JPS60217526A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPS60217526A
JPS60217526A JP7261384A JP7261384A JPS60217526A JP S60217526 A JPS60217526 A JP S60217526A JP 7261384 A JP7261384 A JP 7261384A JP 7261384 A JP7261384 A JP 7261384A JP S60217526 A JPS60217526 A JP S60217526A
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JP
Japan
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parts
resin
magnetic
radiation
magnetic recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP7261384A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Arioka
博之 有岡
Shigeru Shimada
茂 島田
Masaharu Nishimatsu
西松 正治
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a magnetic recording medium which decreases curling and drop-out by forming a back coat layer coated with a mixture composed of a lubricating agent sensitive with and curable by radiations and a resin sensitive with and curable by radiations on the rear of a substrate on which a magnetic recording layer is provided. CONSTITUTION:The back coat layer contg. 0.1-50pts.wt. the lubricating agent curable by radiations such as ester of a fatty acid of 7-30C having >=1 polymerizable unsatd. double bonds and alcohol of 1-30C, olefin-modified silicone oil, (meth)acrylic compd. having a molecular chain exhibiting lubricity, etc. together with 100pts.wt. the resin sensitive with and curable by radiations is provided on the rear of the non-magnetic substrate on the front of which the magnetic layer is formed. The magnetic recording medium having the back coat layer and the thin ferromagnetic layer on the inside and which prevents curling prevents drop-out, is highly resistant to wear, is of the coating type having no tack between the magnetic layer and the back coat layer and can be quickly cured by irradiation of electron rays is thus obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体に関するものである。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to magnetic recording media.

詳しく述べると、支持体上に強磁性薄膜を形成させた薄
膜型磁気記録媒体あるいは支持体上に塗布膜を形成さぜ
た塗布脱型磁気記録媒体にバックコートすることにより
摩擦係数を低下させ、強磁性薄膜層を内側とするカール
を低減し、ドロップアウトの減少を可能にした磁気記録
媒体に関するものである。
Specifically, by backcoating a thin film type magnetic recording medium in which a ferromagnetic thin film is formed on a support or a coated and removable magnetic recording medium in which a coating film is formed on a support, the coefficient of friction is reduced. The present invention relates to a magnetic recording medium that reduces curling with a ferromagnetic thin film layer on the inside, making it possible to reduce dropouts.

先行技術 現在、磁気記録媒体は、オーディオ用、ビデオ用等の磁
気テープ、コンピュータ用、ワードプロセッサ用等の磁
気ディスク等の分野で広く使用されるようになってきた
。それに伴ない、該磁気記録媒体に記録される情報層も
年々増加しているため、該記録媒体としては、記録密度
の高いことがますます要求されるようになってきている
。しかして、電気メッキ、化学メッキ、真空蒸着、スパ
ッタリング、イオンブレーティング等の方法を用いて強
磁性1IyAを形成する場合、形成される強磁性薄膜は
100%金属または合金もしくはその酸化物であるため
に、高い記録密度を持ち得る。しかしながら、上記の方
法で強磁性l躾を形成させた場合、支持体の表面状態が
強磁性薄膜の表面状態に強く影響を及ぼす。
BACKGROUND OF THE INVENTION At present, magnetic recording media are widely used in the fields of magnetic tapes for audio and video, magnetic disks for computers, word processors, and the like. Along with this, the number of information layers recorded on the magnetic recording medium is increasing year by year, and the recording medium is increasingly required to have a high recording density. However, when forming ferromagnetic 1IyA using methods such as electroplating, chemical plating, vacuum evaporation, sputtering, and ion blating, the ferromagnetic thin film formed is 100% metal, alloy, or oxide thereof. In addition, it can have high recording density. However, when a ferromagnetic layer is formed by the above method, the surface condition of the support strongly influences the surface condition of the ferromagnetic thin film.

磁性面の表面は、磁気ヘッドとのスペーシング損失を少
なくしてドロップアウトを減少させるた゛めに、より平
滑であることが望ましい。また、孟のための支持体もよ
り平滑であることが要求される。しかるに、支持体が平
滑になると、磁、気テープ、磁気ディスク等として走行
された際ガイドローラや支持ピンとはりつきを生じるこ
とになる。
It is desirable that the surface of the magnetic surface be smoother to reduce spacing loss with the magnetic head and reduce dropout. Also, the support for the meng is required to be smoother. However, if the support is smooth, it will stick to guide rollers or support pins when it is run as a magnetic tape, magnetic disk, or the like.

この°ような事情に鑑み、本発明者らは、従来の磁気記
録媒体の有す−る諸欠点を改良し、極めて有効な効果を
発揮するバック層を具備する磁気記録媒体を提唱してい
る。例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を代表と
する熱可塑性樹脂と、ポリウレタンと、インシアネート
化合物とからなる混合物あるいはこれにさらにニトロセ
ルロースを添加した混合物をバインダーとして、そこに
非磁性体粉末を分散してなる層として形成することによ
り、(1)バック面の摩擦係数を小さくする、(2)磁
性面を゛内側とするカールを低減する、(3)シンチン
グ現象(急停止時の巻きゆるみ)を防止する、(4)磁
性面とバック面との粘着を防止する等の効果を達成する
ことができた。
In view of these circumstances, the present inventors have proposed a magnetic recording medium equipped with a back layer that improves the various drawbacks of conventional magnetic recording media and exhibits extremely effective effects. . For example, a mixture of a thermoplastic resin typified by vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyurethane, and an incyanate compound, or a mixture of this and nitrocellulose added thereto, is used as a binder, and non-magnetic powder is added thereto. By forming it as a dispersed layer, (1) it reduces the coefficient of friction on the back surface, (2) it reduces curling with the magnetic surface on the inside, and (3) it reduces the cinching phenomenon (loosening of the winding during sudden stops). ) and (4) prevention of adhesion between the magnetic surface and the back surface.

これらの技術は、基本的には支持体の一面に強磁性薄膜
層を、また他面にバック層を具備しかつバック層が非磁
性体粉末を熱硬化性樹脂を主体とするバインダー中に分
散混入したものということができる。このようなバック
層を備える磁気記録媒体において、バック層のないもの
と比べ、前述のこととは別の一つの問題が認識されてお
り、それはジッターである。ジッターは、微細な位相変
動によって画面のゆれが生じる現象である。このジッタ
ーは、テープの走行の円滑性と関連するものと思われる
These technologies basically have a ferromagnetic thin film layer on one side of the support and a back layer on the other side, and the back layer consists of dispersing non-magnetic powder in a binder mainly composed of thermosetting resin. It can be said that it was mixed. In magnetic recording media having such a back layer, another problem has been recognized as compared to one without a back layer, and that is jitter. Jitter is a phenomenon in which screen shakes occur due to minute phase fluctuations. This jitter seems to be related to the smoothness of tape running.

発明の目的 したがって、本発明の目的は、新規な磁気記録媒体を提
供することにある。本発明の他の目的は摩擦抵抗が低く
、磁気記録層を内側とするカールを低減できかつドロッ
プアウトを減少し得る磁気記録媒体を提供することにあ
る。
OBJECT OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel magnetic recording medium. Another object of the present invention is to provide a magnetic recording medium that has low frictional resistance, can reduce curling with the magnetic recording layer inside, and can reduce dropouts.

これらの開目的は、支持体の一方の面に磁気記録層を具
備させてなる磁気記録媒体において、他方の面に放射線
感応硬化性潤滑剤と放射線感応硬化性樹脂との混合富を
塗布し、放射線によって固゛定してなるバック層を具備
させたことを特徴とする磁気記録媒体により達成される
The purpose of these developments is to provide a magnetic recording medium comprising a magnetic recording layer on one side of a support, coat the other side with a mixture of a radiation-sensitive curable lubricant and a radiation-sensitive curable resin, This is achieved by a magnetic recording medium characterized by having a back layer fixed by radiation.

発明の構成および効果 本発明で用いる放射線感応硬化性樹脂とは、放射線照射
によりラジカルを発生し、架橋あるいは重合讐ることに
より硬化するような、分子鎖中に不飽和二重結合を1個
以上含む樹脂である。高分子物質には、放射線照射によ
り崩壊するものと分子間に架橋を起こすものが知られて
いるが、後1者の例としては、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン。
Structure and Effects of the Invention The radiation-sensitive curable resin used in the present invention is a resin having one or more unsaturated double bonds in its molecular chain, which is cured by crosslinking or polymerization after generating radicals when irradiated with radiation. It is a resin containing. It is known that some polymeric substances disintegrate when irradiated with radiation, while others cause intermolecular crosslinking. Examples of the latter include polyethylene and polypropylene.

ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリル
アミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル。
Polystyrene, polyacrylate, polyacrylamide, polyvinyl chloride, polyester.

ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリロレイン等が挙げられ、このような架橋型ポリ
マーがバックコート層に用いられている。
Examples include polyvinylpyrrolidone rubber, polyvinyl alcohol, and polyacrylolein, and such crosslinked polymers are used in the back coat layer.

更に、本発明で用いる放射線感応硬化性樹脂は熱可塑性
樹脂を放射線感応変性することによっても調整され、こ
の方が硬化速度等の面から好ましい。放射線感応変性の
具体例としては、ラジカル重合性を有する不飽和二重結
合を示すアクリル酸。
Furthermore, the radiation-sensitive curable resin used in the present invention can also be prepared by radiation-sensitizing a thermoplastic resin, which is preferable from the viewpoint of curing speed and the like. A specific example of radiation-sensitive modification is acrylic acid, which exhibits an unsaturated double bond that is radically polymerizable.

メタクリル酸あるいはそれらのエステル化合物のような
アクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリ
ル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽
和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する
基を分子中に導入することである。その他放射線照射に
より架橋重合する不飽和二重結合であれば用いることが
できる。
Groups that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as acrylic double bonds such as methacrylic acid or their ester compounds, allylic double bonds such as diallyl phthalate, and unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives. It is introduced into the molecule. Other unsaturated double bonds that can be crosslinked and polymerized by radiation irradiation can be used.

具体的には、例えば、つぎのようなものがある。Specifically, for example, there are the following.

(1)塩化ビニル系共重合体 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
ビニルアルコール−プロピオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ごニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−末端OH側鎖アルキル基共重合体等があ
り、商品名としては、例えばユニオン・カーバイト社の
VROI−1゜VYNQ、VYEGX、VERR等が挙
げらレル。
(1) Vinyl chloride copolymer vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer,
Vinyl chloride-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-
These include vinyl alcohol-vinyl propionate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic acid copolymer, and vinyl chloride-vinyl acetate-terminal OH side chain alkyl group copolymer. Examples include Carbide's VROI-1°VYNQ, VYEGX, and VERR.

