JPS6022716B2 - テトラヒドロピラン誘導体及び殺菌・殺虫剤 - Google Patents

テトラヒドロピラン誘導体及び殺菌・殺虫剤

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JPS6022716B2
JPS6022716B2 JP53124415A JP12441578A JPS6022716B2 JP S6022716 B2 JPS6022716 B2 JP S6022716B2 JP 53124415 A JP53124415 A JP 53124415A JP 12441578 A JP12441578 A JP 12441578A JP S6022716 B2 JPS6022716 B2 JP S6022716B2
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hydrogen atom
group
general formula
compound
epoxy
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昌司 浅野
秀弥 島田
和俊 吉川
康夫 清水
久 高尾
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Otsuka Chemical Co Ltd
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Otsuka Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規なテトラヒドロピラン誘導体及び談議導体
を有効成分として含有する殺菌・殺虫剤に関する。 本発明のテトラヒドロピラン誘導体は、新規な化合物で
あり、下記一般式〔1〕で表わされる。 〔式中RIは、水素原子又は低級アルキル基、R2及び
R3は共に低級アルコキシ基又は一方が水酸基で他方が
1ーニトロメチル基、R4は水素原子又はハロゲン原子
、R5及びR6は共に水素原子又は両者が結合する炭素
原子と共にェポキシ環、R7はR5及びR6が水素原の
とき低級アルコキシ基又はR5及びR6がェポキシ環の
とき水素原子、R8は水素原子又は低級アルシ基、及び
R9は低級アルキル基を夫々示す。〕上記一般式〔1)
において、低級アルキル基としては、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ィソプロピル基、プチル基、t
en−プチル基、ベンチル基、ヘキシル基等を例示でき
る。 低級ァルコキシ基としては、例えばメトキシ基、ェトキ
シ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、プトキシ基、
にrt−ブトキシ基、ベンチルオキシ基、ヘキシルオキ
シ基等を例示できる。本発明の上記一般式〔1〕で表わ
されるテトラヒドロピラン誘導体に最も近接する化合物
としては、従来下記一般式
〔0〕で表わされる化合物が
知られている(米国特許第4059595号)。 〔式中AIは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、
及びA2は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基又は
炭素数1〜10のアシル基を示す〕しかしながら本発明
化合物は、上記公知化合物とは、そのテトラヒドロピラ
ン環上に結合する少なくとも1種の置換基の相違に基づ
いて、後述する通り、上記公知化合物からは予測できな
い穣れた抗菌作用及び殺虫作用を発揮する特長を有して
いる。上記一般式〔1〕で表わされる本発明のテトラヒ
ドロピラン誘導体に包含される代表的化合物を例示すれ
ば次の通りである。 04ークロロ−3・4ーヱポキシ−2ーメトキシ−5−
ニトロメチル一5ーヒドロキシ−6ーイソプロピルーテ
トラヒドロピラン04ーフルオロ−3・4−エポキシー
2・6ージエトキシ−5ーニトロメチル−5山ヒドロキ
シーテトラヒドロピランo2ーメトキシ−3・4ーエポ
キシー3・4ーエポキシー5−ニトロメチル−5ーヒド
ロキシーテトラヒドロピランo−6エチル一2ーメトキ
シ−3・4−エポキシー5−ニトロメチル−5ーヒドロ
キシーテトラヒドロピラン04−フルオロ−6ーヱチル
ー2−エトキシー3・4ーヱポキシ−5ーニトロメチル
−5−ヒドロキシーテトラヒドロピラン04ークロロ−
2ーメトキシー2・6ージメチルー3・4ーエポキシ−
