JPS6019618B2 - 消毒及び類似目的のための冷陰極電子ビ−ム照射方法及び装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は消毒及びその他表面、材料及び種々の作業部品
の照射のための電子ビーム発生プロセス及びその装置に
関し、特に比較的小ェネルギ電子（５０一４５０ｋｅｖ
程度）の冷陰極パルス式電子ビームの、高度に信頼性の
ある発生に関する。

表面の消毒及び容器その他の物品、材料又は作業部品の
表面処理の用途に、例えば米国特許第３，７８０．３０
８号に記載されているように、比較的低ェネルギの電子
ビームが好結果をもって使用されて来た。

ばらでの電子消毒技術は米国特許第３，７７９，７９６
号で開示されている。包装材料の消毒のような用途には
「電子カーテン」の商標で市場に出ているような直流ビ
ーム発生器が用いられてきた。このような低ェネルギの
電子ビームの発生は、例えば米国特許第３，７０２．４
１２号、第３，７４５，３９６号及び第３，７６９，６
０び号‘こ記載されている。冷陰極電子発生源の助けに
より、また以前高ェネルギの物理的システムに長く応用
されたマークス型蓄電器火花放電発生器、を含めた他の
型のパルス発生器において使用されたような蓄電器放電
型パルス技術によって、前記のような比較的低ェネルギ
の電子ビームの反復パルス発生技術を使用することには
、前記特許文献で指摘されたような或る種の用途におい
て利益がある。

パルス発生器の最近のものの中には“ＴｈｙｓｉｃｓＴ
ｏｄａｙ”１９７５年４月号（またＥ．Ａｕｌｔ等の“
ｌＥＥＥ Ｊ．Ｑｎａｎｔ「Ｅ１ｅで１碇蓋、Ｐ．６２
４，１９７よ王）に記載されているようなレーザのパル
ス作用がある。併しなから、このような技術を本発明の
問題に応用しようとする考えの中には、短時間でもパル
スの誤動作又は欠除という容易ならぬ重大性があり、そ
れは例えば製造ラインの消毒応用面で起ったとき、全く
消毒ぬきという潜在的に危険な結果になるか、又はビー
ムの貧弱な均一性、指向性等の結果として作業部品を不
適当に消毒することになる。

よってこのパルス技術の他の用途での従来のような使用
に勝る新しいレベルの信頼性が、本発明の目的として要
求された。更に、このような技術を使用する従来のシス
テムはいよいよ研究室及び実駆的用途に向けられ、それ
は生産ライン上の消毒その他の商業上の要求条件のもと
にある動作の永続性や工業的信頼性を要求しないもので
あつた。この種の従来のパルス技術の非信頼性に対する
（本宮的のための）１つの鍵は、火花放電間隙のトリガ
範囲が充分広くないことであることが判った。

従来、固定間隙トリガ発生器は自己破壊電圧より約１５
％低い比較的狭いトリガ範囲で動作し、或いは人手によ
る間隙の調整又は多重トリガ間隙による範囲の変化が要
求される場合は生産ラインでの操作は明らかに不適当で
あった。トリガ範囲の上限近くでは不時の誤放電が出力
電圧の低下を起こし、トリガ範囲の下限近くでは不時の
無放電が起る。本発明によれば他方においてトリガ範囲
の能力が上方に約３０％広がり、これは長い工業的サー
ビス時間にとって必要な動作であることが判った。本発
明の新規なパルス回路特徴の中に、蓄電器の横車ねに沿
って薮他部との浮遊容量を大きくするため、効果的に改
良され調整された導電シールド構造、及び新規なトリガ
位置とトリガ作用を備えた「レール」形の広い面積の火
花間隙がある。

