JPS60210663A - 室温硬化型シリコ−ンエラストマ−組成物 - Google Patents
室温硬化型シリコ−ンエラストマ−組成物Info
- Publication number
- JPS60210663A JPS60210663A JP6697784A JP6697784A JPS60210663A JP S60210663 A JPS60210663 A JP S60210663A JP 6697784 A JP6697784 A JP 6697784A JP 6697784 A JP6697784 A JP 6697784A JP S60210663 A JPS60210663 A JP S60210663A
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- Japan
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- group
- silane
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- oxime
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、水分に触れると室温下でエラストマーを形成
するシリコーン組成物に関するものである。水分に触れ
ると室温下でエラストマーを形成するシリコーン組成物
は、反応性末端基を肩するジオルガノポリシロキサンお
よび1分子当シ少慶くとも3個のアシロキシ基、アミド
基、アミ7基。
するシリコーン組成物に関するものである。水分に触れ
ると室温下でエラストマーを形成するシリコーン組成物
は、反応性末端基を肩するジオルガノポリシロキサンお
よび1分子当シ少慶くとも3個のアシロキシ基、アミド
基、アミ7基。
アミノキシ基、オキシム基やアルコキシ基が珪素原子に
結合している有機理系化合物もしくは珪酸エステル類を
必須成分として、さらには必要に応じて充填剤等を混合
することにより製造され、建築関係、電気機器関係等で
種々の接合部の隙間等しかるにこれらの組成物は通常ニ
ジストマーの形成に際し、水分として空気中の湿気を利
用しており、エラストマーを形成する硬化が遅く、完成
までに長時間を喪するばかシでなく、硬化途中の塵埃の
付着や硬化途中での変形が増す等の欠点を有している。
結合している有機理系化合物もしくは珪酸エステル類を
必須成分として、さらには必要に応じて充填剤等を混合
することにより製造され、建築関係、電気機器関係等で
種々の接合部の隙間等しかるにこれらの組成物は通常ニ
ジストマーの形成に際し、水分として空気中の湿気を利
用しており、エラストマーを形成する硬化が遅く、完成
までに長時間を喪するばかシでなく、硬化途中の塵埃の
付着や硬化途中での変形が増す等の欠点を有している。
そこで一般に有機錫化合物等の縮合触媒を使用している
。一方これらの有機錫化合物等は一般に生成したエラス
トマーの分解を促進し、また接着性を低下させる等の欠
点を有するので大量に使用することは困難で、硬化速度
を充分に改善することが不可能な場合が多い。また有機
錫化合物等の硬化促進剤の使用では、硬化速度と可使時
間を冬期、夏期の全てに満足させることが一般には困難
である。すなわち、例えば冬期の硬化時間を満足できる
程度に短縮すると、夏期の可使時間が非常に短かくなり
作業が不可能となる等の場合が多い。
。一方これらの有機錫化合物等は一般に生成したエラス
トマーの分解を促進し、また接着性を低下させる等の欠
点を有するので大量に使用することは困難で、硬化速度
を充分に改善することが不可能な場合が多い。また有機
錫化合物等の硬化促進剤の使用では、硬化速度と可使時
間を冬期、夏期の全てに満足させることが一般には困難
である。すなわち、例えば冬期の硬化時間を満足できる
程度に短縮すると、夏期の可使時間が非常に短かくなり
作業が不可能となる等の場合が多い。
本発明者らは、これらの改良を種々検討した結果、反応
性末端基を有するジオルガノボリシロキf ンオよび1
分子当93個のアシロハシ基、アミド基、アミノ基、ア
ミノキシ基やオキシム基または、1分子当93個ないし
4個のアルコキシ基が珪素原子に結合している有機理系
化合物を必須成分とする組成物に少量の4個のアシロキ
シ基、アミド基、アミン基、アミノキシ基やオキシム基
が1個の珪素原子に結合しているシラン類を配合するこ
とKJ:、り前記欠点を改良し得ること金知り本発明に
到達した。
性末端基を有するジオルガノボリシロキf ンオよび1
分子当93個のアシロハシ基、アミド基、アミノ基、ア
ミノキシ基やオキシム基または、1分子当93個ないし
4個のアルコキシ基が珪素原子に結合している有機理系
化合物を必須成分とする組成物に少量の4個のアシロキ
シ基、アミド基、アミン基、アミノキシ基やオキシム基
が1個の珪素原子に結合しているシラン類を配合するこ
とKJ:、り前記欠点を改良し得ること金知り本発明に
到達した。
すなわち、本発明の組成物では硬化後好ましくない作用
を及ぼす有機錫化合物等の使用を減らし、可使時間と硬
化時間の調節(両立)を拌易にするばかりでなく施工時
のひび割れ発生が大iMに低減する等の予想外の効果が
得られる。
を及ぼす有機錫化合物等の使用を減らし、可使時間と硬
化時間の調節(両立)を拌易にするばかりでなく施工時
のひび割れ発生が大iMに低減する等の予想外の効果が
得られる。
本発明は(イ)反応性末端基を有するジオルガノポリシ
ロキサン、(ロ)アシロキシ基、アミド基、アミ7基、
アミノキシ基、オキシム基およびアルコキシ基から選ば
れた基を1分子当り少なくとも3個有し、1個の珪素原
子にはこれらの基が3個以下結合している構造を有する
化合物もしくは、珪酸エステル類よりなる有機珪素化合
物および(ハ)アシロキシ基、アミド基、アミン基、ア
ミノキシ基およびオキシム基かし選ばれた基4個が1個
の珪素原子に結合しているシラン類を必須成分とするこ
とを特徴とする¥温硬化型シリコーンエラストマー組成
物である。
ロキサン、(ロ)アシロキシ基、アミド基、アミ7基、
アミノキシ基、オキシム基およびアルコキシ基から選ば
れた基を1分子当り少なくとも3個有し、1個の珪素原
子にはこれらの基が3個以下結合している構造を有する
化合物もしくは、珪酸エステル類よりなる有機珪素化合
物および(ハ)アシロキシ基、アミド基、アミン基、ア
ミノキシ基およびオキシム基かし選ばれた基4個が1個
の珪素原子に結合しているシラン類を必須成分とするこ
とを特徴とする¥温硬化型シリコーンエラストマー組成
物である。
本発明で使用する(イ)成分である反応性末端基を有す
るジオルガノポリシロキサンは一般式%式% で通常水されている反応性末端基を有するジオルガノポ
リシロキサン類である。式中R基は、置換または非置換
の1価の炭化水素基を示し、その炭能な有機化合物をグ
ラフト重合したと考えられる構造を有する炭素数の大き
なR基を有するものも使用でき、その場合にも、全R基
を平均すると炭素数社通常1〜20の範囲である。
るジオルガノポリシロキサンは一般式%式% で通常水されている反応性末端基を有するジオルガノポ
リシロキサン類である。式中R基は、置換または非置換
の1価の炭化水素基を示し、その炭能な有機化合物をグ
ラフト重合したと考えられる構造を有する炭素数の大き
なR基を有するものも使用でき、その場合にも、全R基
を平均すると炭素数社通常1〜20の範囲である。
nは、25℃における粘度が少なくとも5゜mPa5で
あるような正の整数であり、Xは水酸基や後述のアシロ
キシ基、アミド基、アミ7基、アミノキシ基、オキシム
基およびアルコキシ基等の反応性基を示す。上記(1)
式は、いわゆる線状ポリシロキサン類を示すのに通常使
用されているのと同様な表現であシ、通常工粟用に使用
されている綴状ポリシロキサン類が含有している程度の
少量のジオルガノシロキサン(−41−o−)単位でな
いシロキサン単位を含有するものすなわち、例えばジオ
ルガノシロキサン単位の10モル%以下、通常は1モル
に以下のごとき少量の シロキサン単位を含有するものが、本発明の(イ)成分
として使用し得るのは当然である。また(イ)成分のジ
オルガノポリシロキサンとしては、X基が(1)式のご
とく両末端に存在する場合が好ましいが、末端に限らず
中間の珪素原子に結合している場合や両末端と中間に存
在する場合でもある程度のシロキサン結合を距てて、少
なくとも2個のX基が存在する限り使用し得る場合が多