5−ニトロメチル一5ーヒドロキシーテトラヒドロピラ
ンo4−クロロー3・4ーエポキシー2ーメトキシー2
−メチル一5・5ージエトキシーテトラヒドロピラン0
4ーフルオロー3・4−エポキシー2・5・5ートリメ
トキシーテトラヒドロピランo4−クロルー3・4ーエ
ポキシ−2・6・5・5−テトラメトキシーテトラヒド
ロピランo4ープロモ−3・4−エポキシ−2ーメトキ
シー5・5−ジブトキシー6ーエチルーテトラヒドロピ
ランo4−クロロー3・4−エポキシ−2ーメトキシー
2ーメチル−5・5ージエトキシーテトラヒドロピラン
o4ーブロモー3・4−エポキシ−2・5・5−トリメ
トキシーテトラヒドロピランo4ークロロー3・4ーエ
ポキシ−6−エチル一2・5・5−トリメトキシーテト
ラヒドロピラン02・3・5・5ーテトラメトキシ−4
−ブロモーテトラヒドロピラン02・3・5・5−テト
ラプトキシー4−フロモーテトラヒドロピラン02・3
・5・5−テトラエトキシ−4ークロローテトラヒドロ
ピラン本発明のテトラヒドロピラン誘導体は、例えば下
記反応行程式一1及び−2に示す方法により製造するこ
とができる。 <反応行程式−1> 〔上記各式中R1、R8及びR9は上記に同じ。 RI0は低級アルキル基及びXはハロゲン原子を示す。
〕上記反応行程式一1において公知の一般式〔血〕で表
わされる化合物に、ハロゲン化剤の存在下及び無溶媒下
に一般式RI℃日で表わされるアルコール類を反応させ
ることによって、一般式〔1〕で表わされる本発明化合
物R2、R3及びR7が低級アルコキシ基、R4がハロ
ゲン原子並びにR5及びR6が水素原子である化合物〔
W〕を製造できる。 上記において用いられるハロゲン化剤としては例えば弗
素、塩素、臭素、沃素等を例示でき、その使用量は、一
般式〔m〕で表わされる化合物に対し等モル以上好まし
く等モル〜1.2倍モルとするのがよい。 また一般式RI℃日で表わされるアルコール類は、一般
式〔m〕で表わされる化合物に対し通常大過剰量用いら
れる。上記反応は−30oo〜室温好ましくは0〜10
℃にて1〜3時間で行なわれる。<反応行程式−2> 〔上記各式中R1、R4、R5、R8、R7、R8及び
R9は上記に同じ。 RIIは水素原子又は低級アルキル基及びR12は低級
アルキル基を示す。〕上記反応行程式−2においては、
出発化合物である一般式〔V〕で表わされる化合物に、
塩基性化合物の存在下に一般式RIICH2NQで表わ
されるニトロアルカンを反応させることにより、本発明
の一般式〔1〕で表わされる化合物中R2が水酸基及び
R3が1ーニトロメチル基である化合物〔W〕を収得で
きる。 上記反応は、前述した塩基性化合物の存在下に前述した
低級アルコール類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素の
適当な溶媒中で実施される。 反応に用いられるニトロアルカンは、通常一般式〔V〕
で表わされる化合物に対し等モル以上好ましくは等モル
〜2培モルとするのがよく、また塩基性化合物は通常触
媒量好ましくは一般式〔V〕で表わされる化合物に対し
0.01〜0・0針音モルとするのがよい。反応は一般
に−3び0〜室温好ましくは0〜2ぴ0にて2〜6時間
完結する。また上記反応行程式−2においては、一般式
〔V〕で表わされる化合物に、酸触媒を利用して一般式
CH(OR12)3で表わされる化合物を反応させるこ
とによって、本発明の一般式〔1〕で表わされる化合物
中R2及びR3が低級アルコキシ基である化合物〔肌〕
を収得できる。 この反応は、上述した各種の溶媒中で行なわれる。 用いられる酸触媒としては、例えばp−トルェンスルホ
ン酸、ェタンスルホン酸等の有機スルホン酸類、塩化亜
鉛、塩化カルシウム、塩化マグネシウム等のルイス酸等
を例示できる。一般式CH(OR位)3で表わされる化
合物の使用量は、一般式〔V〕で表わされ化合物に対し
て通常0.5×1ぴ音モル好ましくは0.6〜2倍モル
とすればよく、酸触媒は通常の触媒量好ましくは一般式
〔V〕で表わされる化合物に対し0.05〜0.対音モ
ルとすればよい。反応は一般に30〜150℃好ましく
は50〜8ぴCにて1〜6時間で終了する。出発化合物
である一般式〔V〕で表わされる化合物は公知の化合物
であるか、或は例えば下記反応行程式−3により製造さ
れる。<反応行程式−3> 〔上記各式中R1、R4、R8及びR9は上記に同じ。 R13は低級アルキル基を示す。〕上記反応行程式−3
においては、公知の一般式〔W〕で表わされるビラン誘