更に本発明には、新規な実質的に直線性の線量−深さ間
の特性曲線、およびパルス発生中起り得る電圧変化に対
する電子ビームィンパルスの影響を驚くほど効果的に少
なくするような、特性曲線上の中間の動作領域を得るた
めの技術の発見があり、このようにして、装置を通過す
る表面や作業部品（本文では時として総称的「製品」と
記載）の実質的均一な照射を助けた。よって本発明の目
的は、前記の制限及び欠点がなく、消毒のような多くの
工業的用途に対して要求される高い信頼性を有し、且つ
効果的に増加したトリガ範囲及び発生したビームの比較
的低い勾配の線量−深さの特性曲線の最も好ましい領域
での動作によって大きく蓮せられた、比較的低い電圧の
強力電子ビームインパルスを発生する新しい改善された
プロセス及び装置を提供することである。

本発明の他の目的は、システムの動作がその中で可能な
電圧変化範囲の大きな増加を許容し、付随的に信頼性が
増加した新しく且つ改善されたパルス発生蓄電器列の構
造を提供することである。

本発明の更に他の目的は以下記載し且つ前述の特許請求
の範囲において特に詳細に叙述してある。併しながら、
要約すれば本発明は強力な電子により物体を照射するた
めのプロセスと装置を意図し、そこでパルス発生の信頼
性が大きく向上されてこのような技術が広範囲の商業的
用途に利用できる程になった。

その重要な点の１つにおいて、本発明は生産ライン上の
消毒及び類似目的のため電子ビームェネルギの反復した
ィンパルス発生の信頼性を確保する方法を具体化したも
のである。それは、繰返して発生する放電パルス、反復
してパルスを加えて電子通過窓手段に向け且つそれを通
して冷陰極から電子ビームィンパルスを引出すこと、電
子ピース照射を行なうべき製品が沿って通過する領域の
１部に隣接して窓陽極を配置したこと、袷陰極窓陽極に
よって現われるインピーダンスをパルス発生段によって
現われるインピーダンスに調整して特性曲線の１′機泉
量領域に近い領域内で比較的低い勾配の実質的に直線状
の電子ビームの線量対浸透深さ特性曲線をつくり、それ
により前記領域に沿って通過する製品の実質的に均一な
照射を確保するためにパルス発生中あり得る電圧変化に
対する電子ビームィンパルスの感度を低下させることを
包含したものである。好ましい詳細を后述する。本発明
を添附図を参照しつつ以下に説明する。

実施した装置及び操作技術を論ずる前に袷陰極の発生ビ
ームのむしろきわどし、動作形態の前記発見、及び実施
例の実質的直線状の線量−深さのプロフィル特性に向か
っての調整について説明するのが順序である。この特性
曲線はそれに沿った非常に有利な中間動作領域を有しこ
れがパルス発生中のあり得る電圧変化に対する感度を４
・さくして実質的に均一なビーム照射を確保する。第１
図を参照して、（製品前表面の百分率として縦座標でプ
ロットした放射線量、及び横座標に燐／地としてプロッ
トした製品又はその他の表面への浸透範囲又は深さを示
す）すぐれた直線性の、比較的ゆるい適度な煩斜の「オ
プチマム」と称する曲線（その下方即ち右端でのみ意味
のある曲率をもつ）は、本発明の新規な冷陰極操作によ
って達し得る線量−深さのプロフィル特性を表わし、こ
れは例えば前記米国特許第３，７８０，３０８号（詳細
はその特許の第１図を参照）で論じているような従来の
技術で到達し得るものとの差違が明らかである。

急勾配の非直線性のダッシュ線の「ロー」曲線や急勾配
の非直線性の鎖線の「ハィ」曲線として示したように、
この最適状態の上方又は下方の調整によってはこの特性
は得られない。第１図のむしろ急峻な非直線性曲線「Ｄ
．ｃ」によって操作を行なう前述の「電子カーテン」型
Ｄ．ｃ．発生機のような機械によってもこれは達するこ
とはできない。中間の線量点（約１／２前後の点）Ｐで
可能な限り低勾配で（第１図の従釆形特性の、殆んど９
００に近い勾配を含む急角度傾斜と異なるような４５０
前後の傾斜程度）操作することによって、このような最
適な直線性深さ−線量特性は、パルス発生中広範囲に及
ぶ電圧変動まで実質的に低い感度で、実質的に一定な電
子ビームィンパルスの発生が可能なことが発見され、こ
のようにこの装置によって通過する製品の実質的均一な
照射が大きく保証された。前に述べたように、このよう
な低い感度は第１図において「ローハ「／・ィ」及び「
ＤＣ」で示したような従来の方法の急峻な勾配の非直線
プロフィルについてはなく、実に曲線勾配は電圧変化に
対する感度割合を表わす。

