JPS63249840A - Image forming material - Google Patents

Image forming material

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Publication number
JPS63249840A
JPS63249840A JP8414187A JP8414187A JPS63249840A JP S63249840 A JPS63249840 A JP S63249840A JP 8414187 A JP8414187 A JP 8414187A JP 8414187 A JP8414187 A JP 8414187A JP S63249840 A JPS63249840 A JP S63249840A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
monomer
resin layer
vinylmonomer
acidic group
Prior art date
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Pending
Application number
JP8414187A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Takenaka
竹中 茂夫
Satoshi Imahashi
聰 今橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP8414187A priority Critical patent/JPS63249840A/en
Publication of JPS63249840A publication Critical patent/JPS63249840A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Abstract

PURPOSE:To obtain the titled material having the less photodiffusion and the excellent resolving power, even in the case of gather-heating and capable of developing with a practical time by incorporating a specified ternary copolymer, a photoinitiator and an ethylenic unsatd. monomer in the titled material. CONSTITUTION:In the titled material comprising at least a photosensitive resin layer and a protective layer mounted on a supporting body, the photosensitive resin layer contains the ternary copolymer obtd. from a vinylmonomer contg. an acidic group, vinylmonomers which does not contain the acidic group and has <=9.3 SP value, and >=11.0 SP value respectively, the photoinitiator and the ethylenic unsatd. monomer. The former acidic group free vinylmonomer is exemplified by styrene and hexylmethacrylate, etc., the latter acidic group free vinylmonomer is exemplified by acrylonitrile and vinylacetate, etc. The vinylmonomer is exemplified by acrylic acid and methacrylic acid, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は写真技術の分野で有用な画像形成性材料、特に
マスクフィルムとして用いられる非銀塩リスフィルム、
平版印刷用プレート、印刷回路等の製造に利用されつる
感光性の画像形成性材料に関する。
Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to an image-forming material useful in the field of photography, particularly a non-silver salt lithium film used as a mask film;
This invention relates to photosensitive image-forming materials used in the manufacture of lithographic printing plates, printed circuits, etc.

(従来の技術) リスフィルム、平版等は高い解像力を要求され、特にリ
スフィルムは画像形成性材料として抜文字、重ね焼き、
裏焼き等複雑で多様な使用をされている。抜文字、重ね
焼きという製版作業は網の中に白抜は文字を入れるのに
使用され、ネガと感材の間に2〜5枚又はそれ以上の種
々のフィルムが重ねられて、露光される。
(Prior art) Lith film, lithography, etc. require high resolution, and Lith film in particular is used as an image-forming material for character extraction, overprinting,
It is used in a variety of complex ways, such as reverse firing. The plate-making process of blank letters and overprinting is used to insert blank letters into a mesh, and 2 to 5 or more sheets of various films are layered between the negative and the photosensitive material and exposed. .

(発明が解決しようとする問題点) 従来の技術において幾枚もフィルムを重ねられた状態で
は、ネガから感材まで光が到達する間に光の拡散が大き
くなり精度の良い解像性は得られ、ない。すなわちネガ
パターンでは、線巾は太りポジパターンでは逆に大きく
埋ってしまうという問題点を有している。
(Problem to be solved by the invention) In the conventional technology, when many layers of film are stacked, the light is diffused greatly while it reaches from the negative to the photosensitive material, making it difficult to achieve accurate resolution. There is no. In other words, a negative pattern has a problem in that the line width is thick, and a positive pattern is filled with a large amount of line width.

この問題を解決するために容易に類推され得ることは、
光の拡散量をおさえるために光量を減らす方法であるが
、光量を減らすと、感光層内部での硬化が減少し現像時
に画像が損失したり、膜強度が低下し、種々のトラブル
を誘引するので好ましくない。
What can be easily analogized to solve this problem is
This is a method of reducing the amount of light to suppress the amount of light diffusion, but reducing the amount of light reduces curing inside the photosensitive layer, leading to loss of images during development, lowering film strength, and various other problems. So I don't like it.

