JPS60218853A - Wafer front aligning device - Google Patents

Wafer front aligning device

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JPS60218853A
JPS60218853A JP6105685A JP6105685A JPS60218853A JP S60218853 A JPS60218853 A JP S60218853A JP 6105685 A JP6105685 A JP 6105685A JP 6105685 A JP6105685 A JP 6105685A JP S60218853 A JPS60218853 A JP S60218853A
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JP
Japan
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wafer
shaft
shaft means
alignment
alignment device
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JP6105685A
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ダニエル・エヌ・ギヤルバート
ジエレ・デイー・バツクレイ
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Applied Biosystems Inc
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Perkin Elmer Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、シリコン・ウェーハを前整列(preal
ign )させるための装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] This invention provides a method for pre-aligning silicon wafers.
ign).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

集積回路の製造時、シリコン・ウェーハを加工場へ送る
前に前整列させることが必要である。加工場では、ウェ
ーハに回路・8ターンを刻む前にウェーハが精密整列さ
せられる。ウェーハを精密整列機構の範囲内で正確に充
分位置決めしなければならないので、前整列は重要であ
る〔発明が解決しようとする問題点〕 現在市販されている前整列装置では、ウェーハを中心に
置く、すなわち角方位決め以前にX−Y方向で位置決め
する必要がある。それはウェーハを前整列装置段へ2.
546In(1インチ)以上ずれて送るためである。こ
れは現在入手できる角方位技術の範囲外のことである。
During the manufacture of integrated circuits, it is necessary to prealign silicon wafers before sending them to the processing shop. At the processing plant, the wafers are precisely aligned before the eight turns of circuitry are etched onto the wafers. Pre-alignment is important because the wafer must be accurately and sufficiently positioned within the precision alignment mechanism. [Problem that the invention seeks to solve] Currently available pre-alignment equipment does not center the wafer. That is, it is necessary to perform positioning in the X-Y directions before determining the angular orientation. 2. It moves the wafer to the pre-aligner stage.
This is because the feed is shifted by 546 In (1 inch) or more. This is outside the scope of currently available angular orientation techniques.

この発明は、上述した問題点を解決し、かつウェーハを
X−Y方向でまず中心に置く必要なしに角方位決めし得
る正確な前整列装置を提供する。換言すれば、この発明
は、完全なx−y中心法め段を要さずウェーハを角方位
決めし得る前整列装置である。
The present invention solves the problems mentioned above and provides an accurate pre-alignment device that can angularly orient the wafer without first having to center it in the X-Y directions. In other words, the present invention is a pre-alignment device that can angularly orient a wafer without requiring a full x-y centering stage.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明は、シャフト、このシャフトを回転させるため
の手段、およびシャフトと関連してその回転中ウェーハ
を保持するための真空形成手段を備える。光源と光セン
サはウェーハの両側に配置される。
The invention includes a shaft, a means for rotating the shaft, and a vacuum forming means for holding a wafer in association with the shaft during rotation thereof. A light source and a light sensor are placed on either side of the wafer.

〔作用〕[Effect]

ウェーハが完全に1回転させられると、光センサはウェ
ーハの縁を検出して偏心すなわちX−Y方向における中
心からのウェーハの距離を表わす信号を供給する。この
信号はまたウェーハの凹部または凸部を検知することに
よってウェーハの角位置を示す。使用した光センサのタ
イプは、光源によって作られた影を保証する直線寸法を
もつものであシ、ウェーハの縁は光センサの視野内にあ
る。光センサからの信号はコンピュータへ供給され、こ
こfウェーハのX−Y位置および角方位を計算するため
に使用される。
Once the wafer has been rotated one complete revolution, the optical sensor detects the edge of the wafer and provides a signal representing the eccentricity, ie, the distance of the wafer from the center in the X-Y directions. This signal also indicates the angular position of the wafer by sensing depressions or protrusions in the wafer. The type of photosensor used has a linear dimension that ensures that the shadow created by the light source is such that the edge of the wafer is within the field of view of the photosensor. Signals from the optical sensor are fed to a computer where they are used to calculate the X-Y position and angular orientation of the f-wafer.

