JPS6016037B2 - メモリ装置 - Google Patents
メモリ装置Info
- Publication number
- JPS6016037B2 JPS6016037B2 JP55001170A JP117080A JPS6016037B2 JP S6016037 B2 JPS6016037 B2 JP S6016037B2 JP 55001170 A JP55001170 A JP 55001170A JP 117080 A JP117080 A JP 117080A JP S6016037 B2 JPS6016037 B2 JP S6016037B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- write
- transistor
- memory
- writing
- vpp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はチャネル注入型フローテイングゲート半導体メ
モリトランジスタで構成された電気的書込み可能な議出
し専用メモリ(EPROM)に関する。
モリトランジスタで構成された電気的書込み可能な議出
し専用メモリ(EPROM)に関する。
チャネル注入型フローティングゲート半導体メモリは紫
外線消去型EPROMとして多く使用され、初期紫外線
によりフローテイングゲートの電荷を放電し、すべての
メモリトランジスタは、コントロールゲート数ボルトの
しき値にあり、例えば選択されたXデコーダ出力は高レ
ベル、ほぼ議出し電源電圧Vcc=5v近くが印加され
、選択されたメモリトランジスタはすべて導適状態であ
り、出力はすべて“0”(又は“1”)である。
外線消去型EPROMとして多く使用され、初期紫外線
によりフローテイングゲートの電荷を放電し、すべての
メモリトランジスタは、コントロールゲート数ボルトの
しき値にあり、例えば選択されたXデコーダ出力は高レ
ベル、ほぼ議出し電源電圧Vcc=5v近くが印加され
、選択されたメモリトランジスタはすべて導適状態であ
り、出力はすべて“0”(又は“1”)である。
次のデータ書込みで選択されたXデコーダ出力は書込み
電源電圧VPP(約25v)になり、メモリトランジス
タのコントロールゲートに印加され、選択されたメモリ
トランジスタのドレインに10〜2仇の電圧を加えて、
このメモリトランジスタに飽和電流またはそれに近い電
流を流してチャネル領域でホットエレクトロンを発生さ
せ、この電子をゲート絶縁膜のエネルギー障壁を越えて
、フローテイングゲートに注入される。この時メモリト
ランジスタのドレィンに印加する電圧は、書込みを行な
うためにはある範囲内になる。すなわち、こ電圧が低く
なると書込みが遅くなり、書込まれなくなる。逆に高く
なり過ぎてもパンチスルーをじて書込みができなくなる
。メモリトランジスタのドレィン電圧は、一般に書込み
データ信号により駆動されるトランジスタとデジットラ
ィン選用のYセレクタ・トランジスタを通して、書込み
電源電圧VPPから供給される。このため、この2つの
トランジスタのインピーダンスと電源電圧VPPにメモ
リ・トランジスタのドレイン電圧が依存している。また
、メモリトランジスタの書込みに必要なドレィン電圧、
電流はこのメモリトランジスタのチャネル長に大きく依
存し、チャネル長が短かし、とドレィン電圧は低くてよ
く、長いと高い必要がある。
電源電圧VPP(約25v)になり、メモリトランジス
タのコントロールゲートに印加され、選択されたメモリ
トランジスタのドレインに10〜2仇の電圧を加えて、
このメモリトランジスタに飽和電流またはそれに近い電
流を流してチャネル領域でホットエレクトロンを発生さ
せ、この電子をゲート絶縁膜のエネルギー障壁を越えて
、フローテイングゲートに注入される。この時メモリト
ランジスタのドレィンに印加する電圧は、書込みを行な
うためにはある範囲内になる。すなわち、こ電圧が低く
なると書込みが遅くなり、書込まれなくなる。逆に高く
なり過ぎてもパンチスルーをじて書込みができなくなる
。メモリトランジスタのドレィン電圧は、一般に書込み
データ信号により駆動されるトランジスタとデジットラ
ィン選用のYセレクタ・トランジスタを通して、書込み
電源電圧VPPから供給される。このため、この2つの
トランジスタのインピーダンスと電源電圧VPPにメモ
リ・トランジスタのドレイン電圧が依存している。また
、メモリトランジスタの書込みに必要なドレィン電圧、
電流はこのメモリトランジスタのチャネル長に大きく依
存し、チャネル長が短かし、とドレィン電圧は低くてよ
く、長いと高い必要がある。
このため、このチャネル長等の製造上のバラツキにより
、書込みドレィン電圧も製品によって異なってくる。
、書込みドレィン電圧も製品によって異なってくる。
このため、書込み電源電圧VPPの書込み領域も異なっ
てくる。本発明はこの点に注目して、書込み電圧規格と
製品の最も適した書込み電圧領域を合せる方式を提供す
ることにある。
てくる。本発明はこの点に注目して、書込み電圧規格と
製品の最も適した書込み電圧領域を合せる方式を提供す
ることにある。
次に本発明の実施例について説明する。
第1図に−実施例の回路図を示す。×デコーダの出力×
,がメモリトランジスタTMij,TMij十,のコン
トロールゲートに入力し、デイジツトラインDi,Di
十,はYデコーダ出力Yj,YMにより駆動されている
選択トランジスタTyj,TyMにより一本のみ選択さ
れ、議出し時に動作するセンスアンプS,と書込みデー