い。上式のR基を例示すると、メチル、エチル、n−プ
ロピル。
あるような正の整数であり、Xは水酸基や後述のアシロ
キシ基、アミド基、アミ7基、アミノキシ基、オキシム
基およびアルコキシ基等の反応性基を示す。上記(1)
式は、いわゆる線状ポリシロキサン類を示すのに通常使
用されているのと同様な表現であシ、通常工粟用に使用
されている綴状ポリシロキサン類が含有している程度の
少量のジオルガノシロキサン(−41−o−)単位でな
いシロキサン単位を含有するものすなわち、例えばジオ
ルガノシロキサン単位の10モル%以下、通常は1モル
に以下のごとき少量の シロキサン単位を含有するものが、本発明の(イ)成分
として使用し得るのは当然である。また(イ)成分のジ
オルガノポリシロキサンとしては、X基が(1)式のご
とく両末端に存在する場合が好ましいが、末端に限らず
中間の珪素原子に結合している場合や両末端と中間に存
在する場合でもある程度のシロキサン結合を距てて、少
なくとも2個のX基が存在する限り使用し得る場合が多
い。上式のR基を例示すると、メチル、エチル、n−プ
ロピル。
イソプロピル、n−グチル、イソブチル、5ec−グチ
ル、tert−ブチル、オクタデシル、ビニル。
ル、tert−ブチル、オクタデシル、ビニル。
アリル等の脂肪族炭化水素基、シクロペンチル。
シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シクロヘキセ
ニル等の脂環式炭化水素基、フェニル、キセニル、トリ
ル、ベンジル、β−フェニルエチル。
ニル等の脂環式炭化水素基、フェニル、キセニル、トリ
ル、ベンジル、β−フェニルエチル。
β−クエニルプロビル等の芳香族炭化水素基、T−クロ
ロプロビル、3,3.3−)リフルオロプロピル、クロ
ロフェニル、フロモフェニル等のハロゲン置換炭化水素
基およびβ−シアノエチル、T−シアノプロピル、β−
エトキシエチル、N−アミノエチルアミノプロビル等の
その他の置換炭化水素基等である。上式中のR基社全て
同一である必要はなく、2種以上のR基を含有する場合
も少なくない。一般に入手が容易等の理由で、上式中の
R基の少なくとも50%1通常90Y、はメチル基であ
る。その他、R基としてフェニル基やビニル基等がメチ
ル基と併用されることが多い。また、R基の少量が氷菓
原子でありても本発明の(4)成分として使用し得る場
合が少なくない。
ロプロビル、3,3.3−)リフルオロプロピル、クロ
ロフェニル、フロモフェニル等のハロゲン置換炭化水素
基およびβ−シアノエチル、T−シアノプロピル、β−
エトキシエチル、N−アミノエチルアミノプロビル等の
その他の置換炭化水素基等である。上式中のR基社全て
同一である必要はなく、2種以上のR基を含有する場合
も少なくない。一般に入手が容易等の理由で、上式中の
R基の少なくとも50%1通常90Y、はメチル基であ
る。その他、R基としてフェニル基やビニル基等がメチ
ル基と併用されることが多い。また、R基の少量が氷菓
原子でありても本発明の(4)成分として使用し得る場
合が少なくない。
本発明で使用する(イ)成分の重合度は通常25℃での
粘度で示して少なくとも50mPa5好ましくは50〜
1,000,000 mPa5特に100〜500,0
00mPa5が好ましい。50mPH8よシ低粘度の場
合には良好な物性のニジストマーが得られにくい。また
通常1,000,000 mPa5を超える高重合体は
通常の工業用装置での他成分との均一な混合が困難であ
る。
粘度で示して少なくとも50mPa5好ましくは50〜
1,000,000 mPa5特に100〜500,0
00mPa5が好ましい。50mPH8よシ低粘度の場
合には良好な物性のニジストマーが得られにくい。また
通常1,000,000 mPa5を超える高重合体は
通常の工業用装置での他成分との均一な混合が困難であ
る。
上式中の反応性末端基Xとしては後述の(ロ)成分、(
)・)成分で詳述するアシロキシ基、アミド基、アミ7
基、アミ/キシ基、オキシム基やアルコキシ基も使用さ
れるが、水酸基が主として使用される。
)・)成分で詳述するアシロキシ基、アミド基、アミ7
基、アミ/キシ基、オキシム基やアルコキシ基も使用さ
れるが、水酸基が主として使用される。
勿論X基についても全て同一である必要はなく、例えば
部分的にメトキシ基やβ−メトキシエトキシ基のごとき
炭素原子1〜5個のアルコキシ基やさらに炭、41数の
多いアルコキシ置換アルコキシ基で置換されたごときも
のも本発明で使用し得るの唸当然でちる。
部分的にメトキシ基やβ−メトキシエトキシ基のごとき
炭素原子1〜5個のアルコキシ基やさらに炭、41数の
多いアルコキシ置換アルコキシ基で置換されたごときも
のも本発明で使用し得るの唸当然でちる。
本発明の(イ)成分は、種々の重合度のポリシロキサン
、種々の重合体および共重合体からの混合物を使用する
ことができる。
、種々の重合体および共重合体からの混合物を使用する
ことができる。
本発明の(ロ)成分として使用する有機珪菓化合物は架
橋剤と一般に云われ、反応性末端基を有するジオルガノ
ポリシロキサンと囲周して、水分の存在下、室温でニジ
ストマー全形成させるのに通常使用されている化合物で
ある。アシロキシ基、アミド基、アミノ基、アミノキシ
基、オキシム基およびアルコキシ基から選ばれた基を1
分子当り少なくとも3個有し、1個の珪素原子には、こ
れらの基が3個以下紹合している構造を有する化合物と
しては通常一般式 %式%(2) で示されるシラン類や一般式 Xs K Yb Yc で示はれる鎖状または で示される環状のシロキサン類を主として使用する。
橋剤と一般に云われ、反応性末端基を有するジオルガノ
ポリシロキサンと囲周して、水分の存在下、室温でニジ
ストマー全形成させるのに通常使用されている化合物で
ある。アシロキシ基、アミド基、アミノ基、アミノキシ
基、オキシム基およびアルコキシ基から選ばれた基を1
分子当り少なくとも3個有し、1個の珪素原子には、こ
れらの基が3個以下紹合している構造を有する化合物と
しては通常一般式 %式%(2) で示されるシラン類や一般式 Xs K Yb Yc で示はれる鎖状または で示される環状のシロキサン類を主として使用する。
(2)〜(4)式のR基は(1)式のR基と同じであり
、とくに炭化水素基を示し、Y基は アシロキシ基 R′COO−・・・・・(5)ア ミ
ド 基 R’C0N−・・・・・ (6)1゜ ア ミ ノ 基 RN−・・・・・ (7)1゜ アミノキシ基 R−N−0−−−−−−(8)1゜ オキシム基 R−C=N−0−−・・―・(9)1゜ およびアルコキシ基 R−0−・・・骨Φ(10)から
選ばれた任意の基を示す。(7)〜(lO)式のR基は
(1)式のR基と同じであり、とくに炭化六ノシ示す。
、とくに炭化水素基を示し、Y基は アシロキシ基 R′COO−・・・・・(5)ア ミ
ド 基 R’C0N−・・・・・ (6)1゜ ア ミ ノ 基 RN−・・・・・ (7)1゜ アミノキシ基 R−N−0−−−−−−(8)1゜ オキシム基 R−C=N−0−−・・―・(9)1゜ およびアルコキシ基 R−0−・・・骨Φ(10)から
選ばれた任意の基を示す。(7)〜(lO)式のR基は
(1)式のR基と同じであり、とくに炭化六ノシ示す。
また(5)〜(9)式のR′基は(1)式のR基と同じ
tケラ、とくに炭化水J基寸たは水崇原子金示す。
tケラ、とくに炭化水J基寸たは水崇原子金示す。
(3)および(4)式のnおよびmは、0または正の整
数を示し、lは2以上の正の整数を示す。これらのn、
mJ?よびlが通當20以下、さらには10以下程匠の
ものを使用することが多い。
数を示し、lは2以上の正の整数を示す。これらのn、
mJ?よびlが通當20以下、さらには10以下程匠の
ものを使用することが多い。
(3)式のaおよびCは、0,1.2または3を示し、
bll:0.itたは2′f示し、(a +mb+c
)は少なくとも3である0また(4)式のdは1または
2を示し、+、fdは少なくとも3である0(5)式の
アシロキシ基を例示すると、ホルミルオキシ イルオキシ、2−エチルへキソイルオキシ,ミリスチル
オキシおよびステアロ、イルオキシ等であり、とくにア
セトキシを用いることが多い,)(6)式のアミド基を
例示すると、上記各アシロキシ基に相当する各アミド基
およびこれらの例えばN−メチルアセトアミド、N−グ
チルアセトアミド、N−シクロへキシルアセトアミド等
のごとき、N−炭化水素置換体等であり、アセトアミド