ウェーハの角方位が既知であるので、シャフトは回転さ
せられ、ウェーハを所望の角方位に向ける。ウェーハの
X−Y位置を表わす情報は、ウェーハが次の段に移され
るときにウェーハを中心に置くのに使用され得る。
Since the wafer's angular orientation is known, the shaft is rotated to orient the wafer to the desired angular orientation. Information representing the X-Y position of the wafer can be used to center the wafer as it is transferred to the next stage.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明のウェーハ前整列(preali
gnment )装置10が示されている。こノウエー
ハ前整列装置10はシャフト・アセンブリ11を備え、
このシャフト・アセンブリ11にはハウジング12があ
る。シャフト13は、慣用の軸受14の助けを借シて、
ハウジング12内に回転自在に装架される。シャフト1
3の一端はカップ状要素15になる。シャフト13の中
にはフンジット16が形成され、このコンジット16は
ハウジング12の中に形成されたフンジツ)17を介し
てチューブ18と連通シている。従って、要素15へ移
されたウェーハ19は、コンジット16および17並び
にチューブ18を通して要素15の中心に加えた真空に
よって要素15へ緊着され得る。
FIG. 1 shows the wafer pre-alignment (pre-alignment) of the present invention.
gnment) device 10 is shown. The wafer pre-alignment device 10 includes a shaft assembly 11;
The shaft assembly 11 has a housing 12. The shaft 13, with the help of a conventional bearing 14,
It is rotatably mounted within the housing 12. shaft 1
One end of 3 becomes a cup-shaped element 15. A funnel 16 is formed within the shaft 13, and this conduit 16 communicates with a tube 18 via a funnel 17 formed within the housing 12. Thus, a wafer 19 transferred to element 15 can be clamped to element 15 by vacuum applied through conduits 16 and 17 and tube 18 to the center of element 15.

サーどモータ20は、シャフト13の他端に配置され、
かつモータドライブ21によって番勢されるときにシャ
フト13を回転させるのに使用される。シャフト13の
他端にはレゾルバ22も配置され、このレゾルバ22は
シャフト13の角方位を表わす信号を供給する。この信
号は信号処理器23へ供給され、ここでシャフト13の
個々の角位置のための正確な数にデジタル化される。す
なわち、シャフト13の10〜20アークセコンド毎の
シャフト13の角位置を示す数がめられてコンピュータ
27へ入力される。そのようなレゾルバや処理用エレク
トロニクスは周知で市販されている。
The third motor 20 is arranged at the other end of the shaft 13,
and is used to rotate the shaft 13 when energized by the motor drive 21. A resolver 22 is also arranged at the other end of the shaft 13, and this resolver 22 supplies a signal representative of the angular orientation of the shaft 13. This signal is fed to a signal processor 23 where it is digitized into accurate numbers for the individual angular positions of the shaft 13. That is, a number indicating the angular position of the shaft 13 every 10 to 20 arc seconds is determined and input into the computer 27. Such resolvers and processing electronics are well known and commercially available.

ウェーハ19の一側には、発光ダイオード、レーザダイ
オードまたは他の慣用の光源であり得る光源24がある
。この光源24からの光ビーム路中に事実上置かれたウ
ェーハ19の他側には、電荷結合素子アレイであり得る
光センサ25がある。光源2牛がウェーハ19の縁の影
を光センサ25へ直接投射するか或は光学系により間接
的に投射するように、光源24と光センサ25はウェー
ハ19の縁の予期された近似位置に配置される。
On one side of the wafer 19 is a light source 24, which may be a light emitting diode, a laser diode or other conventional light source. On the other side of the wafer 19, placed virtually in the path of the light beam from this light source 24, is a light sensor 25, which may be a charge coupled device array. The light source 24 and the light sensor 25 are placed in the expected approximate position of the edge of the wafer 19 such that the light source 2 projects the shadow of the edge of the wafer 19 directly onto the light sensor 25 or indirectly by means of an optical system. Placed.

光センサ25は、広い偏心範囲に亘ってウェーハ19の
縁の影を捕えるような長さをもつように選ばれる。例え
ば、ウェーハ19はシャフト13へ移されるときに1.
77cm(0,5インチ)以上、中心がずらされ得る。
The optical sensor 25 is chosen to have a length that captures the shadow of the edge of the wafer 19 over a wide range of eccentricity. For example, when wafer 19 is transferred to shaft 13, 1.
It can be off-centered by more than 77 cm (0.5 inch).

そのような光センサの一例は、テキサス・インスッルー
メンツ社によって製造された電荷結合素子アレイ例えば
TO103である。そのような電荷結合素子アレイは2
.54cIn(1インチ)以上の検知長さをもち200
0個以上の電荷結合素子から成へ従って、この電荷結合
素子アレイは大きな変動例えば1.77z以上の偏心変
動、すなわちウェーハ19がウェーハ前整列装置10に
移されるときの中心のずれ量に適応できる。
An example of such a photosensor is a charge coupled device array manufactured by Texas Instruments, such as the TO103. Such a charge-coupled device array has 2
.. 200 with a detection length of 54 cIn (1 inch) or more
Since it is composed of zero or more charge-coupled devices, this charge-coupled device array can accommodate large variations in eccentricity, such as eccentricity variations of 1.77z or more, i.e., the amount of off-centering when the wafer 19 is transferred to the wafer pre-aligner 10. .

