JPS60191030A - 陶磁‐金属的な歯の再構成における金属のコーピングを不透明化するための基底陶磁層 - Google Patents

陶磁‐金属的な歯の再構成における金属のコーピングを不透明化するための基底陶磁層

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JPS60191030A
JPS60191030A JP60027535A JP2753585A JPS60191030A JP S60191030 A JPS60191030 A JP S60191030A JP 60027535 A JP60027535 A JP 60027535A JP 2753585 A JP2753585 A JP 2753585A JP S60191030 A JPS60191030 A JP S60191030A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、陶磁−金属的な(CeirallIO−18
ta l I ic )歯の再構成(dental r
econstrucNon)の技術分野に関する。本発
明は特に、クラウン、インレー、ブリッジなどのような
種々の歯の再構成に用いられる陶磁ガラスの組成に関す
る。
[従来の技術] この型の歯の再構成は、通常、たとえば、ドリルで加工
したのち減らされた歯の根に埋められた金属のコーピン
グ(coping)をおおう一連の陶磁層によって製造
される。この一連の陶磁層は、゛基底部の不透明化層、
「ぞうげ質」および[インク1アル(incisal)
 Jの名で知られる2つの中間層、および自然の歯のエ
ナメル質の微光に似せるようにつくられた透明な表層よ
りなる。
本発明の主題は、特に以上の歯の再構成における金属の
コーピングを不透明化するための基底部の陶磁層に関す
るものである。
[発明が解決しようとしている問題点]その名称が示す
ように、この層は主として支持体コーピングの金属的な
外観をおおい隠すためのものである。それゆえ、この層
に不透明化するすぐれた性質を付与することは欠くこと
ができない。しかしながら、このことだけでは充分では
ない。実際、プロテーゼのすぐれた機械的強度、13よ
び破損に対するすぐれた耐性をうるために、不透明な陶
磁層を金属のコーピングに完全に結合させることが重要
である。今までに提案されている種々の解決法は、必ず
しも実際的に充分な付着力を有していない。
[問題点を解決するための手段] 本発明の目的は、正確には改善された付着的な性質に加
えてきわだった不透明化能を有した不透明な陶磁層を開
発することにある。そのうえ本発明によるこの層は、焼
き固められたのちに荒い表面の性質を有していて光の散
乱がよくなり、このことによって、プロテーゼが不快な
反射をして自然な歯の外観を真に復元しなくなるのを防
ぐことができる。
その上、よりすぐれ1=不透明化能の結果として、本発
明による歯の陶磁層は、より薄い層として応用すること
が可能となり、そのことによってつづく層を加えるばあ
いの空間がより広くなり、それゆえプロテーゼによって
形作るのがより容易になるということは注意すべきであ
る。
さらに、本発明による不透明な陶磁組成物は、膨張して
その隣接する層、とりわけ隣接する金属支持体と融和で
るようにつくられている。この融和性は、より薄い層と
して付着することを可能にするより強い不透明度よって
さらに相当な程度促進される。
一方では付着力、他方ではこの型の陶磁層の不透明とい
う2つの性質を調和させることを可能にした本発明は、
従来技術において通常用いられている単一の不透明層を
2つの別個の層に分離するという考えから生まれた。[
オバックスリップ(opaque 5lip) Jと呼
ばれ補強剤と直接接触している第1の層は、金属に対す
る付着力がよくなるようにつくられ、「オバック(op
aque)Jと呼ばれるもう1方の層は、不透明度が充
分になるようにつくられる。
本発明に従って、陶磁−金属的な歯の再構成における金
属のコーピングを不透明化するための基底部の陶磁層は
、不透明化能を有する金属酸化物に富み約40ミクロン
から約100ミクロンのあいだの粒子径を有する約30
重量%の溶解しにくい(refractory)粒子を
含有するガラスフリット(glass frit)から
えられたオパツク層におおわれた、融剤、特にB2O3
に富むガラフッリットからえられたオバックスリップ層
からなる。
本発明の他の特徴および利点は、以下の本文中の説明に
おいて実施例を用いてさらに詳しく説明するが、それら
に限られるものでない。
金属のコーピングと接触したオバックスリップ層を形成
し融剤に富んだガラスフリットは、約8〜約14重量%
、好ましくは約9〜約11重量%の8208を含んでい
るのが有利である。このオバックスリップ層の金属に対
する付着能を高めることができるのは、まさにこの酸化
ホウ素の高含量によるのである。しかしながら、約14
重量%を越えるB201含量は、あまりにも容易に溶融
してしまうので実際に用いることのできないガラスフリ
ットとなることに注意すべきである。実際、オバックス
リップ層の溶融温度は、あまり低すぎてはならない。と
いうのは、その溶融温度はいかなるばあいでも、オバッ
クスリップ層の上にかぶせられてつづいて熱安定化され
る( heat−stabi I 1zed)つづく上
層の溶融温度より高くなくてはならないからである。
