JPS60175044A - Photosensitive composition for duplicating picture image - Google Patents

Photosensitive composition for duplicating picture image

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JPS60175044A
JPS60175044A JP59031095A JP3109584A JPS60175044A JP S60175044 A JPS60175044 A JP S60175044A JP 59031095 A JP59031095 A JP 59031095A JP 3109584 A JP3109584 A JP 3109584A JP S60175044 A JPS60175044 A JP S60175044A
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Japan
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image
picture image
alkyl
photosensitive
amine
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JP59031095A
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Satoshi Imahashi
聰 今橋
Michiatsu Kouno
通篤 河野
Shigeo Takenaka
竹中 茂夫
Shinichi Tanaka
新一 田中
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Toyobo Co Ltd
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Toyobo Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Abstract

PURPOSE:To prvent deterioration of reducing effect with the lapse of time after duplication of a picture image by incorporating a specified amine in a compsn. together with an absorbing agent of active rays, a polymeric binder having carboxylic acid groups, sulphonic acid groups, or phosphoric group in a molecule, a photopolymn. initiator, and a polymerizable monomer. CONSTITUTION:An amine compd. expressed by the formula I or II (wherein R1, R2 are 1-3C alkyl; R3 is 1-6C alkyl; R4 and R5 are 3-6C alkyl), carbon black as active rays absorber, inorg. pigment such as TiO2, org. pigment, ultraviolet ray absorber, a polymer having COOH, SO3H, or phosphoric acid group in a molecule, photopolymn. initiator such as benzophenone, and a polymerizable monomer, are contained in an org. solvent to form a soln. The soln. is coated on a base material such as paper, polyester film, Al plate, etc. and dried as a compsn. capable of forming a photosensitive layer. Thus, a photosensitive material useful as a material for duplicating picture image having superior sensitivity and resolving power for photomechanical process, etc. with sufficient reducing effect (i.e. capability of reducing halftone dots) after several days (even after two weeks) since the formation of the picture image, is provided.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、波力可能な画像複製材料用の感光性組成物に
関する。更に詳しくは、写真製版用途等において使用さ
れるリスフィルムとして使用でき、画像複製後の複製画
像の網点を小さくして減力する場合、複製後日時を経て
減力しても、減力速度等の減力性が変らない画像複製材
料に利用できる感光性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to photosensitive compositions for wave-enabled image reproduction materials. More specifically, it can be used as a lithographic film used in photolithography, etc., and when reducing the halftone dots of the duplicated image after image duplication, even if the force is reduced after the date and time after duplication, the speed of reduction is low. The present invention relates to a photosensitive composition that can be used as an image duplicating material that does not change its reducing properties.

写真製版工程において、密着返【−1用リスフイルムと
して、現在はメハロゲン化銀感光材料が使用されている
が、銀資源枯渇の背景の下、これ金メ非銀塩感ブ0材料
を利用し、たもので代用せんとの動 −きが盛んである
。しかしながら、代用し、得るための必須の機能は、複
製された画像の網点を小さくすることにより画像のトー
ン全修正できること(減力、ドツトエッチ)であるが、
この機能?有する非銀塩感光材料は数少ない。これ迄に
知られている、かかる減力性を有する非銀塩感光材料と
しては特開昭52−62427号公報に、形成された画
像が未硬化の下層部を有することを利用し減力するもの
が記載されている。これは、確かに画像形成直後では優
れた減力性(減カチ及び減力速度)を有している。とこ
ろが、この材料は、写真製版工程での常識的なプロセス
である校正刷用刷版焼付に際し、校正版に密着し裏面よ
り露光?受けるると、当然のことながら未硬化の下層部
が硬化し、それ以後実際に減力が必要となる時点に於て
減力することが不可能となってしまう。この欠点を改良
するために、本発明者らは、形成画像の画像部に重合禁
止剤を含有させる方法を発明し、先に特許の出願2行な
っ几。この発明により、現実の写真製版プロセスにおい
て使用可能な減力性を有する非銀塩リスフィルムが実現
したのであるが、さらに、現実の写真製版業の実態を見
るに、な訃これでも不十分な点があることが判った。現
実の写真製版業においては、校正刷を発注者に見せ、そ
の希望によρ複製画像の減力を行なうが、減力1行なう
時期は、校正刷焼付と同じ日の場曾もあるR2、遅い場
合には、半年後の場合もある。従って減力性はこの期間
に亘って同じものでなければ現実的なものとはなシ得な
いのである。ところが、上記発明の方法によっても減力
性自体は、放置と共に低下していき、逐には減力不可能
になってしまう。この現象は、上記した裏蕗光の有無や
重合禁止剤の有無にかかわらず生じるものである究めそ
の原因は光反応によるものではないが、とにかく、かか
る減力性の経時変化があるものでは実用的なものと言え
ず大きな問題である。
In the photolithography process, silver mehalide photosensitive materials are currently used as lithographic film for contact return [-1], but due to the depletion of silver resources, gold-metal, non-silver salt-sensitive photosensitive materials have been used. There is a growing movement to replace it with other items. However, the essential function to substitute and obtain is the ability to completely correct the tone of the image by reducing the halftone dots of the duplicated image (reduction, dot etch).
This feature? There are very few non-silver salt photosensitive materials that have this. A known non-silver salt photosensitive material having such a force reducing property is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-62427, which reduces force by utilizing the fact that the formed image has an uncured lower layer. things are listed. This certainly has excellent force reduction properties (force reduction angle and force reduction speed) immediately after image formation. However, when printing the proof plate, which is a common process in the photolithography process, this material adheres to the proof plate and is exposed to light from the back side. If this happens, the uncured lower layer will of course harden, making it impossible to reduce the force at the time when it is actually required. In order to improve this drawback, the present inventors invented a method of incorporating a polymerization inhibitor into the image area of the formed image, and filed two patent applications. This invention made it possible to create a non-silver salt lithium-ion film with a force reduction property that could be used in the actual photolithography process. It turned out that there was a point. In the actual photoengraving industry, the proof is shown to the customer and the power of the ρ copy image is reduced according to the customer's request. In some cases, it may be six months later. Therefore, it cannot be realistic unless the force reduction property remains the same over this period. However, even with the method of the invention described above, the force reducing ability itself deteriorates as the device is left unattended, and eventually it becomes impossible to reduce force. This phenomenon occurs regardless of the presence or absence of the above-mentioned backlight and the presence or absence of a polymerization inhibitor.The cause of this phenomenon is not due to a photoreaction, but in any case, it is not practical for products with such changes in strength reduction properties over time. This is a big problem that cannot be called a problem.

