(28)とし、さらにモールド樹脂外に突出している
外部電極(26)を成形すれば、所要の゛1′−棉休装
置とすることができる。 」1記のように半導体装置を形成すると、゛17:4体
ベレソh(18)に形成された複数の電極と配線(13
)を同時に接続することができ、また外部電極(26)
と配線(13)についても同様に同時に接続できる1)
)で、金細線を用いて電極を・っつつ接続する従来方法
にくらべて短時間に組立てることができる。 また、放熱絶縁性基板(12)に配線(Ill)を形成
して、圧接の際の加熱に対して変形しないようにし。 だので、圧接の条件を任、1コ、に調1:” して、1
分な圧11′、強度をもつ信頼性の高い組立をおこなう
ことができる。 また、組立てられた゛1′導体装置については、1′J
′9体・\レノ1〜(18)のパターン形1i(而に放
熱絶す冒1゜)1(扱(12)か密、riするので、こ
の放、、B7.絶縁性基板(12)かS:、も伝導、放
::、へかよいことか1゛、、たとえは高比瓜゛しq体
重、In回路のようにy+3 ]’ A::か多くなっ
て発:i% :、:、か増加しCtノ、その熟を辻/J
” l−放敗し、特1ノi方化を防止することができる
。 まノー、このT導体装置は、従来からflられている゛
1′導体装置と回し外部電極(ン6)を有するので、放
熱絶縁性基板(12)を介して、この外部型IJi(2
6)から多甲゛の熟を放散させることができる。 また、この半導体装置は、上記のように従来の”l’:
 H9体装置と同し外部型14i(26)をhするのて
、たどえば配線基板に実装するにあたり、従来の¥−導
体装置と同じ取扱いができる、 以上、この発明を ・実施例について説明したが、この
発明は、上記実施例に限定されるものでなく、その要旨
を変更しない範囲において種々変更することができる。 たとえば上記実施例においては、放熱絶縁性基板(12
)は金属板(10)lに耐熱絶縁被膜(11)を設けて
形成したが、放熱*1;腺性絶縁、l、L板であ、1シ
ば例え(J放熱1°1(j〕J、 t・tつへ、・タム
(ノス例、′。 はSICゼラミノク、Aハセラミ、)′ノ、11(・0
セ−ノヘノクなどで形成することもてき、この’j4 
r> ?、’、2 i”:i l’、 J’s’か不要
である効果がある、また、h々’、’?: ′f(2:
’i1寸1」1(、(、!(12)に形成された配線(
II)0月11+饅i+jにホール(14)を設けたか
、半導体チップの電極と配線(Ill)との接続が可能
であればこのボールは省略してt+に、い。 〔発明の9−jJ果〕 (1)放熱絶縁性基板に新装の配線を形成して1ノき、
この配線を複数の電極に同時に接わ1シJるので、短時
間に組立てることができる。 (2)耐熱性絶縁基板に配線を形成したので、ハ接の際
の加熱に対して変形せず、1分なハ、接強瓜をもつ信頼
性の高い組立におこなうことかできる。 (3)放熱性のよい耐熱性絶縁基板が゛1′−導体ベレ
ットのパターン形成面に密着するので半導体装置の発熱
を速・やかに放散させることができ、1う7(+装置の
特性劣化を防止することができろ3(4)従来の半導体
装置と同し外部電極をイノするので、放熱絶縁性ノ;(
板を介して外部電極から多:、:の熱を放散させること
がてきるー (,5)従来のr、導(4:装置11ど同し外部型((
を有するので、配線基板なとに実装するにあたり、従来
のTη体装置と同様に取扱うことができる。 ・1. 図面の簡単な説明 第1図は半導体ペレソ1−の電極に多数の配線を同時に
接続する従来方法を説明するだめの図、第2図はこの発
明の組立方法の説明図であって、(A)図は配線が形成
された放熱絶縁性ノ、(仮の平面図、(B)図はその■
−ロ線断面図、(C)図は半導体ペレ、71〜のWJ、
極に放熱絶縁性基板に形成された配線を圧接するL描図
、(D)図はリードフレームに形成された外部電極に放
黙絶縁性括板に形成された配線を圧接する工程図、第3
図は完成した甲、導体1・1ト置の断面図である。 (12)・・・放熱絶縁性J1(板 (13)・・配線
(14)ポール (16)・台座 (17) ピックアップ (I8)半導体ペレット(2
0)・・ヒータブロック (21)・17′、着冶具(
22) リードフレーム (26)・外部電極代理人 
弁理士 井 上 −・ 男
FIG. 1 is a diagram for explaining a conventional method for simultaneously connecting a large number of wires to the electrodes of a semiconductor pellet, FIG. 2 is a diagram for explaining the assembly method of the present invention, and FIG. (B) is a cross-sectional view taken along the line nn, (C) is a process diagram for pressure-bonding the wiring formed on the heat-resistant insulating substrate to the electrode of the semiconductor pellet (B). FIG. 3 is a process diagram of press-contacting the wiring formed on the heat-resistant insulating substrate to the external electrode formed on the cut frame, and FIG. 3 is a sectional view of the completed semiconductor device. Beg you...heat resistant 1 board 1sl...for wiring)...
Pole 06)...Pedestal αη...Pickup (G)...Semiconductor pellet wire...Heater block Shout)...Crimping jig--...
Lead frame a! 61... External electrode agent Patent attorney Inoue - Male No. 1 Figure - r - Glue +1'-+': = (Spontaneous) Special a'