また現在、市販されているすべての非銀塩感光性画像形
成性材料ではこの抜文字、重ね焼き操作に使用された場
合、上記の理由で構足される性能は得られていないのが
現状である。
Furthermore, currently, all commercially available non-silver salt photosensitive image-forming materials do not have satisfactory performance when used for this stamping and overprinting operation due to the reasons mentioned above. be.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、上記従来の欠点を解決するものであり、その
目的とするところは抜文字重ね焼き性を向上させ、高い
解像力を達成し、かつ鮮明な画像を再現し得る画像形成
性材料を提供するものである。すなわち本発明は支持体
上に少(とも感光性樹脂層および保trlI層を有する
画像形成性材料において、前記感光性樹脂層が酸基を含
有するビニル系モノマー、SPPO23以下・の酸基非
含有ビニル系モノマーおよびSP値11.0以上の酸基
非含をビニル系モノマーより得られる三元共重合体(A
)、光開始剤(B)、およびエチレン性不飽和モノマー
(C)を含有することを特徴とする画像形成性材料であ
る。
(Means for Solving the Problems) The present invention solves the above-mentioned conventional drawbacks, and its purpose is to improve the character overprinting property, achieve high resolution, and provide clear images. The object of the present invention is to provide an image-forming material capable of reproducing. That is, the present invention provides an image-forming material having a photosensitive resin layer and a retention trlI layer on a support, in which the photosensitive resin layer contains a vinyl monomer containing an acid group, SPPO 23 or less, and does not contain an acid group. A terpolymer (A
), a photoinitiator (B), and an ethylenically unsaturated monomer (C).

本発明の感光性樹脂層に含まれる結合剤として用いられ
る三元共重合体(A)において、該共重合体を構成する
七ツマ−としては酸基を含有するビニル系モノマー、S
PPO23以下の酸基非含有ビニル系モノマーおよびS
P値11.0以上の酸基非含有ビニル系モノマーからな
り、本発明においてSP値とは、Fedorsの方法に
より求められる値であり、溶解パラメーターを示し、例
えばこの値が高い程、極性が強くなり水に近づくことを
意味する。
In the ternary copolymer (A) used as a binder contained in the photosensitive resin layer of the present invention, the ternary copolymer constituting the copolymer is a vinyl monomer containing an acid group, S
Acid group-free vinyl monomer with a PPO of 23 or less and S
It consists of a vinyl monomer that does not contain acid groups and has a P value of 11.0 or more. In the present invention, the SP value is a value determined by the Fedors method, and indicates a solubility parameter. For example, the higher the value, the stronger the polarity. It means getting closer to water.

具体的にはSPPO23以下の酸基非含有ビニル系モノ
マ−(以下aモノマーという)としてはスチレン、メタ
クリル酸ヘキシル、メタクリル酸ペンタフルオロプロピ
ル、メタクリル酸トリフルオロエチル、アクリル酸ブチ
ルなどが挙げられ、結合剤として耐水性および高い膜強
度を付与するという役目を果している。
Specifically, examples of acid group-free vinyl monomers with an SPPO of 23 or less (hereinafter referred to as monomer a) include styrene, hexyl methacrylate, pentafluoropropyl methacrylate, trifluoroethyl methacrylate, butyl acrylate, etc. As an agent, it plays the role of imparting water resistance and high film strength.

一方SP値11.0以上の酸基非含有ビニル系モノマ−
(以下bモノマーという)は比較的親水性を示し、結合
剤としてアルカリ現像性をもたせるためであり、具体的
にはアクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリル酸メチル
などが挙げられる。
On the other hand, an acid group-free vinyl monomer with an SP value of 11.0 or more
(hereinafter referred to as monomer b) is relatively hydrophilic and serves as a binder to provide alkaline developability, and specific examples thereof include acrylonitrile, vinyl acetate, and methyl acrylate.

さらに本発明における三元共重合体を構成する酸基を含
有するビニル系モノマ−(以下Cモノマーという)とし
てはアクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。
Furthermore, examples of the acid group-containing vinyl monomer (hereinafter referred to as C monomer) constituting the terpolymer of the present invention include acrylic acid, methacrylic acid, and the like.

なお前記三元共重合体の各々モノマー量は合計100重
量部としてaモノマー2〜93重量部、好ましくは′5
〜85重量部、bモノマー2〜93重囲部、好ましくは
5〜85重量部、Cモノマー5〜50重量部、好ましく
は8〜40重量部である。
The amount of each monomer in the terpolymer is 2 to 93 parts by weight of monomer a, preferably '5
~85 parts by weight, 2 to 93 parts by weight of the B monomer, preferably 5 to 85 parts by weight, and 5 to 50 parts by weight, preferably 8 to 40 parts by weight of the C monomer.