本発明者らは、かかる問題を解決し、真に減力可能な画
像複製材料用の感光性材料を開発せんとして鋭意努力金
型ねた結果、逐に本発明を完成させるに到った。すなわ
ち本発明は、少なくとも(1)活性光線吸収剤、(2)
分子中にカルボン酸基、スルホン酸基またはリン酸基の
一種以上の基を有する重合体状結合剤、(3)下記一般
式 %式% c式中R1,R,は炭素数1〜3のアルキル基、R1は
炭素数1〜6のアルキル基+ R4+ glは炭素数3
〜6のアルキル基ヲアられす〕 でめられされるアミン化合物 (4)光開始剤および(5)重合可能な単量体を含むこ
とを特徴とする画像複製材料用感光性組成物でめる。
The present inventors have worked diligently to solve this problem and develop a photosensitive material for image duplicating materials that can truly reduce force, and as a result, they have gradually completed the present invention. That is, the present invention provides at least (1) an actinic ray absorber; (2)
A polymeric binder having one or more carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, or phosphoric acid groups in the molecule, (3) the following general formula % formula % c In the formula, R1, R, have 1 to 3 carbon atoms. Alkyl group, R1 is an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms + R4+ gl is 3 carbon atoms
~6 alkyl group] A photosensitive composition for an image duplicating material characterized by containing an amine compound (4) a photoinitiator and (5) a polymerizable monomer. .

本発明感光性組成物の各々の組成物について以下に詳述
する。
Each composition of the photosensitive composition of the present invention will be explained in detail below.

(1)活性光線吸収剤 後述する光開始剤のtlかに、本発明の感光性組成物の
感光波長域の光線即ち活性光線の吸収に有効な化合物を
添加することによって、画像複製材料とした場合、画像
様の活性光線照射に対し、て不透明な画像が形成される
。活性光線の吸収全天き七することによって、マスクの
透明部分を通し、て露光された画像部分は上層部のみ硬
化反応が進み下層は未硬化の状態を保つようになる。こ
のように、未硬化の下層部を保持することにより製版用
フィルムとしての用途向けに有利な特性である減力性が
保持される。
(1) Actinic ray absorber An image duplicating material was prepared by adding a compound effective in absorbing actinic rays in the photosensitive wavelength range of the photosensitive composition of the present invention to the TL of the photoinitiator described below. In this case, an opaque image is formed upon imagewise actinic radiation. By absorbing actinic light, only the upper layer of the image exposed through the transparent part of the mask undergoes a curing reaction, while the lower layer remains uncured. In this manner, by retaining the uncured lower layer portion, the force reducing property, which is an advantageous characteristic for use as a plate-making film, is maintained.

使用される活性光線吸収剤としては、紫外線吸収剤、紫
外線吸収染料やその他の染料や顔料などである。これら
の例として、カーボンブラック、゛酸化チタン、酸化鉄
、各種金属や金属の酸化物、硫化物等の化合物の粉末、
ピグメントブラック(C,1,50440)、クロムイ
エローライト(C,I。
Actinic light absorbers used include ultraviolet absorbers, ultraviolet absorbing dyes, and other dyes and pigments. Examples of these include powders of compounds such as carbon black, titanium oxide, iron oxide, various metals, metal oxides, and sulfides;
Pigment Black (C, 1, 50440), Chrome Yellow Light (C, I.

77603)、2.2r−ジヒドロキシ−4−メトキシ
ベン ンゾフエノー#、2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン
、ヒト四キシフェニルベンツトリアゾール、2−(2′
−ヒドロキシ−5′−メトキシフェニル〕ベンゾトリア
ゾール、レゾルシノールモノベンゾエート、エチル−2
−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、トルイジ
ン・イエローGW (C,1,71680)、モ17ブ
デンオレンジ(C,1,77605)、スーダンイエロ
ー(C,1,30)、オイルオレンジ(C,I。
77603), 2.2r-dihydroxy-4-methoxybenzophenone #, 2.4-dihydroxybenzophenone, human tetraxyphenylbenzotriazole, 2-(2'
-Hydroxy-5'-methoxyphenyl]benzotriazole, resorcinol monobenzoate, ethyl-2
-Cyano-3,3-diphenylacrylate, Toluidine Yellow GW (C, 1,71680), Mo17 Butene Orange (C, 1,77605), Sudan Yellow (C, 1,30), Oil Orange (C, I .

12055)などがある。特に、従来の銀塩と同じ黒色
にするにはカーボンブラックが望ましい。また、着色の
ない紫外線吸収剤などを用いる場合は画像部が見えにく
いため染料や顔料を添カロする方が良い。無機・有機顔
料や金属や金属の化合物などの場合、物理的方法か化学
的方法によって微粒子化する必要がめる。
12055). In particular, carbon black is desirable in order to achieve the same black color as conventional silver salts. Furthermore, if a non-colored ultraviolet absorber is used, it is better to add a dye or pigment because the image area is difficult to see. In the case of inorganic/organic pigments, metals, and metal compounds, it is necessary to micronize them by physical or chemical methods.

(2)重合体状結合剤 本発明において使用する有用な重合体状結合剤は、溶媒
可溶で50℃以下では固体状の有機1合体であって、か
つ分子中にカルボン醪基、スルホン酸基またけリン酸基
の1種以上の基を有する重合体である。かかる酸基は重
合体1〜中1〜4当量の範囲にあることが好ましく、か
かる重合体を用いることにより、得られる画像複裏材料
はアルカリ性水溶液にて現像もしくは減力することが可
能と外る。このような重合体の例を挙げれば、a〕 カ
ルボン酸基管含む重合体 メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体。
(2) Polymeric binder The useful polymeric binder used in the present invention is an organic monomer that is soluble in solvents and solid at temperatures below 50°C, and has a carbonyl group and a sulfonic acid group in the molecule. It is a polymer having one or more types of phosphoric acid groups across the groups. The amount of such acid groups is preferably in the range of 1 to 4 equivalents in 1 to 4 of the polymer, and by using such a polymer, the resulting image composite backing material can be developed or reduced in strength with an alkaline aqueous solution. Ru. Examples of such polymers include: a) methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, a polymer containing a carboxylic acid group;

メタクリル酸メチル−メタクリル醒ブチルーアクリル俄
共重合体、アクリル醒メチルーアクリル酸共重合体、酢
酸ビニル−メタクリル酸共重合体。
Methyl methacrylate-methacrylate-strengthened butyl-acrylic copolymer, acrylic-strengthened methyl-acrylic acid copolymer, vinyl acetate-methacrylic acid copolymer.