+ Office Director '1'l Zhi r'C Gakuden 1, Table of matter A'1 Small Patent Application No. 8404' of 1984, No. g 2, Name of the invention Semiconductor device 3, Famous matter to be amended ('l Relationship with Patent Applicant (307) Toshiba Telephone Co., Ltd. 736-3558 J. On July 7, 11th, (1) Specification, 1: Claims column (2) Specification, Detailed description of the invention in R. Explanation Wa (3) Details-F tl)
H+r+i tl) flfI jli explanation notl
! 46. Contents of the amendment as shown in Attachment jJ original details δ. Revised details above, 1 (1, Name of the invention semiconductor device 2, Claims (1) ↑Corresponding to the 3-order position on 瑯■-烙-Raynaud. @ is a wire bar with the other end being a wire bar, and the outer two wires are shells (L deer are a little ζ
- Also, one surface has insulating properties6-#tF:)! ,
'r'X Jtli 41ii person, -sI missing ship-temporary y
f= ;g-Wiring-Two ends of the pattern
The above board! Bokuji? - ΦI correspond to the end of the Me-1, and the secret irrigation work□
A semiconductor device characterized in that it is equipped with a dish that is the best in terms of price. (2) The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is a substrate. (3) The ``14 barrel device'' according to claim 1, wherein tli, t, [ are constructed of ceramic thin plates. (4) 1. Wiring pattern of the 1st board: - n - Yang - 1/2 g integral - Vereno 1 to rv outside R1S r, '11 bar - one step -
5 - Raw A (The f-stage is super 1.
\ Scope 1 of ``1'', Mind body device. , (, Detailed Description of the Invention [Technical Field of the Invention] This invention relates to a semiconductor device i6. Point] In general, semiconductor devices such as semiconductor integrated circuits are produced by forming multiple independent patterns on a semiconductor wafer, dividing the patterns into pellets each containing one pattern, and fixing the divided pellets to a lead frame. After that, the electrodes formed on the pellets 1 to 1 are assembled by electrically connecting them to the external electrodes formed on the lead frame. Conventionally, the electrodes formed on the pellet and the external electrodes are connected mechanically. This is done by pressing a thin gold wire onto each electrode one after another using a wire bonding machine that operates at high speeds. However, as integrated circuits become denser, the number of electrodes increases accordingly. The wiring time required to assemble a single conductor device becomes longer, making it difficult to maintain balance with the production processes before and after it.Of course, progress is being made to speed up the wire bonding equipment, but stomach,
・For the Tsuya punch ink device, -4 is required per electrode.