やN −アルキルアセトアミド類?用いることが多い0
(7)式のアミノ基を例示すると、メチルアミ/。
bll:0.itたは2′f示し、(a +mb+c
)は少なくとも3である0また(4)式のdは1または
2を示し、+、fdは少なくとも3である0(5)式の
アシロキシ基を例示すると、ホルミルオキシ イルオキシ、2−エチルへキソイルオキシ,ミリスチル
オキシおよびステアロ、イルオキシ等であり、とくにア
セトキシを用いることが多い,)(6)式のアミド基を
例示すると、上記各アシロキシ基に相当する各アミド基
およびこれらの例えばN−メチルアセトアミド、N−グ
チルアセトアミド、N−シクロへキシルアセトアミド等
のごとき、N−炭化水素置換体等であり、アセトアミド
やN −アルキルアセトアミド類?用いることが多い0
(7)式のアミノ基を例示すると、メチルアミ/。
ジメチルアミ/,エチルレア三ノ,ジエチルアミノ。
プロピルアミノ、ジプロピルアミノ、イングロビルアミ
/,ジインプロピルアミノ、n−ブチルアミノ、ジ−n
−グチルアミノ, see−ブチルアミノ、ジーsec
ーグチルアミノ、オタチルアミノ。
/,ジインプロピルアミノ、n−ブチルアミノ、ジ−n
−グチルアミノ, see−ブチルアミノ、ジーsec
ーグチルアミノ、オタチルアミノ。
ジオクチルアミノ、シクロへキシルアミノ、ジシクロへ
キシルアミノ、エチルメチルアミン、 secグチルシ
クロへキシルアミノ、ジフェニルアミノおよび7Iチル
フエニルアミノ等であり、ジエチルアミノ、ジ−n−ブ
チルアミノ、ジ−n−ブチルアミノ、ジシクロへキシル
アミノ、SaCブチルシクロ7〜キシルアミノ等を用い
ることが多い。
キシルアミノ、エチルメチルアミン、 secグチルシ
クロへキシルアミノ、ジフェニルアミノおよび7Iチル
フエニルアミノ等であり、ジエチルアミノ、ジ−n−ブ
チルアミノ、ジ−n−ブチルアミノ、ジシクロへキシル
アミノ、SaCブチルシクロ7〜キシルアミノ等を用い
ることが多い。
(8)式のアミンキシ基を例示すると、上記アミ7基に
)1]尚する各アミノキシ基であり、ジメチルアミノキ
シ、ジエチルアミノギシ,ジブデルアミノキシ、ジオク
チルアミノキシ等を用いることが多い0 (9)式のオキシム基を例示すると、アセトアルドキシ
ム、ジメチルケトオキシム、メチルエチルケトオキシム
、ジエチルグトオキシム,ジイソプロピルケトオキシム
、シクロヘキサノオキシム、夕ロルシク口ヘキブノオキ
シム,メチルフェニルクトオキシムおよびジフェニルケ
ト2キシム等であり、ジメチルケトオキシムやメチルエ
チルケトオキシムを用いることが多い。
)1]尚する各アミノキシ基であり、ジメチルアミノキ
シ、ジエチルアミノギシ,ジブデルアミノキシ、ジオク
チルアミノキシ等を用いることが多い0 (9)式のオキシム基を例示すると、アセトアルドキシ
ム、ジメチルケトオキシム、メチルエチルケトオキシム
、ジエチルグトオキシム,ジイソプロピルケトオキシム
、シクロヘキサノオキシム、夕ロルシク口ヘキブノオキ
シム,メチルフェニルクトオキシムおよびジフェニルケ
ト2キシム等であり、ジメチルケトオキシムやメチルエ
チルケトオキシムを用いることが多い。
(10)式のアルコキシ基全例ボすると、メトキシ。
エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ
、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、
ビニルオキシ、アリルオキシ、エチルアリルオキシ、イ
ンプロペニルオキシ、ブタジェニルオキシ、フェノキシ
2よびβ−メトキシ、エトキシ等であり、メトキシ、エ
トキシ、ビニルオキシ、アリルオキシおよびインプロペ
ニルオキシ等を用いることが多い。
、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、
ビニルオキシ、アリルオキシ、エチルアリルオキシ、イ
ンプロペニルオキシ、ブタジェニルオキシ、フェノキシ
2よびβ−メトキシ、エトキシ等であり、メトキシ、エ
トキシ、ビニルオキシ、アリルオキシおよびインプロペ
ニルオキシ等を用いることが多い。
(2)式で示されるシラン類を例示すると、メチルトリ
アセトキシシラン、エチルドリアtトキシシラン、ビニ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリ(N−メチルアセ
トアミド)シラン、メチルトリ(N−ブチルアセトアミ
ド)シラン、メチルトリ(N−シクOヘキシルアセトア
ミド)シラン、メチルトリ(n−ブチルアミノ)シラン
、メチルトリ(5ec−ブチルアミノ)シラン、メチル
トリ(シクロヘキシルアミノ)シラン、メチルsecグ
チルアミノジ(シクロヘキシルアミノ)シシン、メチル
u(secブチルアミノ)シクロへキシルアミノシラン
、メチルトリ(NN−ジエチルアミノキシ)シラン、メ
チルトリ(ジメチルブトオキシム)シ2ン、メチルトリ
(メチルエチルケトオキシム)シラン、ビニルトリ(ジ
メチルブトオキシム)シラン、ビニルトリ(メチルエチ
ルケトオキシム)シラン、メチルトリメトキシシ2ン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリ(エトキシメト
キシ)シラン、メチルトリビニ′ルオキシシラン、メチ
ルトリ”(インプロペニルオキシ)シラン、N−1ミノ
エチルアミノプロビルトリエトキシシラン、メチルシク
ロへ第シルアミノジ(メチルエチルケトオキシム)シラ
ンおよびメチルジ(シクロヘキシルアミノ)、(メチル
エチルケトオキシム)シラン等である。
アセトキシシラン、エチルドリアtトキシシラン、ビニ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリ(N−メチルアセ
トアミド)シラン、メチルトリ(N−ブチルアセトアミ
ド)シラン、メチルトリ(N−シクOヘキシルアセトア
ミド)シラン、メチルトリ(n−ブチルアミノ)シラン
、メチルトリ(5ec−ブチルアミノ)シラン、メチル
トリ(シクロヘキシルアミノ)シラン、メチルsecグ
チルアミノジ(シクロヘキシルアミノ)シシン、メチル
u(secブチルアミノ)シクロへキシルアミノシラン
、メチルトリ(NN−ジエチルアミノキシ)シラン、メ
チルトリ(ジメチルブトオキシム)シ2ン、メチルトリ
(メチルエチルケトオキシム)シラン、ビニルトリ(ジ
メチルブトオキシム)シラン、ビニルトリ(メチルエチ
ルケトオキシム)シラン、メチルトリメトキシシ2ン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリ(エトキシメト
キシ)シラン、メチルトリビニ′ルオキシシラン、メチ
ルトリ”(インプロペニルオキシ)シラン、N−1ミノ
エチルアミノプロビルトリエトキシシラン、メチルシク
ロへ第シルアミノジ(メチルエチルケトオキシム)シラ
ンおよびメチルジ(シクロヘキシルアミノ)、(メチル
エチルケトオキシム)シラン等である。
(3)および(4)式で示されるシロキサン類として紘
1般式 %式%(11) で示されるシラン類の部分加水分解により生成したと考
えられる構造を有するシロキサン類が通常使用される。
1般式 %式%(11) で示されるシラン類の部分加水分解により生成したと考
えられる構造を有するシロキサン類が通常使用される。
(11)式のR基およびY基は(2)ないしく4)式の
R基およびY基とそれぞれ同じであり、pは0.1.2
または3を示す。
R基およびY基とそれぞれ同じであり、pは0.1.2
または3を示す。
(3)および(4)式で示されるシロキサン類をジエチ
ルアミノキシクイプにつき比較的簡単な例を各2例示す
と CH3CH3 (CsHsh−N N−(C2I(S)2および N (C2)1s)2 のどとくである。
ルアミノキシクイプにつき比較的簡単な例を各2例示す
と CH3CH3 (CsHsh−N N−(C2I(S)2および N (C2)1s)2 のどとくである。
(ロ)成分で使用する珪酸エステル類は一般式%式%(
16) で示され、その例を示すと、テト2メトキシシツン、テ
トツエトキシシクン、テトラプロポキシシクン、テトラ
グトキシシクン、テトラフェノキシシラン、テトラベン
ジルオキシシラン、テトラ(エトキシメトキシ)シラン
、テトラ(β−メトキシエトキシ)シ2ン、テトラビニ
ルオキシシラン。
16) で示され、その例を示すと、テト2メトキシシツン、テ