塩化ビニリデン−イタコン酸共重合体、スチレンーアレ
イン酸共重合体、スチレン−マレイン酸そノブデルエス
テル共重合体、アクリロニトリル−ビニル酢酸共重合体
といったアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、ビニ
ル酢酸、マレイン酸などのカルボン酸基管むビニル化合
物と他のビニル化合物の共重合や、セルロースアセテー
トフタレート、ヒドロキシグロビルメチルセルロースフ
タレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテ
ートサクシネートなどのセルロース誘導体など。
Acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, vinyl acetic acid, maleic acid such as vinylidene chloride-itaconic acid copolymer, styrene-aleic acid copolymer, styrene-maleic acid monobutyl ester copolymer, acrylonitrile-vinyl acetic acid copolymer Copolymerization of vinyl compounds containing carboxylic acid groups such as acids with other vinyl compounds, cellulose derivatives such as cellulose acetate phthalate, hydroxyglobil methyl cellulose phthalate, hydroxypropyl methyl cellulose acetate succinate, etc.

b) スルホン酸基を含む重合体 酢酸ビニル−エチレンスルホン醗共重合体、メタクリル
醗メチル−アリルスルホン醪共重合体。
b) Polymers containing sulfonic acid groups: vinyl acetate-ethylene sulfone copolymer, methacrylic methyl-allylsulfone copolymer.

メタクリル酸メチル−スチレンスルホン酸、メタクリ/
I/Wlメチルー2−スルホエチルアクリレート共重合
体、アクリル酸メチル−2−スルホエチルメタクリレー
ト共重合体、スチレン−2−°1クリルアξドー2−メ
チルプロパンスルホン岐弁型合体など。
Methyl methacrylate-styrene sulfonic acid, methacrylate/
I/Wl methyl-2-sulfoethyl acrylate copolymer, methyl acrylate-2-sulfoethyl methacrylate copolymer, styrene-2-°1cryl axido-2-methylpropanesulfone branched type polymer, etc.

C)リン酸基?含む重合体 メタクリル酎メチルー2−ヒドロキシエチルアクリロイ
ルホスフェート共重合体、メタクリル醗メチルー2−ヒ
ドロキシエチルメタクリ付イルホスフェート共重合体な
どがめる。
C) Phosphate group? Polymers containing methacrylic methyl 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate copolymer, methacrylic methyl 2-hydroxyethyl methacryloyl phosphate copolymer, etc.

(3)アミン化合物 本発明において有効なアミン化合物は、組成物のアルカ
リ現像性や感度、解像力などの写真性能および波力性の
経時変化の防止という本発明の目的を達成するために、
特に下記一般式で示されるアミン化合物に限定する必要
がある。
(3) Amine Compound The amine compound effective in the present invention is used to achieve the purpose of the present invention, which is to prevent changes over time in photographic performance such as alkali developability, sensitivity, and resolution of the composition, and in wave properties.
In particular, it is necessary to limit it to amine compounds represented by the following general formula.

C式中、R1e R臆は炭素数1〜3のアルキル基、R
1は炭素数1〜6のアルキル基、R,I R1は炭素数
3〜6のアルキル基を表わす。〕 なお式中RxRtはメチル差、エチル基I R,はエチ
ル基、プロピル基、R4R・はブチル基が4fFに好ま
しく具体的にはトリメチルアiン、トvエチルアミン。
In formula C, R1e is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R
1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R, I R1 represents an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. ] In the formula, RxRt is a methyl group, IR is an ethyl group or a propyl group, and R4R is a butyl group, preferably 4fF, and specifically, trimethylamine or tovethylamine.

トリ(1so−プロピル)アミン、トリ(n−プロピル
)アミン、ジメチルエチルアミン、ジメチル(1so−
プロピル)アミン、ジメチル(n−プロピル)アミン、
ジメチル(n−ブチル)アミン。
Tri(1so-propyl)amine, tri(n-propyl)amine, dimethylethylamine, dimethyl(1so-
propyl)amine, dimethyl(n-propyl)amine,
Dimethyl(n-butyl)amine.

ジメチル(too−ブチル)アミン、ジ(18o−プチ
ルノアミン、ジ(n−ブチル)アミンなどが挙げられる
。これらのアミン化合物は単独で、まtは数種併用して
使用することができる。
Examples include dimethyl(too-butyl)amine, di(18o-butylnoamine, di(n-butyl)amine), etc. These amine compounds can be used alone or in combination of several kinds.

なお特開昭52−62427号公報には本発明と同じく
光開始剤、活性光線吸収剤、単量体及び重合体状結合剤
からなる光重合成エレメントの記載がめシ、かつ同明細
書中の引用文献として08P 3゜479、185号明
細書には、やけ、UfJIJ3級アミノ化合物を遊離基
発生剤として用いる記載がある。しかしながら、本発明
者らの研究によれId’USP3.479.185号明
細書において、第37ミノ化合物とし、て具体的に例示
されている化合物、例えばトリス(4−N、N−ジエチ
ルアミノ−0−トリル)メタン、ビス(4−N、N−ジ
エチルアミノ−〇−トリル)ベンジルチオフェニルメタ
ン、ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリスタルバイ
オレット、N−メチルアニリン、トリヘキシルアミン、
Niチルピロリドンなどは、実施例および比較例を用い
て後ヤ証明するが、遊離基発生剤としてはともかく、本
発明の目的たる経時変化のない波力性を与える組成物の
成分たるアミン化合物としては有効ではな込。
Note that JP-A-52-62427 also describes a photopolymerization element consisting of a photoinitiator, an actinic ray absorber, a monomer, and a polymeric binder, as in the present invention, and As a cited document, 08P 3゜479, 185 describes the use of a UfJIJ tertiary amino compound as a free radical generator. However, according to research conducted by the present inventors, compounds specifically exemplified as the 37th mino compound in Id'USP 3.479.185, such as tris(4-N,N-diethylamino-0 -tolyl)methane, bis(4-N,N-diethylamino-〇-tolyl)benzylthiophenylmethane, leucomalachite green, leuco crystal violet, N-methylaniline, trihexylamine,
Ni tilpyrrolidone and the like will be demonstrated later using Examples and Comparative Examples, but apart from being a free radical generator, it can also be used as an amine compound as a component of a composition that provides wave properties that do not change over time, which is the object of the present invention. is not valid.

