JPS60184695A - 合金電気メツキ用回転陽極 - Google Patents
合金電気メツキ用回転陽極Info
- Publication number
- JPS60184695A JPS60184695A JP3726484A JP3726484A JPS60184695A JP S60184695 A JPS60184695 A JP S60184695A JP 3726484 A JP3726484 A JP 3726484A JP 3726484 A JP3726484 A JP 3726484A JP S60184695 A JPS60184695 A JP S60184695A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anode rod
- plating
- plating solution
- jacket
- sludge
- Prior art date
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- Pending
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、合金電気メツキ用回転陽極に関するもので
ある。
ある。
近年、連続的に移動する鋼ストリップに高品質のメッキ
被膜を施す目的でクロム・鉄等からなる合金被膜を電気
メツ１キすることが実用化されている。
被膜を施す目的でクロム・鉄等からなる合金被膜を電気
メツ１キすることが実用化されている。
しかし、従来の合金電気メツキ装置によって鋼ストリッ
プに電気メッキを施す場合、次のような問題があった。
プに電気メッキを施す場合、次のような問題があった。
■ メッキ中に鋼ストリップ而に発生した水素ガスが、
電極間に滞留し易く、この水素ガスを排除しないとメッ
キ被膜の品質が低下する。
電極間に滞留し易く、この水素ガスを排除しないとメッ
キ被膜の品質が低下する。
■ メッキ中に発生したスラッジをメッキ液内から除去
しないとメッキ被膜の品質が低下する。
しないとメッキ被膜の品質が低下する。
そこで、上記■の問題点を解決するだめに、メッキ液に
所定の流速を付与して鋼ストリップに付着した水素ガス
を鋼ストリップから離脱させたり、一方、上記■の問題
点を解決するだめに、スラッジを沈殿し易くしてスラッ
ジを除去する等の手段が構しられているが、何れも完全
なものではなく、上記問題点を完全に解決することがで
きるメッキ装置の開発が望まれていた。しかし、このよ
うなメッキ装置は未だ開発されていない。
所定の流速を付与して鋼ストリップに付着した水素ガス
を鋼ストリップから離脱させたり、一方、上記■の問題
点を解決するだめに、スラッジを沈殿し易くしてスラッ
ジを除去する等の手段が構しられているが、何れも完全
なものではなく、上記問題点を完全に解決することがで
きるメッキ装置の開発が望まれていた。しかし、このよ
うなメッキ装置は未だ開発されていない。
この発明は、上述のような観点から、メッキ中に発生す
る水素ガスを速かに被メッキ板から排除することができ
、且つ、メッキ中に発生したスラッジのメッキ液中への
混入を防出することができる合金電気メッキ用回伝陽極
を礎供するものであって、 断面円形の不溶性陽極棒と、前記陽極棒の外側に、前記
陽極棒との間に、メッキ液が通運する空間が形成される
ように前記陽極棒と所定間隔をあけて同心円状に設けら
れた、前記陽極棒を覆うための外筒と、前記陽極棒と前
記外筒とを一体的に回転させるための手段とがらなり、
前記外筒の外面リラ１１方向にはメッキ液を１・４拌す
るブζめの突条が設けられ、前記突条は前記外筒の円周
方向に所定間隔をあけて複数本設けられ、前記複数本の
突条の各々の間にはメッキ液のみを通過させるための隔
膜が設けられ、′前記隔膜は前記外面軸方向に所定間隔
をあけて複数個設けられていることに特徴を有する。
る水素ガスを速かに被メッキ板から排除することができ
、且つ、メッキ中に発生したスラッジのメッキ液中への
混入を防出することができる合金電気メッキ用回伝陽極