また好ましい組合せとしては例えばスチレン/酢酸ビニ
ル/メタクリル酸、スチレン/アクリロニトリル/メタ
クリル酸、メタクリル酸ヘキシル/酢酸ビニル/メタク
リル酸などが挙げられる。
Preferred combinations include, for example, styrene/vinyl acetate/methacrylic acid, styrene/acrylonitrile/methacrylic acid, hexyl methacrylate/vinyl acetate/methacrylic acid, and the like.

次に感光性樹脂層に含まれる光開始剤(B)としてはベ
ンジル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、4・41−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ
−41−ジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフ
ェノン誘導体、アンスラキノン、2−クロルアンスラキ
ノン、2−エチルアンスラキノン、1−クロルアンスラ
キノン、フエナントラキノンなどの芳呑族ケトン類、ベ
ンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル類、α−メチル
ベンゾインなどのベンゾイン誘導体、ベンジル、ジメチ
ルケクールおよび多核キノン類混合物、2・4・5−ト
リアリールイミダゾールニ量体と遊離基発生剤との混合
物などがある。
Next, as the photoinitiator (B) contained in the photosensitive resin layer, benzyl, benzophenone, Michler's ketone, 4.41-
Benzophenone derivatives such as bis(diethylamino)benzophenone and 4-methoxy-41-dimethylaminobenzophenone; aromatics such as anthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, and phenanthraquinone; Ketones, benzoin, benzoin alkyl ethers, benzoin derivatives such as α-methylbenzoin, benzyl, dimethylkecool and polynuclear quinone mixtures, mixtures of 2,4,5-triarylimidazole dimers and free radical generators. and so on.

これらのうち2・4・5−トリアリールイミダゾールニ
量体と遊離基発生剤とからなる光開始剤が高感度である
ことから好適に利用されつる。
Among these, a photoinitiator consisting of a 2,4,5-triarylimidazole dimer and a free radical generator is preferably used because of its high sensitivity.

2・4・5−トリアリールイミダゾールニ葺体としては
%2−(0−メトキシフェニル)−4・5−ジフェニル
イミダゾール二量体、2−(o−クロルフェニル)−4
・5−=−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−
メチルメルカプトフェニル)−4・5−ジフェニルイミ
ダゾール二量体などのトリフェニルイミダゾールニ量体
、2−(1−ナフチル)−4・5−ジフェニルイミダゾ
ール二量体、2− (9−アントリル)−4・5−ジフ
ェニルイミダゾールニ量体、2−(2−メトキシ−1−
ナフチル)−4・5−ジフェニルイミダゾール二量体、
2−(2−クロロ−1−ナフチル)−4゜5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体などの多環アリール−4・5−ジ
フェニルイミダゾール二量体が挙げられる。
As the 2,4,5-triarylimidazolite, %2-(0-methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(o-chlorophenyl)-4
・5-=-diphenylimidazole dimer, 2-(p-
triphenylimidazole dimers such as methylmercaptophenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(9-anthryl)-4・5-diphenylimidazole dimer, 2-(2-methoxy-1-
naphthyl)-4,5-diphenylimidazole dimer,
Examples include polycyclic aryl-4,5-diphenylimidazole dimers such as 2-(2-chloro-1-naphthyl)-4°5-diphenylimidazole dimer.

上記遊w1基発生剤としては、p、p’−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフェノンなどのp−アミノフェニルケ
トン化合物、ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリス
タルバイオレットなどのロイコトリフェニルメタン染料
、2・4−ジエチル−1・3−シクロブタンジオンなど
の環核ジケトン化合物、4・41−ビス(ジメチルアミ
ノ)チオベンゾフェノンなどのチオケトン化合物、2−
メルカプトベンゾチアゾールなどのメルカプタン化合物
、N−フェニルグリシン、ジメドン、7−ジエチルアミ
ノ−4−メチルクマリンなどがある。
Examples of the free W1 radical generator include p-aminophenyl ketone compounds such as p,p'-bis(dimethylamino)benzophenone, leucotriphenylmethane dyes such as leucomalachite green and leuco crystal violet, and 2,4-diethyl- Ring diketone compounds such as 1,3-cyclobutanedione, thioketone compounds such as 4,41-bis(dimethylamino)thiobenzophenone, 2-
Examples include mercaptan compounds such as mercaptobenzothiazole, N-phenylglycine, dimedone, and 7-diethylamino-4-methylcoumarin.