(4)光開始剤 光開始剤とは活性光線によって重合反応・や架橋反応t
R始させる能力のあるもので、単lI!11tたは他の
化合物と組合わせて用いられる。その代表的化合物の例
として、ベンジル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン
、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
4−メトキシ−42−ジメチルアミノベンゾフェノンな
どのベンゾフェノン誘導体、アンスラキノン、2−クロ
ルアンスラキノン、2エチ°′ルアンスラキノン、1−
クロルアンスラキノン、フエナントラキノンなどの芳香
族ケトン類、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル
類、α−メチルベンゾイン等のベンゾイン訪導体、ベン
ジル・ジメチルケタール・多核キノン類、2,4.5−
トリアリールイミダゾール2量体と遊離基発生剤め組合
せ系などがある。又増感剤や増感染料ケ添加すると更に
感度が向上する。他に、2.4.5−トリアリールイミ
ダゾール2量体としては、2−2−(0−クロルフェニ
ル)−4,5−(m−メトキシフェニル)イミダゾール
2i体、(0−メ)キシフェニル)−4,5−ジフェニ
ル、(ミf’、f−ル2量体、2−(0−クロルフェニ
ル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2を体、2−(
P−メチルメロカプトフェニル)−4,5−ジフェニル
イミダゾール2量体などのトリフェニルイミダゾール2
量体、2−(1−ナフチル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾール2量体、2−(9−アントリル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール2量体、2−(2−メドキシー1
−ナフチル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体
、2−(2−メトキシ−1−ナフチル) −4,5−(
0−メトキシフェニルクイミダゾール2量体、2−(2
−クロロ−1−ナフチル)−4,5−ジフェニルイミダ
ゾール21Hi[どの多環アリール−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール2量体を挙げることができる。
(4) Photoinitiator Photoinitiator is a polymerization reaction and crosslinking reaction caused by actinic light.
Something that has the ability to start R, single lI! 11t or in combination with other compounds. Examples of representative compounds include benzyl, benzophenone, Michler's ketone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone,
Benzophenone derivatives such as 4-methoxy-42-dimethylaminobenzophenone, anthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2ethyl anthraquinone, 1-
Aromatic ketones such as chloranthraquinone and phenanthraquinone, benzoin, benzoin alkyl ethers, benzoin-containing conductors such as α-methylbenzoin, benzyl dimethyl ketal and polynuclear quinones, 2,4.5-
Examples include combination systems of triarylimidazole dimers and free radical generators. Furthermore, the sensitivity can be further improved by adding a sensitizer or a sensitizing agent. In addition, as the 2.4.5-triarylimidazole dimer, 2-2-(0-chlorophenyl)-4,5-(m-methoxyphenyl)imidazole 2i form, (0-me)xyphenyl) -4,5-diphenyl, (mf',f-l dimer, 2-(0-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazole 2,
Triphenylimidazole 2 such as P-methylmerocaptophenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer
mer, 2-(1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(9-anthryl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(2-medoxy 1
-naphthyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(2-methoxy-1-naphthyl)-4,5-(
0-methoxyphenylquimidazole dimer, 2-(2
-Chloro-1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazole 21Hi [Any polycyclic aryl-4,5-diphenylimidazole dimer may be mentioned.

2.4.5−)リアリールイミダゾール2量体と組合わ
せて使用される遊離基発生剤としては、p、p’−ヒス
(ジメチルアミノベンゾフェノンなどのp−アミノフェ
ニルケトン化合物、ロイコマラカイトグリーン、ロイコ
クリスタルバイオレットなどの日イートリフェニルメタ
ン染料、2.4−ジエチル−1,3−シクロブタンジオ
ンなどの環状ジケトン化合物、4.4−ビス(ジメチル
アミノ)チオベンゾフェノンなどのチオケトン化合物、
2−メルカプトベンゾチアゾールなどのメルカプタン化
金物、N−フェニルグリシン、ジメドン、7−ジエチル
アミノ−4−メチルクマリンなどを挙げることができる
2.4.5-) Free radical generators used in combination with the realyl imidazole dimer include p, p'-his (p-aminophenyl ketone compounds such as dimethylaminobenzophenone, leucomalachite green, di-triphenylmethane dyes such as leuco crystal violet, cyclic diketone compounds such as 2,4-diethyl-1,3-cyclobutanedione, thioketone compounds such as 4,4-bis(dimethylamino)thiobenzophenone,
Examples include mercaptanized metals such as 2-mercaptobenzothiazole, N-phenylglycine, dimedone, and 7-diethylamino-4-methylcoumarin.

増感剤または増感染料としては、キサンチン系、アクリ
ジン系、チアジン系、シアニン系などの色票が有効であ
る。
As a sensitizer or a sensitizing dye, color charts such as xanthine-based, acridine-based, thiazine-based, cyanine-based, etc. are effective.

(5)重合体 使用する単量体は1個tfcはそれ以上の重合可能二重
結合を有するものでおればよい。このような化合物の例
として、ヘキシルアクリレート、ヘキシルメタアクリレ
ート、シクロヘキシルアクリレート、シフμへキシルメ
タアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタ
アクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタア
クリレートなどのアルキルアクリレートまたはアルキル
メタアクリレート類、ヒドロキシアルキルアクリレート
、ヒト胃キシアルキルメタアクリレート、NN−ジアル
キルアミノアルキルアクリレートまたはメタアクリレー
ト類、メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルメ
タアクリレート等のアルキルエーテルアクリレートまた
はメタアクリレート類、ハ田ゲン化アルキルアクリレー
ト又はメタアクリレート、アルキルアクリルまたはメタ
アクリルアミド類、ヒドロキシアルキルアクリレートt
eはメタアクリレート類、ジエチレングリコールジアク
リレートまたはメタアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレートマたはメタアクリレートのようなポ
リアルキルエーテルのアクリレートを九はメタアクリレ
ート、エチレングリコールジアクリレートまたはジメタ
アクリレート、グリセリン、トリメチp−ルブロノ(ン
、ペンタエリスリトールなどの多価アルコールのアクリ
レートまたはメタアクリレート類、アクリル酸、メタア
クリル酸、グリシジルアクリレートまたはメタアクリレ
ートと活性水素含有物との反応物、グリシシール化合物
とアクリル豪またはメタアクリル酸との反応物、Nメチ
ロール化合物と尿素化合物の縮合物、ポリインシアネー
ト化合物とヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタ
アクリレートとの反応物などがある。使用する単量体は
1種類に限定するものではなく、結合剤の種類、単量体
の比率、光開始剤の種類や量、活性光線吸収化合物の種
類や量などによって、使用する単量体を選択する必要が
あり、相客性、皮膜形成性、安定性、感光性などから決
定される。使用するli体として沸点が低いと皮膜形成
中又は形成後に発揮し2で減少するので、沸点としては
高い方が望ましい。
(5) Polymer The number of monomers to be used is one, and TFC may have at least one polymerizable double bond. Examples of such compounds include alkyl acrylates or alkyl methacrylates such as hexyl acrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, Schiff μ hexyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, hydroxyalkyl Acrylate, human gastric xyalkyl methacrylate, NN-dialkylaminoalkyl acrylate or methacrylates, alkyl ether acrylate or methacrylate such as methoxyethyl acrylate, ethoxyethyl methacrylate, hydrogenated alkyl acrylate or methacrylate, alkyl acrylic or methacrylamide, hydroxyalkyl acrylate
e is acrylate of polyalkyl ether such as methacrylates, diethylene glycol diacrylate or methacrylate, triethylene glycol diacrylate or methacrylate; 9 is methacrylate, ethylene glycol diacrylate or dimethacrylate, glycerin, trimethyp - Acrylates or methacrylates of polyhydric alcohols such as rubronone and pentaerythritol, reaction products of acrylic acid, methacrylic acid, glycidyl acrylate or methacrylate with active hydrogen-containing substances, glycysyl compounds and acrylic acid or methacrylic acid , a condensate of an N-methylol compound and a urea compound, and a reaction product of a polyincyanate compound and a hydroxyalkyl acrylate or methacrylate.The monomers used are not limited to one type, and the binder It is necessary to select the monomer to be used depending on the type and amount of the photoinitiator, the type and amount of the photoinitiator, the type and amount of the active light absorbing compound, etc. , photosensitivity, etc. If the boiling point of the li form used is low, it will be exhibited during or after film formation and will decrease in 2, so a higher boiling point is desirable.