また、塩化ビニル系共重合体としては、カルボキシル基
含有塩化ビニル−カルボン酸ビニル共脆合体があり、該
共重合体は、(A>塩化ビニル。
Furthermore, examples of vinyl chloride-based copolymers include carboxyl group-containing vinyl chloride-vinyl carboxylate co-brittle polymers, where (A>vinyl chloride).

(B)カルボン酸ビニルエステル、(C)不飽和カルボ
ン酸および(D)不飽和カルボン酸無水物よりなる平均
重合fi100〜400を有する共重合体があり、好ま
しい結果を与える。該共重合体の製造において、塩化ビ
ニル(A)に共重合させる単量体の具体例を挙げると、
カルボン酸ビニルエステル(B)としては酢酸ビニル、
プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル(シェル社
商品名)等があり、好ましくは酢酸ビニルである。不飽
和カルボン酸(C)としてはマレイン酸、イタコン酸、
フマル酸、アクリル酸、メタクリル酸等があり、好まし
くはマレイン酸である。
There is a copolymer consisting of (B) carboxylic acid vinyl ester, (C) unsaturated carboxylic acid, and (D) unsaturated carboxylic acid anhydride and having an average polymerization fi of 100 to 400, which gives favorable results. In the production of the copolymer, specific examples of monomers to be copolymerized with vinyl chloride (A) include:
As the carboxylic acid vinyl ester (B), vinyl acetate,
Examples include vinyl propionate, vinyl versatate (trade name of Shell Co.), and vinyl acetate is preferred. Unsaturated carboxylic acids (C) include maleic acid, itaconic acid,
Examples include fumaric acid, acrylic acid, methacrylic acid, and maleic acid is preferred.

前記共重合体においては、塩化ビニル(A>が塩化ビニ
ル(A)とカルボン酸ビニルエステル(B)との和の5
0〜80の重量%含まれる。すなわち、塩化ビニル(A
>の量が前記和に対して80重量%を越えると、磁性粉
との混合により溶液粘度が上昇するので磁性塗料の基体
への塗布時に塗料粘度を下げる必要があり、多量の溶剤
を使用しなければならなくなる。一方、塩化ビニル(A
>の量が前記和に対して50重量%未満では、塗膜面の
強度が弱く、塗膜が剥離したり、ブロッキングが起り好
ましくはない。さらに、前記共重合体は、塩化ビニル(
A)とカルボン酸ビニルエステル(B)100重量部に
対する不飽和カルボン酸(C)が1〜5重量部である。
In the copolymer, vinyl chloride (A> is 5 of the sum of vinyl chloride (A) and carboxylic acid vinyl ester (B))
0 to 80% by weight. That is, vinyl chloride (A
If the amount exceeds 80% by weight based on the above sum, the viscosity of the solution increases due to mixing with the magnetic powder, so it is necessary to lower the viscosity of the paint when applying the magnetic paint to the substrate, and a large amount of solvent must be used. I will have to. On the other hand, vinyl chloride (A
If the amount of > is less than 50% by weight based on the above sum, the strength of the coating film surface will be weak, and the coating film may peel or block, which is not preferable. Furthermore, the copolymer contains vinyl chloride (
The amount of unsaturated carboxylic acid (C) is 1 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of A) and carboxylic acid vinyl ester (B).

すなわち、1重量部未満では熱硬化性樹脂との反応性が
弱く、一方5重量部を越えると熱硬化性樹脂との反応性
が早く、塗料のポットライフが短かく実用に供し難い。
That is, if it is less than 1 part by weight, the reactivity with the thermosetting resin is weak, while if it exceeds 5 parts by weight, the reactivity with the thermosetting resin is rapid and the pot life of the paint is short, making it difficult to put it into practical use.

また、前記共重合体の平均重合度を100〜400とし
たのは、これを後述する放射線感応硬化性樹脂と混合し
て磁性塗料として基体に塗布した場合、平均重合度が1
00未満のものは塗膜面が弱くて実用的でなく、また4
00を越えるものは塗料粘度が高くなり、高濃度溶液の
塗布作業上困難である。なお、塗布面の性状、塗料等の
状況から前記共重合体の平均重合度が200〜400の
ものが特に好ましい。
Moreover, the reason why the average degree of polymerization of the copolymer is set to 100 to 400 is that when it is mixed with a radiation-sensitive curable resin to be described later and applied to a substrate as a magnetic paint, the average degree of polymerization is 100 to 400.
If it is less than 00, the coating surface is weak and it is not practical, and if it is less than 4
If it exceeds 0.00, the viscosity of the paint becomes high, making it difficult to apply a highly concentrated solution. In addition, it is particularly preferable that the copolymer has an average degree of polymerization of 200 to 400 in view of the properties of the coated surface, the coating material, etc.

上記塩化ビニル系共重合体は、後に述べる手法により、
アクリル系二重結合、マレイン酸二重結合、アリル系二
重結合を導へすることにより放射線感応変性が行なわれ
る。
The above-mentioned vinyl chloride copolymer is produced by the method described later.
Radiation sensitivity modification is performed by introducing acrylic double bonds, maleic acid double bonds, and allylic double bonds.

(2)飽和ポリエステル樹脂 無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸
、アジピン酸、セバシン酸等の飽和多塩基酸とエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、トリ
メチロールプロパン、1゜2−プロピレングリコール、
ジプロピレングリコニル、1,3−ブタンジオール、1
,71−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリ
コール、1.4−シクロヘキサンジメタツール等の多価
アルコールとの反応により得られる飽和ポリエステル樹
脂またはこれらのポリエステル樹脂を803 Na等に
変性した樹脂(例えばバイロン538)等がある。これ
らも後に述べる手法により放射線感応変性が行なわれる
(2) Saturated polyester resin Saturated polybasic acids such as phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, and sebacic acid, and ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1°2-propylene glycol,
Dipropylene glyconyl, 1,3-butanediol, 1
, 71-butanediol, 1,6-hexanediol,
Saturated polyester resins obtained by reaction with polyhydric alcohols such as pentaerythritol, sorbitol, neopentyl glycol, and 1,4-cyclohexane dimetatool, or resins obtained by modifying these polyester resins to 803 Na, etc. (e.g. Vylon 538) etc. These are also subjected to radiation sensitivity modification using the method described later.

(3)不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物。例えば第(2)項の熱可塑性樹脂とし
て記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か′
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸、フマル酸等の不飽和多塩基酸とした放射線硬化性
不飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂、プ
レポリマー、オリゴマーを挙げることができる。
(3) A polyester compound containing a radiation-curable unsaturated double bond in the unsaturated polyester resin molecular chain. For example, an ester bond between a polybasic acid and a polyhydric alcohol described as a thermoplastic resin in item (2).
Examples include unsaturated polyester resins, prepolymers, and oligomers containing radiation-curable unsaturated double bonds in which a portion of the polybasic acid is an unsaturated polybasic acid such as maleic acid or fumaric acid. I can do it.

飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第(2)項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸を挙げることができる。
Examples of the polybasic acid and polyhydric alcohol components of the saturated polyester resin include the compounds listed in Section (2), and examples of the radiation-curable unsaturated double bond include maleic acid,
Mention may be made of fumaric acid.

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在下また
は不存在下に180〜200℃窒素雰囲気下脱水あるい
は脱アルコール反応の後、240〜280℃まで昇温し
、0.5〜111IIl11−1の減圧上縮合反応によ
りポリエステル樹脂を゛得ることができる。マレイン酸
ヤフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性
等から酸成分中1〜40モル%で、好ましくは10〜3
0モル%である。
The radiation-curable unsaturated polyester resin is produced by adding maleic acid, fumaric acid, etc. to one or more polybasic acid components and one or more polyhydric alcohol components, and then producing a 180 to 200 After dehydration or dealcoholization reaction in a nitrogen atmosphere, the temperature is raised to 240-280°C, and a polyester resin can be obtained by condensation reaction under reduced pressure of 0.5-111II11-1. The content of maleic acid, yafmaric acid, etc. is 1 to 40 mol% in the acid component, preferably 10 to 3 mol%, due to crosslinking during production, radiation curability, etc.
It is 0 mol%.

(4)ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂等およびこれらの成分の共重合体が
ある。これらの樹脂も、そこに含まれる水酸基を後に述
べる手法により放射線感応変性が行なわれる。
(4) Polyvinyl alcohol resin There are polyvinyl alcohol, butyral resin, acetal resin, formal resin, etc., and copolymers of these components. These resins are also subjected to radiation sensitivity modification of the hydroxyl groups contained therein by a method described later.

(5)エポキシ系樹脂1.フェノキシ樹脂ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリンまたはメチルエピクロルヒド
リンとの反応によるエポキシ樹脂(例えば、シェル化学
社製のエピコート152.154.828.1001.
16o4.1007、ダウケミカル社製のDEN 43
1.DER732,DER511,DER331、大日
本インキ化学工業社製のエビクロン 400゜エビクロ
ン 800等〉、前記エポキシの高重合度樹脂であるユ
ニオン・カーバイト社のフェノキシ樹脂(例えばPKH
A、PKHC,PKH)−1等)臭素化ビスフェノール
Aとエビクロル[ドリフとの共重合体く例えば大日本イ
ンキ化学工業社製のエビクロン145,152,153
.1120)等がある。これらの樹脂も、そこに含まれ
るエポキシ基を利用して、放射線感応変性が行なわれる
(5) Epoxy resin 1. Epoxy resin produced by the reaction of phenoxy resin bisphenol A with epichlorohydrin or methylepichlorohydrin (for example, Epikote 152.154.828.1001 manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.).
16o4.1007, DEN 43 manufactured by Dow Chemical Company
1. DER732, DER511, DER331, Evicron 400° Evicron 800 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, etc., phenoxy resin of Union Carbide Co., Ltd., which is a high polymerization degree resin of the above epoxy (for example, PKH
A, PKHC, PKH)-1, etc.) Copolymers of brominated bisphenol A and Ebichlor [drift, e.g. Ebichlor 145, 152, 153 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.
.. 1120) etc. These resins are also subjected to radiation sensitivity modification using the epoxy groups contained therein.

<6>mm素ms体 各種分子量の繊維素誘導体も、熱可塑性プラスチック成
分として有効である。その中でも、特に効果吟なものは
、硝化綿、セルロースアセトブチ ゛レート、エチルセ
ルロース、ブチルセルロース。
<6> mm cellulose derivatives of various molecular weights are also effective as thermoplastic components. Among them, the most effective are nitrified cotton, cellulose acetobutyrate, ethyl cellulose, and butyl cellulose.