上記光開始剤は2種以上が混合されていてもよい。さら
に、これらの光開始剤の感度を上げるために増感剤を加
えることも可能である。増感剤としては、キサンチン系
、アクリジン系、チアジン系、シアニン系などの色素が
好適に用いられる。
Two or more kinds of the above photoinitiators may be mixed. Furthermore, it is also possible to add sensitizers to increase the sensitivity of these photoinitiators. As the sensitizer, xanthine-based, acridine-based, thiazine-based, cyanine-based dyes, and the like are suitably used.

本発明感光性樹脂層に含有されるエチレン系不飽和モノ
マー(C)は分子内に1個以上の重合可能な二重結合を
有するモノマーおよび/またはオリゴマーである。この
ような化合物は光開始剤によって開始されるラジカル反
応によって付加重合し高分子を形成しうる。具体的には
ヘキシル(メタ)アクリレート〔(メタ)アクリレート
はアクリレートおよび/またはメタクリレートを示す〕
、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ラリウル(メ
タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートなど
のアルキル(メタ)アクリレート類、ヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレート類、N、N’−ジアルキルアミ
ノアルキル(メタ)アクリレート類、メトキシエチル(
メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレ
ートなどのアルキルエーテル(メタ)アクリレート類、
ハロゲン化アルキル(メタ)アクリレート類、アルキル
(メタ)アクリルアミド類、ジエチレングリコールジ(
メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ
)アクリレートなどのポリアルキルエーテル(メタ)ア
クリレート、エチレングリコール、グリセリン、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトールなどの多価ア
ルコールの(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリル
酸、グリシジル(メタ)アクリレートと活性水素含有化
合物との反応生成物、グリシジル化合物と(メタ)アク
リル酸との反応生成物、N−メチロール化合物との縮合
物、ポリイソシアネート化合物とヒドロキシアルキル(
メタ)アクリレートとの反応生成物などがある。エチレ
ン系不飽和モノマー(C)は2種以上が混合されていて
もよい。これら七ツマ−は、該モノマーが感光性樹脂層
に占める割合、結合剤の種類、光開始剤の種類や量、カ
ーボンブラックなど後述の活性光線吸収剤が含有される
ときにはその種類や量、これら化合物の相容性、皮膜形
成性、安定性、所望の感光性などを考慮して、その種類
や量が決められる。
The ethylenically unsaturated monomer (C) contained in the photosensitive resin layer of the present invention is a monomer and/or oligomer having one or more polymerizable double bonds in the molecule. Such compounds can undergo addition polymerization to form polymers through radical reactions initiated by photoinitiators. Specifically, hexyl (meth)acrylate [(meth)acrylate refers to acrylate and/or methacrylate]
, cyclohexyl (meth)acrylate, rariul (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate and other alkyl (meth)acrylates, hydroxyalkyl (meth)acrylates, N,N'-dialkylaminoalkyl (meth)acrylates, methoxy ethyl(
Alkyl ether (meth)acrylates such as meth)acrylate, ethoxyethyl (meth)acrylate,
Halogenated alkyl (meth)acrylates, alkyl (meth)acrylamides, diethylene glycol di(
Polyalkyl ether (meth)acrylates such as meth)acrylate and triethylene glycol di(meth)acrylate, (meth)acrylates of polyhydric alcohols such as ethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, and pentaerythritol, and (meth)acrylic acid. , reaction products of glycidyl (meth)acrylate and active hydrogen-containing compounds, reaction products of glycidyl compounds and (meth)acrylic acid, condensates with N-methylol compounds, polyisocyanate compounds and hydroxyalkyl (
These include reaction products with meth)acrylates. Two or more types of ethylenically unsaturated monomers (C) may be mixed. These seven polymers include the proportion of the monomer in the photosensitive resin layer, the type of binder, the type and amount of photoinitiator, and the type and amount of actinic ray absorbers such as carbon black, which will be described later. The type and amount of the compound are determined in consideration of the compatibility, film-forming properties, stability, desired photosensitivity, etc. of the compound.

モノマーの沸点の低い場合は皮膜形成時もしくは形成後
に発揮する傾向があるため、沸点の高いモノマーがより
好ましい。
If the monomer has a low boiling point, it tends to be effective during or after film formation, so monomers with a high boiling point are more preferred.