次に本発明の組成物を構成する上記各組成物の望ましい
配合比を述べると、活性先縁吸収剤には無機顔料の場合
があり非常に広範囲に亘るため、あえて重量比であられ
さす、感光性組成物としての1μら几りの活性光線範゛
囲内での吸光度であられぜば、0.4〜4の範囲が好ま
しい。0・4以下の場合には、未硬化の下層部でも相当
の光硬化が進行し、減力不可能とは言えぬが、減力速度
を相当に犠牲にすることになシ好ましくない0逆に4以
上では画像形成用の露光量が大きくない画像複製に要す
る時間が長くな妙実用的とは言えない。
Next, to describe the desirable blending ratio of each of the above-mentioned compositions constituting the composition of the present invention, since the active leading edge absorbent may be an inorganic pigment and covers a very wide range, If the absorbance is within the active light range of 1 μm or more for the active composition, a range of 0.4 to 4 is preferable. If it is less than 0.4, considerable photocuring will proceed even in the uncured lower layer, and although it cannot be said that it is impossible to reduce the force, it is undesirable to sacrifice the rate of force reduction considerably. If it is 4 or more, the exposure amount for image formation is not large and the time required for image duplication is long, which is not practical.

活性光線吸収剤以外の成分に関しては、重合体状結合剤
100重量部に対し、好ましい単量体及び光開始剤(系
]の配合比はそれぞれ60〜120重量部及び0.5〜
40重量部である。それぞれが下限よシ低い場合には、
光感度、現像性上好ましくなく、また単量体が120重
量部よシも多い場合には、現像性の巾が少なく、また、
得られるレジスト画像の品質もよくない。光開始剤(系
)を40重型部よりも多く配合した場合には熱安定性(
シェルフ・ライフ)上杆1しくない組成物となる。
Regarding components other than the actinic ray absorber, the preferred blending ratios of the monomer and photoinitiator (system) are 60 to 120 parts by weight and 0.5 to 120 parts by weight, respectively, per 100 parts by weight of the polymeric binder.
It is 40 parts by weight. If each is lower than the lower limit,
This is unfavorable in terms of photosensitivity and developability, and if the monomer content exceeds 120 parts by weight, the range of developability is small, and
The quality of the resulting resist image is also poor. When the photoinitiator (system) is blended in an amount greater than 40 parts, the thermal stability (
(Shelf life) The upper rod becomes an unusual composition.

前記アミン化合物は重合体状結合剤の識当量1に対し0
.1〜2当量の配合が好ましい。0.1当量以下では、
減力性の経時変化防止に殆ど有効ではなく、逆に2当量
よりも多い場合、効果はあるけれども、画像複製材料か
らアミン臭があり商品価値を下げる。
The amine compound has an equivalent weight of 0 to 1 of the polymeric binder.
.. Preferably, the amount is 1 to 2 equivalents. Below 0.1 equivalent,
It is hardly effective in preventing changes in strength reducing properties over time; on the other hand, if the amount is more than 2 equivalents, although it is effective, the image duplicating material will give off an amine odor, lowering its commercial value.

本発明の感光性組成物は、上記の主成分以外にも一般に
感光性組成物で使用される可塑剤、熱重合防止剤、界面
活性剤、溶剤、耐スクラッチ性向上剤などを含んでいて
もよいことは当然である。
The photosensitive composition of the present invention may also contain plasticizers, thermal polymerization inhibitors, surfactants, solvents, scratch resistance improvers, etc. that are generally used in photosensitive compositions in addition to the above-mentioned main components. Good things are natural.

本発明の感光性組成物を用いて、減力可能な画像複製材
料、即ち、写真製版工程に於て用いられる非銀塩リスフ
ィルムを製造する場合には、次のような構成にするのが
好ましい。即ち下びき層を有する又は有し々い支持体上
に、本発す)」の感光性組成物を乾燥厚さ15/I以内
の薄膜に、溶液コートもり、<は熱浴融押出し法外とで
成形しく感光性樹脂ル1)更に通常はこの上に、保護フ
ィルムt″設けるが、水系溶剤に可溶の保護層を形成さ
せるとよい。さらに復製画像の耐スクラッチ性を高める
目的で、感光性樹脂層と保護フィルム又は保護層との中
間に、本発明者らが先に特許出願した耐スクラッチ層を
設けてもよい。
When the photosensitive composition of the present invention is used to produce an image duplicating material that can be reduced in force, that is, a non-silver salt lithium film used in the photolithography process, the following structure is used. preferable. That is, on a support having or having a subbing layer, the photosensitive composition (produced herein) is coated in a thin film with a dry thickness of 15/I or less, by solution coating, or by hot bath melt extrusion. 1) Furthermore, a protective film t'' is usually provided on top of the photosensitive resin, but it is preferable to form a protective layer soluble in an aqueous solvent.Furthermore, in order to improve the scratch resistance of the reproduced image, A scratch-resistant layer, which the present inventors previously applied for a patent, may be provided between the protective film or the protective layer.

本発明において画像複製材料に使用するのに適当な支持
体としては、ガラス板、プラスチックフィルム、金目板
、紙類なとがめる。プラスチックフィルムとしては、ポ
リエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、酢酸
セルロースなどのフィルムを挙げることができる。特に
2軸延伸したポリエステルフィルムは、寸法安定性及び
番明件に優れているので好ましい。支持体の厚さに厳密
表制限はないが、75〜125声が適当でおる。
Suitable supports for use in the image reproduction material in the present invention include glass plates, plastic films, gold plated plates, and papers. Examples of plastic films include films of polyester, polypropylene, polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, cellulose acetate, and the like. In particular, a biaxially stretched polyester film is preferred because it has excellent dimensional stability and stability. Although there is no strict limit to the thickness of the support, 75 to 125 tones is suitable.

