JPS60157140A - カラ−受像管 - Google Patents

カラ−受像管

Info

Publication number
JPS60157140A
JPS60157140A JP1104884A JP1104884A JPS60157140A JP S60157140 A JPS60157140 A JP S60157140A JP 1104884 A JP1104884 A JP 1104884A JP 1104884 A JP1104884 A JP 1104884A JP S60157140 A JPS60157140 A JP S60157140A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
glass
picture tube
color picture
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1104884A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0515027B2 (ja
Inventor
Kinji Kida
木田 金治
Kazunori Nakane
和則 中根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP1104884A priority Critical patent/JPS60157140A/ja
Publication of JPS60157140A publication Critical patent/JPS60157140A/ja
Publication of JPH0515027B2 publication Critical patent/JPH0515027B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0727Aperture plate
    • H01J2229/0777Coatings

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はシャドウマスク型カラー受像管(二係ゎシ、特
にそのシャドウマスクく二関するものである。
〔発明の技術的背景と問題点〕
一般(二7ヤドウマスク型カラー受像管は第1図に示す
よう(:典型的(二は硝子で形成された外囲器は、実質
的(;矩形状のパネル(1)と漏斗状のファンネル(2
)とネック(3)とから構成される。そしてパネル(1
)の内面(−は赤、緑及び青(:夫々発光する例えばス
トライプ状螢光体スクリーン(4)が設けられ、一方ネ
ツク(3)C二はパネル(1)の水平軸線に沿って一列
(二配列され赤、緑及び青に対応する3本の電子ビーム
αlを射出するいわゆるインライン型電子銃(6)が内
股されている。またスクリーン(4) t:、近接対向
して多数の透孔の穿設された実質的に矩形状の主面を有
するシャドウマスク(5)が配設される。シャドウマス
ク(5)の周辺部はパネル外形に対応して折り曲けられ
たスカート部(8)全有し、このスカート部(8)は断
面り字型の枠からなるマスクフレーム(7)によって支
持固定され、さらにマスクフレーム(7)はスプリング
(9)?:介してパネル(1)内側壁(=埋め込まれた
ピン(図示せず)で係止めされている。
このようなカラー受像管において、電子銃(6)から射
出された3本の電子ビームa1はファンネル(2)近傍
の外部(二装置された偏向装置(図示せず)(:よって
偏向され、実質的に矩形状のパネル(1) I=対応す
る矩形状の範囲を走査するよう(−且つシャドウマスク
(5)の透光を介して色選別され、各発光ストライプ状
螢光体口正しく対応射突せしめてカラー映像ヲ現出させ
る。ここでシャドウマスク(5)の透孔を通過する有効
電子ビーム量はその機構上1/3以下であり、残りの電
子ビームはシャドウマスクに射突し熱エネルギーに変換
され時として80℃程度迄シャドウマスクを加熱させる
。シャドウマスク(5)は一般に0〜100℃での熱膨
張係数が1.2×=5 107℃と大きい鉄を主成分とするいわゆる冷間圧延鋼
からなる厚さ0.1w〜0.3+III+の薄板から形
成されており、このシャドウマスク(5)のスカー)部
(8)を支持するマスクフレーム(7)は厚さ1m前後
の強固な断面り型の黒化処理を施こされた同じく冷間圧