このような急な（又非直線形の）プロフィルを避けるこ
とにより、前述のように本発明は電圧変化に対する低い
感度が可能になる。中間の１／２の線量のＰ点近くまで
の操作で所要深さの消毒（即ち第１図の２０−２５のｏ
／鮒程度、又は紙壁等での８一１０シルの浸透）ができ
る。即ち、電子ビーム窓から最も遠い照射浸透製品の表
面が１／滋宴量に近く処理される。パルス式冷陰極操作
の使用はそれが適切である場合、熱陰極操作とは異なっ
て、簡単化されたエレクトロニクス、低い絶縁性の要求
、パルス対圧を考えてのサイズの低下、信頼できる操作
に対する真空要求度の減少、及び装置の費用の実質的低
下等を更に結果する。

静電火花間隙のプレフアィャ等の有害作用を避けるよう
に多重パルスのオーバラップを更に使用することにより
、このような装置は本発明の製造ラインでの結果となる
新たな信頼性と均一な性能を提供する。第２図の結合的
システムを参照して、１対直線形冷陰極電子ビーム発生
器２及び２′を、そのそれぞれの電子通過窓１及び１′
がそこで保持するウェブＷ及び（又は）品物を窓１及び
１′から発射する矢列により概略表示したようにゥェブ
Ｗが図の平面に向かって連続的に（例えば前記特許で論
じているように普通の窒素又は他のガス入り室又は領域
を通して）通過する状態で照射されるように、全体的に
対向させて取付けたものを示してある。

後述の１列積重ね形蓄電器火花間隙のマークス型発生器
素子が冷陰極ビーム発生器を駆動するために、上方の与
圧した容器Ｍ内に配置されている。真空状態のビーム発
生器室２及び２′のために真空ポンプＶを備え、冷陰極
ダイオード構造に周期的パルスを与えるパルス供給導体
セクションＦ、及び熱交換器日、ポンプＰ′及び液体貯
蔵器Ｒを含む冷却装置を備えている。次に照射用ビーム
発生器２及び２′の詳細については、装置のこのセクシ
ョンは第３図で第２図よりも大きい寸法で縦断面で示し
てある。

上方の与圧された容器Ｍ内のマーク発生器から駆動パル
スは、内部導体３と外側の接地された器壁間に与えられ
真空室Ｆ内の垂直延長導体３′を介してそれぞれの冷陰
極取付構造を支持する１対の水平導体支持部４及び４′
に供給される。その収付台５は真空室２の中に示してあ
る（真空室２′の中にも同様な構造が設けてあることが
判る）。この取付台５は縦方向の電子通過窓１に面して
縦に延長した電界始動型冷陰極電子銃６（例えば銅、グ
ラフアィト、又は第グラフアィ合成体の縦方向に平行な
箔片の）を支持している。真空室２′内の電子銃陰極が
上方の窓１′の方に面していることは判るであろう。真
空室２及び２′の接地された導体外壁の窓はそれによっ
てできた冷陰極ダイオード電子銃の陽極を構成する。有
益な電界始動型冷陰極電子銃の形態は例えば文献「レー
ザ放電持続器用パルス視冷陰極電子銃」Ｐｈｙｓｉｃｓ
ｌｎｔｅｍａｔｉｍａＩＣｏ，ＤＮＡ ２７７７Ｆ，１
９７２年５月、ＰＩＦＲ−３２６、でローダとテハート
（核防衛庁）（ＨＱ Ｄｅｆｅｎｃｅ Ｎｕｅｌｅａｒ
Ａｇｅｎｃｙ）が述べている。頂部の両側で導体３一
３′を支持している円錐形絶縁ブッシング７は、電子ビ
ーム発生器の真空セクションＦ−２−２′から火花間隙
駆動回路のガス与圧容器Ｍを密封し、そのうえ最も好都
合な高圧ブッシングを提供している。