アセチルセルロース等が好適である。これらも樹脂中の
水酸基を活用して後に述べる手法により放射線感応変性
が行なわれる。
Acetylcellulose and the like are preferred. These are also subjected to radiation sensitivity modification by utilizing the hydroxyl groups in the resin by a method described later.

(7)その他 放射線感応変性に用いることのできる樹脂としては、多
官能性ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル樹脂、
゛ポリビニルピロリドン樹脂およびその誘導体(例えば
ビニルピロリドン−エチレン共重合体)、ポリアミド樹
脂、ポリイミド樹脂、゛フェノール樹脂、スピロアセタ
ール樹脂、水酸基含有アクリルまたはメタクリル系樹脂
等も使用できる。
(7) Other resins that can be used for radiation-sensitive modification include polyfunctional polyester resins, polyether ester resins,
Polyvinylpyrrolidone resins and their derivatives (eg, vinylpyrrolidone-ethylene copolymers), polyamide resins, polyimide resins, phenolic resins, spiroacetal resins, hydroxyl group-containing acrylic or methacrylic resins, etc. can also be used.

その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタ
クリルアミド等がある。二重結合のあるバインダーとし
ては種々のポリエステル。
Other usable binder components include monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, and methacrylamide. Various polyesters are used as binders with double bonds.

ポリオール、ポリウレタン等をアクリル系二m結合を有
する化合物で変性することができる。必要に応じて多価
アルコールと多価カルボン酸とを配合づることによって
種々の分子量のものもできる。
Polyols, polyurethanes, etc. can be modified with acrylic compounds having dim bonds. By blending a polyhydric alcohol and a polycarboxylic acid as necessary, products with various molecular weights can be produced.

なお、上記内容は、本発明による放射線感応硬化性樹脂
の一部を記したにすぎない。
In addition, the above content describes only a part of the radiation-sensitive curable resin according to the present invention.

また、前記放射線感応硬化性樹脂の他に、非放射線感応
硬化性樹脂を、該両者の和に対して重量%以下の範囲で
配合することもできる。このような非放射線感応硬化性
樹脂去しては、例えば前記“放射線感応硬化性樹脂の製
造に使用される放射線感応変性前の重合体がある。
Further, in addition to the radiation-sensitive curable resin, a non-radiation-sensitive curable resin may be blended in an amount of not more than % by weight based on the sum of both. Examples of such non-radiation-sensitive curable resins include the above-mentioned polymers before radiation-sensitive modification used in the production of radiation-sensitive curable resins.

さらに、上記放創線感応変性熱可塑性樹脂に熱可塑性エ
ラストマーまたはプレポリマーを配合することにより一
層強靭な塗膜とすることができる。
Further, by blending a thermoplastic elastomer or a prepolymer with the radiation-sensitive modified thermoplastic resin, an even tougher coating film can be obtained.

加えてこれらのエラストマーまたはプレポリマーが、同
様に放射線感応硬化性に変性された場合には、より一層
効果的である。
In addition, it is even more effective if these elastomers or prepolymers are similarly modified to be radiation-sensitive curable.

本発明において使用可能なエラストマーまたはプレポリ
マーとしては、例えばつぎのようなものがある。
Examples of elastomers or prepolymers that can be used in the present invention include the following.

(1)ポリウレタンエラストマーおよびプレポリマーお
よびテロマー ポリウレタンエラストマーは耐摩耗性お−よびポリエチ
レンテレフタレートフィルムへの接着性の点で特に有効
である。
(1) Polyurethane elastomers and prepolymers and telomers Polyurethane elastomers are particularly effective in terms of abrasion resistance and adhesion to polyethylene terephthalate films.

このようなウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして2.4−t−リレンジイソシアネート、2.6
−ドリレンジイソシアネート、1゜3−キシリレンジイ
ソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネー1−
11.5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレ
ンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート
、3’、3”−ジメチル−4,4′ −ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、4.4’ −ジフェニルメタンジ
イソシアネート、3.3′ −ジメチルビフェニレンジ
イソシアネート、4.4’ −ビフェニレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソツメロ
ンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート、デスモジュール上1デスモジユールN等の各
種多価イソシアネートと・線状飽和ポリエステル(例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリ
セリン、トリメチロールプロパン、1.4−ブタンジオ
ール、1.6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット
、ソルビトール、ネオペンチルグリコール、1.4−シ
クロヘキサンジメタ・ノール等の多価アルコールと、無
水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸
、コハク酸、アジピン酸等の飽和多塩基酸との重縮合物
)、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリデトラメチレングリコ
ール等)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル
酸エステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等
の各種ポリエステル類の重縮合物よりなるポリウレタン
エラストマー、プレポリマー、テロマー等が有効である
Examples of such urethane compounds include 2.4-t-lylene diisocyanate, 2.6
-Drylene diisocyanate, 1゜3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate 1-
11.5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3',3''-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4.4'-diphenylmethane diisocyanate, 3.3'-dimethylbiphenylene diisocyanate, 4. Various polyvalent isocyanates such as 4'-biphenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isotumelon diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, Desmodur N, etc. and linear saturated polyesters (e.g., ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, Polyhydric alcohols such as methylolpropane, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, pentaerythritol, sorbitol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, phthalic anhydride, isophthalic acid, Polycondensates with saturated polybasic acids such as terephthalic acid, maleic acid, succinic acid, and adipic acid), linear saturated polyethers (polyethylene glycol,
Polyurethane elastomers, prepolymers, telomers, etc. made of polycondensates of various polyesters such as polypropylene glycol, polydetramethylene glycol, etc.), caprolactam, hydroxyl-containing acrylic esters, and hydroxyl-containing methacrylic esters are effective.

これらのエラストマーを前記放射線感応変性の各種熱可
塑性樹脂とそのまま組合わせてもよいが、 。
These elastomers may be combined as they are with the various radiation-sensitive modified thermoplastic resins.

さらにポリウレタンエラストマーの末端のイソシアネー
ト基または水酸基と反応するアクリル系二重結合または
アリル系二重結合等を有する単量体と反応させることに
より、放射線感応性に変性することは非常に効果的であ
る。
Furthermore, it is very effective to modify the polyurethane elastomer to be radiation sensitive by reacting it with a monomer having an acrylic double bond or allylic double bond that reacts with the isocyanate group or hydroxyl group at the end of the polyurethane elastomer. .

(2)アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレア・ベトロケミカル社製のポリBDリクィッド
レジンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロ
ニトリル−ブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは
日本ゼオン社製のハイカー1432J等のエラストマー
は、特にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカ
ルを生じて架橋および重合さぜる工2ストマー成分とし
て適す゛る。
(2) Acrylonitrile-butadiene copolymer elastomer An acrylonitrile-butadiene copolymer prepolymer with a terminal hydroxyl group commercially available as polyBD liquid resin manufactured by Sinclair Vetrochemical Co., Ltd., or an elastomer such as Hiker 1432J manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. In particular, it is suitable as a 2-stomer component in which the double bonds in butadiene generate radicals by radiation to cause crosslinking and polymerization.

(3)ポリブタジェンエラストマー シンクレア・ベトロケミカル社製のポリBDリクイツド
レジンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポ
リマーが、特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適であ
る。R−15ルポリマーにおいては、分子末端が水酸基
となっているため、分子末端をアクリル系不飽和二重結
合を付加することにより放射線感応性を高めることが可
能であり、バインダーとしてさらに有利である。
(3) Polybutadiene Elastomer A prepolymer having a low molecular weight terminal hydroxyl group such as PolyBD Liquid Resin R-15 manufactured by Sinclair Vetrochemical Co., Ltd. is particularly suitable in terms of compatibility with thermoplastic resins. Since the R-15 polymer has a hydroxyl group at the end of the molecule, it is possible to increase the radiation sensitivity by adding an acrylic unsaturated double bond to the end of the molecule, making it more advantageous as a binder.

よた、ポリブタジェンの環化物(日本合成ゴム社製 C
BR−M 901)も熱可塑性樹脂との組合わせにより
優れた性能を発揮する。特に環化されたポリブタジェン
は、ポリブタジェンが本来布する不飽和結合のラジカル
により族01線による架橋重合の効率が良く、バインダ
ーとして優れた性質を有している。
Yota, polybutadiene cyclized product (manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. C
BR-M 901) also exhibits excellent performance when combined with thermoplastic resin. In particular, cyclized polybutadiene has excellent properties as a binder, as the efficiency of crosslinking polymerization through group 01 lines is high due to the radicals of the unsaturated bonds that polybutadiene originally has.

その他の熱可塑性エラストマーおJ:びそのプレポリマ
ーの系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴ
ム、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびそ
の環化物(日本合成ゴム社製CIR701)、エポキシ
変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡績
社製バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応
変性処理を飽すことにより有効に利用できる。
Other thermoplastic elastomers and other suitable prepolymer systems include styrene-butadiene rubber, chloride rubber, acrylic rubber, isoprene rubber and its cyclized product (CIR701 manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), epoxy-modified rubber, internal Elastomers such as plasticized saturated linear polyester (Vylon #300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) can also be used effectively by undergoing radiation-sensitive modification treatment.

本発明において使用される放射線感応硬化性潤滑剤とは
、放射線に感じる不飽和結合と滑性を示す分子鎖とを有
する化合物(以下、潤滑剤という。)であり、このよう
な潤滑剤としては、重合性不飽和二重結合を少なくとも
1個有する炭素原子数7〜30の脂肪酸、炭素原子数7
〜30を有する不飽和脂肪酸と炭素原子数1〜30のア
ルコールとのエステル、オレフィン変性シリコーンオイ
ル。
The radiation-sensitive curable lubricant used in the present invention is a compound (hereinafter referred to as a lubricant) that has an unsaturated bond that is sensitive to radiation and a molecular chain that exhibits lubricity. , C7-30 fatty acid having at least one polymerizable unsaturated double bond, C7
-30 unsaturated fatty acids and alcohols having 1 to 30 carbon atoms, olefin-modified silicone oils.

滑性を示す分子鎖とアクリル系、メタクリル系またはア
リル系二重結合とを1分子中に有する化合物等がある。
There are compounds that have a molecular chain exhibiting lubricity and an acrylic, methacrylic, or allylic double bond in one molecule.