光源24とウェーハ19の間に配置されん図示のレンズ
列は、ウェーハ19の縁を横切る半径方向線に光を当て
る。ウェーハ19と光センサ25の間の光学レンズは光
センサ25に光ビームのテレセントリック(telec
entric )像を与える。これは検知面に事実上コ
リメートな光ビームを与え、従って光センサ25の検知
面に投射される縁の影はシャープに規定される。この目
的を達成するため他のレンズ構成を使用しても良い。
The illustrated lens array positioned between light source 24 and wafer 19 directs light in a radial line across the edge of wafer 19 . An optical lens between the wafer 19 and the optical sensor 25 telecentrically transmits the light beam to the optical sensor 25.
entric) gives an image. This provides a virtually collimated light beam on the sensing surface, so that the edge shadow cast on the sensing surface of the photosensor 25 is sharply defined. Other lens configurations may be used to achieve this purpose.

シャフト13が回転すると、光センサ25は周期的に電
子走査されてアナログ出力信号を発生する。
As shaft 13 rotates, optical sensor 25 is periodically electronically scanned to generate an analog output signal.

光センサ25のこのアナログ出力信号は直線アレイ信号
処理回路26へ供給され、ここでデ所定のシャフト角で
のウェーッ・縁位置を表わし、コンピュータ27へ入力
される。
This analog output signal of photosensor 25 is provided to a linear array signal processing circuit 26 which represents the wave edge position at a given shaft angle and is input to a computer 27.

直線アレイ信号処理回路26からのデジタル情報は、イ
ンテル社から市販されているインテル8088であシ得
るコンピュータ27へ供給される。
Digital information from the linear array signal processing circuit 26 is provided to a computer 27, which may be an Intel 8088 commercially available from Intel Corporation.

ウェーハ19の回転が完了するまで、デジタル直線出力
および適当なレゾルバ・シャフト角データはコンピュー
タ27に記憶される。コンピュータ27はウェーハ19
のX−Y位置および角方位を計算するのに充分な情報を
もつ。
The digital linear output and appropriate resolver shaft angle data are stored in computer 27 until rotation of wafer 19 is complete. computer 27 is wafer 19
with sufficient information to calculate the X-Y position and angular orientation of.

ウェーハ19の所望の角方位が既知量でありかつコンピ
ュータ27に永久記憶され得るので、モータドライバ2
1はウェーハ19を所望の角方位まで回転させるように
付勢され得る。
Since the desired angular orientation of the wafer 19 is a known quantity and can be permanently stored in the computer 27, the motor driver 2
1 can be biased to rotate the wafer 19 to a desired angular orientation.

中心からのX−Y位置の偏心すなわち偏差がコンピュー
タ27によってまた計算されたので、この情報はX−Y
段へ供給されてその位置決めを行い、もってウェーハ1
9が移されるときにそれを中心にもたらす。前述したよ
うに−広い偏心範囲に亘ってウェーハ縁を捕えることの
できる光センサ25を使用したので、完全なX−Y段は
不用でsb、ウェーハ19の嘩何学的形状とは無関係な
万能型ウェーハ前整列装置lOが提供される。代表的な
システムではウェーハ19がウェーハ前整列装置1oへ
未知の角度でかつ中心から最大1.77cInはずれて
移されるので、この発明はウェーハをまず中心に置くこ
となく成る角位置にあるウェーハを正確に整列させるた
めの方法を提供する。
Since the eccentricity or deviation of the X-Y position from the center was also calculated by the computer 27, this information
Wafer 1 is supplied to the stage and positioned.
When the 9 is transferred, bring it to the center. As previously mentioned - the use of an optical sensor 25 capable of capturing the wafer edge over a wide range of eccentricity eliminates the need for a complete A pre-wafer alignment device IO is provided. Since in a typical system the wafer 19 is transferred to the wafer pre-aligner 1o at an unknown angle and up to 1.77 cIn off-center, the present invention provides accurate angular positioning of the wafer without centering the wafer first. Provides a method for aligning.

第2図は、光センサ25によるウェーハ19の線走査か
ら得られた信号を例示する。
FIG. 2 illustrates signals obtained from line scanning of the wafer 19 by the optical sensor 25.