The time for the period (
'j'c less than 5t/,I speeding up is not very desirable. One force of this 1-conductor pellet, and 1: Li dotato part electric (・dando 6 other person who connects for a short time /, as lr,
A method has been developed in which multiple wiring members are used to simultaneously connect semiconductor boards 1 to 41.However, this force θ, as shown in FIG.
I) Form wiring (2) on 1, and
The end of the wiring (2) protruding into the medium-heat hole (3) of (1)
), the wiring (2) formed on the fill (1) and the electrode (6) are bonded by thermocompression to the electrode (6). -Easy to deform. Also, in order to avoid this change, if you lower the temperature of the heat-pressing jig (4), the temperature will be lowered! The disadvantage is that the contact strength cannot be obtained. Furthermore, when the droplet accumulation circuit becomes denser, the temperature rises due to the emission λも of each cable r, which causes the problem of deterioration of the temperature. [Purpose of the Invention] The present invention provides a semiconductor device (F°1) that enables highly reliable wiring at high speed and is also effective against heat generation.
(assembly) to form a semiconductor device and a semiconductor device. [Summary of the Invention] A wiring pattern of a lead lead is provided on a heat-resistant substrate, with one end at a position corresponding to an electrode to a semiconductor bellet 1 and the other end at a position corresponding to an external electrode of a lead flare 1, etc. A heat-resistant substrate is brought into close contact with the semiconductor pellet, one end of the wiring pattern is brought into close contact with the electrode of the conductive pellet, and the other end of the wiring pattern is brought into close contact with an external electrode to form a semiconductor device. [Embodiments of the Invention] The present invention will be described below based on embodiments with reference to the drawings. First, as shown in FIGS. 2(A) and 2(B), one side of a metal plate (lO) made of a good heat conductor such as aluminum is covered with eight thin heat-resistant insulators (11) made of alumina or the like.
A plurality of wires (+3) insulated from each other are formed on the heat-resistant insulating film (II) l-. These multiple wires (
Ml) extends from the medium heat part of the heat-dissipating insulating board (12) toward the outer edge, and extends from the middle part side of each wiring (12).
The ends correspond to the electrodes of the pattern formed on the semiconductor pereno 1 to 1 as described later, and the other end on the outer edge side corresponds to the external electrode of the beam frame. Balls (14) having a diameter of 70-100 p +nJ'W degrees are formed at both ends of this wiring (13). Wiring like this (13)
Usually, a thin film is formed by depositing gold, silver, copper, aluminium 11, or other metals on the above-mentioned ripening-resistant material (11) by plating, Kuroishi method, etc., and then photo-etching, etc. The balls (14) at both ends can then be formed by melting and attaching similar full bends. The ball (14) may also be formed by welding solder. Next, heat dissipation 18H +, (plate (
12) with a heat-resistant insulation coating (11) as shown in Figure (C).
) Position it on the pedestal (Ifi) with the surface on which the wiring (13) is formed as 1-. And constant temperature J,
A pickup (17) consisting of a vacuum 11 chuck heated to
1. Wiring formed on the board (12) (1
3) Align with one end. That is, semi-Ig Vereso l-
The wiring (13
). This alignment is performed, for example, with the heat dissipating insulating substrate (12). This can be done by providing the conductive bevel 7h (18) and the bevel 7h (18) at the reference mark, moving the pickup (17) back and forth, left and right, and rotating it around its central axis to match. After aligning the semiconductor pellet as shown in the figure, move it in the direction shown by the arrow (A). 18) Press the electrodes. This bar welding is thermocompression bonding because the semiconductor pellet (+g>) is also heated by the heating of the pickup (17).In addition, if ultrasonic waves are applied to the pickup (17) during this pressure bonding, the bonded strong melon It becomes easier to obtain a high value of 2'1, and the addition of the pickup (17) can be increased by X degrees.
