JPS60171281A - Glazed ceramic substrate - Google Patents

Glazed ceramic substrate

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Publication number
JPS60171281A
JPS60171281A JP2904384A JP2904384A JPS60171281A JP S60171281 A JPS60171281 A JP S60171281A JP 2904384 A JP2904384 A JP 2904384A JP 2904384 A JP2904384 A JP 2904384A JP S60171281 A JPS60171281 A JP S60171281A
Authority
JP
Japan
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ceramic substrate
glaze layer
recess
snap
glazed
Prior art date
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Pending
Application number
JP2904384A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
豊 巽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP2904384A priority Critical patent/JPS60171281A/en
Publication of JPS60171281A publication Critical patent/JPS60171281A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、各種の回路素子等に適用されるグレーズド
セラミック基板に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a glazed ceramic substrate that is applied to various circuit elements and the like.

゛ 一般に、この種のグレーズドセラミック基板には、
第1図に示すように、セラミック基板aの表面にグレー
ズNbが全面に亘って積層成形されているものがある。
゛ Generally, this type of glazed ceramic substrate has
As shown in FIG. 1, there is a ceramic substrate a in which a glaze Nb is laminated over the entire surface.

このグレーズドセラミック基板において、グレーズNb
を単に成形したのみでは端部が表面張力などのために盛
り上がり、厚肉部Cが全周に亘って形成されることにな
る。この厚肉部Cを有したままでは、爾後工程における
ホトリソグラフィ技術を用いて形成されるバタ〜ン楕度
に悪影響を与えることになる。従って、グレーズ層すの
成形後、この厚内部Cを切除するようにしている。
In this glazed ceramic substrate, the glaze Nb
If it is simply molded, the end portion will bulge due to surface tension, etc., and a thick portion C will be formed over the entire circumference. If this thick portion C remains, it will have an adverse effect on the pattern ellipse formed using photolithography technology in a subsequent process. Therefore, after forming the glaze layer, this thick inner portion C is cut out.

そこで、従来より第2図に示すように、セラミック基板
aの端部裏面にV字状のスナップ′/1IIdを全周に
亘って形成していた。このスナップ溝dは、例えば端面
より2〜5龍程度内側に設けられ、グレーズ層すの成形
後に、第3図に示すように、このスナップ溝dに添って
セラミック基板a及びグレーズ層すの端部を破断し、厚
肉部Cを除去していた。
Therefore, as shown in FIG. 2, a V-shaped snap '/1IId has conventionally been formed on the back surface of the end portion of the ceramic substrate a over the entire circumference. This snap groove d is provided, for example, about 2 to 5 degrees inward from the end surface, and after forming the glaze layer, the edge of the ceramic substrate a and the glaze layer are formed along this snap groove d, as shown in FIG. The thick part C was removed.

しかし、このグレーズドセラミンク基板において、厚肉
部Cを除去した際、グレーズ層すの上端隅角eが鋭角の
ままで残存することになる。そして、ホトレジ工程の露
光時において、第4図に示すように、セラミック基板a
に反りやうねりが生じると、隅角eでホトマスクfを傷
付ける場合があり、不良発生の一要因となっていた。ま
た、爾後の各種処理工程において、隅角eが鋭角のまま
では欠けや割れが生じ易いという問題があった。
However, in this glazed ceramic substrate, when the thick portion C is removed, the upper end corner e of the glaze layer remains as an acute angle. Then, during exposure in the photoregistration process, as shown in FIG.
If warpage or waviness occurs in the photomask f, the corner e may damage the photomask f, which is one of the causes of defects. In addition, there is a problem in that chipping and cracking are likely to occur if the corner e remains acute in subsequent various processing steps.

この発明は、斯かる点に鑑みてなされたもので、切断後
のグレーズ層における上端隅角にアールが付くようにし
て、ホトマスクの傷付けを防止すると共に、欠けや割れ
の発生を防止するようにしたグレーズドセラミンク基板
を提供することを目的とするものである。
This invention has been made in view of the above, and is designed to prevent the photomask from being scratched and to prevent chipping and cracking by rounding the upper corner of the glaze layer after cutting. The object of the present invention is to provide a glazed ceramic substrate having a high temperature.