なお本発明において感光性樹脂色には必要に応じて活性
光線吸収剤が含有される。活性光線吸収剤は、現像後の
画像を見やす(する目的で、あるいはリスフィルムの調
整などの目的で用いられる。活性光線吸収剤としては、
その紫外もしくは可視吸収スペクトルが、用いられる光
開始剤の該スペクトルと重なりを有する化合物、例えば
、紫外線吸収剤、紫外線吸収性染料、その他の染料、顔
料などが用いられる。その例としては、カーボンブラッ
ク、酸化チタン、酸化鉄、各種金属や金属酸化物、硫化
物などの粉末、ピグメントブラック(C,r、5044
0)、クロムイエローライト(C,1,77803) 
、2・21−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン、2・4−ジヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ
フェニルベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ
−5′−メトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、レゾ
ルシノールモノベンゾエート、エチル−2−シアノ−3
・3−ジフェニルアクリレート、トルイジン・イエロー
GW (C,I 、71880) 、モリブデンオレン
ジ(C,I 、77805) 、スーダンイエロー(C
,I 、30) 、オイルオレンジ(C,1゜1205
5)などがある。上記活性光線吸収剤のうちで特に、カ
ーボンブラックが好適に用いられる。
In the present invention, the photosensitive resin color may contain an actinic ray absorber if necessary. Actinic ray absorbers are used for the purpose of making images easier to see after development, or for purposes such as adjusting lith film.As actinic ray absorbers,
Compounds whose ultraviolet or visible absorption spectrum overlaps with that of the photoinitiator used, such as ultraviolet absorbers, ultraviolet absorbing dyes, other dyes, and pigments, are used. Examples include powders of carbon black, titanium oxide, iron oxide, various metals, metal oxides, sulfides, pigment black (C, r, 5044
0), Chrome Yellow Light (C, 1, 77803)
, 2,21-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, hydroxyphenylbenzotriazole, 2-(2'-hydroxy-5'-methoxyphenyl)benzotriazole, resorcinol monobenzoate, ethyl-2-cyano -3
・3-Diphenylacrylate, Toluidine Yellow GW (C,I, 71880), Molybdenum Orange (C,I, 77805), Sudan Yellow (C
, I, 30), oil orange (C, 1°1205
5) etc. Among the actinic light absorbers mentioned above, carbon black is particularly preferably used.

活性光線吸収剤は、感光性樹脂層、後述の保護月および
必要に応じて設けられる下びき層の合計の吸光度が、使
用する活性光線範囲内で1.5〜4の範囲となるように
配合されるのが好ましい。
The actinic ray absorber is blended so that the total absorbance of the photosensitive resin layer, the protective layer described below, and the subbing layer provided if necessary is in the range of 1.5 to 4 within the active ray range used. Preferably.

感光性樹脂と支持体との間に活性光線吸収層を設けて、
ここに活性光線吸収剤を含有させてもよい。活性光線吸
収層を構成するポリマーとしては、例えば上記結合剤に
用いられるのと同様の化合物が使用される。含有される
活性光線吸収剤の量はこの届を含めた画像形成板全体(
支持体を除く)の吸光度が上記の範囲となるように調整
される。
An actinic ray absorbing layer is provided between the photosensitive resin and the support,
An actinic ray absorber may be included here. As the polymer constituting the actinic ray absorbing layer, for example, the same compound as that used for the above-mentioned binder is used. The amount of actinic ray absorber contained in the entire image forming plate including this notification (
(excluding the support) is adjusted so that the absorbance is within the above range.

感光性樹脂層および活性光線吸収層の厚みは特に限定さ
れないが、高い解像力を得るためには、それぞれ1〜5
μm + 2〜4μm程度であることが望ましい。
The thickness of the photosensitive resin layer and the actinic ray absorption layer is not particularly limited, but in order to obtain high resolution, the thickness of each is 1 to 5.
It is desirable that the thickness is about μm + 2 to 4 μm.

本発明においては、表面の保護あるいは特に酸素による
光重合反応の阻害を防止する目的で、感光性樹脂層は光
透過性良好で剥離可能な保護フィルムまたは水系溶剤に
可溶な保y!Ir3で被覆されていてもよい。従って水
系溶剤の可溶のポリビニルアルコール、ポリアクリル酸
、メチルセルロース等の樹脂を使用することができる。
In the present invention, for the purpose of protecting the surface or preventing inhibition of the photopolymerization reaction by oxygen in particular, the photosensitive resin layer is a protective film with good light transmittance and removable, or a protective film soluble in an aqueous solvent. It may be coated with Ir3. Therefore, resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, and methyl cellulose that are soluble in aqueous solvents can be used.