タ信号によって駆動されるトランジスタT。wに接続さ
れる。トランジスタTDwのドレィン側は書込みインピ
ーダンス制御用トランジスタTw,とTw2を並列にし
て書込み電源VPPに接続され、Tw,のゲート入力は
VPPとなっている。Tw2のゲート入力は書込み電源
VPPを電源としたデブレッション型負荷MOBトラン
ジスタTo・とェンハンスメント型MOSトランジスタ
TE,により構成されるィンバータ出力が入力されてい
る。T8,トランジスタのゲート入力としてはポリシリ
ヒュースを熔断するか、しないかで高レベル又は低レベ
ルに設定できる回路A出力が入力されている。これによ
りTw2入力が低レベルの時は書込み抵抗はトランジス
タTw,,Tow,Tyiの直列の抵抗になり、T搬入
力が高レベルVPPの時T舵とTw,の並列とTow,
Tyjの直列抵抗の和になる。
,がメモリトランジスタTMij,TMij十,のコン
トロールゲートに入力し、デイジツトラインDi,Di
十,はYデコーダ出力Yj,YMにより駆動されている
選択トランジスタTyj,TyMにより一本のみ選択さ
れ、議出し時に動作するセンスアンプS,と書込みデー
タ信号によって駆動されるトランジスタT。wに接続さ
れる。トランジスタTDwのドレィン側は書込みインピ
ーダンス制御用トランジスタTw,とTw2を並列にし
て書込み電源VPPに接続され、Tw,のゲート入力は
VPPとなっている。Tw2のゲート入力は書込み電源
VPPを電源としたデブレッション型負荷MOBトラン
ジスタTo・とェンハンスメント型MOSトランジスタ
TE,により構成されるィンバータ出力が入力されてい
る。T8,トランジスタのゲート入力としてはポリシリ
ヒュースを熔断するか、しないかで高レベル又は低レベ
ルに設定できる回路A出力が入力されている。これによ
りTw2入力が低レベルの時は書込み抵抗はトランジス
タTw,,Tow,Tyiの直列の抵抗になり、T搬入
力が高レベルVPPの時T舵とTw,の並列とTow,
Tyjの直列抵抗の和になる。
この時Tw2の抵抗を4・さく設計すれば、近似的にT
w,の抵抗が加わるか、加わらないかになる。第2図に
メモリトランジスタの1一V特性、書込みMiと書込み
後Mw及び書込みインピーダンスによる1一V特性をT
雌が導通の場合R舵、非導通の場合Rw,の曲線として
示す。
w,の抵抗が加わるか、加わらないかになる。第2図に
メモリトランジスタの1一V特性、書込みMiと書込み
後Mw及び書込みインピーダンスによる1一V特性をT
雌が導通の場合R舵、非導通の場合Rw,の曲線として
示す。
Mi曲線とRw,,R雌曲線のそれぞれの交点Si,,
Si2における電圧Voi,,Voi2となる。
Si2における電圧Voi,,Voi2となる。
従って、書込みインピーダンスのどちらがよい方を選択
すればよく、それだけ、個々の製品に対して、より適切
な書込みインピーダンスの設定が出きる。ポリシリヒュ
ーズを熔断していない状態ではTE,、トランジスタの
ゲート入力Kは低レベルにあり、Tw2のゲート入力に
はVPP電圧が加わる。
すればよく、それだけ、個々の製品に対して、より適切
な書込みインピーダンスの設定が出きる。ポリシリヒュ
ーズを熔断していない状態ではTE,、トランジスタの
ゲート入力Kは低レベルにあり、Tw2のゲート入力に
はVPP電圧が加わる。
すなわち書込みインピーダンスは低い方にあり、この書
込みインピーダンスでは電圧VPPが高い時うまく書込
めない場合、Kに高い電圧を印加してポリシリヒューズ
Fを熔断し、K端子を開放にするとディプレション型負
荷MOSトランジスタTo2により電源電圧Vcc(十
5v)に引かれて、高レベルになり、T舵トランジスタ
は非導通になる。この様にして、最も最適な書込み抵抗
を選択する。第3図に書込み抵抗トランジスタの構成方
法を変えた場合の実施例を示す。
込みインピーダンスでは電圧VPPが高い時うまく書込
めない場合、Kに高い電圧を印加してポリシリヒューズ
Fを熔断し、K端子を開放にするとディプレション型負
荷MOSトランジスタTo2により電源電圧Vcc(十
5v)に引かれて、高レベルになり、T舵トランジスタ
は非導通になる。この様にして、最も最適な書込み抵抗
を選択する。第3図に書込み抵抗トランジスタの構成方
法を変えた場合の実施例を示す。
第1図において、書込抵抗制御用のトランジスタT側T
雌の代りに第3図の例では書込みデータ制御用トランジ
スタTowと並列に入力レベル設定回路Aと書込みデー
タによって決まる信号によって駆動されるトランジスタ
Twが配置されている。
雌の代りに第3図の例では書込みデータ制御用トランジ
スタTowと並列に入力レベル設定回路Aと書込みデー
タによって決まる信号によって駆動されるトランジスタ
Twが配置されている。
セルに書込みを行なう場合、Towのゲートは高レベル
(VPP〉が入力され、Twのゲートは入力レベル設定
回路Aにより高レベル(VPP)又は低レベルが入力さ
れる。Twが導通の時は書込インピーダンスは低く、第
2図におけるR収特性に相当し、非導通の時はRw,特
性に相当する。以上書込み抵抗を2種類の値に設定した
合について、述べたが、3種類又はこれ以上にするとさ
らによりよい値に書込みインピーダンスを設定できる。
またレベル設定方式において、ポリシリヒューズ以外の
不輝発性メモリを使用しても可能である。
(VPP〉が入力され、Twのゲートは入力レベル設定
回路Aにより高レベル(VPP)又は低レベルが入力さ
れる。Twが導通の時は書込インピーダンスは低く、第
