JPS60200865A - セラミツク中子の焼成方法 - Google Patents
セラミツク中子の焼成方法Info
- Publication number
- JPS60200865A JPS60200865A JP5565884A JP5565884A JPS60200865A JP S60200865 A JPS60200865 A JP S60200865A JP 5565884 A JP5565884 A JP 5565884A JP 5565884 A JP5565884 A JP 5565884A JP S60200865 A JPS60200865 A JP S60200865A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- ceramic
- firing
- ceramic core
- shell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の対象〕
本発明は自動車用エンジンに使用される、中空ピストン
の鋳造におけるセラミックよりなる中子の製法に関する
ものである。
の鋳造におけるセラミックよりなる中子の製法に関する
ものである。
従来のピストンの鋳造時に使用される、セラミック中子
はジルコニヤ及び珪砂をフェノール樹脂などのを機バイ
ンダーで結合したシェル中子に水ガラスとか、リン酸ア
ルミなどの無機バインダーを含浸させて高温にて焼成す
ることにより製作していた。
はジルコニヤ及び珪砂をフェノール樹脂などのを機バイ
ンダーで結合したシェル中子に水ガラスとか、リン酸ア
ルミなどの無機バインダーを含浸させて高温にて焼成す
ることにより製作していた。
〔従来技術の問題点及びその技術的分析〕この従来のセ
ラミック中子の製法は、第１図より説明すれば、１はピ
ストン、２はピストン１の頂部内壁に設けられる中空部
で、３はセラミック中子であり、このセラミック中子は
、１０００〜１１００℃程度の高温にて焼成して製作す
るが、この場合に、有機バインダーは２００〜３００℃
で分解し、無機バインダーによる結合が始まるのは約６
００ ′Ｃ以上であるために、焼成時に、適当なセラミ
ック中子の形状を保持するものがないと、セラミック中
子は、３００〜６００℃の間に大きく変形するために、
寸法精度の厳しい自動車用ピストンの鋳造に使用出来な
い。このために、一般にはそれぞれの形状に合わせて、
焼成用の焼成箱（サヤ）４を使用し、焼成箱４の底部に
凹部４ａを設け、前記セラミック中子を保持して焼成す
るとか、又は従来のように鋳物砂などに埋めて焼成を行
っていた。
ラミック中子の製法は、第１図より説明すれば、１はピ
ストン、２はピストン１の頂部内壁に設けられる中空部
で、３はセラミック中子であり、このセラミック中子は
、１０００〜１１００℃程度の高温にて焼成して製作す
るが、この場合に、有機バインダーは２００〜３００℃
で分解し、無機バインダーによる結合が始まるのは約６
００ ′Ｃ以上であるために、焼成時に、適当なセラミ
ック中子の形状を保持するものがないと、セラミック中
子は、３００〜６００℃の間に大きく変形するために、
寸法精度の厳しい自動車用ピストンの鋳造に使用出来な
い。このために、一般にはそれぞれの形状に合わせて、
焼成用の焼成箱（サヤ）４を使用し、焼成箱４の底部に
凹部４ａを設け、前記セラミック中子を保持して焼成す
るとか、又は従来のように鋳物砂などに埋めて焼成を行
っていた。
然し、中子の形状に合わせて焼成箱４を使用する場合は
、中子の形状に合わせた型である四部４ａを焼成箱の底
部に設ける必要があり、このために中子の形状が少しで
も変更の場合には使用することが出来ず、形状の相違す
る他の製品にも使用することが困難であった。
、中子の形状に合わせた型である四部４ａを焼成箱の底
部に設ける必要があり、このために中子の形状が少しで
も変更の場合には使用することが出来ず、形状の相違す
る他の製品にも使用することが困難であった。
次に、鋳物砂内にシェル中子を埋めて焼成を行う場合に
はセラミック中子の表面に鋳物砂が（＝Ｊ着し、これを
中子として使用すれば、鋳物砂が製品内部に付着し、鋳
造時、ピストン中空部に小さい凹凸が生じ、キズ、ワレ
の原因となり、製品に悪影響を与えるという欠点があっ
た。
はセラミック中子の表面に鋳物砂が（＝Ｊ着し、これを
中子として使用すれば、鋳物砂が製品内部に付着し、鋳
造時、ピストン中空部に小さい凹凸が生じ、キズ、ワレ
の原因となり、製品に悪影響を与えるという欠点があっ
た。
そこで本発明は、中空ピストンの鋳造に使用するセラミ
ック中子の製造において、中子焼成用の特別の焼成箱を
使用することなく、かつ中子の表面に鋳物砂がまったく
付着しないようにすることを、その技術的課題とするも
のである。
ック中子の製造において、中子焼成用の特別の焼成箱を
使用することなく、かつ中子の表面に鋳物砂がまったく
付着しないようにすることを、その技術的課題とするも
のである。
上記技術的課題を解決するために講じた技術的手段は、
珪砂又はジルコニヤにて製造されるシェル中子に無機バ
インダーを含浸させた後、高温で焼成することにより製
作する、セラミック中子において、焼成時に直径が０．
５〜５Ｎの球状のセラミック粒を焼成用箱に載置し、そ
の上にシェル中子をのせて焼成形成するものである。
珪砂又はジルコニヤにて製造されるシェル中子に無機バ
インダーを含浸させた後、高温で焼成することにより製
作する、セラミック中子において、焼成時に直径が０．
５〜５Ｎの球状のセラミック粒を焼成用箱に載置し、そ
の上にシェル中子をのせて焼成形成するものである。
上記技術的手段は、次のように作用する。すなわち、一
定形状の中子に成形した、セラミック中子ヲ、０．５〜