特にポリビニルアルコールは酸素バリヤー性にすぐれて
おり酸素によるラジカル重合防害作用を減することがで
きるので好ましい。
In particular, polyvinyl alcohol is preferable because it has excellent oxygen barrier properties and can reduce the radical polymerization damage prevention effect caused by oxygen.

次に本発明画像形成性材料の支持体としては、ガラス板
、プラスチックフィルム、金属板、紙類などがある。上
記プラスチックフィルムとしては、ポリエステル、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどの
フィルムが挙げられる。特に2軸延伸したポリエステル
フィルムは、寸法安定性および透明性に優れているので
好ましい。支持体の厚みは特に限定されないが、通常7
5〜175μmである。
Examples of the support for the image-forming material of the present invention include glass plates, plastic films, metal plates, and papers. Examples of the plastic film include films made of polyester, polypropylene, polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, cellulose acetate, and the like. In particular, a biaxially stretched polyester film is preferred because it has excellent dimensional stability and transparency. The thickness of the support is not particularly limited, but is usually 7
It is 5 to 175 μm.

上記支持体と該支持体表面に形成される前記の感光性樹
脂層の接着性を向上させるための接着層、金属薄膜など
が下びき豹として設けられていてもよい。下びき層、特
に接着層には高分子物質の薄層が利用される。このよう
な高分子物質には、例えばポリアクリレート、ポリ塩化
ビニリデン−アクリロニトリル−イタコン酸共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、テ
レフタル酸−イソフタル酸−グリコール共重合体とイン
シアネート化合物との反応生成物などがある。層の厚さ
は特に限定されないが、通常0.2〜2μmである。
An adhesive layer, a metal thin film, or the like may be provided as an undercoat to improve the adhesion between the support and the photosensitive resin layer formed on the surface of the support. A thin layer of polymeric material is utilized for the subbing layer, particularly the adhesive layer. Such polymeric substances include, for example, polyacrylate, polyvinylidene chloride-acrylonitrile-itaconic acid copolymer,
Examples include reaction products of vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymers, terephthalic acid-isophthalic acid-glycol copolymers, and incyanate compounds. The thickness of the layer is not particularly limited, but is usually 0.2 to 2 μm.

本発明の画像形成性材料の製造にあたっては、必要に応
じて下引き層を必要に応じて着色順をあらかじめ有する
支持体上に感光性樹脂層を溶融成形又は溶液コーティン
グ法で成膜し乾燥して得られた感光性樹脂組成物に、必
要に応じて保護フィルムをラミネート又は保護肘をコー
ティングすることにより得られる。
In producing the image-forming material of the present invention, a photosensitive resin layer is formed by melt molding or solution coating on a support that has a coloring order in advance, and is dried. The resulting photosensitive resin composition is optionally laminated with a protective film or coated with a protective film.

(実施例) 以下に本発明を実施例を用いて具体的に説明する。(Example) The present invention will be specifically explained below using Examples.

実施例11比較例1〜4 厚さ100μmのポリエステルフィルム(支持体)に不
飽和ポリエステル系接着剤と溶剤とを主成分とする組成
物をリバースコーターでコーティングし乾燥することに
より0.5μmの下びき層(接む剤層)を形成した。次
に以下に示す化合物を混合分散させた感光性樹脂組成物
を調製しすt< −X :1−ターにより接む剤肘上に
コーティングし厚さ3μmの感光性樹脂層を形成した。
Example 11 Comparative Examples 1 to 4 A 100 μm thick polyester film (support) was coated with a composition containing an unsaturated polyester adhesive and a solvent as main components using a reverse coater and dried to give a thickness of 0.5 μm. A coating layer (contacting agent layer) was formed. Next, a photosensitive resin composition in which the following compounds were mixed and dispersed was prepared, and coated onto the adhesive elbow using a t<-X:1-tar to form a 3 μm thick photosensitive resin layer.