を礎供するものであって、 断面円形の不溶性陽極棒と、前記陽極棒の外側に、前記
陽極棒との間に、メッキ液が通運する空間が形成される
ように前記陽極棒と所定間隔をあけて同心円状に設けら
れた、前記陽極棒を覆うための外筒と、前記陽極棒と前
記外筒とを一体的に回転させるための手段とがらなり、
前記外筒の外面リラ１１方向にはメッキ液を１・４拌す
るブζめの突条が設けられ、前記突条は前記外筒の円周
方向に所定間隔をあけて複数本設けられ、前記複数本の
突条の各々の間にはメッキ液のみを通過させるための隔
膜が設けられ、′前記隔膜は前記外面軸方向に所定間隔
をあけて複数個設けられていることに特徴を有する。
この発明の一実施態様を図面を参照しながら説明する。
第１図は、この発明の一実施態様の部分切欠正面図、第
２図は、第１図のＡ −’Ａ線断面図である。
２図は、第１図のＡ −’Ａ線断面図である。
第１図および第２図に示されるように、断面円形の不溶
性陽極棒１は、後述する内側中空回転軸を中心として回
転する。′内側中空回転軸２は導電性材質でなり、陽極
棒１の両端面中央部にそれぞれ水平に固定されている。
性陽極棒１は、後述する内側中空回転軸を中心として回
転する。′内側中空回転軸２は導電性材質でなり、陽極
棒１の両端面中央部にそれぞれ水平に固定されている。
内側中空回転軸２の各々の陽極棒１側端部には、メッキ
液が通過する孔３が複数個設けられている。外筒４は陽
極棒１の外側に、陽極棒１との間にメッキ液が通過する
空間１０が形成されるように、陽極棒１と所定間隔をあ
けて同心円状に設けられ、後述する外側中空回転軸を中
心として陽極棒１と一体的に回転する。
液が通過する孔３が複数個設けられている。外筒４は陽
極棒１の外側に、陽極棒１との間にメッキ液が通過する
空間１０が形成されるように、陽極棒１と所定間隔をあ
けて同心円状に設けられ、後述する外側中空回転軸を中
心として陽極棒１と一体的に回転する。
外側中空回転軸５は外筒４の両端面中央部にそれぞれ水
平に固定されている。外側中空回転軸４の各々はメッキ
槽６の側壁６ａに回転自在に取り付けられている。内側
中空回転１１ｑｌ＋ ２は外側中空回転軸５の内部にこ
れと同心円状に同定されている。スリップリング７ｄ°
メツキ槽６の側壁６ａから突出した外側中空回転１ｉｌ
ｌｌｌ／４の各々の一部に固定され、内側中空回転−、
、Ｊ４ｑｌｌ ２と電気的に接続されている。ローター
シール８ａ、８ｂの各々は外側中空回転軸５の各々の先
端に取り付けられ、入側ローターシール８ａ にメッキ
液供給管９ａが接続され、出側ローターシール８．ｂ
Ｖｃメッキ液排出管９ｂが接続されている。
平に固定されている。外側中空回転軸４の各々はメッキ
槽６の側壁６ａに回転自在に取り付けられている。内側
中空回転１１ｑｌ＋ ２は外側中空回転軸５の内部にこ
れと同心円状に同定されている。スリップリング７ｄ°
メツキ槽６の側壁６ａから突出した外側中空回転１ｉｌ
ｌｌｌ／４の各々の一部に固定され、内側中空回転−、
、Ｊ４ｑｌｌ ２と電気的に接続されている。ローター
シール８ａ、８ｂの各々は外側中空回転軸５の各々の先
端に取り付けられ、入側ローターシール８ａ にメッキ
液供給管９ａが接続され、出側ローターシール８．ｂ
Ｖｃメッキ液排出管９ｂが接続されている。
外ｌｌ］ｌｌ中空回転軸５は駆動手段（図示せず）によ
って回転する。
って回転する。
外筒４の外面軸方向にはメッキ液を撹拌するための突条
］１が設けられている。突条１１は外筒４の円周方向に
所定間隔をあけて複数本突設されている。複数本の突条
１１の各々の間にはメッキ液のみを通過させる／でめの
隔膜１２が設けられている。隔膜１２は外筒４の外面軸
方向に所定間隔をあけて複数個設けられている。
］１が設けられている。突条１１は外筒４の円周方向に
所定間隔をあけて複数本突設されている。複数本の突条
１１の各々の間にはメッキ液のみを通過させる／でめの
隔膜１２が設けられている。隔膜１２は外筒４の外面軸
方向に所定間隔をあけて複数個設けられている。
外側中空回転軸５を前記、駆動手段によって回転させて
、陽極棒１および外筒４を一体的に回転させる。メッキ