- (18) The pattern forming surface has lost its durability.
Emitted by the wiring that is in close contact with the electrode (11) and is pressed into contact with the electrode:
(!-Supported by the irresistible substrate (12).If this support has a certain degree of stability, the heat dissipation insulation during crimping is 11°JJ, (12) and the semiconductor pellets 1 to (18) ), and at the same time as crimping, connect with adhesive λ1.
You may also do so. Next, the A conductor pellet l-(+8) supported on this heat dissipating insulating substrate (12) is leaded using a crimping device consisting of a heater block (20) and a crimping jig (21) shown in figure (1)). Attach to frame A (22). ”-The heater block (20) has a 111f portion on the lead frame support surface that protrudes from the plate surface of the heat dissipation insulating substrate (12).
The lead frame (22) has a concave hole (23) into which a single beleno h (18) is inserted, and the lead frame (22)
0) The glue frame is positioned and supported on the support surface and heated by the heater block (22). Force, L + i 7i JL (21) has a pink-up end J'- (25) made of, for example, a porous fully bent member connected to a vacuum chuck (24) at its tip, and ~(18) is this ゛1′,
A heat dissipating insulating substrate (12) supporting the core pellet (18)
) is suction-supported so as to be in close contact with the pickup terminal (25). First, before crimping, a heat dissipating insulating substrate (12
) and the other end of the wiring (13) formed on the lead frame (
22) Perform alignment with the external electrode (26). This alignment is performed in the same manner as the alignment of the semiconductor pellet (18) and the heat dissipating insulating substrate (12) described above. Then, move the crimping jig (21) in the direction shown by the arrow (B), and lead the other end of the wiring (13) formed on the heat dissipating insulating substrate (12) as shown by the dashed line in the figure. It is pressed into contact with an external electrode (26) formed on the frame (22). Since the lead frame (22) is heated, the pressure bonding in this case is also thermocompression bonding, similar to the pressure bonding of the semiconductor pellet (18). It is also optional to apply ultrasonic waves during this crimping. Through the above operations, the semiconductor pellet (18) is supported by the heat dissipating insulating substrate (12), and its electrical conductor (4) is supported by the wiring (13) formed on the heat dissipating insulating substrate (12).
Then, connect the external mold of the lead frame (22) to the (23). Therefore, as shown in FIG. 3, the thus-produced product is sealed with resin to form a C-shaped molded product (28), and furthermore, the external electrode (28) protruding outside the molded resin is By molding 26), it is possible to obtain the required 1'-kissing device. When a semiconductor device is formed as described in item 1 of ``17: A plurality of electrodes and wirings (13
) can be connected at the same time, and the external electrode (26)
and wiring (13) can be connected at the same time 1)
), it can be assembled in a shorter time than the conventional method, which uses thin gold wire to connect the electrodes one by one. In addition, wiring (Ill) is formed on the heat dissipating insulating substrate (12) so that it does not deform due to heating during pressure bonding. Therefore, the pressure welding conditions are set to 1.
It is possible to perform a reliable assembly with sufficient pressure 11' and strength. In addition, for the assembled ``1'' conductor device, 1'J
'9 body/Reno 1~(18) pattern shape 1i (and heat radiation extinction 1゜) 1 (handling (12) or dense, ri, so this radiation, B7. Insulating substrate (12)? S:, also conduction, emission::, is it good for 1゛,, for example, if the ratio is high, q weight, like the In circuit, y + 3]' A:: more will be generated: i%:,: , or increase Ct, its ripeness is Tsuji/J
It is possible to prevent the ``1'' conductor device and the rotary external electrode (6), which has been conventionally used. Therefore, this external type IJi (2
6) It is possible to emit a large amount of ripeness. In addition, this semiconductor device is different from the conventional "l" as described above.
