JPS602091B2 - 亜硫酸ガス含有焙焼ガス中の水銀除去法 - Google Patents

亜硫酸ガス含有焙焼ガス中の水銀除去法

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JPS602091B2
JPS602091B2 JP52023526A JP2352677A JPS602091B2 JP S602091 B2 JPS602091 B2 JP S602091B2 JP 52023526 A JP52023526 A JP 52023526A JP 2352677 A JP2352677 A JP 2352677A JP S602091 B2 JPS602091 B2 JP S602091B2
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JP
Japan
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gas
mercury
sulfur dioxide
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sulfuric acid
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JP52023526A
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東雄 真部
正 岡本
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Eneos Corp
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Nippon Mining Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、徴量の水銀を含む硫化鉱、例えば硫化鉄鉱、
閃亜鉛鉱などを酸化煩擬することにより生成する亜硫酸
ガスを主要成分として含有する靖競ガス中に随伴して含
有される水銀を除去する方法に関する。
硫化鍵には主成分としての金属、ィオゥの他に屡々徴量
の水銀が含まれており、このような水銀を含む硫化鉱を
焔暁すると水銀の殆んどが水銀蒸気として焔競ガス中に
伴って混入してくるので、該焔焼ガス中の亜硫酸ガスを
原料として得られる濃硫酸や発煙硫酸中に水銀が混入し
てくることが避けられない。
従来、濃硫酸中に徴量に混在している水銀を除去してそ
の濃度を低減させる方法として原料としての亜硫酸ガス
中の水銀を除去する方法と濃硫酸中の水銀を除去する方
法があり、これらの方法について種々の提案がなされて
いるが、これらは水銀の除去効果からみて必ずしも満足
すべきものではない。
例えば、亜硫酸ガスからそれに含まれる水銀を除去する
場合には酸の循環精製など可成り大きな装置を既存の硫
酸製造設備に付設しなければならず、しかもこれによる
系内の圧力バランスの変化が硫酸製造設備に与える影響
が大きいなどの不利な点がみられる。本発明者は、亜硫
酸ガスを生成させるための硫化鉱の熔競段階において発
生する焔焼排ガスを、250℃以下の温度条件において
S03ガスと接触させると該排ガス中に随伴して混入し
ている徴量の水銀が効果的に除去できることを見出し、
本発明をなすに至った。
したがって、本発明は、硫化鉱を焔暁することにより発
生するような、微量の水銀を随伴した亜硫酸含有ガスか
ら水銀を有効に除去するための方法を提供することを目
的とする。
以下本発明について詳しく説明する。
本発明は、硫化鉱婦焼ガスのような徴量の水銀を随伴し
た亜硫酸ガス含有婚競ガスを、250qo以下の温度下
でSQガスと接触させることを特徴とする。
硫化鉱中に含まれている水銀化合物は焔焼により分解し
て日ぜ(夕)となり、上記鉱石中の他の徴量成分である
Se、CI等と化合して日がe、HgC12、HgS、
日が04を生成するが、上記Hぜ(夕)の一部はそのま
まの状態で娼競ガス中に随伴して鱈競段階から排出され
る。
本発明においては、上記のように賭競段階から排出され
るHg。
(夕)を随伴した熔競ガスに、250℃以下の温度下で
S03ガスを接触させると、このS03がHgoと反応
して最終的に硫酸水銀となるので、このようにして焔暁
ガス中に生成した硫酸水銀を、焔暁ガスの通常の精製設
備で瓶集すると焔焼ガス中のHgo濃度を著しく低減さ
せることが可能となる。上述のように、悟焼ガスとS0
3ガスの接触はガス中のダストを除いた後行なうことが
必要であって通常250qo以下である。一般に、硫化
鉱の煩焼段階から排出される樽焼ガスの場合にはその排
出口の温度は600qo以上に達しているので、本発明
によって該焔競ガスをS03ガスと接触させるには糟焼
ガスを除塵、冷却して250qo以下の温度に低下させ
た段階で該曙暁ガスにSQガスを吹込みなどの手段で混
合させるようにする。なお、焔焼ガスと接触させるため
のSQの吹込み量は鉱石トン当り0.5k9以上、好し
くはlk9である。本発明によって、S02濃度10%
の曙隣ガスに100%S03ガスを吹込んで接触させた
場合における接触温度と水銀量の変化の関係を下記表に
例示する。
表 接触温度 焔暁ガス中の水 爆硫酸中の水銀ぐc)
銀濃度〔物/Nが) 濃度(ppm)1000
10 3300 02
0.6250 0.1
02200 0.1
02注(1)焔隣ガス(排ガス)の温度・・
・・・・・・・1050℃(2)焔隣炉出口Kおける水
銀濃度・・・10物〆Nめ3上記表から、悟焼炉から排
出される煩焼ガスを250℃以下の温度に低下させてS
03ガスと接触させると、硫酸製造系へ導入される焔焼
ガス中の水銀含有量が著しく低減され、したがって、該
ガスから製造された濃硫酸中の水銀含有量も非常に少な
くなっていることが理解されるであろう。
以上述べたように、本発明によると、特別な水銀除去設
備を設けることなく、糟焼段階から排出される、亜硫酸
ガスを、主要成分とする焔嬢ガスを250qC以下の温
度に除塵、冷却してS03ガスを吹込むという簡易な操
作で上記焔焼ガス中の水銀を有効に除去することが可能
となるので、本発明は、水銀含有濃度の極めて低い濃硫
酸もしくは発煙硫酸の製造上益するところが大きい。次
に実施例を例示する。
実施例 水銀を20〜30ppm含有する閃亜鉛鉱を流動燈隣炉
で1080午○の温度で焔焼し、該焔焼炉から排出され
る排ガスを250qo以下に低下させ、S03ガスを上
記原料鉱石トン当り0.5k9吹込む。
ついで、この排ガスを冷却、除塵後洗浄して排ガス中の
水銀濃度を測定したところ0.1服/N松乃至痕跡であ
った。また、この排ガス(亜硫酸ガス)から得られる濃
硫酸の水銀濃度は0.3〜0.1ppmであった。なお
、上記焔競炉の出口におけるガス中の水銀濃度は10の
9/Nめであった。比較例として、上記S03ガスを吹
込まない場合について同様の手順の下で樽焼ガス中の水
銀濃度を測定したところ1.5の9/N〆であり、この
ガスから得られる濃硫酸の水銀濃度は3〜lppmであ
った。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 硫化鉱焙焼ガスのような微量の水銀を随伴した亜硫
    酸ガス含有焙焼ガスを、250℃以下の温度下でSO_
    3ガスと接触させることを特徴とする上記焙焼ガス中の
    水銀除去法。
JP52023526A 1977-03-03 1977-03-04 亜硫酸ガス含有焙焼ガス中の水銀除去法 Expired JPS602091B2 (ja)

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CA298,083A CA1110632A (en) 1977-03-03 1978-03-02 Epoxysuccinic acid derivatives

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JPS53108067A JPS53108067A (en) 1978-09-20
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KR100320259B1 (ko) * 1996-05-02 2002-02-19 루카렐리 피터 에이. 주니어 5상무브러시dc모터용제어회로
WO2020262522A1 (ja) * 2019-06-26 2020-12-30 株式会社クボタ 作業機

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