重合性不飽和二重結合を少なくとも1個有する融点−1
6〜81℃の脂肪酸としては、ウンデシレン酸(M、P
、24.5℃)、オレイン酸(M。
Melting point -1 having at least one polymerizable unsaturated double bond
As fatty acids at 6 to 81°C, undecylenic acid (M, P
, 24.5°C), oleic acid (M.

P、14℃)、エライジン酸(M、 P’、 51℃)
゛。
P, 14℃), elaidic acid (M, P', 51℃)
゛.

リノール酸(M、P、−,9℃)、リルン酸(M。Linoleic acid (M, P, -, 9°C), linoleic acid (M.

P、−11℃)、エルカ酸(M、P、34℃)。P, -11°C), erucic acid (M, P, 34°C).

ブラシジン酸(M、P、65℃)等がある。大豆油、ア
マニ油、桐油等の他に、リノール酸エチル。
Brassidic acid (M, P, 65°C), etc. In addition to soybean oil, linseed oil, tung oil, etc., ethyl linoleate.

リノール酸イソプロピル、リルン酸ブチル等がある。オ
レフィン変性シリコーンオイルとしては、例えば信越シ
リコーン社製のに、F−412,413,414,41
5,,4’16.X−22−903゜X−47−300
,PSB−154,X−62−719、(RCOO)n
 si (CI−12>4−n。
Examples include isopropyl linoleate and butyl linoleate. Examples of olefin-modified silicone oils include F-412, 413, 414, and 41 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.
5,,4'16. X-22-903゜X-47-300
, PSB-154, X-62-719, (RCOO)n
si (CI-12>4-n.

(RCOO)n Si (CH2):+−n。等がある
(RCOO)nSi(CH2):+-n. etc.

CH2CH20F3 滑性を示す分子鎖とアクリル系、メタクリル系またはア
リル系二重結合とを分子中に右づる化合物としては、該
化合物中のアクリル系、メタクリル系またはアリル系二
重結合としては、 ○ 1 CH2= CH−C−0−1 H3 CI−12=C−C−1CH2= CH−CI−12−
0−CH2=CH−C0NH−1 が望ましい。また、前記化合物の基体1造式は、Rを直
鎖または分岐炭化水素基とすれば、CH3 CH2=CHC0OR,CH=C−COOR。
CH2CH20F3 For compounds in which a molecular chain exhibiting slipperiness and an acrylic, methacrylic, or allylic double bond are present in the molecule, the acrylic, methacrylic, or allylic double bond in the compound is: ○ 1 CH2= CH-C-0-1 H3 CI-12=C-C-1CH2= CH-CI-12-
0-CH2=CH-CONH-1 is desirable. Further, the formula of the substrate 1 of the above compound is CH3 CH2=CHCOOR, CH=C-COOR, if R is a linear or branched hydrocarbon group.

CH2= CI−1−CI−1200OR。CH2=CI-1-CI-1200OR.

CH2=CHC0NHCHz 0COR。CH2=CHC0NHCHHz 0COR.

CH2=C(CH3)CONHCH20COR1CH2
0COCH=CH2 CHOCOR等である。Rとして C1−120COR は、Cn H2n、n= Cn ト127y Cn l
−12th−1等がある。
CH2=C(CH3)CONHCH20COR1CH2
0COCH=CH2CHOCOR, etc. C1-120COR as R is Cn H2n, n= Cn to127y Cn l
-12th-1 etc.

さらにリン酸エステル、 R+ −0−P−0−R3 2 の構造をとるものもあり、R+ 、R2およびR3゜は
、C7〜C3oの直鎖アルキルもしくはアルケニル基お
よびアリルアルコール、水酸基含有アクリル酸エステル
または水酸基含有メタクリル酸エステルを必須成分とす
るNC7〜C3oの直鎖アルキルもしくはアルケニル基
、アリルアルコール、水酸基含有アクリル酸エステル、
水酸基含有メタクリル酸エステルおよび水基の任意の組
合せであり得る。
Furthermore, there are phosphoric acid esters, which have the structure R+ -0-P-0-R3 2 , where R+, R2 and R3 are C7-C3o linear alkyl or alkenyl groups, allyl alcohol, and hydroxyl group-containing acrylic esters. or NC7-C3o linear alkyl or alkenyl group, allyl alcohol, hydroxyl group-containing acrylic ester, which has a hydroxyl group-containing methacrylic ester as an essential component;
It can be any combination of a hydroxyl group-containing methacrylic ester and a hydroxyl group.

また、Rが弗素を含有している場合をR[どすれば、前
記化合物の基体構造式は、 CH3 CH2=CHC00R(CH2=C−C00Rf 。
Furthermore, when R contains fluorine, the basic structural formula of the compound is CH3 CH2=CHC00R(CH2=C-C00Rf).

CH2= CI−1−CH2COORf 。CH2=CI-1-CH2COORf.

Cト13 CH2=C−CH3CO−ORf 。C13 CH2=C-CH3CO-ORf.

Cl2 =Cz=Chh CH20CO’Rf、CH3 CR2= C−CI−12CI−120CORf 。Cl2 = Cz = Chh CH20CO'Rf, CH3 CR2=C-CI-12CI-120CORf.

Cl−12=CHC0NHCH20CORf、CH2’
0COCH=CH2 CHOCORf 等であり、RfとしてCH200OR
f は、 Cn F27L++、 Cn F2.sn (C
H2) m (ただし、m=1〜5)°、 Cn F 27L++ 8 02 N CR2C1−1
2CIl F2n、+1前記潤滑剤は、放射線感応硬化
性樹脂100重量部に対して0.1〜50重量部、好ま
しくは1〜20重量部配合される。すなわち、0.1重
量部未満では摩擦抵抗低減の効果が不充分であり、一方
、50重量部を越えると、分散性が低下するからである
Cl-12=CHC0NHCH20CORf, CH2'
0COCH=CH2 CHOCORf etc., and CH200OR as Rf
f is Cn F27L++, Cn F2. sn (C
H2) m (however, m=1 to 5)°, Cn F 27L++ 8 02 N CR2C1-1
2CIl F2n, +1 The lubricant is blended in an amount of 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 20 parts by weight, per 100 parts by weight of the radiation-sensitive curable resin. That is, if the amount is less than 0.1 part by weight, the effect of reducing frictional resistance will be insufficient, while if it exceeds 50 parts by weight, the dispersibility will decrease.

このように、放射線感応硬化性樹脂および潤滑剤よりな
る組成物よりなるバック層中には、必要により非磁性体
粉末が配合される。
In this way, non-magnetic powder is blended into the back layer made of the composition comprising the radiation-sensitive curable resin and the lubricant, if necessary.

バック層中に配合される非磁性体粉末は、当業巷間にお
いて顔料ないし充填剤として知られるもののうちから1
種ないし数種選択される。これらの粉末は、表面凹凸を
調整しか、つバック層の補強効果を上げるために添加さ
れる。バック層表面の凹凸は、前記したシンチング現象
に大きく関与し、適度の凹凸付与によってシンチング現
象は改善される。また、バック層の凹凸は、テープの走
行性。
The non-magnetic powder blended into the back layer is one of the pigments or fillers known in the art.
One or more species are selected. These powders are added to adjust the surface unevenness and to enhance the reinforcing effect of the backing layer. The irregularities on the surface of the backing layer are largely involved in the above-mentioned scintching phenomenon, and the scintching phenomenon can be improved by providing appropriate irregularities. Also, the unevenness of the back layer affects the running properties of the tape.

磁性膜とバック層との粘着等にも影響を及ぼす。It also affects the adhesion between the magnetic film and the back layer.

バック層凹凸が粗くなりすぎると出力変動を生じやすく
なる。シンチング現象を軽減し、しかも出力変動を生じ
ないよう特定の材料系の組合せにおいて適切なバック層
表面凹凸を選定することが必要である。非磁性体粉末の
粒度、含有邑2分散状態等がバック層凹凸を決定する。
If the unevenness of the back layer becomes too rough, output fluctuations are likely to occur. It is necessary to select an appropriate back layer surface roughness for a specific combination of materials in order to reduce the cinching phenomenon and not cause output fluctuations. The particle size of the non-magnetic powder, the dispersion state of the contained particles, etc. determine the unevenness of the back layer.

前記のように、これら非磁性体粉末は、バック層を強靭
化し、バック層の摩耗軽減に重要な役割りを果ず。増強
効果を高めるため己、非磁性体粉末として研磨剤のよう
な硬質の粉末を少なくとも部分的に使用してもよい。さ
らに帯電防止効果を生むように導電性粉末を含めるよう
にすることもできる。使用し得る非磁性体粉末としては
、例えば(1)カーボンブラック、グラフ1イト等の導
電性粉末、(2)Si 02 、T! 02 、AJ2
20a 、Cr 2.03 。
As mentioned above, these non-magnetic powders play an important role in toughening the back layer and reducing wear of the back layer. In order to enhance the enhancement effect, hard powder such as abrasive powder may be used at least partially as the non-magnetic powder. Additionally, conductive powder may be included to provide an antistatic effect. Examples of non-magnetic powders that can be used include (1) conductive powders such as carbon black and graphite, (2) Si 02 , T! 02, AJ2
20a, Cr 2.03.

Si C,Ce 02 、 Ca Coal 、酸化亜
鉛、ゲーサイト、α−1”e203.タルク、カオリン
、Ca5O3,窒化ホウ素、フッ化黒鉛、二硫化モリブ
デン等の無機充填剤である。(1)および(2)の組み
合せても使用される。代表的なものとしては、CaCo
3.カーボンブラック等である。前記非磁性粉末の使用
量は、重澁で表わして(1)についてはバインダー10
0部に対して20〜100部、好ましくは20〜150
部であり、また(2)については10〜300部、好ま
しくは200〜250部である。すなわち、非磁性体粉
末の使用量が前記農を越えると、バック層が脆くなり、
かえってドロップアウトが多くなるという欠点が生じる
Si C, Ce 02 , Ca Coal, zinc oxide, goethite, α-1”e203. Inorganic fillers such as talc, kaolin, Ca5O3, boron nitride, graphite fluoride, molybdenum disulfide, etc. (1) and ( A combination of 2) is also used.A typical example is CaCo
3. carbon black, etc. The amount of the non-magnetic powder used is expressed in terms of weight, and for (1), the amount of binder 10 is expressed in terms of weight.
20 to 100 parts to 0 parts, preferably 20 to 150 parts
parts, and for (2) it is 10 to 300 parts, preferably 200 to 250 parts. That is, if the amount of non-magnetic powder used exceeds the above value, the back layer becomes brittle and
On the contrary, the disadvantage is that the number of dropouts increases.