液は、メッキ液供給管９ａから入側ローターシール８ａ
および一方の内側中空回転軸２を経て孔３がら空間ｌｏ
内に入り、空間１０ ｆ ７ｆｉって他方の内側中空回
転軸２および出（１４１１０−ターシール８ｂを経てメ
ッキ液排出管９ｂからその一部が排出される。
、陽極棒１および外筒４を一体的に回転させる。メッキ
液は、メッキ液供給管９ａから入側ローターシール８ａ
および一方の内側中空回転軸２を経て孔３がら空間ｌｏ
内に入り、空間１０ ｆ ７ｆｉって他方の内側中空回
転軸２および出（１４１１０−ターシール８ｂを経てメ
ッキ液排出管９ｂからその一部が排出される。
メッキ電流はスリップリング７から回転している陽極棒
ｌに供給される。メッキ中に生じたスラッジは、外筒４
の隔膜１２からメッキ槽６に流出せずメッキ液のみがメ
ッキ槽６に流出する。メッキ液排出管９ｂから排出され
たスラッジを含むメッキ液は、スラッジが除去された後
、再びメッキ液供給管９ａに供給される。
ｌに供給される。メッキ中に生じたスラッジは、外筒４
の隔膜１２からメッキ槽６に流出せずメッキ液のみがメ
ッキ槽６に流出する。メッキ液排出管９ｂから排出され
たスラッジを含むメッキ液は、スラッジが除去された後
、再びメッキ液供給管９ａに供給される。
上述したこの発明の回転陽極Ａを使用して鋼ストリップ
にメッキ処理を施すには、第３図に示されるように、メ
ッキ液１４が入れられたメッキ槽６内に水平にゴム製の
ガイドロール１５を回転自在に設置し、フンダクタロー
ル１６を介してガイドロール１５に鋼ストリップ１３を
周回させ、コンダククロール１６に接近させ、且つメッ
キ液１４に浸漬させて複数個の回転陽極Ａをそれぞれ水
平に設置し、回転陽極Ａの各々を第３図中矢印で示され
る方向、即ち、メッキ中に鋼ストリップ１３と回転陽極
Ａとの間に滞留する水素ガスが鋼ストリツプ１３０表面
から離脱し易い方向に回転させる。メッキ液１４は回転
陽ｆｌ、ｉ Ａの各々のメッキ液供１袷管９ａから連続
的に供給し、メッキ電流もスリップリング７を介して陽
極棒ｌに供給する。
にメッキ処理を施すには、第３図に示されるように、メ
ッキ液１４が入れられたメッキ槽６内に水平にゴム製の
ガイドロール１５を回転自在に設置し、フンダクタロー
ル１６を介してガイドロール１５に鋼ストリップ１３を
周回させ、コンダククロール１６に接近させ、且つメッ
キ液１４に浸漬させて複数個の回転陽極Ａをそれぞれ水
平に設置し、回転陽極Ａの各々を第３図中矢印で示され
る方向、即ち、メッキ中に鋼ストリップ１３と回転陽極
Ａとの間に滞留する水素ガスが鋼ストリツプ１３０表面
から離脱し易い方向に回転させる。メッキ液１４は回転
陽ｆｌ、ｉ Ａの各々のメッキ液供１袷管９ａから連続
的に供給し、メッキ電流もスリップリング７を介して陽
極棒ｌに供給する。
これによって、水素ガスが鋼ストリツプ１３０次面に付
着することが防止でき、且つ、回転陽極Ａの外筒４に設
けられだ突条１１が回転することによって、回転陽極Ａ
の周囲のメッキ液１４が攪拌されるので、鋼ストリップ
１３と回転陽極Ａとの最近接部をメッキ電流が流れる。
着することが防止でき、且つ、回転陽極Ａの外筒４に設
けられだ突条１１が回転することによって、回転陽極Ａ
の周囲のメッキ液１４が攪拌されるので、鋼ストリップ
１３と回転陽極Ａとの最近接部をメッキ電流が流れる。
これらの結果、１７１２の作用によってメッキ槽６内の
メッキ液中に流出せず、一部のメッキ液のみが隔膜１２
を通ってメッキ槽６内のメッキ液中に流出する。スラッ
ジはメッキ液１４と共に、空間ｌＯを通ってメッキ液排
出管９ｂから排出される。
メッキ液中に流出せず、一部のメッキ液のみが隔膜１２
を通ってメッキ槽６内のメッキ液中に流出する。スラッ
ジはメッキ液１４と共に、空間ｌＯを通ってメッキ液排
出管９ｂから排出される。
第４図に、この発明の回転陽極Ａの別の設置態様を示す
。この場合も、第３図の場合と同様に回転陽極Ａの各々
は、鋼ストリップ１３の表面から水素ガスを１９脱させ
易い方向に回転させる。
。この場合も、第３図の場合と同様に回転陽極Ａの各々
は、鋼ストリップ１３の表面から水素ガスを１９脱させ
