JPS60203387A - クリ−ムはんだ - Google Patents

クリ−ムはんだ

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JPS60203387A
JPS60203387A JP5887184A JP5887184A JPS60203387A JP S60203387 A JPS60203387 A JP S60203387A JP 5887184 A JP5887184 A JP 5887184A JP 5887184 A JP5887184 A JP 5887184A JP S60203387 A JPS60203387 A JP S60203387A
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JP
Japan
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acid
cream solder
halogenomonocarboxylic
amine
solder
Prior art date
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Pending
Application number
JP5887184A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Ogura
小倉 利明
Masatoshi Sado
佐渡 正俊
Hideo Chagi
茶木 英雄
Koichi Hagio
浩一 萩尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON GENMA KK
Nihon Genma KK
Original Assignee
NIPPON GENMA KK
Nihon Genma KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by NIPPON GENMA KK, Nihon Genma KK filed Critical NIPPON GENMA KK
Priority to JP5887184A priority Critical patent/JPS60203387A/ja
Publication of JPS60203387A publication Critical patent/JPS60203387A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/3612Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
    • B23K35/3616Halogen compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はクリームはんだ、特°にA!+ /Pd焼結電
極およびニッケルメッキ電極等のはんだ付けに適したク
リームはんだ組成物に関する。
クリームはんだは、樹脂、溶剤、活性剤等を含むフラッ
クスに粉末はんだを分散させたクリーム状のはんだであ
る。このクリームはんだは主として接合ずべぎ金属基材
上に塗布もしくは印刷して使用するものである。
近年、クリームはんだが用いられる電子基板はまずま1
小型化される傾向があり、部品の微小化、実装密度の上
昇、高度集積化が進められ、電子材料の電極間距離やパ
ターンの間隔はますます狭められている。従って、高い
絶縁性の確保や、接合強度、接合精度、熱安定性等に関
し、クリームはんだについても高度な要請がなされるに
到っている。また同時に、高い絶縁性や信頼性を得るた
め電子月別もセラミック基材やセラミックチップ部品が
使用されるようになっており、これらの基材やチップに
は、A(+ /Pd焼結電極、A(] /Pd/Pt焼
結電極、およびニッケルメッキ電極等が用いられている
。これらの電極は従来の銀メツキ電極、銅メツキ電極、
錫メツキ電極、はんだメッキ電極等とは賃なり、はんだ
付けが非常に困勤である。
従って、これらの電極のはんだ付は竹を向上するクリー
ムはんだがめられている。はんだイ1け性を向上させる
ためには、クリームは/Vだ中の活性剤濃度を高めれば
よいが、活性剤の高濃度添加は別の問題を発生するため
、活性剤の多聞配合には限界がある。
さらにクリームはんだを精密な電子機器の材料として使
用する場合には、はんだボールの発生を極力抑える必要
がある。はんだボールとは、クリームはんだを用いては
んだ付けを行なう場合に発圧するはんだ粒子の総称であ
り、この発生にJ:って電気絶縁性や信頼性の低下が起
る。従って、高密度実装基材については、はんだ付は性
の劣る母材に対する接合性が高く、かつはんだボールの
発生のないクリームはんだを開発する必要がある。
本発明者らは従来のアミンのハロゲン化水素酸塩を主体
とする活性剤のすべて、またはその一部をハロゲノモノ
カルボン酸またはハロゲノモノカルボン酸とアミンから
誘導されるアミノ酸のハロゲン化水素酸塩を用いると、
上記はんだ付は性の劣る基材にはんだ付けする場合にお
いても、優れたフラックス作用を示すクリームはんだが
得られることを究明した。
即ち本発明は、ハロゲノモノカルボン酸またはハロゲノ
モノカルボン酸とアミンから誘導されるアミノ酸のハロ
ゲン化水素酸塩を必須成分として含有するクリームはん
だに関する。
本発明クリームはんだに使用するハロゲノモノカルボン
酸の例としては、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリ
クロル酢酸、モノブロム酢酸、ジブロム酢酸、トリブロ
ム酢酸、トリフルオル酢酸、2−クロルプロピオン酸、
2−ブロムプロピオン酸、2−クロル酪酸、2−ブロム
酪酸、2−プロ5− ムヘキサデカン酸、9.10−ジブロムステアリン酸、
クロル安息香酸、ブロム安息香酸、ジブロム安息香酸、
クロルサルチル酸、ブロムサルチル酸等が例示される。
好ましくはα−八へゲノモノカルボン酸であって、その
うちでもモノクロル酢酸、モノブロム酢酸、モノフルオ
ル酢酸等が特に好ましい。またハロゲノモノカルボン酸
とアミンから誘導されるアミノ酸のハロゲン化水素I!