本発明によれば、電子ビーム発生器２及び２′の窓１及
び１′は全体的に相対向してはいるがそれらは相互に僅
か回転しているので、そこにあるビームはたとえ部分的
には重なっている（即ち１っのビーム幅程度）としても
くし、違い又は段違いになって、相互に対する直接の衝
撃又は他のビーム干渉を避け、且つ消毒用の用途におい
てはその間を通過するゥヱブの一方の面から他の面への
有機体の転移の可能性をなくする。

更に、冷陰極電子銃と駆動回路間で意味をもつインピー
ダンス整合と、結果的電子ビームかち得られる線量−深
さのプロフィル特性とそのパルススベクトラムの双方の
性質との間に、最も重要且つ決定的な関係又はつながり
があることが発見された。

もし冷陰極ダイオード電子銃のインピーダンスが低過ぎ
ると、電子スベクトラムが低ェネルギ電子によって支配
されて線量−深さのフ。。フィルは第１図の「ロー」で
示すように前記「オプチマム」のプロフィルから離れる
のに対し、もし電子銃のインピーダンスが高過ぎると「
低ェネルギ及び高ェネルギ双方の電子が過剰になり線量
−深さのブロフィル曲線が低い１／沫塚量の点を示すが
（第１図「／・ィ」で示すように）、その後大きな浸透
力とェネルギ消費を示す。プラズマ陰極６と陽極壁の適
切な間隔及び陰極箔片の数及び寸法によって所望の「オ
プチマム」のフ。。フィル特性を得るように整合調整を
行ない、そしてパルス反復率の調整で前述の新規な結果
を生む操作に達することができる。次に第４図で簡単な
略図を示した蓄電器火花間隙の駆動回路の細部説明を行
なう。

関連の火花間隙Ｓ，一Ｓ２−Ｓ３等と共にマークス型発
生器を形成する蓄電器列Ｃ，一Ｃ２−ＥＴＣ（等）は、
充電抵抗器で入力の半ば以上を失なう通例のＤＣ充電機
構に反し、整流器回路網３２によって整流された線路電
流で直接動作する高周波ィンバータ３０から充寵される
。高周波ィンバータ３川ま高圧変圧器のＡＣ出力電圧（
１０‐２０ＫＨｚの１耶Ｖ皿ｓ）によって反対樋性の１
対の普通の電圧倍増回路３６を駆動し、双方の極性が比
較的小さい直列蓄電器３８（１０岬Ｆ程度）を通して同
時に充電され、それが絶縁抵抗器Ｒ，を経てもっと大き
い蓄電器Ｃ，，Ｃ２等を充電昇圧させる。ィンバータの
出力変圧器の標遊容量及び漏れリアクタンスはィンバー
タの自己同調作用に使用される。蓄電器バンクは接地点
に対して平衡状態に正万向と負方向双方に同時に充電さ
れるように配列してある。このような平衡充電はＤＣ電
圧に対する絶縁要求条件を１／２に減ずる。ィンバータ
３０の出力（変圧器）はこのように小容量の昇圧蓄電器
３８の負荷おみに接続され、これを介して双方向に電荷
を押流す。併しながら蓄電器３８の各々はダイオードを
通してバンクの蓄電器Ｃ，等に接続されているので蓄電
器バンクは只１方向にだけ充電される。従ってィンバー
夕はパンクに向かってゼ。ボルトで動作する。なぜなら
ィンバータの出力電流は小容量の蓄電器のリアクタンス
で制限されるからである。感知抵抗器４２は蓄電器バン
クの電圧を測定してプリセットした基準値と比較するた
めにトリガ発生器４４に信号を帰還する。