オパック層そのものに関する限りは、これはもちろん酸
化スズ、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムのような不
透明化剤を高l!!11[で含んでいる。しかしながら
、この層の不透明化能は、比較的大きな溶解しにくい粒
子、すなわち約40〜約100ミクロンの粒子径を有す
る粒子が高割合(30重量%のオーダー)で存在するこ
とによりかなり増大する。これらの比較的大きな溶解し
にくい粒子の存在によって、焼き固めたのちにオバック
層の表向が荒くなり、そのことによってより半透明な上
層を通しての光の散乱効果かえられ、それゆえ歯の[奥
行き(deDth)Jの効果が高められる。
[作用および実施例] つぎにオバックスリップ層およびオバツク層のそれぞれ
を製造するために用いられるガラスフリットの組成を実
施例として述べるが、本発明はそれらに限られるもので
ない。
実施例 (1)オバックスリップ層のためのガラスフリットの組
成 融剤に富んだこの型のガラスフリットにおいて、たとえ
ばつぎのような組成を有するものが実際問題として満足
のいく結果がえられた。
5LO246〜48 重量% NIt0310〜12 重量% C301〜1.5 重量% rJkJoo、5〜1.5 重量% に、010〜11 重量% 賜206〜9 重量% 8201 9〜11 重量% Zr0.1.5〜2 重量% Sn0.6〜8 重量% Tie、 0.5〜1 重量% このようなガラスフリットは、約12ミクロンの平均粒
子径を有することが好ましい。
(2)オパック層のためのガラスフリットの組成不透明
化能を有する金属酸化物に富んだこの型のガラスフリッ
トにおいて、たとえばつぎのような組成を有するものが
実際問題として満足のいく結果かえられた。
SLOン 42〜46 重量% MpO314〜18 重量% CaOO,8〜1.7 重量% i0 0.5〜1,5 重量% に、0 11〜13 重量% Nm203〜6 重量% 820g 5〜8 重量% 7rOン 3〜5 重量% Sn0. 11〜14 重量% Tie、 0.5〜3 重量% 不透明化能を有する金属酸化物に富んだ以上のガラスフ
リットは、実施例(1)のガラスフリットよりわずかに
大きい平均粒子径、たとえば約36ミクロンの粒子径を
有するのが有利であり、一方、約40〜約100ミクロ
ンの粒子径の粒子、好ましくは溶解しにくい粒子の30
重量%のオーダーのフラクションも有している。これら
の溶解しにくい粒子のフラクションは、不透明化能を有
する金属酸化物を通常25重量%以上の割合で含んでお
り、このことはすなわち、これらの粒子は残りの組成物
に比べてより高含量の不透明化剤を有しているというこ
とである。
本発明による陶磁層を製造するために用いられるガラス
フリットは、前もって決められた必要とされる成分の粉
末混合物から従来の方法によりつくられる。そのような
粉末混合物は、たとえば1500℃のオーダーの温度に
d3いて1時間加熱し、その結果溶融して均質化され、
つづいてたとえば冷やすことによってフリットを生成し
、これを粉砕または造粒する。
この粉砕の操作は、本発明に従って必要とされる粒子径
をうるために制御された仕方で行なわれる。
本発明はまた、「オバックスリップ」または「オパック
」と呼ばれる陶磁層を製造するためのガラスフリットに
関し、これらはつぎのような組成によって特色づけられ
る。
10〜30重量%の活性生成物 60〜80重M%のプロペラントガス 10〜30重量%の約40〜約80℃の蒸発温度を有す
る溶媒 4〜6重量%のにかわ プロペラントガスは、たとえば1つまたはそれ以上の塩
素フッ素化された炭化水素(フレオン@)からなる。に
かわと溶媒の混合物は、たとえば酢酸エチルに溶解した
局方コロジオンからなる。溶媒はまた、たとえばCH2
C12のような塩素化された炭化水素からなっていても
有利であり、にかわはまた、アクリルにかわ(acry
lic olue)、好ましくはシアノアクリルにかわ
(cyanoacrylic olue)からなってい
てもよい。
それゆえこの型の組成物は、アエロゾルタイプのディス
ペンサーボトル(dispenser bottle)
につめ込むのに適している。
それゆえこのガラスフリット組成物は、そのまま直接用
いるように提供することができる。
金属のコーピング上へのアエロゾルの助$ノを借りた簡
単なスプレーによって、オバックスリップまたはオパッ
クの薄層を形成することができる。
これらの層は、つぎに従来の方法により、たとえば80
0〜850℃のオーダーの温度において7〜8分間熱処
理して焼き固めることによって固定される。本発明の主
題である陶磁の特別の組成の結果として、これらの陶磁
層を固定するために焼き固める温度を実質的にかなり低
くすることが可能になったこともまた注意すべきである
。実際、従来技術においては、そのような焼き固める温
度は約950℃よりも低くなることはなかった。その上
、オバックスリップ層およびオバック層よりなる基底層
の組み合わせは、平均約80ミクロンの厚さを有する廟
をうるように用いることができる。ブラシの使用を含む
従来の技術においては、厳密に言えば約120ミクロン
以下の厚さをうろことは不可能であった。
オバックスリップ層およびオパック層を固定するための
熱処理は一般に、焼き固めを2回ひき続いて行なう必要
がある。しかしながら、オバックスリップ層およびオパ