導体にェポキシ化剤を反応させることによって、一般式
〔V〕で表わされる化合物中R5及びR6が之等が結合
する炭素原子と共にェポキシ壕及びR7が水素原子を示
す化合物〔K〕を製造できる。 上記反応は塩基性化合物の存在下適当な溶媒中にて行な
われる。 溶媒としては水、ジェチルェーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のェーテル類、メタノール、エタノー
ル、プロパノール等の低級アルコール類、酢酸、プロピ
オン酸等の低級脂肪酸類、塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素等のハロゲン化炭水秦類等を使用でき、る
。塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基性化合物及
び塩基性のィオンン交換樹脂等を使用できる。またェポ
キシ化剤としては、例えば過酢酸、過トリフルオロ酢酸
、週安息香酸、mークロロ過安息香酸、過酸化水素等を
使用できる。ェポキシ化剤及び塩基化合物の使用基は、
通常一般式〔W〕の化合物に対し夫々0.5〜3倍モル
好ましくは等モル〜1.2倍モル及び0.1倍モル〜等
モル好ましくは0.2〜0.5倍モルとするのがよい。
反応は一30〜4ぴ○好ましくは−20〜2ぴ0の温度
下に2〜6時間で行なわれる。また上記反応行程式−3
においては、公3句の一般式〔W〕で表わされる化合物
に、一般式RI℃日で表わされるアルコール類を塩基性
化合物の存在下に反応させることによって、一般式〔V
〕で表わされる化合物中R5及びR6が水素原子及びR
7が低級アルコキシ基を示す化合物〔X〕を製造できる
。 この反応は通常無溶媒下に−3ぴ0〜室温好ましくは0
/2び0の温度で30分〜3時間を要して実施される。 上記において用いられる塩基性化合物としては、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメチレート、
カリウムメチレート、ナトリウムェチレート、ナトリウ
ムプロピレート等のアルカリ金属アルコレート等を例示
できる。該塩基性化合物及び一般式RI℃日で表わされ
るアルコール類の使用量は、一般式〔W〕の化合物に対
し、夫々通常の触媒量好ましくは0.01〜0.05音
モル及び大過剰量とすればよい。かくして本発明の一般
式〔1〕で表わされる化合物を収得できる。 夫々の行程で製造される所望化合物は、通常の分離手段
例えば溶媒抽出法、蒸留法、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー等により容易に単機精製することができる。
本発明の一般式〔1〕で表わされるテトラヒドロピラン
誘導体は、各種の細菌及びかび類に対して顕著な殺菌効
果を有しており、しかも各種の害虫例えば農園芸害虫、
森林害虫、衛生害虫等及び各種のダニ類に対する毅虫効
果をも兼ね備えており、それ故之等細菌、かび類、害虫
の殺菌・殺虫剤として、殊に之等細菌等に起因する植物
被害に対する農園芸用殺菌・殺虫剤として有用である。 また本発明の一般式〔1〕で表わされるテトラヒドロピ
ラン誘導体は、これを適当な形態で塗料に配合して、又
は各種の有機溶媒例ばアセトン、メタノール、エタノー
ル、クロロホルム、ヘキサン、エーテル等に溶解して、
上記細菌、かび頚等によって惹起される汚染や装置、器
具等の破損等を防止することができ、更に冷却水、製紙
用水等の各種工業用水に適用し細菌、かび類に起因する
藻の発生をも防止乃至抑制することができる。本発明は
それ故上記一般式〔1〕で表わされるテトラヒドロピラ
ン誘導体を有効成分とする殺菌、殺虫剤をも包含するも
のである。本発明の殺菌・殺虫剤は、その使用に当り通
常公3句の殺菌・殺虫剤と同様に、必要に応じて適当な
固体迫体、液体坦体、懸濁化剤、展着剤等を用いて、一
般式〔1〕で示される有効成分化合物を粒剤、粉剤、分
散剤、水和剤、錠剤、油剤、階霧剤、煙霧剤等の任意の
形態に調製できる。 用いられる担体としては、クレー、カオリン、ベントナ
ィト、タルク、酸性白土、桂藻土、炭酸カルシウム、ニ
トロセルローズ、デンプン、アラビアゴム、炭酸ガス、
フレオン、水、ベンゼン、ケロシン、アルコール、アセ
トン、キシレン、メチルナフタレン、シクロヘキサノン
、動植物脂肪酸ェステル等を例示できる。また懸濁化剤
、展着剤等としては、通常の界面活性剤例えば石鹸、高
級アルコールの硫酸ェステル、アルキルスルホン酸塩、
第4級アンモニウム塩、ポリアルキレンオキシド等を例