2図におけるR収特性に相当し、非導通の時はRw,特
性に相当する。以上書込み抵抗を2種類の値に設定した
合について、述べたが、3種類又はこれ以上にするとさ
らによりよい値に書込みインピーダンスを設定できる。
またレベル設定方式において、ポリシリヒューズ以外の
不輝発性メモリを使用しても可能である。
ただしメモリが紫外線消去式の場合は、紫外線で消えな
いものである必要がある。電気的消去方式の場合は特に
考慮する必要はない。・図面の簡単な説明 第1図は本発明の一実施例を示す図である。
いものである必要がある。電気的消去方式の場合は特に
考慮する必要はない。・図面の簡単な説明 第1図は本発明の一実施例を示す図である。
第2図は第1図におけるメモリセルの書込み前後の1−
V特性MiとMw、及びメモリトランジスタのドレィン
より見た書込み抵抗の2種類のR側 Rw2の1−V特
性を示す図である。第3図は第1図において、書込み抵
抗トランジスタを書込みデータ制御トランジスタと供用
して用いた場合の回路図である。×i・・…・×デコー
ダ出力、Yj,Yj+,……Yデコーダ出力、D1・・
・…書込みデータ信号、Dj,Dj十.・…・・デジッ
トラィン、入力レベル設定A、センスアンプS,、チャ
ネル注入型フローテイングゲートメモリトランジスタT
肌,T肌十,(i,j:0,1,2,・・・・・・)、
ディジツトラィン選択トランジスタ、Tyj,Tyj+
,、書込みデータ制御トランジスタTow、書込み抵抗
制御トランジスタTw,. T雌、デプレッション型負
荷MOSトランジスタT。
V特性MiとMw、及びメモリトランジスタのドレィン
より見た書込み抵抗の2種類のR側 Rw2の1−V特
性を示す図である。第3図は第1図において、書込み抵
抗トランジスタを書込みデータ制御トランジスタと供用
して用いた場合の回路図である。×i・・…・×デコー
ダ出力、Yj,Yj+,……Yデコーダ出力、D1・・
・…書込みデータ信号、Dj,Dj十.・…・・デジッ
トラィン、入力レベル設定A、センスアンプS,、チャ
ネル注入型フローテイングゲートメモリトランジスタT
肌,T肌十,(i,j:0,1,2,・・・・・・)、
ディジツトラィン選択トランジスタ、Tyj,Tyj+
,、書込みデータ制御トランジスタTow、書込み抵抗
制御トランジスタTw,. T雌、デプレッション型負
荷MOSトランジスタT。
,,T。2、ドライバー用トランジスタTE・、ポリシ
リヒューズF、書込み電源電圧VPP、電源電圧Vcc
である。
リヒューズF、書込み電源電圧VPP、電源電圧Vcc
である。
菊l図器2図
第3図
Claims (1)
- 1 絶縁ゲートトランジスタをメモリ素子としたメモリ
装置において、複数の書込み抵抗を備え、該複数の書込
み抵抗を選択できるようにしたことを特徴とするメモリ
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55001170A JPS6016037B2 (ja) | 1980-01-09 | 1980-01-09 | メモリ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55001170A JPS6016037B2 (ja) | 1980-01-09 | 1980-01-09 | メモリ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5698789A JPS5698789A (en) | 1981-08-08 |
JPS6016037B2 true JPS6016037B2 (ja) | 1985-04-23 |
Family
ID=11493953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55001170A Expired JPS6016037B2 (ja) | 1980-01-09 | 1980-01-09 | メモリ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6016037B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0210482U (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-23 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58165800U (ja) * | 1982-04-28 | 1983-11-04 | 日本電気株式会社 | Eprom書込み回路 |
GB9417264D0 (en) * | 1994-08-26 | 1994-10-19 | Inmos Ltd | Memory device |
-
1980
- 1980-01-09 JP JP55001170A patent/JPS6016037B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0210482U (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-23 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5698789A (en) | 1981-08-08 |
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