前記樹脂と非磁性体粉末とは、ボールミル、サンドグラ
インドミル、ロールミル、I&速インペラー分散機、ホ
モジナイザー、超音波分Wi機等各種の装置内で十分混
声分散されて、バック層塗料が得られる。このバック層
塗料は、°常法により非磁性体上に塗布される。この塗
布膜は、乾燥基準で0.1〜3μm1好ましくは0.2
〜2μmである。
The resin and non-magnetic powder are sufficiently mixed and dispersed in various devices such as a ball mill, a sand grind mill, a roll mill, an I&speed impeller disperser, a homogenizer, and an ultrasonic separation machine to obtain a back layer paint. This back layer paint is applied onto the nonmagnetic material by a conventional method. This coating film has a thickness of 0.1 to 3 μm on a dry basis, preferably 0.2 μm.
~2 μm.

本発明は、溶剤を使石゛する場合には、アセトン。In the present invention, when a solvent is used, acetone is used.

メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン。Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone.

シクロヘキサノン等のケトン類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパ/−ル、ブタノール等のイソシアネート
系熱硬化型バインダーでは使用できなかったアルコール
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ジメチルホルムアミド。
Ketones such as cyclohexanone, alcohols that cannot be used with isocyanate thermosetting binders such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane,
Dimethylformamide.

ビニルピロリドン、ニトロプロパン等の溶剤、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類等の希釈剤ないし溶剤
が用いられる。
Diluents or solvents such as solvents such as vinylpyrrolidone and nitropropane, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are used.

塗布されるべき基体としそは、現在磁気記録媒体として
広く活用されているポリエチレンテレフタレート系フィ
ルムおよびさらに耐熱性を要求される用途としては、ポ
リイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等が活用
され、特にポリエステル系フィルムにおいては薄物ベー
スでは1軸延伸、2軸延伸処理を施して利用する場合が
多い。
The substrate to be coated is polyethylene terephthalate film, which is currently widely used as a magnetic recording medium, and for applications that require further heat resistance, polyimide film, polyamide-imide film, etc. are used, especially polyester film. In many cases, thin material bases are subjected to uniaxial or biaxial stretching treatment.

本発明に係わる放射線感応硬化型磁気記録媒体用バイン
ダーに関しても、纏該用途にて通常使用される各種帯電
防止剤9分散剤、研磨剤等を用途に合わせて本発明添加
剤以外に添加させ活用することも有効である。
Regarding the binder for radiation-sensitive hardening type magnetic recording media according to the present invention, various antistatic agents, 9 dispersants, abrasives, etc. commonly used in the application are added in addition to the additives of the invention according to the application. It is also effective to do so.

本発明において磁性塗膜の架橋に使用される活性エネル
ギー線としては、電子線加速器を線源とした電子線が下
記に述べる理由から有利である。
As the active energy ray used for crosslinking the magnetic coating film in the present invention, an electron beam using an electron beam accelerator as a ray source is advantageous for the reasons described below.

しかし、その他にもC01sOを線源としたγ線、S 
r 9°を線源としたβ線、X線発生機を線源としたX
線等も使用できる。
However, there are other sources such as gamma rays and S
r Beta rays with a 9° source, X with an X-ray generator as a source
Lines etc. can also be used.

照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ラインへ
の導入のための電離放射線の自己遮蔽、工程ライン諸設
備とのシーケンス制御との接続のしやすさ等の点で電子
線加速器の利用が有利である。電子線加速器は、従来コ
ツククロフト型、バンプグラフ型、共換変圧器型、鉄心
絶縁変圧器型、リニャアクセレレータ型等、主として高
電圧を4qる方式の差により各種の加速器が実用化され
ている。しかし、磁気記録媒体は汎用用途に使用される
場合、10ミクロン以下の薄い磁性膜厚のものがほとん
どであり、上記加速器で通常使用される1000kV以
上の高加速電圧は不必要であり、3’0OkV以下の低
い加速電圧の電子線加速器で十分である。低加速電圧加
速器においては、システム自体のコストも低下するが、
さらにそのうえ電離放射線の遮蔽設備費の点でさらに有
利である。
As an irradiation source, electron beam accelerators are recommended for the following reasons: absorption dose control, self-shielding of ionizing radiation for introduction into manufacturing process lines, ease of connection with sequence control of process line equipment, etc. is advantageous. Various types of electron beam accelerators have been put into practical use, including the Kotscroft type, bumpgraph type, commutative transformer type, iron-core insulated transformer type, and linear accelerator type, mainly due to differences in the method of generating high voltage 4Q. . However, when magnetic recording media are used for general purposes, most have a thin magnetic film thickness of 10 microns or less, and the high acceleration voltage of 1000 kV or more normally used in the above-mentioned accelerator is unnecessary. An electron beam accelerator with a low acceleration voltage of 0 OkV or less is sufficient. Although the cost of the system itself is lower in low acceleration voltage accelerators,
Moreover, it is even more advantageous in terms of equipment costs for shielding ionizing radiation.

つぎに、遮蔽設備コストの有利さについて第1表に示す
Next, Table 1 shows the advantages of shielding equipment costs.

(以下余白) 第1表 加速電圧と遮蔽物の厚さ 加速電圧kV 遮 蔽 物 遮蔽厚(clll)150
 鉛 0.5 20’O鉛 2 300 鉛 3 500 コンクリート 85 750 コンクリート 115 1.000 コンクリート 125 2.000 コンクリ−1〜 175 3.000 コンクリート 190 〔放射線利用研究会報缶出 第8頁 (日本原子力会11979年8月)より引用〕第1表に
示すように、300kV以下の電子加速器においては、
遮蔽材として鉛板(最大3cm)を用いて電子線被照射
部を包む加速管全体を覆うことで濶X線を十分遮断する
ことができる。このために高価な電子線照射室を別に設
ける必要もなく、システム自体も磁器記録媒体製造ライ
ンの1システムとして組込むことが可能となり、例えば
゛磁気テープ、磁気シート等の電子線による乾−燥、硬
化をオンラインで1行なうことが可能となる。
(Left below) Table 1 Accelerating voltage and shielding thickness Accelerating voltage kV Shielding Shielding thickness (clll) 150
Lead 0.5 20'O Lead 2 300 Lead 3 500 Concrete 85 750 Concrete 115 1.000 Concrete 125 2.000 Concrete 1 to 175 3.000 Concrete 190 [Radiation Utilization Research Bulletin Canned Page 8 (Atomic Energy Association of Japan) (quoted from August 11979)] As shown in Table 1, in an electron accelerator of 300 kV or less,
By using a lead plate (maximum 3 cm) as a shielding material to cover the entire acceleration tube surrounding the part to be irradiated with the electron beam, it is possible to sufficiently block the accelerating X-rays. For this reason, there is no need to separately provide an expensive electron beam irradiation chamber, and the system itself can be incorporated into a ceramic recording medium manufacturing line. It becomes possible to perform one curing process online.

このような具体的システムとしては、米国エナージー・
サイエンス社(ES I )にて製造されている低電圧
タイプの電子線加速器(エレクトロカーテンシステム)
、810社の電子線加速器(ブロードビームシステム)
、西独ポリマー・フィジクス社の自己遮蔽型スキャンニ
ング型低電圧タイプ電子線加速器が好適である。150
〜300に■の低電圧加速器を使用し、前述のバインダ
ー、塗膜を硬化した場合、高温高湿走行耐久性において
、吸収線量が5 M radを越えると、オーディオお
よびメモリー用ではヘッドのバック層膜脱落の付着、ま
たビデオ用途では回転シリンダーへ同様の付着が増して
好ましくない。他方、0.5〜5 M radの吸収線
量では電子線による重合、架橋@度が適当であるため、
バック層塗膜が適度に柔軟性と剛直性とのバランスを有
し、バック層ヘッド間の耐摩耗性も向上し、ヘッド付着
、シリンダー付着もなく、優れた磁気記録媒体となる。
A concrete example of such a system is the US Energy
Low voltage type electron beam accelerator (electrocurtain system) manufactured by Science Inc. (ESI)
, 810 companies' electron beam accelerators (broad beam systems)
A self-shielded scanning low-voltage electron beam accelerator manufactured by Polymer Physics, West Germany is suitable. 150
When the above-mentioned binder and coating film are cured using a low voltage accelerator of This is undesirable because it increases the adhesion of film shedding and, in video applications, the same adhesion to rotating cylinders. On the other hand, at an absorbed dose of 0.5 to 5 M rad, polymerization and crosslinking by electron beam are appropriate;
The back layer coating has an appropriate balance between flexibility and rigidity, and the wear resistance between the back layer heads is improved, and there is no head adhesion or cylinder adhesion, resulting in an excellent magnetic recording medium.

また、放射線架橋に際しては、窒素ガス、ヘリウムガス
等の不活性ガス気流中で放射線を記録媒体に照射するこ
とが重要であり、磁性塗膜のように非常に磁性顔料充填
度の^い塗膜は非常に多孔質となっているために、空気
中で放射線を照射することはバインダー成分の架橋に際
し、放射線により生じたオゾン等の影響で重合体中に生
じたラジカルが有効に架橋反応して働くことを阻害する
In addition, during radiation crosslinking, it is important to irradiate the recording medium with radiation in a stream of inert gas such as nitrogen gas or helium gas. is extremely porous, so irradiating it with radiation in the air will cause the radicals generated in the polymer to undergo an effective crosslinking reaction due to the effects of ozone, etc. generated by the radiation. impede work.

その影響は、磁性層表面は当然として、多孔質のため塗
膜内部までバインダー架橋阻害の影響を受ける。したが
って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、特
に酸素vii度が最大で1%、好ましくは3.OOOp
pm以下の窒素、ヘリウム、炭酸ガス等の不活性カス雰
囲気に保つことが重要である。
The effect is that not only the surface of the magnetic layer is porous, but also the inside of the coating film is affected by the inhibition of crosslinking by the binder. Therefore, the atmosphere in the area where the active energy rays are irradiated should have an oxygen concentration of at most 1%, preferably 3. OOOp
It is important to maintain an inert gas atmosphere of nitrogen, helium, carbon dioxide, etc. below pm.