電荷感知信号がプリセットしたレベルに達したとき、ト
リガ発生器４４は共通的に５０ｋｖの範囲の出力パルス
をつくってトリガピン４６に与えるこのトリガピン４６
は本発明によれば第１全間隙又はパルス発生器システム
の第２ステージＳ２内に置かれている。前述の引用例で
記載した発生器において普通であるような第１ステージ
Ｓ，以外でトリガを行なうことによって、システムの有
効トリガ範囲の実質的増加が得られることが発見され、
その利益については既に述べた。第１間隙Ｓ，は大きく
過電圧がかかっているため間隙Ｓ２の後破壊放電し次い
でマークスシステムは軸線を下行放電し、蓄電器Ｃ２等
を介して間隙Ｓ３に過電圧がかかり同様にして遂に最後
の駆動パルスが、冷陰極電子銃ダイオードを略式に示し
た負荷ＲＬＯＡＤに与えられる。実施例の構造が第５図
に、またその横断面が第６図に示してあり、バンクの蓄
電器Ｃ，，Ｃ２等は垂直の柱２０‘こよってその交互に
反対の又は互い違いの側面に（ステージ間結合を減ずる
ように）支持され、放電間隙Ｓ，，Ｓ２，Ｓ３等は垂直
な柱の間で充電抵抗器Ｒ２等の柱により側面に配置され
ている。

トリガピン４６は既に述べたように第２間隙Ｓ２と関連
している。更に、この組立構造は下方外方に末広がり円
錐形導体又はシールドＳ（実際は８角形断面、第６図）
によって囲まれ、それはシールド配置が密であればある
程絶縁破壊問題ないこ設けられ、且つパルス発生中にで
きる磁界が占める容積が材料的に減少し、このようにし
てィンダクダンスを相当に減じ且つ接地部に対する望ま
しい容量増加が得られることが判った。このような形状
は既に論じたようにトリガ範囲の増加を助けることが明
らかになった。この型の実地の装置においては、２２球
Ｖのピーク電圧及び２０００Ａのピーク電流の毎秒２０
パルスの反復割合で発生する７５ｎｓのパルス（最大振
幅の半分での全幅）によって生産ラインでの極めて好結
果の消毒を行なうことができた。

窓１及び１′の電子ビーム幅は約４．０肌であった。ウ
ェブＷのライン速度と反復パルスの同期及び線量−深さ
の調整は、５メカラドの線量に対しウェブＷのライン速
度を約３．０５メートル／分（１０フィート／分）に調
整し、且つ円筒状電子銃発生量（ビーム発生器）２及び
２′の窓１及び１′を相互の対向面から約１５０の片よ
りで傾けるようにして行なった。このような状態のもと
で、第１図の「オープチマム」で示したものに近い線量
−深さの直線的プロフィルが得られ、且つそれは少なく
とも約１０パルスのオーバラツプを行なったことにより
、システムの信頼性が非常に高かったとはいえ、無消毒
を結果する火花間隙の誤放電又はパルス欠除がまれに起
ることさえも避けた。１例として、耐放射線性胞子のＢ
−ｐｍｍｊ船が効果的に殺された（ＤＩＯの値が２５０
キロラド、即ち２０クｏｇの処理）。

２００土５０ｋ〉の電圧パルス範囲で、８０±２仇ｓ程
度のパルス幅（前記と同じ測定による）をもち、且つ毎
秒２０土１０の反復周波数のパルスが本発明の或る消毒
目的に対して最も有益であることが発見された。