示できる。上記により調製される本発明薬剤中の一般式
〔1〕で表わされる化合物の配合量は、その使用形態等
に応じて適宜に決定できる。 例えば分散剤や水和剤等の形態とするには、0.1〜9
0重量%の範囲とするのが好ましく、また粉剤や油剤等
の形態では0.1〜10重量%程度の範囲とするのが適
当である。本発明殺菌・殺虫剤は、その使用に当っては
公知の殺菌剤・殺虫剤と同様に殺菌・毅虫効果を必要と
する箇所に散布、頃霧、塗布等により適用でき、その適
用量は必要とする効果に応じて適宜に決定できる。 例えば本発明薬剤を農園芸用として利用する場合通常1
ヘクタール当り有効成分量が0.1〜10k9好ましく
は0.1〜5k9程度となる量を目安とすればよく、勿
論これは植物やその被害の程度に応じて適宜増減できる
。またこれは例えば他の殺菌剤や殺虫剤又は除草剤、肥
料物質、土壌改良剤等と併用することも可能である。以
下本発明を更に説明するために、抗菌試験、及び毅虫試
験を行なった結果を挙げる。 1 抗菌試験 供試化合物として下記の本発明の化合物1、化合物2及
び比較として化合物a及びbを用いる。 <供謎化合物> 化合物1……・・・2・3・5・5ーテトラメトキシー
4ーブロモーテトラヒドロピラン化合物2・・・・・・
・・・3・4ーエポキシー2ーメトキシー5−ヒドロキ
シー5−ニトロメチル一6−エチルーテトラヒドロピラ
ン化合物3・・・・・・・・・4ークロロー3・4−ェ
ポキシ−2ーメトキシ−2ーメチル−5・5ージエトキ
シーテトラヒドロピラン化合物a(比較)・・・・・・
・・・3・4−ェポキシ−2ーメトキシー5−オキソー
テトラヒドロピラン化合物b(比較)・・・・・・・・
・3・4ーェポキシー2ーエトキシ−6ーメチル−5−
オキソーテトラヒドロピラン之等各供試化合物の夫々を
アセトンの2%溶液とし、これを水で所定濃度に希釈後
各濃度の溶液1の‘をべトリ皿にとり、9の【のポテト
・デクストロース寒天塔地(PDA塔地)と混合して、
上記各供教化合物の各種濃度の寒天平板を作成する。 PDA培地で予め倍萎した供謎菌の菌そうの先端部を直
径IQ舷のコルクポーラ‐で打ち抜いて菌そうのディス
スクを作り、これを菌そう面を下にして上記で作成した
各寒天平板上に静贋する。菌そうの生育の有無を2日後
に肉眼で観察し、菌そうの生育を完全に阻止する最低発
育阻止濃度(脚)として各供謎菌につき下記第1表に示
す。 尚各表における供謎菌は夫々次のとおりである。<供試
菌> A・…・・・・・稲白葵枯病菌 8…・・・・・・キュウリ斑点細菌病菌 C・・・・・・・・・野菜軟腐病菌 D・・・・・・・・・稲ィモチ病菌 E・…・…・稲胡麻葵枯病菌 F・・・・・・・・・ナス菌核病菌 G・・…・・・・メロン蔓枯病菌 日・・・・・・・・・トマト輪紋病菌 第 1 表 0 殺虫試験 ‘aー 供試化合物をアセトンに溶解し2%溶液とし、
これを脱イオン水で所定濃度(2Q四)になるよう希釈
する。 試験はアカイェカ4令幼虫を、ガラス蓋で覆った径9瓜
、高さ7仇の腰高シャーレに入れた薬液200山中に2
0頭移し、羽化時の生死を調査することにより行なつo
結果を死亡率(%)で示す。 供論化合物 死亡率(%)化合物1
70化合物3
50〃 a(比較) 5
‘b’供試化合物の2%アセトン溶液の0.5の‘を滴
下した炉紙をシャーレに移し、羽化3〜4日目のイエバ
エの雌成虫20匹を用い、2独時間後の生死数を調べ、
その死亡率(%)を求めた。 供該化合物 死亡率(%)化合物1
55〃 a(比較)
5 以下本発明を更に詳しく説明するため、本発明化合物の
製造例を実施例として挙げる。 実施例 1 4ークロロー3・4−エポキシ−2ーメトキシ−6−イ
ソプロピル−5一オキソーテトラヒドロピラン松夕及び
ニトロメタン7.3夕をメタノール150に添加し、縄
梓下0〜10℃にて0.2M−KOH/C馬OHIOの
上を1時間を要して滴下する。 滴下後10〜lyoで2時間縄拝を続けた後、10%酒
石酸水溶液で中和し、メタノールを減圧蟹去し、残澄を
塩化メチレンで抽出し、塩化メチレンを減圧滋去後得ら
れる浅薄をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで単離
精製して黄色油状の4−クロロ−3・4−エポキシ−2
−メトキシー5ーニトロメチル−5−ヒドロキシ−6−
イソプロピルーテトラヒドロピラン25.1夕を得る。
m分析結果(肥at) 344比ネ‐1(OH) 159入 1斑2の‐1(N02) 元素分析値(C,虹,606NCIとして)計算値(%