トツエトキシシクン、テトラプロポキシシクン、テトラ
グトキシシクン、テトラフェノキシシラン、テトラベン
ジルオキシシラン、テトラ(エトキシメトキシ)シラン
、テトラ(β−メトキシエトキシ)シ2ン、テトラビニ
ルオキシシラン。
テトラインプロペニルオキシシランおよびジメトキシジ
イソプロペニルオキシシクン等がある。なる化合物、さ
らKはこれらの混合物や種々のn。
イソプロペニルオキシシクン等がある。なる化合物、さ
らKはこれらの混合物や種々のn。
m、/値を有する化合物の混合物が使用し得るのは当然
であり、また(3)また社(4)式の化合物としてR基
のごく2部が水R基である化合物も一般に使用可能であ
る。また(2)〜(4)式には該当しないがインプロペ
ニルオキシ基について例示するハX・・拳・・晦(18
) のどとき化合物も本発明の(ロ)成分として使用し得る
のは当然である。なお(18)式のnは正の整数を示す
。
であり、また(3)また社(4)式の化合物としてR基
のごく2部が水R基である化合物も一般に使用可能であ
る。また(2)〜(4)式には該当しないがインプロペ
ニルオキシ基について例示するハX・・拳・・晦(18
) のどとき化合物も本発明の(ロ)成分として使用し得る
のは当然である。なお(18)式のnは正の整数を示す
。
これらの(ロ)成分の使用量は使用する(口)成分の種
類、他の成分の種類−や使用量、製造方法、生成組成物
の使用方法や使用条件その他により異なるが、通常(イ
)成分に対し0.2〜30重景%軍警しくは、0.5〜
15重量%使用する。0,2重量%以下では非常に短時
間に組成物がゲル化して、製造や使用が内錐であり、′
ti之30M量%以上では一般に硬化に長時間を要し使
用内錐である。
類、他の成分の種類−や使用量、製造方法、生成組成物
の使用方法や使用条件その他により異なるが、通常(イ
)成分に対し0.2〜30重景%軍警しくは、0.5〜
15重量%使用する。0,2重量%以下では非常に短時
間に組成物がゲル化して、製造や使用が内錐であり、′
ti之30M量%以上では一般に硬化に長時間を要し使
用内錐である。
本発明で使用する(/・)成分であるアシロキシ基。
アミド基、アミ7基、アミノキシ基およびオキシム基か
ら選ばれた基4個が1個の理系原子に結合しているシラ
ン類は一般式 %式%(19) で示されるシラン類である。(19)式のZ基は(5)
式のアシロキシ基、(6)式のアミド基、(7)式のア
ミノ基、(8)式のアミノキシ基および(9)式のオキ
シム基から選ばれた任意の基全示し、その例は(ロ)成
分の説明で示した各基である。(19)式で示されるシ
ラン類を例示すると、テトラ(アセトキシ)シラン、テ
トラ(N−メチルアセトアミド)シラン、テトラ(N−
ブチルアセトアミド)シラン。
ら選ばれた基4個が1個の理系原子に結合しているシラ
ン類は一般式 %式%(19) で示されるシラン類である。(19)式のZ基は(5)
式のアシロキシ基、(6)式のアミド基、(7)式のア
ミノ基、(8)式のアミノキシ基および(9)式のオキ
シム基から選ばれた任意の基全示し、その例は(ロ)成
分の説明で示した各基である。(19)式で示されるシ
ラン類を例示すると、テトラ(アセトキシ)シラン、テ
トラ(N−メチルアセトアミド)シラン、テトラ(N−
ブチルアセトアミド)シラン。
テトラ(N−シクロへキシルアセトアミド)シラン、テ
トラ(n−ブチルアミノ)シラン、テトラ(5ee−ブ
チルアミノ)シラン、テトラ(シクロへキシルアミノ)
シラン、secグチルアミノトリ(シクロへキシルアミ
ノ)シラン、ジ(secブチルアミノ)ジ(シクロへキ
シルアミノ)シラン。
トラ(n−ブチルアミノ)シラン、テトラ(5ee−ブ
チルアミノ)シラン、テトラ(シクロへキシルアミノ)
シラン、secグチルアミノトリ(シクロへキシルアミ
ノ)シラン、ジ(secブチルアミノ)ジ(シクロへキ
シルアミノ)シラン。
トリ(secブチルアミノ)(シクロへキシルアミノ)
シラン、テトラ(NN−ジエチルアミノキシ)シラン、
テトラ(ジメチルケトオキシム)シラン。
シラン、テトラ(NN−ジエチルアミノキシ)シラン、
テトラ(ジメチルケトオキシム)シラン。
テトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン、シクロへ
キシルアミノトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン
、ジ(シクロへキシルアミノ)5ジ(メチルエチルケト
オキシム)シラン、トリ(シタ口へキシルアミノ)(メ
チルエチルケトオキシム)シラン、5ec−ブチルアミ
ノトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン、ジ(5e
c−ブチルアミノ)、ジ(メチルエチルケトオキシム)
シラン、トリ(secブチルアミノ)(メチルエチルケ
トオキシム)シランおよび5ec−ブチルアミノ(シク
ロへキシルアミノ)ジ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン等である。
キシルアミノトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン
、ジ(シクロへキシルアミノ)5ジ(メチルエチルケト
オキシム)シラン、トリ(シタ口へキシルアミノ)(メ
チルエチルケトオキシム)シラン、5ec−ブチルアミ
ノトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン、ジ(5e
c−ブチルアミノ)、ジ(メチルエチルケトオキシム)
シラン、トリ(secブチルアミノ)(メチルエチルケ
トオキシム)シランおよび5ec−ブチルアミノ(シク
ロへキシルアミノ)ジ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン等である。
上記例のごとく(ハ)成分としては(19)式のシラン
類において種々の2基を有するシラン類や2種以上のシ
2ン類の混合物の使用も可能である。(19)式のシラ
ン類は一般に原料として例えば、R81Cf3の代りに
5i(J’a を用いることにより(2)式のシラン類
と同様の方法で製造することができる。
類において種々の2基を有するシラン類や2種以上のシ
2ン類の混合物の使用も可能である。(19)式のシラ
ン類は一般に原料として例えば、R81Cf3の代りに
5i(J’a を用いることにより(2)式のシラン類
と同様の方法で製造することができる。
例えば、テトラ(メチルエチルケトオキシム)シランは
、メチルトリ(メチルエチルケトオキシム)シランの製
造と全く同様の方法で、SiC/4より製造することが
できる。すなわち乾燥雰囲気中ベンゼン等の適当な溶媒
にオキシムとピリジン等の適当な酸受容体を溶解し、こ
れにCH35iC/3の代シに、SiC/4を徐々に滴
下する。反応終了後副生したピリジン塩酸塩をf別し、
f液を蒸留あすなわち、例えばメチルトリ(メチルエチ
ルケトオキシム)シランとテトラ(メチルエチルケトオ
キシム)シランを用いる場合等は、原料として所定の割
合のCH35iC1sと5iCJ4の混合物を用いて上
記の合成を行なえば、メチルトリ(メチルエチルケトオ
キシム)シランとテトラ(メチルエチルグトオキシム)
シランの混合物が得られ、そのまま本発明の(ロ)成分
とH成分の混合物として使用することが可能である。
、メチルトリ(メチルエチルケトオキシム)シランの製
造と全く同様の方法で、SiC/4より製造することが
できる。すなわち乾燥雰囲気中ベンゼン等の適当な溶媒
にオキシムとピリジン等の適当な酸受容体を溶解し、こ
れにCH35iC/3の代シに、SiC/4を徐々に滴
下する。反応終了後副生したピリジン塩酸塩をf別し、
f液を蒸留あすなわち、例えばメチルトリ(メチルエチ
ルケトオキシム)シランとテトラ(メチルエチルケトオ
キシム)シランを用いる場合等は、原料として所定の割
合のCH35iC1sと5iCJ4の混合物を用いて上
記の合成を行なえば、メチルトリ(メチルエチルケトオ
キシム)シランとテトラ(メチルエチルグトオキシム)
シランの混合物が得られ、そのまま本発明の(ロ)成分
とH成分の混合物として使用することが可能である。
これらの()・)成分の使用量は、使用するC−)成分
の種類、他の成分の種類や使用量、製造方法、生成組成
物の使用方法や使用条件その他により異なるが通常(ロ
)成分に対し、0.1〜100重量%、好ましくは0.