本発明においては、支持体が直接に感光性樹脂層と接し
ている場合にも効果が認められ、特に支持体が感光性樹
脂層に対する接着力を向上させうる接着性化合物を含浸
している場合にはそうであるが、−1般的に好ましい構
成としては、支持体と感光性樹脂層との間に下びき層を
有しているものである。下びき層としては、高分子物質
の薄層または金属または金属化合物の薄層を利用できる
In the present invention, the effect is observed even when the support is in direct contact with the photosensitive resin layer, especially when the support is impregnated with an adhesive compound that can improve the adhesive strength to the photosensitive resin layer. However, a generally preferred configuration is one that has a subbing layer between the support and the photosensitive resin layer. The subbing layer can be a thin layer of polymeric material or a thin layer of metal or metal compound.

好ましい高分子化合物薄層としては、例えば、ポリアク
リレート、ポリ塩化ビニリデンψアクリロニトリル・イ
タコン酸共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレ
イン醸共重合体、テレフタル酸・イソフタル酸φグリコ
ール共重合体とインシアネート化合物などの高分子物質
の薄膜を挙げることができる。層の厚さは通常0.2〜
2μである。
Preferred polymer compound thin layers include, for example, polyacrylate, polyvinylidene chloride φ acrylonitrile/itaconic acid copolymer, vinyl chloride/vinyl acetate/maleic anhydride copolymer, terephthalic acid/isophthalic acid φ glycol copolymer, and Mention may be made of thin films of polymeric substances such as incyanate compounds. Layer thickness is usually 0.2~
It is 2μ.

また、下びき層として好ましい金属または金属化合物層
の金属まtは金属化合物としては、アルiニウム、ボロ
ニウム、鉄、マグネシウム、ケイ素、チタン、コバルト
、銅、インジウム、イリジウム #、”yンガン、モリ
ブデン、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、セレ
ン、銀、タンタル、錫、タングステン、バナジウム、亜
鉛、ジル;ニウム等および上記金属の合金、醸化物、窒
化物、ホウ化物、炭化物、硫化物および塩類などを挙げ
ることができ、例えば酸化アルミニウム、弗化マグネシ
ウム、酸化チタン、醸化ケイ素、アルミニウム亜鉛の合
金などがある。これら金属ま几は金属化合物のうちで、
アルミニウムを几はその合金または化合物がコスト面お
よび水系溶剤中でのエツチング速度が速いので最も好ま
しい。金属または金属化合物の薄層を支持体上に設ける
方法としては、メッキ、真空蒸着、スパッタリング、イ
オン化静電メッキなどの方法がめる。金属または金属化
合物の厚さは、金属または金属化合物の種類などによっ
ても異なるが通常100〜1000 A好ましくは30
0〜600Aである。
The metal or metal compound of the metal or metal compound layer that is preferable as the subbing layer includes aluminum, boronium, iron, magnesium, silicon, titanium, cobalt, copper, indium, iridium, molybdenum, etc. , nickel, palladium, platinum, rhodium, selenium, silver, tantalum, tin, tungsten, vanadium, zinc, zilium, etc., and alloys, ferments, nitrides, borides, carbides, sulfides, and salts of the above metals. For example, aluminum oxide, magnesium fluoride, titanium oxide, silicon chloride, aluminum-zinc alloys, etc. These metals are among the metal compounds.
Aluminum is most preferred because its alloys or compounds are inexpensive and have a high etching rate in aqueous solvents. Methods for providing the thin layer of metal or metal compound on the support include plating, vacuum deposition, sputtering, ionized electrostatic plating, and the like. The thickness of the metal or metal compound varies depending on the type of metal or metal compound, but is usually 100 to 1000 A, preferably 30 A.
It is 0-600A.

本発明においては、表面の保liあるいは、特に感光性
樹脂層が光重合系でおる場合には酸素による光重合反応
の阻害を防止する目的で、感光性樹脂層は光透過性良好
で剥離可能な保護フィルム、まtは、水系溶剤に可溶な
保護層で被覆されていてもよい。したがって水系溶剤可
溶のポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、メチルセ
ルロース等の樹脂を使用することができる。特にポリビ
ニルアルコールは、酸素バリヤー性にすぐれており、酸
素によるラジカル重合防害作用を減することができるの
で好ましい。これら保護フィルム又は保護層の厚みは0
.1〜5#が好ましい。余り薄く0.1μ以下の場合に
は、表面保護層としての機能かや ゛や弱くなるし、ま
た逆に5μ以上の場合は画像の解像力が低下し、好まし
くない。
In the present invention, the photosensitive resin layer has good light transmittance and is removable in order to maintain the surface or to prevent inhibition of the photopolymerization reaction by oxygen, especially when the photosensitive resin layer is a photopolymerization type. The protective film may be coated with a protective layer soluble in an aqueous solvent. Therefore, resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, and methyl cellulose that are soluble in aqueous solvents can be used. In particular, polyvinyl alcohol is preferred because it has excellent oxygen barrier properties and can reduce the radical polymerization damage prevention effect caused by oxygen. The thickness of these protective films or protective layers is 0
.. 1 to 5 # is preferred. If it is too thin and has a thickness of 0.1 μm or less, its function as a surface protective layer will be weakened, and if it is 5 μm or more, the resolution of the image will decrease, which is not preferable.

本発明の感光性組成物を用いて上記の如く得られる画像
複製材料は、印刷製版用フィルム(いわゆる返し返し用
リスフィルム)だけでなく、フォトマスク、カラー校正
用感光性フィルム、および平板印刷用28版など種々の
用途に利用可能である。
The image duplicating material obtained as described above using the photosensitive composition of the present invention can be used not only as a film for printing plates (so-called lithographic film for turning), but also as a photosensitive film for photomasks, color proofing, and lithographic printing. It can be used for various purposes such as 28th edition.

また本発明組成物を含む画像複製材料を用いて複製画像
を得、更に減力を行なうプロセスについて次に説明する
Further, a process for obtaining a reproduced image using an image duplicating material containing the composition of the present invention and further reducing force will be described below.

画像複製材料はまずオリジナルのネガもしくはポジフィ
ルムと密着させオリジナル側からの露光金受ける。この
際使用し得る光源は、高圧水銀灯。
The image reproduction material is first brought into close contact with the original negative or positive film to receive exposure from the original side. The light source that can be used in this case is a high-pressure mercury lamp.