即ち、この発明は、上述した目的を達成するために、セ
ラミック基板の端部表面に凹所が全周に亘って形成され
る一方、端部裏面に全周に亘ってスナップ溝が前記凹所
と対応した位置に形成され、前記グレーズ層が凹所でや
や凹んで前記セラミック基板の表面全面に積層成形され
、前記スナップ溝に沿ってセラミック基板及びグレーズ
層の端部が切断されるように構成されている。
That is, in order to achieve the above-mentioned object, the present invention has a recess formed on the end surface of a ceramic substrate over the entire circumference, and a snap groove formed over the entire circumference on the back surface of the end. The glaze layer is formed at a position corresponding to the groove, the glaze layer is slightly recessed and laminated over the entire surface of the ceramic substrate, and the ends of the ceramic substrate and the glaze layer are cut along the snap groove. has been done.

以下、この発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明
する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第5図乃至第8図に示すように、1はグレーズドセラミ
ンク基板であって、各種回路素子等の基板となるもので
、セラミック基板2とグレーズ層3とより構成されてい
る。
As shown in FIGS. 5 to 8, a glazed ceramic substrate 1 serves as a substrate for various circuit elements, and is composed of a ceramic substrate 2 and a glaze layer 3.

このセラミック基板2は、例えば矩形状の平板に形成さ
れており、表面(上面)に凹所4が、裏面(下面)にス
ナップ溝5が形成されている。
This ceramic substrate 2 is formed into a rectangular flat plate, for example, and has a recess 4 formed on its front surface (upper surface) and a snap groove 5 formed on its back surface (lower surface).

この凹所4は、断面V字型に形成され、セラミック基板
2の端面より2〜5+n程度内側に形成され、その端面
に添って全周に設けられている。更に、この凹所4の上
端隅部はややアールが付されて、セラミック基板2の表
面よりやや丸みをもって凹んでいる。
The recess 4 has a V-shaped cross section, is formed approximately 2 to 5+n inward from the end surface of the ceramic substrate 2, and is provided along the entire circumference of the end surface. Further, the upper end corner of the recess 4 is slightly rounded and recessed from the surface of the ceramic substrate 2 with a slightly rounded shape.

一方、スナップ溝5も断面v字型に形成され、凹所に対
応した位置でセラミック基板2の端面より2〜5鰭程度
内側に形成され、その端面に添って全周に設けられてい
る。従って、凹所4とスナップ溝5とがセラミック基板
2に表裏より相対峙して別設されている。
On the other hand, the snap groove 5 is also formed to have a V-shaped cross section, and is formed about 2 to 5 fins inward from the end surface of the ceramic substrate 2 at a position corresponding to the recess, and is provided along the entire circumference of the end surface. Therefore, a recess 4 and a snap groove 5 are separately provided in the ceramic substrate 2 so as to face each other from the front and back.

前記グレーズ層3は、セラミック基板2の表面(上面)
に全面に亘って積層成形されている。そして、グレーズ
N3は凹所4部分で凹み6が形成されると共に、セラミ
ック基板2の端部において表面張力などにより盛り上が
り厚肉部7が形成されている。
The glaze layer 3 is formed on the surface (upper surface) of the ceramic substrate 2.
The entire surface is laminated and molded. In the glaze N3, a depression 6 is formed at the depression 4 portion, and a thick portion 7 is formed at the end of the ceramic substrate 2 by swelling due to surface tension or the like.

前記セラミック基板2及びグレ一ズ層3の端部はスナッ
プm5に沿って切断されるようになっている。
The ends of the ceramic substrate 2 and the glaze layer 3 are cut along the snap m5.

次に、グレーズドセラミンク基Fi1の製造方法につい
て説明する。
Next, a method for producing the glazed ceramic base Fi1 will be described.