もっと高いライン速度で（毎秒約２５肌のゥヱブ速度）
送られる製品を含むユニットは毎秒１００パルス程度の
反復周波数で操作できる。既に述べたように５０ないし
４５０ｋｅＶ程度の低ェネルギ電子は本発明の目的に対
して有益であり１００なし、し５００ｋＶ程度の放電パ
ルスによって発生し、且つ最大値の半分で５０ないし１
５仇Ｓのパルス幅と、毎秒２０なし、し１００パルス程
度の反復周波数を有する。以上本発明を冷陰極ビームに
よる消毒への重要な用途に関して記載したが、本発明の
特性は同様な利益を望む他の用途に使用してもよく、且
つ回路及び構造の細部の新規な点も所望の場所に使用可
能であり、更に当業者間で起る変形は本発明の精神及び
特許請求の範囲に包含されるものとみなされる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によって得た線量−深さのプロフィル特
性と従来の特性とを比較したグラフである、第２図は本
発明の基本となるプロセスを使用した実施例による装置
構造の側面図である、第３図は第２図の下方右側部分を
拡大して、且つ部分的に縦断面として、冷陰極電子ビー
ム発生器の細部を示す図である、第４図は第３図のビー
ム発生器を駆動するための好ましいマークス型パルス発
生器の回路の概略図である、第５図は第２図のマークス
型パルス発生器の上部及び第４図の回路形式の蓄電器火
花間隙の拡大縦断面である、第６図は第５図の線６−６
に沿って矢印方向に見た横断面である。 １，１′・・・・・・窓陽極、６・・・・・・冷陰極、
Ｗ・・・・・・製品、第４図右半分・・・・・・パルス
発生段階、第１図のＰ・・・・・・特性曲線の１／２頚
城。 ｆｉＧ．１ ＦｉＧ．Ｚ ｒＩＧ．３ ‘・１０．４ ｒｉＧ．Ｓ ＦＩＧ．６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 放電パルスを反復して発生すること；電子が通過す
   る窓陽極に向け且つそれを通して冷陰極から電子ビーム
   インパルスを引出すように反復して前記パルスを与える
   こと；電子ビームで照射すべき製品がそれに沿つて通過
   する領域の１部に隣接して窓陽極を配置すること；冷陰
   極−窓陽極によつて表われるインピーダンスをパルス発
   生段によつて表わされるインピーダンスに調整して特性
   曲線の１／２線量領域に近い領域での比較的低い勾配の
   実質的に直線状の電子ビーム線量対浸透深さの特性曲線
   をつくり、それにより前記領域に沿つて通過する製品の
   実質的に均一な照射を確保するために、あり得る電圧変
   化に対する電子ビームインパルスの感度をパルス発生段
   階で減少させること；とからなる生産ラインでの消毒及
   び類似目的のための冷陰極電子ビーム照射方法。 ２ 縦方向に延長した冷陰極から周期的直線性ビームと
   して電子ビームインパルスが引出される、特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 ３ 前記電気放電パルスは実質的に同時に与えられ、第
   １に掲げた窓陽極に隣接して配置した第２電子通過窓陽
   極に向けてそれを通して、第１に掲げた窓陽極と第２窓
   陽極に現われるビーム間の干渉を防ぐために第１に掲げ
   た部分に隣接した前記領域の異なる部分の方に向けて第
   ２冷陰極から第２セツトの電子ビームインパルスを引出
   す、特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４ 第１に掲げた窓陽極と第２窓陽極を通してそれぞれ
   電子ビームを照射する前記領域の部分と部分が部分的に
   オーバラツプした、特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５ 照射すべき製品が前記領域を通過する速度に対して
   前記反復周波数を調整して、放電パルスの相次ぐ発生中
   の静電的誤動作の影響を防ぐように充分な数のオーバラ