塩としては、前述のハロゲノモノカルボン酸とアミン等
を当量反応させることにより容易に得ることができる。
ここに使用するアミンとしては、アンモニア、エチルア
ミン、プロピルアミン、アリルアミン、ジアリルアミン
、ブヂルアミン、ヘキシルアミン、2−■デルヘキシル
アミン、デヒドロアビエチルアミン、ジエチルアミン、
ジプロピルアミン、ジブチルアミン、イミダゾール、モ
ノJタノールアミン、ジェタノールアミン、モルフオリ
ノ、ピペリジン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキ
シルアミン、エチルグアニジン、ジエチルグアニジン、
ジフェニルグアニジン、ジトルイル6− グアニジン、アニリン、■チルアニリン、ジフェニルア
ミン、ナフチルアミン、ヒドラジン、ヒドロキシエチル
ヒドラジン、フェニルヒドラジン等の活t11水素含有
アミン化合物があげられる。特に好ましいアミン化合物
としては、アリルアミン、ブチルフノミン、へ二1ニシ
ルアミン、2−■チルトヘキシルアミン、ジフェニルグ
アニジン等である。
上述のハロゲノモノカルボン酸またはハロゲノモノカル
ボン酸とアミンから誘導されるアミノ酸のハロゲン化水
素酸塩は、クリームはんだフラックス全量の0.5〜1
0重量%、特に好ましくは1〜4千m%であり、ハロゲ
ン含量として0.05〜0.5Cn%、特に好ましくは
0.1〜0゜25Cffi%含有するのが望ましい。
また、グルタミン酸のハロゲン化水素酸塩等が活ヤ1剤
として使用されていた例があるが、樹脂や有機溶媒に対
する相溶性が悪く、活性化温度が高いためにクリームは
んだ用の活性剤として適していない。
ハロゲノモノカルボン酸またはハロゲノモノカルボン酸
とアミンから誘導されるアミノ酸のハロゲン化水素酸塩
はそれぞれ甲独に、あるいは(51用してもよく、また
従来活性剤として一般に使用されているアミン類のハロ
ゲン化水素酸塩と併用してもよい。
本発明クリームはんだは、ハロゲノカルボン酸またはア
ミノ酸のハロゲン化水素′R塩を使用する以外、従来の
クリームはんだと同様の組成および製造法により製造す
ることができる。即ち、天然ロジン、水添ロジン、マレ
イン酸変v10ジン、重合ロジン等のロジン系樹脂を適
当な溶剤、例えば、ジエチレングリコール、モノブチル
エーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル
、エチレングリコールモノフJニル■−チル、ヘキシレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ジエチレング
リコール、ブタンジオールおよびこれらのエステル類等
に加熱溶解し、本発明のハロゲノモノカルボン酸または
アミノ酸のハロゲン化水素酸塩を加え、適当な粘度調整
剤を用いて粘度を調整し、十分混練した慢、粉末はんだ
を加えて練り土げ、クリームはんだを作る。
本発明クリームはんだは、ステンレス、ニッケル、Ag
/Pd焼結体、A(1/Pd /Pt焼結体等の接合に
特に有効であり、かつクリームはんだ自体の粘度変化が
少ない。
以下、実施例をあげて本発明を説明する。
支IK 表−1に示すハロゲノモノカルボン酸またはハロゲノモ
ノカルボン酸とアミンから誘導されるアミノ酸のハロゲ
ン化水素酸塩の5.6X10”モルを重合ロジン60g
、ジエチレングリコールモノブチルエーテル34(lお
よび硬化ひまし油4Qと共に加熱溶解し、フラックスを
調製した。冷却後、はんだ粉末(Sn 60/A(13
/Pb 37 :325メツシコ)4.35gをフラッ
クス650と混合し、十分攪拌混練し、クリームはんだ
を調製した。得られたクリームはんだにつき、はんだボ
ールの形成および圧延銅版の焼鈍材、ニッケルメッキ材
、A(+ /Pd焼結材およびAl /Pd /Pt焼
結材へのはんだ付は性を評価した。結果を9− 表−1に示す。
別に同じく表−1に示す従来のアミンのハロゲン化水素
酸塩を用いて評価した結果を同じく表−1に示す。
10− 手続補正書印制 昭和59年 5月 8日 昭和59年特許願第 58871 号 2発明の名称 クリームはんだ 36補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 大阪府大阪市淀川区三津屋中3丁目8番10号名
称 株式会社 ニホンゲンマ 代表者 川 崎 実 4代理人 7、補正の内容 (1)明細書第4頁末行、「実装基材」とめるを「実装