まず、第5図に示すように、セラミック基板2の焼結成
形前において、金型に突起が形成され、この金型を用い
てセラミック基板2を平板状に形成すると同時に、凹所
4を端部表面に全周に亘って成形する。そして、このセ
ラミック基板2を焼結する。
First, as shown in FIG. 5, before the ceramic substrate 2 is sintered and formed, protrusions are formed on a mold, and this mold is used to form the ceramic substrate 2 into a flat plate shape, and at the same time, the recesses 4 are formed at the edges. Molded on the entire circumference of the surface. Then, this ceramic substrate 2 is sintered.

続いて、第6図に示すように、セラミック基板2の表面
にグレーズ層3を積層成形する。このグレーズ層3を成
形すると、セラミツク基板2端部において表面張力など
により盛り上がり、厚肉部7が生しることになる。しか
も、凹所4の添置て凹み6が生し、この凹み6は厚肉部
7より内側に形成され、表面から緩やかに凹むことにな
る。
Subsequently, as shown in FIG. 6, a glaze layer 3 is laminated on the surface of the ceramic substrate 2. When this glaze layer 3 is molded, it swells at the end of the ceramic substrate 2 due to surface tension or the like, resulting in a thick portion 7. Furthermore, a recess 6 is formed along with the recess 4, and this recess 6 is formed inside the thick portion 7 and is gently recessed from the surface.

引き続いて、第7図に示すように、セラミック基板2の
裏面にスナップ溝5をレーザ加工によって形成する。こ
のスナップ溝5は凹所4に対応した位置に端部裏面の全
周に亘って成形する。
Subsequently, as shown in FIG. 7, snap grooves 5 are formed on the back surface of the ceramic substrate 2 by laser processing. This snap groove 5 is formed at a position corresponding to the recess 4 over the entire circumference of the back surface of the end portion.

最後に、第8図に示すように、セラミック基板2及びグ
レーズ層3の端部をスナップ?la 5に沿って破断す
る。これによって、グレーズ層3の厚肉部7が除去され
、平坦なグレーズ層3がセラミック基板2に積層成形さ
れることになり、その上、グレーズ層3は凹み6で破断
するため、上端隅角にアールが付されることになる。
Finally, as shown in FIG. 8, snap the ends of the ceramic substrate 2 and glaze layer 3 together. Break along la 5. As a result, the thick part 7 of the glaze layer 3 is removed, and a flat glaze layer 3 is laminated onto the ceramic substrate 2. Furthermore, since the glaze layer 3 is broken at the recess 6, the upper corner corner R will be added to.

このグレーズドセラミック基板1において、スナップ溝
5を別設したのは、単に凹所4のみ形成したのではグレ
ーズ層3がこの凹所4にも積層されるため破断すること
ができないからである。
In this glazed ceramic substrate 1, the snap grooves 5 are provided separately because if only the recesses 4 were formed, the glaze layer 3 would be laminated on the recesses 4 as well and would not break.

尚、この実施例において、凹所4は焼結前の金型で、ス
ナップ溝5はグレーズ層3の成形後にそれぞれ別個にセ
ラミック基板2に形成した。これは、凹所4とスナップ
溝5をセラミック基板2の焼結前の金型により同時成形
すると、凹所4とスナップ/145間が薄肉となるため
、焼結時の割れ等が発生ずるためである。ただし、セラ
ミック基板2が厚い場合には、焼結前の金型により凹所
4とスナップ溝5を同時成形してもよい。
In this example, the recesses 4 were formed in the mold before sintering, and the snap grooves 5 were formed separately in the ceramic substrate 2 after the glaze layer 3 was formed. This is because if the recess 4 and the snap groove 5 are simultaneously molded using the mold of the ceramic substrate 2 before sintering, the space between the recess 4 and the snap/145 will become thin, which will cause cracks during sintering. It is. However, if the ceramic substrate 2 is thick, the recesses 4 and the snap grooves 5 may be formed simultaneously using a mold before sintering.

また、実施例の凹所4は断面V字型にしたが、断面U字
型などでもよく、要するにグレーズ層3の凹み6が緩や
かに形成されるものであればよい。
Further, although the recess 4 in the embodiment has a V-shaped cross section, it may also have a U-shaped cross section, as long as the recess 6 in the glaze layer 3 is formed gently.