本発明において支持体の一つの面に形成される記録層と
しては、塗布型膜でも強磁性薄膜で6よい。まず塗布型
膜としては、磁性体粉末を熱硬化型樹脂または電子線感
応硬化型樹脂を分散させてなる磁性塗料を、乾燥準備で
0.5〜20μm、゛好ましくは0.5〜10μmにな
るように塗布して、加熱下または放射線照射下に硬化さ
せてなるものである。
In the present invention, the recording layer formed on one surface of the support may be a coated film or a ferromagnetic thin film. First, as a coated film, a magnetic paint made by dispersing magnetic powder with a thermosetting resin or an electron beam-sensitive curable resin is used to obtain a thickness of 0.5 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, after drying. It is coated in a similar manner and cured under heating or irradiation with radiation.

このような磁性塗料においてバインダーとして使用され
る熱硬化型樹脂および放射線感応硬化型樹脂としては、
周・知のものが使用される。−例を挙げると、例えば前
記変性前の各重合体または放射線感応変性後の樹脂にポ
リウレタン1−ラス1ヘマー、プレポリマー、テロマー
、イソシアネート化合物等を配合したものや熱硬化性樹
脂等がある。
Thermosetting resins and radiation-sensitive curable resins used as binders in such magnetic paints include:
Commonly known items are used. Examples include those in which polyurethane 1-Las 1 hemer, prepolymer, telomer, isocyanate compound, etc. are blended with each of the polymers before modification or the resin after radiation-sensitive modification, and thermosetting resins.

また、放射線感応硬化型樹脂としては、前記のごときも
のがあり、その塗布方法ならびに硬化方法も前記のとお
りである。
Further, as the radiation-sensitive curable resin, there are the ones mentioned above, and the coating method and curing method are also as described above.

本発明は、溶剤を使用する場合には、アセトン。When the present invention uses a solvent, acetone is used.

メヂルエチルケトン、メチルイソブチルケトン。Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone.

シクロヘキサノン等のケトン類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、ブタノール等のイソシアネート
系熱硬化型バインダーでは使用できなかったアルコール
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ジメチルホルムアミド。
Ketones such as cyclohexanone, alcohols that cannot be used with isocyanate thermosetting binders such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane,
Dimethylformamide.

ビニルピロリドン、ニトロプロパン等の溶剤、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類等の希釈剤ないし溶剤
が用いられる。
Diluents or solvents such as solvents such as vinylpyrrolidone and nitropropane, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are used.

本発明において使用される磁性粉とは、γ−Ft203
、Fe304.Co ドープ7−Fe2O3゜COドー
プ7−Fe203−Fe3O4固溶体。
The magnetic powder used in the present invention is γ-Ft203
, Fe304. Co-doped 7-Fe2O3° CO-doped 7-Fe203-Fe3O4 solid solution.

Cr 02 、 co系化合物被着型7”−Fe203
゜CO系化合物被着型1”e 304 (T −Fe 
203との中間酸化状態も含む。また、ここでいうCO
系化合物とは、酸化コバルト、水酸化コバルト。
Cr 02 , co-based compound coated type 7”-Fe203
゜CO-based compound coated type 1”e 304 (T-Fe
Also includes intermediate oxidation states with 203. Also, here CO
The system compounds are cobalt oxide and cobalt hydroxide.

コバルトフェライト、コバルトイオン吸着物等コバルト
の磁気異方性を保磁方向上に活用する場合を示す。)や
、Go、Fe−Co 、Fe−Co−N、Co−Ni等
の強磁性金属元素を主成分とするもの等の磁性体微粉末
である。その製法は、Na1l−14等の還元剤による
湿式還元法や、酸化鉄表面をSi化合物で処理したのち
水素ガス等により乾式還元法によって、あるいは低圧ア
ルゴンガス気流中で真空蒸発させることによって得られ
る手法等が挙げられる。また、単結晶バリウムフfう≧
ト微粉も使用できる。
A case is shown in which the magnetic anisotropy of cobalt, such as cobalt ferrite and cobalt ion adsorbates, is utilized in the coercive direction. ), and magnetic powders whose main component is a ferromagnetic metal element such as Go, Fe-Co, Fe-Co-N, Co-Ni, etc. It can be produced by a wet reduction method using a reducing agent such as Na1-14, by a dry reduction method using hydrogen gas after treating the iron oxide surface with a Si compound, or by vacuum evaporation in a low-pressure argon gas stream. Examples include methods. Also, single crystal barium f≧
Fine powder can also be used.

以上の磁性体微粉末は、針状形態あるいは粒状形態のも
のを使用し、磁気記録媒体として用いる用途によって選
択される。そのサイズは、例えば針状形態の場合は平均
長軸が0.1〜1μ丑、平均短軸が0.02〜0.1μ
麓のものが好ましく、また粒状形態の場合は平均粒径が
0.01〜0゜5μmのものが好ましい。
The above-mentioned magnetic fine powder may be in an acicular or granular form, and is selected depending on the intended use as a magnetic recording medium. For example, in the case of a needle-like shape, the average long axis is 0.1 to 1 μm, and the average short axis is 0.02 to 0.1 μm.
Those at the foot of the mountain are preferable, and in the case of granular forms, those with an average particle size of 0.01 to 0.5 μm are preferable.

強弾性薄膜の場合には、磁性層の蒸着方法としては、例
えばコバルト/ニッケル(原子比8/2)の合金インゴ
ットを準備し、真空蒸着法により長尺の強磁性薄膜を支
持体上に形成する。蒸着は電子線加熱により行ない、中
心入射角が70’のいわゆる斜めの蒸着法を採用する。
In the case of a ferroelastic thin film, the magnetic layer is deposited by preparing a cobalt/nickel (atomic ratio 8/2) alloy ingot, and forming a long ferromagnetic thin film on a support by vacuum deposition. do. The vapor deposition is performed by electron beam heating, and a so-called oblique vapor deposition method with a central incidence angle of 70' is employed.

ベースフィルム冷却用に円筒キャンを用い、冷却温度を
5°Cに保つ。真空槽を3’X10−3Paまで排気し
、これに酸素ガスを圧力が6.3x10−2Paになる
まで導入して蒸着を行なう。電子鏡に与えるパワーと支
持体フィルムの駆動速度を調節することによって膜厚が
約80OAとなるようにする。
A cylindrical can is used to cool the base film, and the cooling temperature is maintained at 5°C. The vacuum chamber is evacuated to 3'x10-3 Pa, and oxygen gas is introduced into it until the pressure reaches 6.3x10-2 Pa for vapor deposition. The film thickness is adjusted to about 80 OA by adjusting the power applied to the electronic mirror and the driving speed of the support film.

このようにして得られた強磁性薄膜は、保持力が約10
000e1磁束密IBrが8000Gとなり、磁器記録
媒体として好都合なものが得られる。
The ferromagnetic thin film thus obtained has a coercivity of about 10
000e1 magnetic flux density IBr is 8000G, and a suitable magnetic recording medium can be obtained.

以下、本発明の実施例および比較例を示す。なお、特性
については、つぎのようにして測定あるいは評価を行な
った。
Examples and comparative examples of the present invention are shown below. The characteristics were measured or evaluated as follows.

(A)摩擦係数 直径4Il1mの表面を研摩したアルミニウム円柱に磁
気テープのバック面を内側にして180℃の抱き角で巻
きつけ、2 cm7 secで走行し、送り出し側と巻
き取り側のテンションを測定し、計算よりめた。
(A) Coefficient of friction Wrap the magnetic tape around a polished aluminum cylinder with a diameter of 4Il1m at an angle of 180 degrees with the back surface inside, run at 2 cm7 sec, and measure the tension on the sending side and winding side. Then, I calculated it.

(B)シンチング現象 一般市販のVH3方式VTRを用いて、テープ全長を早
送りしたのち早戻しを行ない、残り50mのところで停
止し、ざらに早戻しを最後まで行なう。しかるのち、テ
ープの巻ぎ状態を目視により観察した。テープ層間に隙
間がなく、巻き状態が良好な場合をOとし、そしてテー
プ層間に隙間が発生した場合をXとした。
(B) Scinching phenomenon Using a commercially available VH3 type VTR, after fast forwarding the entire length of the tape, fast reversing was performed, stopping when 50 m remained, and fast reversing was roughly performed to the end. Thereafter, the winding state of the tape was visually observed. The case where there was no gap between the tape layers and the winding condition was good was rated O, and the case where a gap occurred between the tape layers was rated X.

(C)バック層の摩耗 一般市販のVH8方式VTRを用い、40℃の温度およ
び80%相対湿度の環境下で50回走行させたのち、カ
セットケース内の汚れを観察した。
(C) Abrasion of the back layer Using a commercially available VH8 type VTR, it was run 50 times at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 80%, and then dirt inside the cassette case was observed.

汚れのある場合をXとし、そして汚れのない場合をOと
し、その中間にある場合を△とした。
The case where there is dirt is marked as X, the case where there is no dirt is marked as O, and the case in between is marked as △.

([))磁性層とバック層の粘着 VHSリールに巻取り、60℃の環境下に5日間放置し
た時の粘着状況を目視により評価した。
([)] The magnetic layer and back layer were wound up on an adhesive VHS reel and left in an environment at 60° C. for 5 days, and the adhesion status was visually evaluated.

粘着のない場合をOとし、そして粘着の生じた場合をX
とした。
O indicates no adhesion, and X indicates adhesion.
And so.

(E)ジッター VH8方式VTRを用い、40℃の温度および80%相
対湿度の環境下で100回走行させ、目視で画面のゆれ
を観察した。画面の小れのない場合を0とし、そして画
面のゆれのある場合をXとした。゛ (F)カール 5部mmx50mmに切断した磁気テープを平滑なガラ
ス板上に置き、カールの無い場合をOとし、カールのあ
る場合をXとし、カールの大きいものをxXとした。
(E) Jitter Using a VH8 type VTR, the test was run 100 times at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 80%, and screen shake was visually observed. The case where there is no screen wobbling is set as 0, and the case where there is screen shake is set as X.゛(F) A magnetic tape cut into 5 mm x 50 mm curls was placed on a smooth glass plate, and the case with no curl was set as O, the case with curl was set as X, and the case with large curl was set as xX.

(G)表面粗度 タリステップ(TAYLOR−HOBSON社製)を用
いて得たチャートから20点平均法でめた。
(G) Surface roughness Determined by the 20-point average method from a chart obtained using Talystep (manufactured by TAYLOR-HOBSON).

実施例に先立ち、樹脂合成例を示す。Prior to Examples, resin synthesis examples will be shown.