易い方向に回転させる。
以上説明したように、この発明によれば、メッキ中に生
じる水素ガスを被メッキ板から容易に離脱させることが
でき、且つ、陽極電極近傍のメッキ液を撹拌することが
でき、しかも、メッキ中に発生したスラッジのメッキ液
中への混入を防止できるので、高品質のメッキ被膜を被
メッキ板に施すことができるといったきわめて有用な効
果がもたらされる。
じる水素ガスを被メッキ板から容易に離脱させることが
でき、且つ、陽極電極近傍のメッキ液を撹拌することが
でき、しかも、メッキ中に発生したスラッジのメッキ液
中への混入を防止できるので、高品質のメッキ被膜を被
メッキ板に施すことができるといったきわめて有用な効
果がもたらされる。
第１図は、この発明の一実施態様の部分切欠正面図、第
２図は、第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図および第４図
は、この発明の回転陽極のメッキ槽内への設置態様を示
す断面図である。図面において、 ■・・・陽極棒 ２・・内側中空回転軸３・・・孔 ４
・・・外筒 ５・・・外側中空回転軸 ６・・・メッキ槽６ａ・・側
壁 ７・・・スリップリング８ａ・・・入側ローターシ
ー ８ｂ・・・出イＥｉｌｌローターシール ル ９ａ・・・メッキ液供給管 ９ｂ・・・メッキ液排出管
１０・・・空間 ］１・・・突条 １２°°隔膜 １３・・・鋼ストリップ１４・・・メッ
キ液１５・・・ガイドロール１６・・コンダクタロール 出願人 日本鋼管株式会社 代理人 潮谷 奈津夫（他２名） 第１図 秦２図 ／− 第３図 学４図 手続補正書（自発） ＩＩｓ和６０年１ 月２９１−］ 特許庁長官 志 賀 学 殿 １、事件の表示 特願昭５１− ３７２６４ 号 ２、発明の名称 合金電気メツキ用回転陽極 ３、補ｊｌ二をする者 事ｆ’ｌとの関係 特許出願人 （１所 東京都千代田区丸の内−丁目１番２号氏名（Ｍ
Ａ） 日本鋼管株式会社 代表者 金 尾 實 自 発 ６ 補正の対象 （１） 明細書の特許請求の範囲の欄を以下の通り訂正
する。 「断面円形の不溶性陽極棒と、前記陽極棒の外側に、前
記陽極棒との間にメッキ液が通過する空間が形成される
ようにＲ’＋Ｊ記陽極棒七所定間隔をあけて同心円状に
設けられた、前記陽極棒を櫛うための外筒と、前記陽極
棒と前記外筒とを一体的に回転させるだめの手段とから
なり、前記外筒の外面軸方向にはメッキ液を麹拌するた
めの突条が設けられ、前記突条はｈσ記外筒の円周方向
に所定間隔をあけて複数本設けられ、前記複数本の突条
のせるための隔膜が設けられ、前記隔膜は前記外面軸方
向に所定間隔をあけて複数個設けられていることを特徴
とする合金電気メツキ用回転陽極。」（２） 明細書、
第２頁、発明の詳細な説明の欄、５〜６行目、 「目的でクロム・鉄等からなる合金被覆を」とあるを、 １目的で種々の合金被覆を」に訂正する。 （３） 明細書、第２頁、発明の詳細な説明の欄、１３
３行目 「スラッジ」とあるを、 「不純物」に訂正する。 （４）明細書、第２頁、発明の詳細な説明の欄、下から
３〜２行目、 「スラッジ・・・・・除去する」とあるを、「不純物の
沈澱除去やイオン交換等」に訂正する。 （５）明細■、第３、発明の詳細な説明の欄、６〜゛ｉ
行目、 「スラッジ」とあるを、「不純物」に訂正する。 （６）明細居、第３、発明の詳細な説明の欄、７行目、 ｒ？１！、人」とあるを、「蓄積」に訂正する。 （７） 明細書、第３、発明の詳細な説明の欄、下から
２行目、 「メッキ液のみ」とあるを、 「メッキ液中の有効成分」に訂正する。 （８） 明細書、第５頁、発明の詳細な説明の楠、１５
〜１６行目、 「メッキ液のみ」とあるを、 「メッキ液中の有効成分」に訂正する。 （９）明細書、第６頁、発明の詳細な説明の欄、８〜９
行目および１１行目、 「スラッジ」とあるを、「不純物」に訂正する。 ００）明細書、第６頁、発明の詳細な説明の欄、１０行
目、 「メッキ液のみ」とあるを、 「メッキ液中の有効成分」に訂正する。 ０υ 明細書、・第６頁、発明の詳細な説明の欄、１２
行目、 「スラッジが除去された後、」とあるを、「不純物を除