表1(感光性樹脂組成物) 結合剤(表2参照)   41(重量部)カーボンブラ
ック    12 2−(2−クロロ−1−ナフチル)4,5−ジフェニル
  8イミダゾ一ルニ量体 ハイドロキノンモノメチルエーテル        0
.03ジメドン                  
     3ミヒラーケトン            
         2・ メタノール        
            140クロロホルム    
               120酢酸エチル  
                  80酢酸n−プ
ロピル                 40イソプ
ロピルアルコール               40
表2 結合剤 次に得られた感光性樹脂層上にそれぞれポリビニルアル
コール(重合度500)7%水溶液をリバースコーター
でコーティングしaさ1.5μmの保護層を形成して画
像形成性材料を得た。
Table 1 (Photosensitive resin composition) Binder (see Table 2) 41 (parts by weight) Carbon black 12 2-(2-chloro-1-naphthyl)4,5-diphenyl 8 imidazoyl dimer hydroquinone monomethyl ether 0
.. 03 Jimedon
3 Michler Ketone
2. Methanol
140 chloroform
120 ethyl acetate
80 n-propyl acetate 40 isopropyl alcohol 40
Table 2 Binder Next, a 7% aqueous solution of polyvinyl alcohol (degree of polymerization 500) was coated on each of the obtained photosensitive resin layers using a reverse coater to form a protective layer with a thickness of 1.5 μm to obtain an image-forming material. Ta.

得られた画像形成材料の各々の一部を、一定時間、30
℃、0.75%炭酸ナトリウム水溶液中に浸漬し、その
後流水下でスポンジでこすり、感光居が完全に除去され
る時間を測定し、各々の現像時間を調べておいた。
A portion of each of the resulting imaging materials was heated for a period of 30 minutes.
The sample was immersed in a 0.75% sodium carbonate aqueous solution at a temperature of 0.75%, and then rubbed with a sponge under running water.The time required for the photoresist to be completely removed was measured, and the development time for each was determined.

一方得られた画像形成性材料に、それぞれ第1図に示す
ようにネガフィルムを重ねて真空フレーム中で密むさせ
た後、ORC超高圧水銀灯(3KW)(オーク社製ポリ
マープリンター)を用いて露光し、前記現像液を用いて
各々の現像時間の1.3倍をかけて現像した。その結果
を表3に示す。
On the other hand, as shown in Fig. 1, each of the obtained image-forming materials was overlaid with a negative film and densely packed in a vacuum frame, and then exposed using an ORC ultra-high pressure mercury lamp (3KW) (polymer printer manufactured by Oak Co., Ltd.). It was exposed to light and developed using the developer for 1.3 times the respective development time. The results are shown in Table 3.

以下余白 表3 (効果) 表3より明らかなように統合剤として三元共重合体を用
いた本発明画像形成性材料は少露光量でも強固な膜を形
成し、そのため光の拡散も少く、重ね焼きしても解像力
が優れ、また実用的な時間で現像可能であることが判る
Margin Table 3 (Effects) As is clear from Table 3, the image-forming material of the present invention using a terpolymer as an integrating agent forms a strong film even at a low exposure dose, and therefore has little light diffusion. It can be seen that the resolution is excellent even when overprinted, and development can be done in a practical amount of time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の画像形成材料を用いて、ネガフィルム
を重ねて露光している状態の簡略断面図である。1.2
.4は透明ネガフィルム、3は文字ネガフィルム、5は
網ネガフィルム、8&ま支t3体7上に感光性樹脂層6
を有する本発明画像形成性材料である。
FIG. 1 is a simplified cross-sectional view of a state in which negative films are overlapped and exposed using the image forming material of the present invention. 1.2
.. 4 is a transparent negative film, 3 is a character negative film, 5 is a mesh negative film, 8 & 3 supports t 3 on the photosensitive resin layer 6
The image-forming material of the present invention has the following properties.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 支持体上に少なくとも感光性樹脂層および保護層を有す
る画像形成性材料において、前記感光性樹脂層が酸基を
含有するビニル系モノマー、SP値9.3以下の酸基非
含有ビニル系モノマーおよびSP値11.0以上の酸基
非含有ビニル系モノマーより得られる三元共重合体(A
)、光開始剤(B)およびエチレン性不飽和モノマー(
C)を含有することを特徴とする画像形成性材料。
In an image-forming material having at least a photosensitive resin layer and a protective layer on a support, the photosensitive resin layer comprises a vinyl monomer containing an acid group, a vinyl monomer not containing an acid group having an SP value of 9.3 or less, and A terpolymer (A
), photoinitiator (B) and ethylenically unsaturated monomer (
An image-forming material characterized by containing C).
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