カーブAは、ウェーハ19をシャフト13の中心に正確
に移した状態すなわち偏心が無い状態でかつ凹部または
凸部をもたないウェーハ19から得られる光センサ25
 の信号を示す。
Curve A represents the optical sensor 25 obtained from the wafer 19 with the wafer 19 accurately moved to the center of the shaft 13, that is, with no eccentricity and without any concave or convex portions.
shows the signal.

他方、カーブBは、ウェーハ19が中心からずれておシ
かつ四部または凸部をもっているときの信号を表わす。
On the other hand, curve B represents the signal when the wafer 19 is off-center and has four or four protrusions.

このカーブBは正弦波に近く、カーブB沿いの種々の点
〒の振幅はウェーハ19が回転させられるにつれて種々
の角度でのウェーハ19の偏心すなわち中心すげれ状態
を表わす。この信号中の偏差Sはウェーハ19中の凹部
または凸部の位置従ってその角方位を示す。
This curve B is nearly sinusoidal, and the amplitude at various points along the curve B represents the eccentricity or off-centering of the wafer 19 at various angles as the wafer 19 is rotated. The deviation S in this signal indicates the position of the depression or protrusion in the wafer 19 and thus its angular orientation.

カーブB上の値Qは四部または凸部の角位置を示す。D
はウェーハ19の直径の目安である。Eはウェーハ19
の偏心の目安であシ、そしてSは直径りと一緒になって
四部または凸部の幅を決定する、四部または凸部の深さ
の目安である。このように、光センサ25からの信号が
ウェーハ19の角位置を決定するのに充分な情報を提供
することは理解できる。ウェーハ19の所望位置も既知
であるので、ウェーハ19は所望の角位置へ容易に位置
決めされ得る。
The value Q on curve B indicates the corner position of the four parts or convex parts. D
is a guideline for the diameter of the wafer 19. E is wafer 19
A is a measure of the eccentricity of , and S is a measure of the depth of the quadrant or ridge, which together with the diameter determines the width of the quadrant or ridge. It can thus be seen that the signal from optical sensor 25 provides sufficient information to determine the angular position of wafer 19. Since the desired position of the wafer 19 is also known, the wafer 19 can be easily positioned to the desired angular position.

光センサ25からの信号が中心からのウェーハ19の偏
差も含むので、この情報はウェーハ19が移されたとき
に中心に来るようにウェーハ19が移されるX−Y段を
前位置決めするのに使用され得る。
Since the signal from the optical sensor 25 also includes the deviation of the wafer 19 from the center, this information is used to preposition the X-Y stage into which the wafer 19 will be transferred so that it is centered when the wafer 19 is transferred. can be done.

以上の説明から明らかなように、特許請求の範囲内で種
々の変形例が可能である。
As is clear from the above description, various modifications are possible within the scope of the claims.

〔発明の効果〕 この発明によれば、ウェーハを中心に置く、すなわち角
方位決めする前に、X−Y方向で位置決めする必要がな
いという効果がある。
[Effects of the Invention] According to the present invention, there is an advantage that it is not necessary to position the wafer in the X-Y directions before centering the wafer, that is, determining the angular orientation.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例を一部ブロック図で示す概
略図、そして第2図はこの発明の動作を理解するのに有
用な信号の波形図である。 10・・・ウェーハ前整列装置、11・・・シャフト・
アセンブリ、13・・・シャフト、15・・・シャフト
のカップ状要素、16と17・・・コンジット、18・
・・チューブ、19・・・ウェーハ、20・・・サーぎ
モータ、21・・・モータドライバ、24・・・光源、
25・・・光センサ。 υ−HO2え
FIG. 1 is a partial block diagram schematic diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a signal waveform diagram useful for understanding the operation of the present invention. 10... Wafer pre-alignment device, 11... Shaft.
Assembly, 13... shaft, 15... cup-shaped element of shaft, 16 and 17... conduit, 18...
...Tube, 19...Wafer, 20...Surge motor, 21...Motor driver, 24...Light source,
25... Optical sensor. υ−HO2e