去した後、」に訂正する。 （１２） 明細書、第７頁、□発明の詳細な説明の欄、
１７行目、 「スラッジ」とあるを、 「不純物」に訂正する。 （Ｉ３）明細書、第７頁、発明の詳細な説明の欄、下か
ら２行目、 「一部のメッキ液のみ」とあるを、 「メッキ液中の有効成分」に訂正する。 ■ 明細書の発明の詳細な説明の欄、 第７頁最下行目〜第８頁１行目、 「スラッジ」とあるを、 「不純物」に訂正する。 ０句 明細書、第８頁、発明の詳細な説明の欄。 １１行目、 「スラッジ」とあるを、 「不純物」に訂正する０ 以上
２図は、第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図および第４図
は、この発明の回転陽極のメッキ槽内への設置態様を示
す断面図である。図面において、 ■・・・陽極棒 ２・・内側中空回転軸３・・・孔 ４
・・・外筒 ５・・・外側中空回転軸 ６・・・メッキ槽６ａ・・側
壁 ７・・・スリップリング８ａ・・・入側ローターシ
ー ８ｂ・・・出イＥｉｌｌローターシール ル ９ａ・・・メッキ液供給管 ９ｂ・・・メッキ液排出管
１０・・・空間 ］１・・・突条 １２°°隔膜 １３・・・鋼ストリップ１４・・・メッ
キ液１５・・・ガイドロール１６・・コンダクタロール 出願人 日本鋼管株式会社 代理人 潮谷 奈津夫（他２名） 第１図 秦２図 ／− 第３図 学４図 手続補正書（自発） ＩＩｓ和６０年１ 月２９１−］ 特許庁長官 志 賀 学 殿 １、事件の表示 特願昭５１− ３７２６４ 号 ２、発明の名称 合金電気メツキ用回転陽極 ３、補ｊｌ二をする者 事ｆ’ｌとの関係 特許出願人 （１所 東京都千代田区丸の内−丁目１番２号氏名（Ｍ
Ａ） 日本鋼管株式会社 代表者 金 尾 實 自 発 ６ 補正の対象 （１） 明細書の特許請求の範囲の欄を以下の通り訂正
する。 「断面円形の不溶性陽極棒と、前記陽極棒の外側に、前
記陽極棒との間にメッキ液が通過する空間が形成される
ようにＲ’＋Ｊ記陽極棒七所定間隔をあけて同心円状に
設けられた、前記陽極棒を櫛うための外筒と、前記陽極
棒と前記外筒とを一体的に回転させるだめの手段とから
なり、前記外筒の外面軸方向にはメッキ液を麹拌するた
めの突条が設けられ、前記突条はｈσ記外筒の円周方向
に所定間隔をあけて複数本設けられ、前記複数本の突条
のせるための隔膜が設けられ、前記隔膜は前記外面軸方
向に所定間隔をあけて複数個設けられていることを特徴
とする合金電気メツキ用回転陽極。」（２） 明細書、
第２頁、発明の詳細な説明の欄、５〜６行目、 「目的でクロム・鉄等からなる合金被覆を」とあるを、 １目的で種々の合金被覆を」に訂正する。 （３） 明細書、第２頁、発明の詳細な説明の欄、１３
３行目 「スラッジ」とあるを、 「不純物」に訂正する。 （４）明細書、第２頁、発明の詳細な説明の欄、下から
３〜２行目、 「スラッジ・・・・・除去する」とあるを、「不純物の
沈澱除去やイオン交換等」に訂正する。 （５）明細■、第３、発明の詳細な説明の欄、６〜゛ｉ
行目、 「スラッジ」とあるを、「不純物」に訂正する。 （６）明細居、第３、発明の詳細な説明の欄、７行目、 ｒ？１！、人」とあるを、「蓄積」に訂正する。 （７） 明細書、第３、発明の詳細な説明の欄、下から
２行目、 「メッキ液のみ」とあるを、 「メッキ液中の有効成分」に訂正する。 （８） 明細書、第５頁、発明の詳細な説明の楠、１５
〜１６行目、 「メッキ液のみ」とあるを、 「メッキ液中の有効成分」に訂正する。 （９）明細書、第６頁、発明の詳細な説明の欄、８〜９
行目および１１行目、 「スラッジ」とあるを、「不純物」に訂正する。 ００）明細書、第６頁、発明の詳細な説明の欄、１０行
目、 「メッキ液のみ」とあるを、 「メッキ液中の有効成分」に訂正する。 ０υ 明細書、・第６頁、発明の詳細な説明の欄、１２
行目、 「スラッジが除去された後、」とあるを、「不純物を除
去した後、」に訂正する。 （１２） 明細書、第７頁、□発明の詳細な説明の欄、
１７行目、 「スラッジ」とあるを、 「不純物」に訂正する。 （Ｉ３）明細書、第７頁、発明の詳細な説明の欄、下か