5〜70重量%使用する。0.1重量%以下では0成分
使用の効果が、t’tとんど認められず、また100重
量%を越えても()・)成分使用の効果は、はとんど向
上せず、さらに硬化後のエラストマーが硬くなる等のニ
ジストマーとしての物性が低下する場合が多い。従って
(−9成分は(ロ)成分に比し一般に高価なこともあり
、(イ)成分と(−)成分からなる組成物は一般的には
製造が錐しくまた使用困難である。
の種類、他の成分の種類や使用量、製造方法、生成組成
物の使用方法や使用条件その他により異なるが通常(ロ
)成分に対し、0.1〜100重量%、好ましくは0.
5〜70重量%使用する。0.1重量%以下では0成分
使用の効果が、t’tとんど認められず、また100重
量%を越えても()・)成分使用の効果は、はとんど向
上せず、さらに硬化後のエラストマーが硬くなる等のニ
ジストマーとしての物性が低下する場合が多い。従って
(−9成分は(ロ)成分に比し一般に高価なこともあり
、(イ)成分と(−)成分からなる組成物は一般的には
製造が錐しくまた使用困難である。
本発明のシリコーン組成物には従来公知の水分に触れる
と室温下でニジストマーを形成するシリコーン組成物に
使用されている他の物質を配合することかでき、これら
の他の物質を配合することが多い。かかる物質の例とし
ては、充填剤、縮合触媒、顔料、染料、香料、殺菌剤、
防カビ剤、腐蝕防止剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安
定剤。
と室温下でニジストマーを形成するシリコーン組成物に
使用されている他の物質を配合することかでき、これら
の他の物質を配合することが多い。かかる物質の例とし
ては、充填剤、縮合触媒、顔料、染料、香料、殺菌剤、
防カビ剤、腐蝕防止剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安
定剤。
W1燃剤、溶剤、可塑剤、鎖延長剤、接着性改良剤。
安定剤、オルガノポリシロキサン樹脂、重機樹脂。
遮光剤および発泡剤等である。
本発明組成物に使用し得る充填剤としては、従来公知の
水分に触れると室温下でエラストマーを形成するシリコ
ーン組成物に使用されている充填剤は、全て使用するこ
とができる。かかる充填剤としては、まず補強性充填剤
と称されている例えば、少なくとも20trl/P好ま
しくは50 rr?/P通常150〜400m”/りの
ごとき、大きな表面積を有する熱分解法二酸化珪素、沈
降性二酸化珪素、二酸化チタン、酸化第二鉄、e化アル
ミニクム、酸化亜鉛、カーボンブラック等や非補強性充
填剤と称される例えば、20 tr?/f 未満のごと
き、小さな表面積を有する石英粉末、珪藻土、珪酸カル
シクム、珪酸ジルコニクム、炭酸カルシウム。
水分に触れると室温下でエラストマーを形成するシリコ
ーン組成物に使用されている充填剤は、全て使用するこ
とができる。かかる充填剤としては、まず補強性充填剤
と称されている例えば、少なくとも20trl/P好ま
しくは50 rr?/P通常150〜400m”/りの
ごとき、大きな表面積を有する熱分解法二酸化珪素、沈
降性二酸化珪素、二酸化チタン、酸化第二鉄、e化アル
ミニクム、酸化亜鉛、カーボンブラック等や非補強性充
填剤と称される例えば、20 tr?/f 未満のごと
き、小さな表面積を有する石英粉末、珪藻土、珪酸カル
シクム、珪酸ジルコニクム、炭酸カルシウム。
炭酸カルシクムマグネシクム、モレキーラー特性を有す
る焼成珪酸アルミニウム、粉末状珪酸アルミニクムナト
リクム、チョーク、タルク、ベントナイト等がある。ま
た石綿、ガラス繊維、アルミナ繊維、金属繊維等の無機
繊維および各種有機繊維等の例えば、0.5mの平均長
を有する繊維等の各種繊維状充填剤も使用することがで
きる。さらにこれらの充填剤を例えば、ジメチルジクロ
ルシラン、トリメチルエトキシシランやステアリン酸ま
たは、これらの混合物等のいわゆる疎水化剤で処理した
ものを使用することが多い。
る焼成珪酸アルミニウム、粉末状珪酸アルミニクムナト
リクム、チョーク、タルク、ベントナイト等がある。ま
た石綿、ガラス繊維、アルミナ繊維、金属繊維等の無機
繊維および各種有機繊維等の例えば、0.5mの平均長
を有する繊維等の各種繊維状充填剤も使用することがで
きる。さらにこれらの充填剤を例えば、ジメチルジクロ
ルシラン、トリメチルエトキシシランやステアリン酸ま
たは、これらの混合物等のいわゆる疎水化剤で処理した
ものを使用することが多い。
本発明の組成物を製造する場合、補強性充填剤の混合物
、非補強性充填剤の混合物または、これら両者の混合物
等を使用できる。これらの充填剤は、本発明の目的を損
なわない範囲の任意の量を使用することができるが、通
常(イ)成分の1〜300重量%程度使用していること
が多い。
、非補強性充填剤の混合物または、これら両者の混合物
等を使用できる。これらの充填剤は、本発明の目的を損
なわない範囲の任意の量を使用することができるが、通
常(イ)成分の1〜300重量%程度使用していること
が多い。
また、本発明の組成物においては従来公知の組成物に比
べて有機錫化合物等の縮合触媒の使用量を減らすことが
できるが、可使時間と硬化時間の調節(両立)を容易に
するため等の目的で少量の縮合触媒を用いるととが多い
。
べて有機錫化合物等の縮合触媒の使用量を減らすことが
できるが、可使時間と硬化時間の調節(両立)を容易に
するため等の目的で少量の縮合触媒を用いるととが多い
。
これらの縮合触媒としては、ジプチル錫ジアセテート、
ジグチル錫シラクレート、ブチル錫トリ=2−エチルヘ
キソエート、カプリル酸第−S。
ジグチル錫シラクレート、ブチル錫トリ=2−エチルヘ
キソエート、カプリル酸第−S。
ナフテン酸錫、オレイン酸錫、酪酸錫、す7テン酸チタ
ン、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト。
ン、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト。
ステアリン酸亜鉛、鉛−2−エチルオクトエート。
鉄−2−エチルヘキソエート、コバルト−2−エチルヘ
キンエート、マンガン−2−エチルヘキソ!−)、亜鉛
−2−エチルヘキソエート等のカルボン酸金属すあ類、
テトラブチルチタネート、テトラ−2−エチルへキシル
チタネート、テトラオクタデシルチタネート、テトラフ
ェニルチタネート。
キンエート、マンガン−2−エチルヘキソ!−)、亜鉛
−2−エチルヘキソエート等のカルボン酸金属すあ類、
テトラブチルチタネート、テトラ−2−エチルへキシル
チタネート、テトラオクタデシルチタネート、テトラフ
ェニルチタネート。
トリエタノールアミンチタネート、テトラ(インプロペ
ニルオキシ)チタネート等の有機チタン酸エステル類、
トリイソプロボキシアルミニクム等のアルコキシアルミ
ニクム化合物類、ヘキシルアミン、リン酸ドデシルアミ
ン等のアミン化合物およびその塩類、ペンジルトリエチ
ルアンモニクムアセテート等の第四級アンモニクム塩類
、酢酸カリクム、酢酸ナトリウム、蓚酸リチウム等のア
ルカリ金属の低級脂肪酸塩類、ジメチルヒドロキシルア
ミン、ジエチルヒドロキシルアミン等のジアルキルヒド
ロキシルアミン類、テトラメチルグアニジン等のグアニ
ジン化合物、ジグチル錫ブトキシクロライド、ビス(ジ
グチル錫アセテート)オキサイド、ビス(ジプチル錫う
クレート)オキサイド、ビス(ジブチル錫ステアレート
)オキサイヒ“ ドウジス(ジメチル錫オレエート)オキサイド。
ニルオキシ)チタネート等の有機チタン酸エステル類、
トリイソプロボキシアルミニクム等のアルコキシアルミ
ニクム化合物類、ヘキシルアミン、リン酸ドデシルアミ
ン等のアミン化合物およびその塩類、ペンジルトリエチ
ルアンモニクムアセテート等の第四級アンモニクム塩類
、酢酸カリクム、酢酸ナトリウム、蓚酸リチウム等のア
ルカリ金属の低級脂肪酸塩類、ジメチルヒドロキシルア
ミン、ジエチルヒドロキシルアミン等のジアルキルヒド
ロキシルアミン類、テトラメチルグアニジン等のグアニ
ジン化合物、ジグチル錫ブトキシクロライド、ビス(ジ
グチル錫アセテート)オキサイド、ビス(ジプチル錫う
クレート)オキサイド、ビス(ジブチル錫ステアレート
)オキサイヒ“ ドウジス(ジメチル錫オレエート)オキサイド。
ビス(ブチルフェニル錫アセテート)オキサイド。
ビス(トリベンジル、j)オキサイド、ビス(ジエチル
錫クロライド)オキサイド、ビス(ジプチル錫クロライ