ック層を製造するために用いられるガラスノリットが、
たとえばシアノアクリルにかわを含むアエロゾル組成物
で付着されるばあいは、オパツク層およびひき続く層の
絹み合わせを同じ焼ぎ固めのあいだに固定することがで
きる。スプレー後ただちに、プロペラントガスおよび溶
媒はすみやかに消滅し、にわかは層が補強材に固着する
だめの固着剤どして働く。ぞうげ質、インシザルおよび
透明な表面組成物の一連の層が付着されるばあいにスプ
レーされる溶媒または可塑剤は、この型のにかわを溶解
しないようなものが選ばれる。
その結果、基底層はつづく層の付着によって影響されず
、それゆえすべての陶磁層を1回の焼き固めのあいだに
固定することが可能となり、これはかなりの時間の節約
になる。基底層を焼き固める1ζめの最低温度は他の層
のそれに近くなることも注意すべきであり、実際、すべ
ての陶磁−金属プロア−じを1回の焼き固めで行なうこ
とを心に描いてみることも可能どなる。
もちろん、本発明は上述した具体例に限定されるもので
は決してなく、本発明の趣旨からPjlれることがない
範囲で種々の具体例を行なうことが可能である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 不透明化能を有する金属酸化物に富み約40ミクロ
    ンから約100ミクロンのあいだの粒子径を有する約3
    0重量%の溶解しにくい粒子を含有するガラスフリット
    からえられたオバツク層におおわれた、融剤とくにB2
    O3に富むガラスフリットからえられたオバックスリッ
    プ層からなる、陶磁−金属的な歯の再構成における金属
    のコーピングを不透明化するための基底向li層。 2 融剤に富むガラスフリットが約8〜約14重量%、
    好ましくは約9〜約11重量%のB201を含有する特
    許請求の範囲第1項記載の基底陶磁層。 3 融剤に富むガラスフリットが約12ミクロンの平均
    粒子径を有する特許請求の範囲第1項または第2項記載
    の基底陶磁層。 4 不透明化能を有する金属酸化物に冨んだガラスフリ
    ットが約36ミクロンの平均粒子径を有する特許請求の
    範囲第1項、第2項または第3項記載の基底陶磁層。 5 融剤に富むガラスフリットの組成が5it)、 4
    6〜48 重量% MvO310〜12 重量% C自01〜1.5 重量% 〜00.5〜1.5 重量% に、0 10〜11 重量% 隔to 6〜9 重量% B2O59〜11 重量% ZrO□ 1.5〜2 重量% Sn0,6〜8 重量% TIo、 0.5〜1 重量% である特許請求の範囲第1項、第2項、第3項または第
    4項記載の基底陶磁層。 6 不透明化能を有する金属酸化物に富んだガラスフリ
    ットの組成が 5L02 42〜46 重量% M20a 14〜18 重量% CaOO,8〜1.7 重量% xo o、s〜1.5 重量% に!0 11〜13 重量% −203〜6 重量% B20g 5〜8 重量% 1r023〜5 重量% 5n02 1i〜14 重量% tio! 0.5〜3 重量% である特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4項
    または第5項記載の基底陶磁層。 7 アエロゾルタイプのディスペンサーボトルにつめ込
    むのに適した組成の形で与えられ、10〜30重量%の
    活性生成物 60〜80重量%のプロペラントガス 10〜30重量%の約40〜約80℃の蒸発温度を有す
    る溶媒 4〜6重量%のにかわ を特徴する特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第
    4項、第5項または第6項記載の基底向!i層を製造す
    るために用いられるガラスフリット。 8 10〜30重量%の活性生成物 60〜80重間%の1つまたはそれ以上の塩素臭素化さ
    れた炭化水素 からなるプロペラントガス 10〜30重類%のCHz(42 4〜6重間%のシアンアクリルにかわ を含む組成の形で与えられた特許請求の範囲第7項記載
    のガラスフリット。
JP60027535A 1984-02-15 1985-02-14 陶磁‐金属的な歯の再構成における金属のコーピングを不透明化するための基底陶磁層 Pending JPS60191030A (ja)

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JP (1) JPS60191030A (ja)
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DE (1) DE3571389D1 (ja)
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EP0152337A2 (fr) 1985-08-21
EP0152337B1 (fr) 1989-07-12
ES540355A0 (es) 1985-12-01
DK69585D0 (da) 1985-02-14
ES8601679A1 (es) 1985-12-01
EP0152337A3 (en) 1985-09-25
FR2559384A1 (fr) 1985-08-16
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