超高圧水銀灯、カーボンアーク灯など、一般に写真製版
工程にて使用されるものを利用する事ができる。特殊な
ケースとして光開始剤(系)として、染料等の分光増感
剤を併用した場合には一上記オリジナルフィルムを用い
ることなく Arレーザー+He−Cdレーザー等のレ
ーザー走査により、直接イメージパターンを焼込むこと
も可能である。
It is possible to use those commonly used in photolithography processes, such as ultra-high pressure mercury lamps and carbon arc lamps. In a special case, when a spectral sensitizer such as a dye is used as a photoinitiator (system), the image pattern can be printed directly by laser scanning such as Ar laser + He-Cd laser without using the above original film. It is also possible to include

露光後の画像複製材料はアルカリ性水溶液などの水系現
像液に浸漬させ引続き、ブラシ又はスポンジなどで表面
擦かを行うと、非露光部が除去され画像パターンが出現
する。通常はこの後、/%イドキキノン、レゾルシン等
の重合禁止剤を含有した水溶液に浸漬し、延着操作全行
ない軽い水洗、’Kkyf針akシrめ語f咎外り旋側
画儲を塩入−着力工程は減力液おるいは現像液と同一溶
剤、また肱それらの希釈した溶剤でスプレーL、fcj
)溶剤中でスポンジまたはブラシで摩擦したり、溶剤を
筆に含ませて擦ったシすることによってなされる。
After exposure, the image duplicating material is immersed in an aqueous developer such as an alkaline aqueous solution, and the surface is then rubbed with a brush or sponge to remove the non-exposed areas and reveal an image pattern. Usually, after this, it is immersed in an aqueous solution containing a polymerization inhibitor such as /% idoquiquinone or resorcinol, and then the entire tying operation is carried out, followed by a light washing with water, and then the outer turning side of the needle is salted and attached. The process is to spray L, fcj with the same solvent as the reducing solution or developer, or a diluted version of these solvents.
) It is done by rubbing a sponge or brush in a solvent, or by rubbing a brush soaked in a solvent.

本発明は以上のような構成であるため、これを用いて形
成される画像複製材料は次の様な特長全町している。
Since the present invention has the above-described configuration, the image duplication material formed using the same has the following features.

1、複製画像の減力によりトーンの修正を行なう場合、
画像形成後減力までの経時日数にかかわらず、同じ減力
性を維持することができる。
1. When correcting the tone by reducing the power of the duplicate image,
Regardless of the number of days from image formation to force reduction, the same force reduction performance can be maintained.

2、減力速度そのものが向上し、すみゃかに減力作業を
行なうことができる。
2. The speed of reducing force itself is improved, and the work of reducing force can be carried out quickly.

3、写真製版工程で用すられるオペーク、ステージング
ニスなどの各種修正材料に対する適性がめる。
3. Evaluate the suitability of various correction materials such as opaque and staging varnish used in the photolithography process.

4、画像複製材料の光感度、シェルフライフなどに悪影
響を与えない。
4. Does not adversely affect the photosensitivity, shelf life, etc. of image duplication materials.

5、画像複製材料の解像力が低下しない。5. The resolution of the image duplication material is not reduced.

6、害像複製にあ几シ、現像性及び定着性が向上する究
めに、複製に要するプロセス時間が短縮され、写真製版
工程での作業時間が短縮される。
6. Improved accuracy in copying harmful images, developability and fixing properties.As a result, the process time required for copying is shortened, and the working time in the photolithography process is shortened.

以下実施例において本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below in Examples, but the present invention is not limited thereto.

なお冥施例中単に部とめるのは重量部を意味する。In the examples, "parts" simply mean parts by weight.

実施例1〜5、比較例1〜24 厚さ100μのポリエステルフィルムに下記の組成物を
リバースコーターでコーティングL、11%することに
より O,5piの下引層を有するポリエステルフィル
ムを作製した。
Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 24 A polyester film having a subbing layer of O,5pi was prepared by coating a 100μ thick polyester film with the following composition at 11% using a reverse coater.

次に、下記組成物を混合分散させた感光性組成物f、l
11整し、リバースコーターにより下記下引き層を設け
たポリエステルフィルム上にそれぞれコーティングし、
厚さ3,11の感光層を被覆した。
Next, photosensitive compositions f and l were prepared by mixing and dispersing the following compositions.
11, coated with a reverse coater on a polyester film provided with the following undercoat layer,
A photosensitive layer with a thickness of 3.11 was coated.

さらに、このフィルムyに下記の組成からなる得られた
画像複製材料に、21段ステップガイド(大日本スクリ
ーン社製)と150#/in、網点面積率40%の平網
画像を組合わせたテスト用ネガフィルムを重ね、3I(
W明室プリンターCORC社製)を用い、15秒間画像
露光を行なった。次に水洗で保護層ケ除いた後に、試料
に応じ30℃に調節した0、75チNa2Col水溶液
中に所足時間(白ヌケ時間〕浸漬後、水洗下、スポンジ
で擦υながら現像し乾燥することにより反転画像を得、
た。
Furthermore, a 21-stage step guide (manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.) and a flat-tone image with a dot area ratio of 40% at 150 #/in were combined with this film y and the obtained image duplication material having the following composition. 3I (
Image exposure was performed for 15 seconds using a W bright room printer (manufactured by CORC). Next, after removing the protective layer by washing with water, immerse the sample in a 0 or 75% Na2Col aqueous solution adjusted to 30°C for the required time (blank time), wash with water, develop while rubbing with a sponge, and dry. Obtain an inverted image by
Ta.

ステップガイドの5段まで硬化【、ており、網点はネガ
をよく再現していることが判った。
It was found that up to the 5th stage of the step guide was cured and the halftone dots reproduced the negative well.

次に同様にして作った複製網点画像を、30℃に保った
ハイドロキノンの5%水浴液に15秒間浸漬後、水洗、
乾燥処理した。
Next, a duplicate halftone image made in the same manner was immersed in a 5% hydroquinone water bath solution kept at 30°C for 15 seconds, and then washed with water.
Dry treated.

かくして得られた試料につき、下記する如く、減力性の
テストヲ実施した。
The sample thus obtained was subjected to a force reduction test as described below.

(1) まず、校正版焼付を想定し、試料の裏面より明
室プリンターにより80mJ/−の露光を与える。
(1) First, assuming printing of a calibration plate, expose the sample to 80 mJ/- from the back side using a bright room printer.

同一種の試料につき2枚の同様の処理を施したものを準
備する。内1枚を経時0日の試料として、直ちに下記(
2)の減力操作を施【2、他の1枚を20℃、65%の
室内暗所に保存【−114日後に減力操作を施L5て経
時変化を見た。
Prepare two similarly treated samples of the same type. Immediately use one of the samples as a sample after 0 days of aging (
2) The other sheet was stored indoors in the dark at 20°C and 65%.After 114 days, the force reduction operation was performed L5 and changes over time were observed.