基板」に訂正する。
以 −[ニ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 ハロゲノモノカルボン酸またはハロゲノモノカル
    ボン酸とアミンから誘導されるアミノ酸のハロゲン化水
    素M塩を必須成分どして含有するクリームはんだ。 2、 ハロゲノモノカルボン酸がモノクロル酢酸、モノ
    ブロム酢酸、七ツク[lルプロビオン酸、モノブロムプ
    ロピオン酸、り[1ル安息香酸、ブロム安息香酸、クロ
    ルサリチル酸、ブロムサリチル酸、クロルヘキサデカン
    酸、ブロムヘキザデカン酸から選ばれる第1項記載のク
    リームはんだ。 3、 アミンがエチルアミン、アリルアミン、ブチルア
    ミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、2−エチルヘキ
    シルアミン、デヒドロアピエヂルアミン、ジエチルアミ
    ン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、イミダゾール
    、モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、モルホ
    リン、ピペリジン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘ
    キシルアミン、エチルグアニジン、ジフェニルグアニジ
    ン、ジトルイルグアニジン、アニリン、エチルアニリン
    、ジフェニルアミン、ナフチルアミン、ヒドラジン、ヒ
    ドロキシエチルヒドラジン、フェニルヒドラジンから選
    ばれた第1項記載のクリームはんだ。 4、 アミンがアリルアミン、ブチルアミン、ヘキシル
    アミン、2−エチルヘキシルアミン、ジフェニルグアニ
    ジンである第1項記載のクリームはんだ。 5、 ハロゲノモノカルボン酸がクリ−11けんだフラ
    ックス全量の0.1〜5重量%含まれている第1項記載
    のクリームはんだ。 6、 ハロゲノモノカルボン酸とアミンから誘導される
    アミノ酸をクリームはんだフラックス全量の0.3〜1
    0重量%含有Jる第11ii記載のクリームはんだ。 7、 ハロゲノモノカルボン酸またはハロゲノモノカル
    ボン酸とアミンから誘導されるアミノ酸のハロゲン化水
    素酸塩に加えてアミンのハロゲン化水素IIを含む第1
    項記載のクリームはんだ。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01154897A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Senju Metal Ind Co Ltd クリームはんだ
JPH0437497A (ja) * 1990-05-28 1992-02-07 Metsuku Kk はんだ付け用フラックス
CN103028868A (zh) * 2011-09-30 2013-04-10 罗门哈斯电子材料有限公司 多胺、羧酸助焊剂组合物和焊接方法
JP5816947B1 (ja) * 2015-02-05 2015-11-18 株式会社弘輝 フラックス用活性剤、フラックス及びはんだ

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01154897A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Senju Metal Ind Co Ltd クリームはんだ
JPH0437497A (ja) * 1990-05-28 1992-02-07 Metsuku Kk はんだ付け用フラックス
CN103028868A (zh) * 2011-09-30 2013-04-10 罗门哈斯电子材料有限公司 多胺、羧酸助焊剂组合物和焊接方法
JP5816947B1 (ja) * 2015-02-05 2015-11-18 株式会社弘輝 フラックス用活性剤、フラックス及びはんだ
US10702956B2 (en) 2015-02-05 2020-07-07 Koki Company Limited Flux activator, flux, and solder

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