ら２行目、 「一部のメッキ液のみ」とあるを、 「メッキ液中の有効成分」に訂正する。 ■ 明細書の発明の詳細な説明の欄、 第７頁最下行目〜第８頁１行目、 「スラッジ」とあるを、 「不純物」に訂正する。 ０句 明細書、第８頁、発明の詳細な説明の欄。 １１行目、 「スラッジ」とあるを、 「不純物」に訂正する０ 以上
Claims (1)
- 断面円形の不溶性陽極棒と、前記陽極棒の外側に、前記
陽極棒との間に一メッキ液が通過する空間が形成される
ように前記陽極棒と所定間隔をあけて同心円状に設けら
れた、前記陽極棒を緩うための外筒と、前記陽極棒と前
記外筒とを一体的に回転させるだめの手段とからなり、
前記／Ａ筒の外筒軸方向にはメッキ液を撹拌するための
突条が設けられ、前記突条ｄ、前記外筒の円周方向に所
定間隔をあけて複数本設けられ、前記複数本の突条の谷
々の間にはメッキ液のみを通過させる７′ごん“）の隔
膜が設けられ、前記ｌ（ｉ’Ｔｈ膜は前記外面□＋！ｌ
ｌ＋方向に所定間隔をあけて複数個設けられていること
を特徴とする合金巾１気メッキ用回転陽極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3726484A JPS60184695A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 合金電気メツキ用回転陽極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3726484A JPS60184695A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 合金電気メツキ用回転陽極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60184695A true JPS60184695A (ja) | 1985-09-20 |
Family
ID=12492804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3726484A Pending JPS60184695A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 合金電気メツキ用回転陽極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60184695A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6797132B2 (en) | 1999-04-03 | 2004-09-28 | Nutool, Inc. | Apparatus for plating and polishing a semiconductor workpiece |
-
1984
- 1984-03-01 JP JP3726484A patent/JPS60184695A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6797132B2 (en) | 1999-04-03 | 2004-09-28 | Nutool, Inc. | Apparatus for plating and polishing a semiconductor workpiece |
| EP1169162B1 (en) * | 1999-04-03 | 2004-11-03 | Nutool, Inc. | Method and apparatus for plating and polishing a semiconductor substrate |
| US7309406B2 (en) | 1999-04-03 | 2007-12-18 | Novellus Systems, Inc. | Method and apparatus for plating and polishing semiconductor substrate |
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