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、所望の基準位置に応じてウェーッ・を角方位決めす
るためのウェーッ・前整列装置であって、シャフト手段
と、 このシャフト手段の一端へ前記ウェーッ・を緊着するた
めの第1手段と、 前記シャフト手段を回転させるための第2手段と、 前記ウェーハの一側に配置された光センサ手段と、 前記ウェーハの他側に配置され、前記ウェーハの縁の影
を前記光センサ手段へ投射するための光源と、 を備え、 前記光センサ手段は、広い偏心範囲に亘って前記縁の影
を捕えるのに充分長い直線寸法をもち、かつ前記ウェー
ハの偏心および角方位を表わす信号を供給する、 ウェーハ前整列装置。 2、光センサ手段は、大体2.54CTn(1インチ)
の直線寸法をもつ電荷結合素子アレイである特許請求の
範囲第1項記載のウェーハ前整列装置。 3、電荷結合素子アレイは、その長さ沿いに大体10,
000個の光検知素子から成る特許請求の範囲第2項記
載のウェーッ・前整列装置。 先 電荷結合素子アレイは、光源およびウェーハの縁に
対して配置され、前記ウェーハがシャフト手段の中心か
ら大体2.77cIn(0,5インチ)ずれているとき
に前記ウェーハの縁の影を捕える特許請求の範囲第3項
記載のウェーハ前整列装置。 5、第1手段は、シャフト手段の一端にあってウェーハ
を前記シャフト手段へ緊着するための真空形成手段であ
る特許請求の範囲第4項記載のウェーハ前整列装置。 6、 第2手段は、シャフト手段の他端にあってシャフ
ト手段を回転させるためのモータ手段である特許請求の
範囲第5項記載のウェーハ前整列装置。 7、 シャフト手段は、その他端に配置されて前記シャ
フト手段の角位置を所定の増分で表わす信号を供給する
レゾルバ手段を有する特許請求の範囲第6項記載のウェ
ーハ前整列装置8、 電荷結合素子アレイへ接続されて
この電荷結合素子プレイからの信号のデジタル出力を供
給する第3手段を更に備えた特許請求の範囲第7項記載
のウェー・・前整列装置。 9、 レゾルバ手段およびシャフト手段へ接続され、前
記シャフト手段の完全な1回転中ウェーハの偏心および
角位置を計算するコンピュータ手段と、 このコンピュータ手段とモータ手段の間に接続され、前
記ウェーハを所望の基準位置へ位置決めするためのモー
タドライバ手段と、を更に備えた特許請求の範囲第8項
記載のウェーハ前整列装置。
[Claims] 1. A wafer pre-alignment device for angularly orienting a wafer according to a desired reference position, comprising: a shaft means; and a wafer tightly attached to one end of the shaft means; a first means for rotating the shaft means; a photosensor means disposed on one side of the wafer; and a photosensor means disposed on the other side of the wafer for detecting an edge shadow of the wafer. a light source for projecting onto said photosensor means, said photosensor means having a linear dimension long enough to capture said edge shadow over a wide eccentricity range, and said photosensor means has a linear dimension long enough to capture said edge shadow over a wide range of eccentricity, and A wafer pre-alignment device that provides a signal representing the wafer pre-alignment device. 2. The optical sensor means is approximately 2.54CTn (1 inch)
The wafer pre-alignment system of claim 1, wherein the wafer pre-alignment device is a charge coupled device array having a linear dimension of . 3. A charge-coupled device array has approximately 10,
3. The wave pre-alignment device according to claim 2, comprising 1,000 photodetecting elements. A charge-coupled device array is positioned relative to the light source and the edge of the wafer to capture the shadow of the edge of the wafer when the wafer is approximately 0.5 inches off center of the shaft means. A wafer pre-alignment device according to claim 3. 5. The wafer pre-aligning apparatus according to claim 4, wherein the first means is a vacuum forming means located at one end of the shaft means for tightly attaching the wafer to the shaft means. 6. The wafer pre-aligning apparatus according to claim 5, wherein the second means is a motor means located at the other end of the shaft means and for rotating the shaft means. 7. The wafer pre-alignment device 8 as claimed in claim 6, wherein the shaft means has resolver means disposed at the other end for providing a signal representative of the angular position of the shaft means in predetermined increments.A charge-coupled device. 8. The way pre-alignment apparatus of claim 7 further comprising third means connected to the array for providing a digital output of the signal from the charge coupled device play. 9. computer means connected to the resolver means and to the shaft means for calculating the eccentricity and angular position of the wafer during one complete rotation of said shaft means; and connected between said computer means and motor means for directing said wafer to the desired 9. The wafer pre-alignment apparatus according to claim 8, further comprising motor driver means for positioning the wafer to a reference position.
JP6105685A 1984-03-30 1985-03-27 Wafer front aligning device Granted JPS60218853A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US59518884A 1984-03-30 1984-03-30
US595188 1984-03-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60218853A true JPS60218853A (en) 1985-11-01
JPH0556653B2 JPH0556653B2 (en) 1993-08-20

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ID=24382131

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DE (1) DE3506782C2 (en)
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