) C42.畝日573N4.97実測値(%) C4
2.81日5.班N5雌上記実施例1と同様にして下記
実施例2及び3の化合物を得る。 実施例 2 2−メトキシー3・4ーエポキシ−5ーニトロメチルー
5ーヒドロキシーテトラヒドロピラン性状 淡黄色油状
沸点 総〜86℃/0.01畑Hg元素分析値(C7日
,.QNとして) 計算値(%) C40.斑日5.40N6斑実測値(%
) C40.75日531N674実施例 36−エチ
ル一2ーメトキシー3・4ーエポキシ−5ーニトロメチ
ル−5ーヒドロキシーテトラヒドロピラン性状 淡黄色
油状 m分析結果(雌at) 私4比ヌ‐1(OH) 15601斑2仇‐1(NQ) 元素分析値(C9日,5QNとして) 計算値(%) C4635HO蟹NOOI実測値(%)
C4648日6.57N612実施例 44ークロロ
−3・4−エボキシ−2−メトキシー2ーメチルー5ー
オキソーテトラヒドロピラン19.2夕、pートルェン
スルホン酸1.0夕及びオルト蟻酸エチル12.0夕を
ベンゼン200の‘に加え2時間還流後冷却する。 反応液を重炭酸ナトリウム水溶液、食塩水の順で洗浄後
乾燥して減圧下に溶媒を蟹夫する。残経をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで単離精製して黄色油状の4−
クロロ−3・4−エポキシ−2ーメトキシー2ーメチル
ー5・5ージエトキシーテトラヒドロピラン22.6夕
を得る。NMR分析結果(CDC13) 1.6Q−(S、班、C比) 35雌(S、班、皿3) 元素分析値(C,.日,905CIとして)計算値(%
) C49.離日7.18実測値(%) C49.71
日7.29 実施例 5 2−メトキシー5−オキソー5・6ージヒドロー2H−
ピラン12.8夕をメタノール100のZに加え、縄梓
下0〜5℃で臭素16夕のメタノール溶液30私を1時
間を要して滴下する。 滴下後同温度で1時間麹拝を続けた後、トリェチルアミ
ン11夕を滴下し、溶媒を減圧留去する。残澄を塩化メ
チレンで抽出し食塩水で洗浄後乾燥し、減圧下に溶媒を
蟹去する。かくして得られる残澄をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで単機精製して、黄色油状の2・3・
5・5ーテトラメトキシ−4−フロモーテトラヒドロピ
ラン181夕を得る。NMR分析結果(CDC13) 3.2瓜例(S、が、C比0) 3.3朝血(S、が、Cは0) 34霧如(S、細、Cは0) 元素分析値(C9日,7QBrとして) 計算値(%) CaB18日6.05 実測値(%) C3801日6.02 以下製剤例を挙げる。 製剤例 1 上誌二者を混合研摩して粉剤を得る。 製剤例 2 上記各成分を混合して水和剤を得る。 製剤例 3 4−クロロ−3・4ーエポキシー2ーメトキシ−5ーニ
トロメチル−5ーヒドロキシー6−イソプ上記各成分を
混合研摩し、次いで造粒機で造粒して粒剤を得る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1は水素原子又は低級アルキル基、R^2及
    びR^3は共に低級アルコキシ基又は一方が水酸基で他
    方が1−ニトロメチル基、R^4は水素原子又はハロゲ
    ン原子、R^5及びR^6は共に水素原子又は両者が結
    合する炭素原子と共にエポキシ環、R^7はRR^5及
    びR^6が水素原子のとき低級アルコキシ基又はR^5
    及びR^6がエポキシ環のとき水素原子、R^8は水素
    原子又は低級アルキル基及びR^9は低級アルキル基を
    夫々示す。 〕で表わされるテトラヒドロピラン誘導体。 2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1は水素原子又は低級アルキル基、R^2及
    びR^3に低級アルコキシ基又は一方が水酸基で他方が
    1−ニトロメチル基、R^4は水素原子又はハロゲン原
    子、R^5及びR^6は共に水素原子又は両者が結合す
    る炭素原子と共にエポキシ環、R^7はR^5及びR^
    6が水素原子のとき低級アルコキシ基又はR^5及びR
    ^6がエポキシ環のとき水素原子、R^8は水素原子又
    は低級アルキル基及びR^9は低級アルキル基を夫々示
    す。 〕で表わされるテトラヒドロピラン誘導体を有効成分と
    して含有する殺菌・殺虫剤。
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