ド)オキサイド、ビス(シアミル錫りロライド)オキサ
イド、ブチルフェニルベンジル錫ハイドロオキサイド、
トリス(P−クロロフェニル)錫ハイドロオキサイド、
(ジメチル錫マレエート)ハイドロオキサイド、(ジプ
チル錫クロライド)ハイドロオキサイド、5i(O5n
(n−C4H9)。
錫クロライド)オキサイド、ビス(ジプチル錫クロライ
ド)オキサイド、ビス(シアミル錫りロライド)オキサ
イド、ブチルフェニルベンジル錫ハイドロオキサイド、
トリス(P−クロロフェニル)錫ハイドロオキサイド、
(ジメチル錫マレエート)ハイドロオキサイド、(ジプ
チル錫クロライド)ハイドロオキサイド、5i(O5n
(n−C4H9)。
OQCCHz :)、 、 CH3Si (O5n(n
−C4Hs )200CCH3〕3 。
−C4Hs )200CCH3〕3 。
C6HIII Si COSn (n−C4H9)、
OOCCH3)3 等の錫化合物類および錫、チタン、
グアニジル基等を含有するオルガノシロキチン類等を単
独または混合して使用する。
OOCCH3)3 等の錫化合物類および錫、チタン、
グアニジル基等を含有するオルガノシロキチン類等を単
独または混合して使用する。
本発明の組成物では、これらの縮合触媒を必要としない
場合が多いが、また本発明の目的を損なわない範囲の任
意の1itt−使用することができるが、これらの触媒
を使用する場合には通常(イ)成分の0.0001−1
0重量9C好ましくはo、ooi〜2重量%使用するこ
とが多い。
場合が多いが、また本発明の目的を損なわない範囲の任
意の1itt−使用することができるが、これらの触媒
を使用する場合には通常(イ)成分の0.0001−1
0重量9C好ましくはo、ooi〜2重量%使用するこ
とが多い。
その他の配合物のいくつかについて若干の例を示すと、
室温で液状のトリノチルシロキサン基等の末端ヲ有する
ジメチルポリシロキサン類、燐酸エステル類2石油ワッ
クスやポリエチレンワックス等の可塑剤、T−グリシジ
ルオキシプロピル基。
室温で液状のトリノチルシロキサン基等の末端ヲ有する
ジメチルポリシロキサン類、燐酸エステル類2石油ワッ
クスやポリエチレンワックス等の可塑剤、T−グリシジ
ルオキシプロピル基。
T−アミノプロピル基等の極性基含有炭化水素基を有す
るシラン類等の接着改良剤、ポリアルキレングリコール
類等の安定剤および塩化ビニル、アクリロニトリル、ス
チレン、酢酸ビニル、エチレン等の単独重合体や共重合
体等の有機樹脂等である0 本発明の組成物は、一般に従来公知の水分に触れると、
室温下でニジストマーを形成する、シリコーン組成物と
同様の方法で製造することができる。
るシラン類等の接着改良剤、ポリアルキレングリコール
類等の安定剤および塩化ビニル、アクリロニトリル、ス
チレン、酢酸ビニル、エチレン等の単独重合体や共重合
体等の有機樹脂等である0 本発明の組成物は、一般に従来公知の水分に触れると、
室温下でニジストマーを形成する、シリコーン組成物と
同様の方法で製造することができる。
すなわち、本発明の組成物は必要に応じて任意の順番に
混合することができるが、通常()・)成分は(ロ)成
分と、さらに必要なら可塑剤や溶剤等の他の不活性成分
と、予かしめ混合して(イ)成分等と混合するのが便利
な場合が多い。また、この混合は通常室温下で好ましく
は、水分の排除下で行なうが、水分の排除が充分であれ
ば、高温での混合が可能な場合も多く、均一な混合が得
易い等の利点がある場合がある。
混合することができるが、通常()・)成分は(ロ)成
分と、さらに必要なら可塑剤や溶剤等の他の不活性成分
と、予かしめ混合して(イ)成分等と混合するのが便利
な場合が多い。また、この混合は通常室温下で好ましく
は、水分の排除下で行なうが、水分の排除が充分であれ
ば、高温での混合が可能な場合も多く、均一な混合が得
易い等の利点がある場合がある。
本発す]の組成物は、調製後チーズやカートリッジ等の
容器中に密封し、水分を連断して保存し必要に応じて容
器より取出して使用する一液性室温硬化型シリコーン組
成物としてとくに有用であるが、また使用時に混合する
いわゆる二液性室温硬化型シリコーン組成物としても使
用することができる。−液性組成物として使用する場合
には、本発明の組成物は、またとくに保存時の安定性が
良い。すなわち、硬化等の変質なしての長時間の保存が
可能であり、また高温での貯蔵が可能である等の利点も
有しており、使用時には室温下で容易に優れたゴム弾性
体を形成する。二液性組成物として使用する場合には、
二成分の各成分は種々の組合せが可能であるが、(ロ)
およびい)成分を使用時に(イ)成分と混合するのが有
利な場合が多い。
容器中に密封し、水分を連断して保存し必要に応じて容
器より取出して使用する一液性室温硬化型シリコーン組
成物としてとくに有用であるが、また使用時に混合する
いわゆる二液性室温硬化型シリコーン組成物としても使
用することができる。−液性組成物として使用する場合
には、本発明の組成物は、またとくに保存時の安定性が
良い。すなわち、硬化等の変質なしての長時間の保存が
可能であり、また高温での貯蔵が可能である等の利点も
有しており、使用時には室温下で容易に優れたゴム弾性
体を形成する。二液性組成物として使用する場合には、
二成分の各成分は種々の組合せが可能であるが、(ロ)
およびい)成分を使用時に(イ)成分と混合するのが有
利な場合が多い。
本発明の組成物は、空気中の通常の湿分て充分硬化し、
高湿度、低湿度下等かなり広範囲の湿度域での使用が可
能である。また温度も室温下はもちろん高温下、低温下
等広範囲での使用が可能で1、とくに低温例えば−1θ
〜10℃のごとき温度での利点が大きい。
高湿度、低湿度下等かなり広範囲の湿度域での使用が可
能である。また温度も室温下はもちろん高温下、低温下
等広範囲での使用が可能で1、とくに低温例えば−1θ
〜10℃のごとき温度での利点が大きい。
次に実施例を示す。
実施例1゜
25℃における粘度が、500,000 mPa5であ
る末端ヒドロキシル基を有するジメヂルボリシロキサン
100重量部、23℃における粘度が35mPa5の
トリメチルシロキシ基によって末端ブロッキングされた
ジメチルポリシロキサン40重量部、疎水処理をした熱
分解法二酸化珪素10重量部、ジ−n−ブチル錫シラク
レート 0.2重量部、メチルトリ(メチルエチルケト
オキシム)シラン5重墓部およびテトラアセトキシシラ
ン0.1重量部から成る組成物をプラネタリ−ミキサー
を使用し、當法により調製し、アルミ製チューブに充填
し供試体とした。この組成物についてJIS A−57
58に準じ、タックフリータイムを測定した。また硬化
の状態を測定するため5℃、60%RHの条件下で、2
枚の基材の一定の隙間に組成物を詰め、所定時間放置し
た後、隙間の長さの10%の引張変形を与えた際に、表
面被膜にひび割れを生じなくなる時間(す碌わち、伸び
のある強靭な被膜を形成する時間、被膜形成時間と称す
)を測定した。
る末端ヒドロキシル基を有するジメヂルボリシロキサン
100重量部、23℃における粘度が35mPa5の
トリメチルシロキシ基によって末端ブロッキングされた
ジメチルポリシロキサン40重量部、疎水処理をした熱
分解法二酸化珪素10重量部、ジ−n−ブチル錫シラク
レート 0.2重量部、メチルトリ(メチルエチルケト
オキシム)シラン5重墓部およびテトラアセトキシシラ
ン0.1重量部から成る組成物をプラネタリ−ミキサー
を使用し、當法により調製し、アルミ製チューブに充填
し供試体とした。この組成物についてJIS A−57
58に準じ、タックフリータイムを測定した。また硬化
の状態を測定するため5℃、60%RHの条件下で、2
枚の基材の一定の隙間に組成物を詰め、所定時間放置し
た後、隙間の長さの10%の引張変形を与えた際に、表
面被膜にひび割れを生じなくなる時間(す碌わち、伸び
のある強靭な被膜を形成する時間、被膜形成時間と称す
)を測定した。
その結果、60%RH,5℃および30℃の条件下のタ
ックフリータイムは、19分および8分と温度依存性が
少なく、また被膜形成時間も170分と非常に良好な組
成物を得た。一般的なゴム物性についてもJIS A−
5758に準じて測定した結果、最大引張応力14Kf
I/cId、破断時の伸び350%。
ックフリータイムは、19分および8分と温度依存性が
少なく、また被膜形成時間も170分と非常に良好な組
成物を得た。一般的なゴム物性についてもJIS A−
5758に準じて測定した結果、最大引張応力14Kf