樹脂合成例(a ) 塩化ヒニル/酢酸ビニル/ビニルアルコールが93/2
15重量%の組成で分子量18000の共重合体100
部をトルエン238部シクOヘキサノン95部を加熱溶
解後、80℃に昇温し、下記TDIアダクトを7.5部
加え、さらにオクチル酸スズ0.002部、ハイドロキ
ノン0.002部加え、82℃でN2ガス気流中イソシ
アネート(NCO)反応率が90%以上となるまで反応
せしめる。反応終了後冷却しメチルエチルケトン238
部を加え希釈する。得られた樹脂組成物を<a >とす
る。なお、この樹脂の分子量は19200である。
Resin synthesis example (a) Hinyl chloride/vinyl acetate/vinyl alcohol 93/2
Copolymer 100 with a composition of 15% by weight and a molecular weight of 18,000
After heating and dissolving 238 parts of toluene and 95 parts of hexanone, the temperature was raised to 80°C, 7.5 parts of the following TDI adduct was added, further 0.002 parts of tin octylate and 0.002 parts of hydroquinone were added, and the mixture was heated to 82°C. The reaction is carried out in a N2 gas stream until the reaction rate of isocyanate (NCO) reaches 90% or more. After the reaction is completed, cool and methyl ethyl ketone 238
Add 1 part to dilute. The obtained resin composition is designated as <a>. Note that the molecular weight of this resin is 19,200.

TDIアダクトの合成 トリレンジイソシアネート(TDj)348部をN2気
流中14の4日フラスコ内で80℃に加熱後、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート(2トIEMA)260部
、オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05
部を反応缶内の温度が80〜85℃となる様に冷却コン
トロールしながら滴下し、滴下終了後80℃で3時間攪
拌し反応を完結させる。反応終了後取り出し、冷却後、
白色ベースト状のTDIの21−I E M Aアダク
トを得た。
Synthesis of TDI adduct 348 parts of tolylene diisocyanate (TDj) was heated to 80°C in a flask for 14 days in a N2 stream, and then 260 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate (2-IEMA), 0.07 part of tin octylate, Hydroquinone 0.05
The mixture was added dropwise while controlling the cooling so that the temperature inside the reaction vessel was 80 to 85°C, and after the addition was completed, the mixture was stirred at 80°C for 3 hours to complete the reaction. After the reaction is complete, take it out, cool it down,
A white base-like TDI 21-I EMA adduct was obtained.

樹脂合成例(b) ブチラール樹脂(ブチラール基/アセタール基/ビニル
アルコール基が42/20155重a%の組成で分子量
33800の共重合体)100部をトルエン20’O部
、メチルイソブチルケトン200部に加熱溶解後、80
℃に昇渇し、樹脂合成例(a’)と同じTDIアダクト
を128部加えさらにオクチル酸スズ0.026部ハイ
ドロキノン0.002部加え、80℃でN2ガス気流中
NC0反応率が90%以上となるまで反応せしめる。
Resin synthesis example (b) 100 parts of butyral resin (a copolymer with a composition of 42/20155% by weight of butyral groups/acetal groups/vinyl alcohol groups and a molecular weight of 33,800) was mixed with 20'O parts of toluene and 200 parts of methyl isobutyl ketone. After heating and melting, 80
℃, added 128 parts of the same TDI adduct as in resin synthesis example (a'), further added 0.026 parts of tin octylate and 0.002 parts of hydroquinone, and at 80°C in N2 gas stream the NC0 reaction rate was 90% or more. Let them react until it happens.

反応終了後冷却しメチルエチルケトン238部を加え、
希釈したものを(b)とする。なお、この樹脂の分子量
は42000である。
After the reaction was completed, it was cooled and 238 parts of methyl ethyl ketone was added.
The diluted product is called (b). Note that the molecular weight of this resin is 42,000.

樹脂合成例(c ) 飽和ポリエステル樹脂(ダイナミートノーベル社@L−
411)100部をトルエン116部、メチルエチルケ
トン116部に加熱溶解し、80℃昇渇後、樹脂合成例
(a)に準じて合成したイソホロンジイソシアネート−
アダクト2.84部を加えオクチル酸スズ0.006部
、ハイドロキノン0.006部をさらに加え、N2ガス
気流中80℃でNCO反応率90%以上となるまで反応
せしめる。
Resin synthesis example (c) Saturated polyester resin (Dynamite Nobel @L-
411) Isophorone diisocyanate synthesized according to resin synthesis example (a) by heating and dissolving 100 parts in 116 parts of toluene and 116 parts of methyl ethyl ketone and heating to 80°C.
Add 2.84 parts of adduct, further add 0.006 part of tin octylate, and 0.006 part of hydroquinone, and react at 80° C. in a N2 gas stream until the NCO reaction rate reaches 90% or more.

得られた樹脂組成物(C)とする。この樹脂の分子量は
20600である。
The resulting resin composition is referred to as (C). The molecular weight of this resin is 20,600.

樹脂合成例(d ) テレフタル酸ジメチル291.2部、イソフタル酸ジメ
チル291.2部、マレイン酸ジメチル64.8部、エ
チレングリコール251.2部、1.4−ブタンジオー
ル364.8部、1,3−ブタンジオール81.2部お
よびテトラ−n−ブチルチタネート4.0部を反応缶に
仕込みN2ガス気流中180℃で脱メタノール反応の後
、240〜260℃まで昇温し0.5〜1+nm1lの
該圧下縮合反応により分子fi8000の線状不飽和ポ
リエステル樹脂を得た。
Resin synthesis example (d) 291.2 parts of dimethyl terephthalate, 291.2 parts of dimethyl isophthalate, 64.8 parts of dimethyl maleate, 251.2 parts of ethylene glycol, 364.8 parts of 1,4-butanediol, 1, 81.2 parts of 3-butanediol and 4.0 parts of tetra-n-butyl titanate were charged into a reaction vessel, and after a demethanol reaction at 180°C in a N2 gas stream, the temperature was raised to 240-260°C and 0.5-1+nm 1 liter. A linear unsaturated polyester resin with a molecular fi of 8000 was obtained by the pressure condensation reaction.

樹脂合成例(e) グリシジルメタクリレート20部、ブチルアクリレート
30部、トルエン37.5部、メチルイソブチルケトン
37.5部を反応缶に入れ80℃に加熱し、グリシジル
メタクリレート60部、ブチルアクリレート90部、ベ
ンゾイルパーオキサイド6部を、トルエン112.5部
、メチルイソブチルケトン112.5部を滴下し、80
〜90℃で4時間反応せしめ、ドーリエタノールアミン
125部、ハイドロキノン0.5部を添加溶解し、アク
リル酸40部を滴下後、同温度で酸価5以下となるまで
反応せしめる。得られた樹脂組成物(e)とする。この
樹脂の分子量は150000である。
Resin synthesis example (e) 20 parts of glycidyl methacrylate, 30 parts of butyl acrylate, 37.5 parts of toluene, and 37.5 parts of methyl isobutyl ketone were placed in a reaction vessel and heated to 80°C, and 60 parts of glycidyl methacrylate, 90 parts of butyl acrylate, 6 parts of benzoyl peroxide, 112.5 parts of toluene and 112.5 parts of methyl isobutyl ketone were added dropwise to 80
Reaction was carried out at ~90°C for 4 hours, 125 parts of Doriethanolamine and 0.5 part of hydroquinone were added and dissolved, and 40 parts of acrylic acid was added dropwise, followed by reaction at the same temperature until the acid value reached 5 or less. The resulting resin composition is referred to as (e). The molecular weight of this resin is 150,000.

樹脂合成例(f) 2−ヒドロキシエチルメタクリレート10部、ブチルア
クリレート40部、トルエン37.5部メチルイソブチ
ルケトン37.5部を反応缶に入れ、80℃に加熱後、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート30部、ブチルア
クリレート120部、重合開始剤としてベンゾイルパー
オキサイド8部をトルエン112.5部、メチルイソブ
チルケトン112.5部に溶解し、滴下後、80〜90
℃で4時間反応せしめ、反応当主物330部に樹脂合成
例(a )のTDIアダクトに準じて合成したTDI−
アクリルアルコールアダクトを44部加−〜 え、オクチル酸スズ0.012部、ハイi−ロキノン0
.012部存在下80℃でNGO反応率90%以上まで
反応せしめる。得られた樹脂組成物を(f )とする。
Resin Synthesis Example (f) 10 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 40 parts of butyl acrylate, 37.5 parts of toluene and 37.5 parts of methyl isobutyl ketone were placed in a reaction vessel, and after heating to 80°C,
30 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 120 parts of butyl acrylate, and 8 parts of benzoyl peroxide as a polymerization initiator were dissolved in 112.5 parts of toluene and 112.5 parts of methyl isobutyl ketone.
℃ for 4 hours, and 330 parts of the main reactant was added with TDI-- synthesized according to the TDI adduct in Resin Synthesis Example (a).
Added 44 parts of acrylic alcohol adduct, 0.012 parts of tin octylate, and 0 parts of high i-quinone.
.. The reaction was carried out at 80° C. in the presence of 12 parts of 0.012 parts until the NGO reaction rate was 90% or more. The obtained resin composition is designated as (f).

この樹脂の部子量は15000である。The molecular weight of this resin is 15,000.

樹脂合成例(9) アデカポリエーテルP−1000(地雷化社製ポリエー
テル)250部、2−ヒドロキシエチル3部、オクチル
酸すず0.017部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解
後、TDI87.0部を反応缶内の温度が80〜90℃
となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃で
NGO反応率95%以上となるまで反応せしめる。得ら
たれ樹脂組成物を((1>とする。この樹脂の分子量は
1610である。
Resin Synthesis Example (9) 250 parts of Adeka Polyether P-1000 (polyether manufactured by Jimika Co., Ltd.), 3 parts of 2-hydroxyethyl, and 0.017 parts of tin octylate were placed in a reaction vessel, and after heating and dissolving at 80°C, 87.0 parts of TDI was added at a temperature of 80 to 90°C in the reaction vessel.
The solution is added dropwise while cooling so that the reaction rate is 80° C. After the completion of the dropwise addition, the reaction is allowed to proceed until the NGO reaction rate reaches 95% or more. The obtained resin composition is ((1>). The molecular weight of this resin is 1610.

樹脂合成例(h ) NIAXポリオールPCP−0200(チッソ社製ポリ
カプロラクトン)250部、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート122.2部、ハイドロキノン0.024部
、オクチル酸スズ0.033部を反応缶に入れ、80℃
に加熱溶解後、TD1163.6部を反応缶内の温度が
80〜90℃となる際に冷却しながら滴下し、滴下終了
後80℃でNCO反応率95%以上となるまで反応せし
める。得られた樹脂組成物を(h)とする。
Resin synthesis example (h) 250 parts of NIAX polyol PCP-0200 (Polycaprolactone manufactured by Chisso Corporation), 122.2 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 0.024 parts of hydroquinone, and 0.033 parts of tin octylate were placed in a reaction can. 80℃
After heating and dissolving, 1163.6 parts of TD is added dropwise while cooling when the temperature inside the reactor reaches 80 to 90°C, and after the dropwise addition is completed, the reaction is allowed to occur at 80°C until the NCO conversion rate reaches 95% or more. The obtained resin composition is referred to as (h).