５１の球状セラミック上に載置して、１０００〜１１０
０℃にて焼成するもので、球状セラミックは、その表面
が極めて“なめらか”なために、中子に付着することが
ない。尚、球状セラミックの大きさが０．５１■より小
さいとセラミック中子と接する面積が大きくなって付着
し易くなり、また球状が５鶴より大きくなりすぎると焼
成時に球状セラミックとセラミック中子の接触面積が少
なくなり、セラミック中子が変形し易くなる。
定形状の中子に成形した、セラミック中子ヲ、０．５〜
５１の球状セラミック上に載置して、１０００〜１１０
０℃にて焼成するもので、球状セラミックは、その表面
が極めて“なめらか”なために、中子に付着することが
ない。尚、球状セラミックの大きさが０．５１■より小
さいとセラミック中子と接する面積が大きくなって付着
し易くなり、また球状が５鶴より大きくなりすぎると焼
成時に球状セラミックとセラミック中子の接触面積が少
なくなり、セラミック中子が変形し易くなる。
上記のように球状セラミックの上にのせて焼成する場合
には、特殊な形状の焼成箱を製作することもなく、正し
い形状の中子の焼成・形成が出来、特にピストンの中空
部の寸法が非常に厳しく要求される自動車用ピストンに
おいては、極めて効果があるものである。
には、特殊な形状の焼成箱を製作することもなく、正し
い形状の中子の焼成・形成が出来、特にピストンの中空
部の寸法が非常に厳しく要求される自動車用ピストンに
おいては、極めて効果があるものである。
本発明は次の特有の効果を生じる。すなわち、セラミッ
ク中子の焼成時に使用する、粒状セラミックは変形及び
摩耗がないために長時間にわたって繰返しの使用が出来
、従来の鋳物砂の場合の数回程度の使用により廃棄する
に比較して極めて有利である。
ク中子の焼成時に使用する、粒状セラミックは変形及び
摩耗がないために長時間にわたって繰返しの使用が出来
、従来の鋳物砂の場合の数回程度の使用により廃棄する
に比較して極めて有利である。
以下、上記技術的手段の一具体例を示す実施例について
説明する。
説明する。
第２図において、３はジルコニヤ及び珪砂をバインダー
にて結合して製作したシェル中子で、４はサヤで鉄など
よりなる焼成箱、５ａ、５ｂ、・・・は直径０．５〜５
關の球状セラミックである。
にて結合して製作したシェル中子で、４はサヤで鉄など
よりなる焼成箱、５ａ、５ｂ、・・・は直径０．５〜５
關の球状セラミックである。
前記球状セラミック５ａ、５ｂ、・・・を焼成箱４の底
部に載置し、その上にシェル中子３を配置する。さらに
量産する場合には、第３図の如く焼成箱の底部に粒状セ
ラミックをならべ、シェル中子を数個〜数十個配列し、
その上に粒状セラミックを載置し、さらにシェル中子を
入れ粒状セラミックとシェル中子を数段重ね、前記焼成
箱を炉内にて焼成し、セラミック中子を形成するもので
ある。
部に載置し、その上にシェル中子３を配置する。さらに
量産する場合には、第３図の如く焼成箱の底部に粒状セ
ラミックをならべ、シェル中子を数個〜数十個配列し、
その上に粒状セラミックを載置し、さらにシェル中子を
入れ粒状セラミックとシェル中子を数段重ね、前記焼成
箱を炉内にて焼成し、セラミック中子を形成するもので
ある。
第１図は従来例で、（イ）はピストンの断面斜視図、（
ロ）はシェル中子の断面図、（ハ）は従来の焼成方法を
示す中央縦断面図、第２図は本実施例の中央縦断面図、
第３図は他の実施例の中央縦断面図である。 ３・・・シェル中子、４・・・焼成箱、５ａ。 ５ｂ・・・粒状セラミック 特許出願人 １イレシ槙櫃林式官社 代表者中井令夫
ロ）はシェル中子の断面図、（ハ）は従来の焼成方法を
示す中央縦断面図、第２図は本実施例の中央縦断面図、
第３図は他の実施例の中央縦断面図である。 ３・・・シェル中子、４・・・焼成箱、５ａ。 ５ｂ・・・粒状セラミック 特許出願人 １イレシ槙櫃林式官社 代表者中井令夫
Claims (1)
- ジルコニア及び珪砂を結合したシェル中子に、無機バイ
ンダーを含浸させた後、高温にて焼成することにより成
形する、中空ピストンの鋳造に使用するセラミック中子
において、前記焼成時に、焼成箱内に直径が０．５〜５
鶴の球状のセラミック粒を充填し、その上に前記シェル
中子を載置して焼成・形成するセラミック中子の焼成方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5565884A JPS60200865A (ja) | 1984-03-22 | 1984-03-22 | セラミツク中子の焼成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5565884A JPS60200865A (ja) | 1984-03-22 | 1984-03-22 | セラミツク中子の焼成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60200865A true JPS60200865A (ja) | 1985-10-11 |
Family
ID=13004936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5565884A Pending JPS60200865A (ja) | 1984-03-22 | 1984-03-22 | セラミツク中子の焼成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60200865A (ja) |
-
1984
- 1984-03-22 JP JP5565884A patent/JPS60200865A/ja active Pending
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