I/cId、破断時の伸び350%。
100%引張応力5.2 Kfl/adであり、また硬
度は22と良好なゴム物性を有するニジストマーを形成
した0 比較例1゜ 実施例1.でテトラアセトキシシラン無添加の場合の組
成物は、タックフリータイムは32分(5℃)および4
分(30℃)と温度依存性が太きく、また被膜形成時間
は24時間以上と長く、良好な組成物ではなかりた。
度は22と良好なゴム物性を有するニジストマーを形成
した0 比較例1゜ 実施例1.でテトラアセトキシシラン無添加の場合の組
成物は、タックフリータイムは32分(5℃)および4
分(30℃)と温度依存性が太きく、また被膜形成時間
は24時間以上と長く、良好な組成物ではなかりた。
また硬化後のエラストマーのゴム物性は、最大引張応力
14 Frg/ad 、破断時の伸び500%、100
%引張応力3・7Ky/c++f、硬度21であった。
14 Frg/ad 、破断時の伸び500%、100
%引張応力3・7Ky/c++f、硬度21であった。
比較例2
実施例1.でテトラアセトキシシランおよびメチルトリ
(メチルエチルケトオキシム)シランの代りに、テトラ
(メチルエチルケトオキシム)シランf:5重量部使用
しfcm成物を5°C140%の条件下でプラネタリ−
ミキサーを用いて調製を試みたが表面の硬化が早いため
、部分的に硬化物の混ざった組成物しか得られなかった
。
(メチルエチルケトオキシム)シランの代りに、テトラ
(メチルエチルケトオキシム)シランf:5重量部使用
しfcm成物を5°C140%の条件下でプラネタリ−
ミキサーを用いて調製を試みたが表面の硬化が早いため
、部分的に硬化物の混ざった組成物しか得られなかった
。
実施例2
実施例1.のテトラアセトキシシランの代りにテトラ(
メチルエチルケトオキシム)シラン0.5重量部使用し
た組成物は、実施例J−と同様タックフリーは、21分
(5℃)および7分(30℃)と温度依存性が小さく、
被膜形成性は、180分と良好な組成物であった。
メチルエチルケトオキシム)シラン0.5重量部使用し
た組成物は、実施例J−と同様タックフリーは、21分
(5℃)および7分(30℃)と温度依存性が小さく、
被膜形成性は、180分と良好な組成物であった。
硬化後のエラストマーのゴム物性は、最大引張応力14
ト、g/c1j、破断時の伸び320+X、100%引
張応力 5.0 K(1/cd 、硬度22であった。
ト、g/c1j、破断時の伸び320+X、100%引
張応力 5.0 K(1/cd 、硬度22であった。
実施例3゜
25℃における粘度が、300,000 mPa sで
ある末端ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサ
ン100重量部、疎水処理をした熱分解法二酸化珪素1
0重量部、ジ−n−ブチル錫ジアセテート0.03重量
部、メチルトリ(アセトキシ)シラン5重量部およびテ
トラアセトキシシラン0.IN’J1部よりなる組成物
はタンクフリータイムが、22分(5℃)および7分(
30℃)と温度依存性が小さくまた破膜形成時間も18
0分と短かく良好な組成物であった。ゴム物性について
も、最大引張応力17 Kf/d 、破断時の伸び23
0%、100%引張応カフ、 1 Kf/cd 、硬度
32と良好な値を得た。
ある末端ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサ
ン100重量部、疎水処理をした熱分解法二酸化珪素1
0重量部、ジ−n−ブチル錫ジアセテート0.03重量
部、メチルトリ(アセトキシ)シラン5重量部およびテ
トラアセトキシシラン0.IN’J1部よりなる組成物
はタンクフリータイムが、22分(5℃)および7分(
30℃)と温度依存性が小さくまた破膜形成時間も18
0分と短かく良好な組成物であった。ゴム物性について
も、最大引張応力17 Kf/d 、破断時の伸び23
0%、100%引張応カフ、 1 Kf/cd 、硬度
32と良好な値を得た。
実施例4゜
タイムは20分(5℃)および3分(30℃)、被膜形
成時間が160分であった。
成時間が160分であった。
実施例5゜
実施例3.で、メチルトリアセトキシシランの代りにテ
トラエトキシシラン5M量部を用い、テトラ比較例3゜ 時間も24時間以上で良好な組成物ではなかった。
トラエトキシシラン5M量部を用い、テトラ比較例3゜ 時間も24時間以上で良好な組成物ではなかった。
実施例6゜
実施例3.でジ−n−ブチル錫ジアセテートの代りにジ
−n−ブチル錫シラクレート0.21賃部。
−n−ブチル錫シラクレート0.21賃部。
メチルトリ(アセトキシ)シランの代りにテトラエトキ
シシラン5重量部およびテトラアセトキシシランの代り
にテトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン3重量部
を使用した組成物も実施列3゜と同様の良好な組成物で
あった0 実施例7゜ 25℃における粘度が、300,000mPa5である
末端ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサン1
00重量部、熱分解性二酸化珪素10重量部。
シシラン5重量部およびテトラアセトキシシランの代り
にテトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン3重量部
を使用した組成物も実施列3゜と同様の良好な組成物で
あった0 実施例7゜ 25℃における粘度が、300,000mPa5である
末端ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサン1
00重量部、熱分解性二酸化珪素10重量部。
ジ−n−ブチル錫シラクレート0.1重社部、テトラシ
クロへキシルアミノシラン0.2 @ 活部および得ら
れた。
クロへキシルアミノシラン0.2 @ 活部および得ら
れた。
実施例8゜
実施例7.でメチルトリ(N−メチルアセトアミド)シ
ランの代りにメチルトリ(シクロへキシルアミノ)シラ
ン5重量部を使用し、ジ−n−ブチル錫シラクレートを
使用しない組成物も実施例7゜と同様良好な結果を得た
。
ランの代りにメチルトリ(シクロへキシルアミノ)シラ
ン5重量部を使用し、ジ−n−ブチル錫シラクレートを
使用しない組成物も実施例7゜と同様良好な結果を得た
。
実施例9゜
実施例8.でメチルトリ(シクロへキシルアミノ)シラ
ンの半分をメチルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ランに代え、ジ−n−ブチル錫シラクレートfc0.1
fi景部使った組成物についても良好な結果を得た。
ンの半分をメチルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ランに代え、ジ−n−ブチル錫シラクレートfc0.1
fi景部使った組成物についても良好な結果を得た。
実施例10゜
実施例7.でメチルトリ(N−メチルアセトアミド)シ
ランの代りにメチルトリ(ジエチルアミノキシ)シラン
5M量部を使用した組成物も良好な結果金イJ4た。
ランの代りにメチルトリ(ジエチルアミノキシ)シラン
5M量部を使用した組成物も良好な結果金イJ4た。
実施例11゜
実施例1.でテトラアセトキシシランの代りにテトラ′
(シクロへキシルアミノ)シラン0.3重量部を使った
組成物は、実施例1.と同様良好な組成物であった。
(シクロへキシルアミノ)シラン0.3重量部を使った
組成物は、実施例1.と同様良好な組成物であった。
実施例12゜
実施例16でテトラアセトキシシランの代りにテトラ(
N、N−ジエチルアミノキシ)シラン0.3重世部を使
った組成物も、実施例1.と同様良好な結示し 果を待た。
N、N−ジエチルアミノキシ)シラン0.3重世部を使
った組成物も、実施例1.と同様良好な結示し 果を待た。
実施例13、
実施例2.でテトラ(メチルエチルケトオキシム)シラ
ン′f:、1.0重量部に増した組成物は、タックフリ
ータイムの温度依存性が小さく、被膜形成時間も70分
と短かく、低温での特性が良い組成物であった。
ン′f:、1.0重量部に増した組成物は、タックフリ
ータイムの温度依存性が小さく、被膜形成時間も70分
と短かく、低温での特性が良い組成物であった。
実施例14゜
25℃の粘度が、80,000mPa5である末E’f
ffヒドロキシル基を有するメチルフェニルポリシロキ
サン(ジフェニルシロキサン単位10モル%)100重