By using the same external type 14i (26) as the H9 body device, when mounting it on a wiring board, it can be handled in the same way as a conventional ¥-conductor device. However, the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified in various ways without changing the gist thereof. For example, in the above embodiment, the heat dissipating insulating substrate (12
) was formed by providing a heat-resistant insulating coating (11) on a metal plate (10), but heat radiation*1; J, t・ttsuhe,・tam (nos example, ′. is SIC gerami nok, A haserami,)′ノ, 11(・0
It can also be formed with Senohenoku, etc., and this 'j4
r>? , ',2 i'': i l', J's' has the effect of being unnecessary, and h', '?: 'f(2:
'i1 dimension 1' 1 (, (,! Wiring formed in (12)
II) If a hole (14) is provided in 0/11+饅i+j, or if it is possible to connect the electrode of the semiconductor chip and the wiring (Ill), this ball can be omitted and put in t+. [9-jJ results of the invention] (1) Forming new wiring on a heat-dissipating insulating board,
Since this wiring is connected to a plurality of electrodes at the same time, it can be assembled in a short time. (2) Since the wiring is formed on a heat-resistant insulating substrate, it does not deform when heated during welding, and can be assembled in a highly reliable manner in just one minute. (3) Since the heat-resistant insulating substrate with good heat dissipation properties is in close contact with the patterned surface of the conductor pellet, the heat generated by the semiconductor device can be quickly dissipated. Deterioration can be prevented. 3 (4) Since the external electrodes are made of the same material as conventional semiconductor devices, heat dissipation and insulation properties are improved.
It is possible to dissipate heat from the external electrode through the plate (,5).
Therefore, when mounted on a wiring board or the like, it can be handled in the same way as a conventional Tη body device.・1. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram for explaining a conventional method for simultaneously connecting a large number of wiring lines to the electrodes of a semiconductor periphery 1-, and FIG. 2 is a diagram for explaining an assembly method according to the present invention. ) The figure shows the heat dissipation insulation with wiring formed, (temporary plan view, (B) figure shows its ■
- Cross-sectional view on line B, (C) is semiconductor Pelle, WJ of 71~,
Figure (D) is a process diagram of pressing the wiring formed on the heat dissipating insulating board to the external electrode formed on the lead frame. 3
The figure is a cross-sectional view of the completed instep and conductor 1.1 to 1. (12) Heat dissipation insulation J1 (board (13) Wiring (14) Pole (16) Pedestal (17) Pickup (I8) Semiconductor pellet (2
0)... Heater block (21), 17', mounting jig (
22) Lead frame (26)・External electrode agent
Patent attorney Inoue - Male

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)配線パターンが設けられた放熱絶縁性基板と、 この放熱絶縁性基板の配線パターンを引き出しリードに
するように上記放熱絶縁性基板が密着一体化された半導
体ペレットとを具備することを特徴とする半導体装置。 (2)放熱絶縁性基板は熱良導体上(二絶縁被核したも
のである特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 (8)放熱絶縁性基板はセラミックス薄板により構成し
たものである特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 (4) 引き出しリードには外部電極を接続した構造で
ある特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
[Scope of Claims] (1) A heat dissipating insulating substrate provided with a wiring pattern, and a semiconductor pellet having the heat dissipating insulating substrate tightly integrated so that the wiring pattern of the heat dissipating insulating substrate becomes a lead. A semiconductor device comprising: (2) The semiconductor device according to claim 1, in which the heat dissipating insulating substrate is formed on a thermally good conductor (with two insulating cores). (8) The heat dissipating insulating substrate is constituted by a ceramic thin plate. The semiconductor device according to claim 1. (4) The semiconductor device according to claim 1, which has a structure in which an external electrode is connected to the lead-out lead.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4999477A (en) * 1973-01-02 1974-09-19

Patent Citations (1)

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JPS4999477A (en) * 1973-01-02 1974-09-19

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