以上のように、この発明のグレーズドセラミック基板に
よれば、セラミック基板の端部表裏面に凹所とスナップ
溝を形成し、グレーズ層に凹みを形成し、この凹み部分
で切断するようにしたために、切断後のグレーズ層の端
面隅角にアールが付されることになるので、ホトレジ工
程の露光時にホトマスクの傷付けを確実に防止すること
ができるから、不良品の発生を未然に防止することがで
きる。
As described above, according to the glazed ceramic substrate of the present invention, recesses and snap grooves are formed on the front and back surfaces of the end portion of the ceramic substrate, recesses are formed in the glaze layer, and cutting is performed at the recessed portions. Since a radius is added to the corner of the end face of the glaze layer after cutting, it is possible to reliably prevent damage to the photomask during exposure in the photoresist process, thereby preventing the occurrence of defective products. can.

また、グレーズ層の端面隅角部が従来のように鋭角でな
いから、爾後工程における欠けや割れを確実に防止する
ことができる。
In addition, since the end face corners of the glaze layer are not acute angles as in the conventional case, chipping and cracking in subsequent processes can be reliably prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第4図は従来例を示し、第1図はグレーズド
セラミック基板の斜視図、第2図は同断面図、第3図は
端部切断後を示す同断面図、第4図は露光時を示す同断
面図、第5図乃至第8図はこの発明の一実施例を示すも
のであり、第5図はセラミック基板の断面図、第6図は
グレーズ層の成形後を示すグレーズドセラミンク基板の
断面図、第7図はスナップ溝の成形後を示す同断面図、
第8図は端部切断後を示す同断面図である。 1:グレーズドセラミンク基板、 2:セラミック基板、3:グレーズ層、4:凹所、 5
ニスナツプ溝、 6:凹み、 7:厚肉部。 第2図 第5図 第6図 第7図
1 to 4 show a conventional example, where FIG. 1 is a perspective view of a glazed ceramic substrate, FIG. 2 is a sectional view of the same, FIG. 3 is a sectional view of the same after cutting the end, and FIG. 5 to 8 show an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a sectional view of the ceramic substrate, and FIG. 6 is a sectional view of the glazed ceramic substrate after forming the glaze layer. A cross-sectional view of the ceramic board, FIG. 7 is a cross-sectional view of the same after forming the snap grooves,
FIG. 8 is a sectional view of the same after the end is cut. 1: Glazed ceramic substrate, 2: Ceramic substrate, 3: Glaze layer, 4: Recess, 5
Nisnap groove, 6: recess, 7: thick wall part. Figure 2 Figure 5 Figure 6 Figure 7

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)セラミック基板の表面にグレーズ層が全面に亘っ
て積層成形されて成るグレーズドセラミック基板におい
て、 前記セラミック基板の端部表面に凹所が全周に亘って形
成される一方、端部裏面に全周に亘ってスナップ溝が前
記凹所と対応した位置に形成され、前記グレーズ層が凹
所でやや凹んで前記セラミック基板の表面全面に積層成
形され、前記スナップ溝に沿ってセラミック基板及びグ
レーズ層の端部が切断されることを特徴とするグレーズ
ドセラミック基板。
(1) In a glazed ceramic substrate in which a glaze layer is laminated over the entire surface of the ceramic substrate, a recess is formed around the entire circumference on the end surface of the ceramic substrate, while a recess is formed on the back surface of the end portion. Snap grooves are formed around the entire circumference at positions corresponding to the recesses, the glaze layer is slightly recessed in the recesses, and is laminated over the entire surface of the ceramic substrate, and the ceramic substrate and the glaze are formed along the snap grooves. A glazed ceramic substrate characterized in that the edges of the layers are cut.
JP2904384A 1984-02-17 1984-02-17 Glazed ceramic substrate Pending JPS60171281A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008295906A (en) * 2007-06-04 2008-12-11 Hitachi Appliances Inc Drum type washing machine
US8033145B2 (en) 2005-05-13 2011-10-11 Sharp Kabushiki Kaisha Drum-type washing machine

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