量部に疎水化処理を施した熱分解法二酸化珪素20重1
部、ジプチル錫ジアセテート0.5重量部。
ffヒドロキシル基を有するメチルフェニルポリシロキ
サン(ジフェニルシロキサン単位10モル%)100重
量部に疎水化処理を施した熱分解法二酸化珪素20重1
部、ジプチル錫ジアセテート0.5重量部。
メチルトリ(インプロペニルオキシ)シラン10重量部
およびテトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン3重
量部を用いた組成物についてテストし、同様に好結果を
得た。
およびテトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン3重
量部を用いた組成物についてテストし、同様に好結果を
得た。
実施例15゜
実施例7.でテトラ(シクロへキシルアミノ)シランの
代りにテトラ(N−メチルアセトアミド)シラン0.5
重量部を用いて同様に良好な組成物を得た。
代りにテトラ(N−メチルアセトアミド)シラン0.5
重量部を用いて同様に良好な組成物を得た。
実施例16゜
実施例8.でメチルトリ(シタ口へキシルアミノ)シラ
ンの半量をメチルトリ(5ec−ブチルアミノ)シラン
に代えた組成物でも、同様な好結果を得た。
ンの半量をメチルトリ(5ec−ブチルアミノ)シラン
に代えた組成物でも、同様な好結果を得た。
出願人 製鉄化学工業株式会社
代表者 佐々木 浩
Claims (3)
- (1)(イ)反応性末端基を有するジオルガノポリシロ
キサン (ロ)アシロキシ基、アミド基、アミ7基、アミノキシ
基、オキシム基およびアルコキシ基から選ばれた基を1
分子当り少なくとも3個有し、1個の珪素原子には、こ
れらの基が3個以下結合している構造を有する化合物も
しくは珪酸エステル類よりなる有機珪素化合物および い)アシロキシ基、アミド基、アミ7基、アミノキシ基
およびオキシム基から選ばれた基4個が1個の珪素原子
に結合しているシラン類を必須成分とすることを特徴と
する室温硬化型シリコーンエラストマー組成物。 - (2)(イ)成分が水酸基末端ジオルガノポリシロキサ
ン (ロ)成分が少なくとも3@のオキシム基を有する有機
珪素化合物および Q)成分が4個のアシロキシ基、アミ7基またはオキシ
ム基t−哨するシラン類である特許請求の範囲(1)項
記載の組成物。 - (3)(イ)成分が水酸基末端ジオルガノポリシロキサ
ン (ロ)成分が少なくとも3個のアルコキシ基を有する珪
素化合物または、珪酸エステル類および特許請求の範囲
(1)項記載の組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6697784A JPS60210663A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | 室温硬化型シリコ−ンエラストマ−組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6697784A JPS60210663A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | 室温硬化型シリコ−ンエラストマ−組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60210663A true JPS60210663A (ja) | 1985-10-23 |
JPH0453902B2 JPH0453902B2 (ja) | 1992-08-27 |
Family
ID=13331589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6697784A Granted JPS60210663A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | 室温硬化型シリコ−ンエラストマ−組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60210663A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1342742A1 (de) * | 2002-03-04 | 2003-09-10 | hanse chemie AG | Bei Raumtemperatur aushärtbare Polysiloxan-Masse |
JP2018070882A (ja) * | 2016-10-26 | 2018-05-10 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物、および目地形成方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5490348A (en) * | 1977-12-28 | 1979-07-18 | Toshiba Silicone | Room temperature setting polysiloxane |
JPS578247A (en) * | 1980-06-17 | 1982-01-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | Room temperature curable polyorganosiloxane composition |
JPS58102235A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-17 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版印刷版用版面修正液 |
JPS59142251A (ja) * | 1983-02-03 | 1984-08-15 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 水遮断下に貯蔵可能で,室温で水混入下に架橋してエラストマ−を形成するコンパウンド |
-
1984
- 1984-04-03 JP JP6697784A patent/JPS60210663A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5490348A (en) * | 1977-12-28 | 1979-07-18 | Toshiba Silicone | Room temperature setting polysiloxane |
JPS578247A (en) * | 1980-06-17 | 1982-01-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | Room temperature curable polyorganosiloxane composition |
JPS58102235A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-17 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版印刷版用版面修正液 |
JPS59142251A (ja) * | 1983-02-03 | 1984-08-15 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 水遮断下に貯蔵可能で,室温で水混入下に架橋してエラストマ−を形成するコンパウンド |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1342742A1 (de) * | 2002-03-04 | 2003-09-10 | hanse chemie AG | Bei Raumtemperatur aushärtbare Polysiloxan-Masse |
JP2018070882A (ja) * | 2016-10-26 | 2018-05-10 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物、および目地形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0453902B2 (ja) | 1992-08-27 |
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