この樹脂の分子量は1140である。The molecular weight of this resin is 1140.

樹脂合成例(+ ) エピコート828(シェル製エポキシ樹脂)200部を
トルエン25部、メチルエチルケトン25部に加熱溶解
後、N、N−ジメチルベンジルアミン27部、ハイドロ
キノン14部を添加し、80℃とし、アクリル酸69部
を滴下、80℃で酸価5以下まで反応せしめる。得られ
た樹脂組成物を(i )とする。この樹脂の分子量は5
00である。
Resin synthesis example (+) After heating and dissolving 200 parts of Epicote 828 (epoxy resin manufactured by Shell) in 25 parts of toluene and 25 parts of methyl ethyl ketone, 27 parts of N,N-dimethylbenzylamine and 14 parts of hydroquinone were added, and the temperature was raised to 80°C. 69 parts of acrylic acid was added dropwise and reacted at 80°C until the acid value reached 5 or less. The obtained resin composition is designated as (i). The molecular weight of this resin is 5
It is 00.

実施例 1 コバルト/ニッケル(原子比8/2)の合金インゴット
を準備し、真空蒸着法により長尺の強磁性lll5をポ
リエチレンテレフタレートのベースの上に形成した。蒸
着は電子線加熱により行ない、中心入射角が70’のい
わゆる斜め蒸着法を採用した。ベースフィルム冷却用に
円筒キャンを用い、冷却温度を5℃に保った。真空槽を
3X10’lJaまで排気し、これに酸素ガスを圧力が
6.3X 1O−2paになるまで導入して蒸着を行な
った。電子銃に与えるパワーとベースフィルムの駆動速
さを調整することによって膜厚が約800人となるよう
にした。
Example 1 A cobalt/nickel (atomic ratio 8/2) alloy ingot was prepared, and a long ferromagnetic llll5 was formed on a polyethylene terephthalate base by vacuum evaporation. Vapor deposition was performed by electron beam heating, and a so-called oblique vapor deposition method with a central incidence angle of 70' was adopted. A cylindrical can was used to cool the base film, and the cooling temperature was maintained at 5°C. The vacuum chamber was evacuated to 3.times.10'lJa, and oxygen gas was introduced into it until the pressure reached 6.3.times.10.sup.-2pa for vapor deposition. By adjusting the power given to the electron gun and the driving speed of the base film, the film thickness was made to be approximately 800 mm.

このようにして得られた強磁性薄膜は保持力が約100
0人、3rが約8000Gとなり磁気記録媒体として好
都合なものが得られた。
The ferromagnetic thin film thus obtained has a coercivity of approximately 100
0 person, 3r was approximately 8000G, and a suitable magnetic recording medium was obtained.

一方、前記樹脂組成物(a ) ((1)のMEK/ト
ルエン(1/1 ) 0.3wt%溶液に3wt%のス
テアリルアクリレートを加えたものを用意しこれを上記
強磁性薄膜の反対面にグラビア塗布法にて塗布した。塗
布後熱気と赤外線ランプにより一溶剤を乾燥させ、表面
平滑化処理した後、ESI社製エレクトロカーテンタイ
プ電子線加速装置を使用して、加速電圧150Kev電
極電流20mA、全照射ffi10Mradの条件でN
2ガス雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた
On the other hand, prepare the resin composition (a) ((1) in which 3 wt% of stearyl acrylate is added to the MEK/toluene (1/1) 0.3 wt% solution, and apply this to the opposite side of the ferromagnetic thin film. It was coated using the gravure coating method. After coating, the solvent was dried using hot air and an infrared lamp, and the surface was smoothed. Using an electrocurtain type electron beam accelerator manufactured by ESI, an acceleration voltage of 150 Kev and an electrode current of 20 mA were applied. N under the condition of total irradiation ffi10 Mrad
The coating film was cured by irradiation with an electron beam in a two-gas atmosphere.

得られたテープを1/2インチ幅に切断し強磁性薄膜か
らなるビデオテープを得た〈試゛料A)。本方法による
バックコート膜の架橋はアクリル二重綜合のラジカル化
による架橋と塩化ビニル酢酸ビニル系樹脂分子鎖中に生
じたラジカル(脱)ICI化と考えられるが明らかでな
い)による架橋との両者が作用していると考えられる。
The obtained tape was cut into 1/2 inch width to obtain a videotape consisting of a ferromagnetic thin film (Sample A). The crosslinking of the back coat film by this method is thought to be due to both the radicalization of the acrylic double synthesis and the radical (de)ICI formation generated in the vinyl chloride/vinyl acetate resin molecular chain, but it is not clear. It is thought that it is working.

実施例 2 実施例1で用いたと同じ強磁性薄膜の上に前記樹脂組成
物(C)と(11〉によるバック層を形成してビデオテ
ープを得た(試料BとC)。実施例1と同様に溶液の濃
度はQ、3wt%とし3wt%のトリフロロエケルアク
リレートを加えたものを使用した。電子線による硬化の
条件も実施例1と同じとした。
Example 2 A back layer made of the resin composition (C) and (11) was formed on the same ferromagnetic thin film as used in Example 1 to obtain a videotape (Samples B and C). Similarly, the concentration of the solution was Q, 3 wt%, and 3 wt% of trifluoroechel acrylate was added.The conditions for curing by electron beam were also the same as in Example 1.

比較例 1 ユニオンカーバイド社製フェノキシ樹脂(PKHH)を
MEK/シクロヘキサノン(3,/1)の0.3wt%
溶液として良く溶解し、塗布直前に3官能性イソシアネ
一ト日本ポリウレタン社製コロネートしく固形分濃度7
5%)をPKHH固形分に対して2Qwt%添加溶解し
、実施例1で用いたと同じ強磁性層膜膜のバック層にグ
ラビア塗布し加熱乾燥後、赤外線ランプにより乾燥硬化
させた。
Comparative Example 1 Phenoxy resin (PKHH) manufactured by Union Carbide was mixed with 0.3 wt% of MEK/cyclohexanone (3,/1).
It dissolves well as a solution, and immediately before application, the solid content concentration is 7.
5%) was added and dissolved in an amount of 2 Qwt% based on the solid content of PKHH, gravure coated on the back layer of the same ferromagnetic layer film used in Example 1, dried by heating, and then dried and cured using an infrared lamp.

これを1/2インチにスリットしてビデオテープ(試料
D)を得た。
This was slit into 1/2 inch pieces to obtain a videotape (Sample D).

比較例 2 紫外線硬化エポキシ樹脂アゾカウルトラセット(B’6
136J)をMEK/)−ルコン(1/1)のQ、3w
t%を溶液として良く溶解し、更に触媒溶液PS−33
をB6136J固形分に対し3wt%添加し実施例1で
用いたのと同じ強磁性薄膜のバック層上にグラビア塗布
を行なった。加熱乾燥後2kWど3kWの紫外線ランプ
を各一本を有した紫外線硬化システムにより形成された
塗膜の硬化を行なった。これを1/2インチ塩に切断し
ビデオテープ(試料E)を得た。
Comparative Example 2 Ultraviolet curing epoxy resin Azoka Ultraset (B'6
136J) to MEK/)-Lucon (1/1) Q, 3w
t% as a solution, and further dissolve the catalyst solution PS-33.
was added in an amount of 3 wt % based on the solid content of B6136J, and gravure coating was performed on the same ferromagnetic thin film back layer as used in Example 1. After heating and drying, the coating film formed was cured using an ultraviolet curing system having one each of 2 kW and 3 kW ultraviolet lamps. This was cut into 1/2 inch pieces to obtain a videotape (Sample E).

これらA、B、C,D、Eのサンプルについて上記特性
を測定したところ表2のような結果が(qられた。
When the above characteristics were measured for these samples A, B, C, D, and E, the results shown in Table 2 were obtained.

実施例の結果をこれらの場合と比較すると、各特性とも
優れたものとなっていて、電子線硬化したバック層を設
【プた強磁性薄膜形の磁気記録媒体が実用可能なことが
判る。
Comparing the results of the Examples with these cases, it can be seen that each property is excellent and that a ferromagnetic thin film type magnetic recording medium provided with an electron beam hardened back layer can be put to practical use.

なお本発明の実施例では強磁性薄膜形成にあたって、い
わゆる蒸着法を用いているが必要に応じてスパッタリン
グ、イオンブレーティング、その他乾式、湿式の薄膜形
成法も本発明の趣旨から含まれることは明白である。
In the embodiments of the present invention, a so-called vapor deposition method is used to form a ferromagnetic thin film, but it is clear that sputtering, ion blasting, and other dry or wet thin film forming methods are also included as necessary from the spirit of the present invention. It is.

(以下余白) A B C 磁性層とバック層の の粘着性 OOO カール OOO バックコート []E なし >0.9 0.6〜0,80.6〜0.8Δ △ O X XO X X XX(Margin below) A B C magnetic layer and back layer Adhesiveness OOO Karl OOO back coat []E None >0.9 0.6~0,80.6~0.8Δ △ O X XX XX

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)支持体の一方の面に磁気記録層を具備させてなる
磁気記録媒体において、他方の面に放射線感応硬化性潤
滑剤と放射線感応硬化性樹脂との混合物を塗布し、放射
線によって硬化してなるバック層を具備させたことを特
徴とする磁気記録媒体。
(1) In a magnetic recording medium comprising a magnetic recording layer on one side of a support, a mixture of a radiation-sensitive curable lubricant and a radiation-sensitive curable resin is applied to the other side and cured by radiation. A magnetic recording medium characterized by comprising a back layer consisting of:
(2)放射線感応硬化性樹脂100重量部に対する放射
m硬化性潤滑剤が0.1〜50重量部である特許請求の
範囲第1項に記載の磁気記録媒体。
(2) The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the amount of the radiation-curable lubricant is 0.1 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the radiation-sensitive curable resin.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5724029A (en) * 1980-07-17 1982-02-08 Sony Corp Magnetic recording medium
JPS60163228A (en) * 1984-02-01 1985-08-26 Tdk Corp Magnetic recording medium

Patent Citations (2)

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