   ツプした電子ビームインパルスを得るようにした、特許
   請求の範囲第４項記載の方法。６ 少なくとも約１０の
   オーバラツプした電子ビームインパルスが得られる特許
   請求の範囲第５項記載の方法。 ７ 前記放電パルスの発生がマークス型多数放電間隙列
   によつて行なわれ、前記列のトリガ作用が列の第２間隙
   によつて起こる、特許請求の範囲第１項記載の方法。８
   放電間隙列に沿つて、列を囲んで順次増大する導電表
   面によつてシールドを施した特許請求の範囲第７項記載
   の方法。 ９ 発生した放電パルスが１００ないし５００ｋｖの、
   最大値の１／２で５０ないし１５０ｎｓのパルス幅の、
   毎秒２０ないし１００パルス程度の反復周波数のもので
   ある、特許請求の範囲第１項記載の方法。 １０ 放電式反復パルス発生装置と、 冷陰極、及び、窓陽極に向け且つそれを通して冷陰極
   から電子ビームインパルスを反復して引出すようパルス
   発生装置に接続した電子通過式窓陽極を含む電子銃と、
   電子ビームで照射すべき製品が沿つて通過する領域の
   部分に隣接して窓陽極を配置するための装置と、及び
   前記パルス発生装置及び電子銃の相対的インピーダンス
   を調整して電子ビーム線量浸透深さの実質的直線形特性
   曲線をつくる装置との組合せからなる、消毒及び類似目
   的のための冷陰極電子ビーム照射装置。 １１ 製品の表面処理が前記窓陽極から最も離れて起つ
   て前記特性曲線の１／２線量の領域付近にあるように、
   パルス発生装置のパルス反復周波数を記製品に対して調
   整する反復周波数調整装置を備えた、特許請求の範囲第
   １０項記載の装置。 １２ 前記パルス発生装置に結合されてその窓陽極を通
   して第２セツトの電子ビームインパルスを実質的同時に
   現わす第１のそれと同様な第２電子銃を備え、第１に掲
   げた窓陽極に隣接して、但し第１に掲げた窓陽極と第２
   窓陽極に現われるビーム間の干渉を防ぐために第１に掲
   げた部分に近い前記領域の異なる部分の方に向けた第２
   電子銃の窓陽極を配置する装置を備えた、特許請求の範
   囲第１１項記載の装置。 １３ 第１に掲げた窓陽極と第２窓陽極を通して反復し
   て電子ビームを照射する前記領域の部分と部分が部分的
   にオーバラツプした、特許請求の範囲第１２項記載の装
   置。 １４ 照射すべき製品の前記領域通過速度に関連して反
   復周波数を発生するように前記反復周波数調整装置をセ
   ツトして、相次ぐ放電パルスの発生中の静電的誤動作の
   影響を防ぐように充分な数のオーバラツプ電子ビームイ
   ンパルスを備えた、特許請求の範囲第１０項記載の装置
   。 １５ 前記反復周波数が少なくとも約１０のオーバラツ
   プ電子ビームインパルスに対してセツトされた、特許請
   求の範囲第１４項記載の装置。 １６ 前記放電反復パルス発生装置が、対応する蓄電器
   の交互配列した同一広がりの列と結合した放電間隙の重
   なつた列を有するマークス型発生装置を含み、それの最
   後放電が前記電子銃の冷陰極と窓陽極の間に与えられた
   、特許請求の範囲第１０項記載の装置。 １７ 線路電流で動作しまた蓄電器と接続され、線路電
   流に接続した整流装置、ＡＣの高電圧出力をつくり出す
   ために整流装置に接続した高周波インバータ、及び前記
   出力を受けるように接続した電圧倍増回路を包含した充
   電回路を備えた、特許請求の範囲第１６項記載の装置。 １８ 前記電圧倍増回路が注入蓄電器とバンク電蓄器を
   含み、前者の蓄電器はバンク蓄電器の容量に比し小さい
   容量のものであり、また後者の蓄電器は前記蓄電器列の
   蓄電器として働く、特許請求の範囲第１７項記載の装置
   。１９ 前記パルス発生装置が更に反復トリガパルスを
   発生する装置を含み、且つ第２の放電間隙と関連しまた
   トリガパルス発生装置に接続されたトリガ電極を備えた