(2) 減力液として、リン殿カリウムとリン酸水素ア
ンモニウムナトリウムの温合水溶液(重量比で1:1)
−i準備し、この叡に各試料を30秒間浸して後水切り
した。水洗ライトテーブル上で、スポンジにて擦りを与
えて後水洗し、乾燥り、 ft0得られた試料の減力%
(減力前の網点面積率(%)と減力後の網点面積率(%
)との差で示す。)を網点面積計(大日本スクリーン製
DT−10)lCて測定する。得られた結果を以下衣1
に示す。
(2) As a reducing liquid, a warm aqueous solution of potassium phosphorus and sodium ammonium hydrogen phosphate (1:1 by weight)
Each sample was soaked in this solution for 30 seconds and then drained. On a washing light table, rub it with a sponge, wash it with water, dry it, and calculate the % loss of force of the sample obtained in ft0.
(Dot area ratio before power reduction (%) and halftone dot area ratio after power reduction (%)
). ) is measured using a dot area meter (DT-10 manufactured by Dainippon Screen). The obtained results are shown below.
Shown below.

表 1 表1より明らかなように本発明で特定したアミン化合物
を含んだ画像複製材料の減カチは14日経ても全く変化
していないが、−1他のアミン化合物を含んだものは約
半分に低下しているのが判る。
Table 1 As is clear from Table 1, the reduction in area of the image duplicating material containing the amine compound specified in the present invention did not change at all even after 14 days, but that of the image duplicating material containing -1 other amine compounds decreased by about half. It can be seen that the value has decreased.

実施例6〜19 本実施例は、本発明の特許請求の範囲に記載する重合体
状結合剤及びアミン化合物の組合せが本発明の効果を発
現するのに如何に有効であるかを示すものである。実施
例1と同様にして得られた接着層を有するポリエステル
フィルム上に、下記組成物を混合分散させた感光性組成
物を調整し、リバースコーターによりコーティングし、
厚さ3さらに実施例1と同様に保護層をコーティングし
、得られた画像複製材料について、減力性のテストを行
なった。ただし露光量はステップガイドが5段硬化とな
るように調節した。得られた結果を表2にまとめて示す
Examples 6 to 19 These examples demonstrate how effective the combination of the polymeric binder and the amine compound described in the claims of the present invention is in achieving the effects of the present invention. be. A photosensitive composition was prepared by mixing and dispersing the following composition on a polyester film having an adhesive layer obtained in the same manner as in Example 1, and coated with a reverse coater,
A protective layer was further coated to a thickness of 3 in the same manner as in Example 1, and the resulting image duplicating material was tested for force reduction properties. However, the exposure amount was adjusted so that the step guide was cured in 5 steps. The obtained results are summarized in Table 2.

表 2 表2より明らかなように、本発明のアミン化合物音用い
る限り、重合体状結合剤として分子中にカルボン酸基、
スルホン酸基またはリン酸基のり特許出願人 東洋紡績
株式会社
Table 2 As is clear from Table 2, as long as the amine compound of the present invention is used, carboxylic acid groups,
Sulfonic acid group or phosphate group glue patent applicant Toyobo Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 少なくとも(1)活性光線吸収剤、(2)分子中にカル
ボン酸基、スルホン酸基またはリン液基の一種以上の基
を有する重合体状結合剤、(3)下記一般式(式中’R
1,R2は炭素数1〜3のアルキル基、R3は炭素数1
〜6のアルキル基+ Ra + Rsは炭素数3〜Gの
アルキル基i8られす) であられされるアミン化合物 (4)光開始剤および(5)重合可能な単量体を含むこ
とを特徴とする画像複製材料用感光性組成物
[Scope of Claims] At least (1) an actinic ray absorber; (2) a polymeric binder having one or more of carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, or phosphorous groups in the molecule; (3) the following general Formula (in the formula 'R
1, R2 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R3 is an alkyl group having 1 carbon number
~6 alkyl group + Ra + Rs is an alkyl group having 3 to G carbon atoms i8) An amine compound comprising (4) a photoinitiator and (5) a polymerizable monomer. Photosensitive composition for image reproduction material
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61174541A (en) * 1985-01-29 1986-08-06 Toyobo Co Ltd Sensitive composition for image reproducing material
JPH02285353A (en) * 1989-04-27 1990-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPH07234508A (en) * 1994-01-25 1995-09-05 Morton Thiokol Inc Aquatic optical imaging composition and dry film therefor
WO2001025288A1 (en) * 1999-10-01 2001-04-12 Ballina Pty Ltd Radiation polymerisable compositions
US20120243099A1 (en) * 2009-12-11 2012-09-27 Fujifilm Corporation Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3588111T2 (en) * 1985-06-29 1996-10-31 Dainippon Ink & Chemicals Plastic composition for solder protection ink
CN102341416B (en) * 2009-07-01 2014-06-04 积水化学工业株式会社 Binder resin for conductive paste, conductive paste, and solar cell element

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5034963A (en) * 1973-07-27 1975-04-03
JPS54147031A (en) * 1978-05-11 1979-11-16 Toray Industries Photosensitive material
JPS5868740A (en) * 1981-10-21 1983-04-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Photoresist laminate of heat resistant film
JPS5872138A (en) * 1981-10-02 1983-04-30 イ−・アイ・デユポン・ド・ネモア−ス・アンド・コンパニ− Photopolymerizing composition

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5034963A (en) * 1973-07-27 1975-04-03
JPS54147031A (en) * 1978-05-11 1979-11-16 Toray Industries Photosensitive material
JPS5872138A (en) * 1981-10-02 1983-04-30 イ−・アイ・デユポン・ド・ネモア−ス・アンド・コンパニ− Photopolymerizing composition
JPS5868740A (en) * 1981-10-21 1983-04-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Photoresist laminate of heat resistant film

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61174541A (en) * 1985-01-29 1986-08-06 Toyobo Co Ltd Sensitive composition for image reproducing material
JPH02285353A (en) * 1989-04-27 1990-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPH07234508A (en) * 1994-01-25 1995-09-05 Morton Thiokol Inc Aquatic optical imaging composition and dry film therefor
WO2001025288A1 (en) * 1999-10-01 2001-04-12 Ballina Pty Ltd Radiation polymerisable compositions
US20120243099A1 (en) * 2009-12-11 2012-09-27 Fujifilm Corporation Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device
US9110205B2 (en) * 2009-12-11 2015-08-18 Fujifilm Corporation Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device

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DE3508820A1 (en) 1986-09-18
JPH0369097B2 (en) 1991-10-30

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