   、特許請求の範囲第１６項記載の装置。 ２０ 放電間隙及び蓄電器の前記列を取巻き且つ前記列
   に沿つて連続増加するテーパつき導電シールド装置を備
   えた、特許請求の範囲第１６項記載の装置。 ２１ 放電間隙及び対応した蓄電器の列が与圧されたハ
   ウジング内に配置され、また前記電子銃が排気された、
   特許請求の範囲第１６項記載の装置。 ２２ 前記冷陰極が実質的に直線状の細長い陰極片を含
   む、特許請求の範囲第１６項記載の装置。 ２３ 前記放電間隙列が実質的に平行な離間して重なつ
   た軸方向の１対のレールを含む、特許請求の範囲第１６
   項記載の装置。 ２４ 与圧したハウジングと排気した電子銃の間の密封
   用として高圧絶縁ブツシングを備え、このブツシングも
   パルス発生装置と前記電子銃の冷陰極間の電気結合を支
   持した、特許請求の範囲第２１項記載の装置。 ２５ 対応した蓄電器の互い違いの同一広がりの列と結
   合した放電間隙の重なつた列を有し且つ与圧した容器内
   に配置された電気的にトリガされる反復パルス発生装置
   と、電子通過用窓を備えた排気した電気銃と、パルス発
   生装置を電子銃に電気接続してそこからパルス発生装置
   によつて発生したパルスに応じて窓に現われる電子ビー
   ムを引出す装置と、及び 前記与圧された容器を前記排
   気された電子銃から隔て且つ前記電気接続を支持する高
   圧絶縁装置、との組合せからなる、消毒及び類似目的の
   ための冷陰極電子ビーム照射装置。 ２６ 対応する蓄電器の互い違いの同一広がりの列と結
   合した放電間隙の重なつた列を有するマークス型発生装
   置及び前記第１放電間隙以外を初めにトリガしてパルス
   の発生を起こす装置を含む放電反復パルス発生装置と、
   軸方向に延長する電子通過窓を備えた縦方向に延長した
   電子銃と、 パルス発生装置を電子銃に電気接続してそ
   こからパルス発生装置によつて発生したパルスに応じて
   窓に現われる縦方向のストリツプ状電子ビームを引出す
   ための装置とを組合せてなる、消毒及び類似目的のため
   の冷陰極電子ビーム照射装置。 ２７ 放電間隙と蓄電器の前記列を取巻き且つ前記列に
   沿つて連続的に増大するテーパを施した導電シールドを
   備えた、特許請求の範囲第２６項記載の装置。 ２８ 放電間隙及び対応蓄電器列が与圧されたハウジン
   グ内に配置され、且つ前記電子銃が排気された、特許請
   求の範囲第２６項記載の装置。 ２９ 線路電流に接続された整流装置、ＡＣの高電圧出
   力をつくるため整流装置に接続された高周波インバータ
   、及び前記出力を受けるように接続された倍電圧回路を
   包含し、線路電流で動作し且つ蓄電器と接続された充電
   回路を備えた、特許請求の範囲第２６項記載の装置。 ３０ 前記倍電圧回路が注入蓄電器とバンク蓄電器を含
   み、前者の蓄電器がバンク蓄電器の容量に比べて小さい
   容量のものであり、且つ後者の蓄電器が前記蓄電器列の
   蓄電器として働く、特許請求の範囲第２６項記載の装置
   。 ３１ 前記パルス発生装置が更に反復トリガパルスを発
   生する装置を含み、また第２放電間隙と関連と且つトリ
   ガ用パルス発生装置に接続されたトリガ電極を備えた、
   特許請求の範囲第２６項記載の装置。 ３２ 前記放電間隙列が実質的に平行な離間して重なつ
   た軸方向の１対のレールを含む、特許請求の範囲第２６
   項記載の装置。 ３３ 前記電子銃が、それぞれのその窓を前記窓によつ
   て引かれて照射すべき製品の異なる部分に向けて配置さ
   れた１対の電子銃を含む、特許請求の範囲第２６項記載
   の装置。 ３４ 前記１対の電子銃が、それぞれのその窓に現われ
   るビームが部分的にオーバラツプするように調整された
   、特許請求の範囲第３３項記載の装置。 ３５ 前記ビームが全体的に前記照射すべき製品の両面
   に向けられた、特許請求の範囲第３３項記載の装置。