延鋼から形成されている。従って加熱5されたシャドウ
マスク(5)は容易(:熱膨張を生ずるが、その周辺部
は黒化処理を施こされ良熱容量の大きなマスクフレーム
(7)(二対接しているため輻射や伝導によりシャドウ
マスク周辺からマスクフレームに熱が移動し、シャドウ
マスク周辺の温度が中央部よりも低くなる。このためシ
ャドウマスク(5)の中央部と周辺部(二温度差を生じ
相対的(:中央部を主体として加熱膨張されたいわゆる
ドーミング現象を生ずる。この結果シャドウマスク(5
)と螢光体スクリーン(4)との距離が変化し電子ビー
ムの正確なランディングが乱され色純度の劣化を生ずる
。このような現象は特にカラー受像管の動作初期(二お
いて顕著である。
このようなカラー受像管の動作初期C二おけるドーミン
グ現象(二対しては、シャドウマスクの中央部からの熱
の放射の促進やシャドウマスクへの熱伝導の阻止という
観点より多数の提案がなされている。例えば、米国特許
第2826538号ではシャドウマスクの熱放射を促進
すべくシャドウマスクの表面(二黒鉛よりなる黒色層を
設ける提案がなされている。このようなカラー受像管で
はこの黒鉛層が良好な放熱器として作用するのでシャド
ウマスクの温度は低下する。しかし、この黒鉛より成る
黒色層は、−面次のような欠点も有している。すなわち
、カラー受像管の製造工程中の熱工程での熱サイクル(
;より黒色層の密着性が劣化し、カラー受像管に振動が
与えられると一部が剥離して微小片が脱落することがあ
る。このようにシて生じた脱落黒色層はシャドウマスク
に付着すると孔詰シヲ生じてけい光面C二おける画像特
性全劣化させ、また電子銃(二付着すると、電極間のス
パークを誘発して耐電圧特性を劣化させるなどカラー受
像管の品質を著しく低下させる。また第二の例として本
発明と同一出願人(二よる特願昭58−148843号
ではシャドウマスクの電子銃側全面(−ガラスを主体と
する、例えば鉛はう酸塩ガラスからなる層を設ける提案
がなされている。このようなカラー受像管では鉛はう酸
塩ガラス層の熱伝導率がシャドウマスクのそれよりも小
さいため、マスク(:伝達される熱量が少なくなりシャ
ドウマスクの温度上昇が抑制されている。また鉛はう酸
塩ガラスの比重がシャドウマスクのそれ(:近いため、
鉛はう酸塩ガラス層を形成したこと(二よりシャドウマ
スクの質量が増加し機械的強度を向上する。
更に、シャドウマスク(ニガラスが溶着し結晶化した状
態ではガラスにわずか(二圧縮応力、シャドウマスク(
二は引張応力が働いているため機械的強度も従来のマス
クより向上している。
以上これらの要因(二より上記提案(−よるとシャドウ
マスクのドーミングは効果的(=抑制することが出来る
が、その反面状のようガ欠点も有している。すなわち鉛
はう酸塩ガラス中(=含まれるPbOが70重量%乃至
85重量%であるためにシャドウマスク(二よって遮蔽
される無効電子ビームの管内での乱反射が増加しスクリ
ーン面での白浮き、いわゆるコントラストの低下を来た
丁。
また、シャドウマスクは一般に鉄を主成分とするいわゆ
る冷間圧延鋼からカる厚さ0.1濶〜0.3mの薄板か
ら形成されているが、前述したように鉛はう酸鉛ガラス
が溶着し結晶化した状態ではガラスにわずかに圧縮応力
、シャドウマスク(二は引張応力が働いており、仮にこ
れらの応力のバランスが崩れた時、例えば、ガラス層の
厚さは通常10pm乃至20μmが好ましいとしている
が、製造上のばらつき等(−よりガラス層の厚さがこれ
を越え、且つシャドウマスクの板厚が0,21以下のも
の(ニガラス層が形成されると、時としてシャドウマス
クの変形を引き起こす場合がある。
〔発明の目的〕
本発明は以上の点に鑑みてなされたもので、シャドウマ
スクのドーミングを小さくし画像の色ずれ等による色純
度の劣化を防止した工業的量産性に富むカラー受像管を
提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明はスクリーンC二近接し実質的(二矩形状の主面
(=多数の透孔を有するシャドウマスクとこのシャドウ
マスクを介してスクリーン上の螢光体を発光せしめる電
子ビームラ射出する電子銃を少なくとも備えたカラー受
像管(:おいて、このシャドウマスクの電子銃側表面(
ニガラスを主体とする層全部分的(二形成すること(二
より、シャドウマスクの温度上昇を軽減してシャドウマ
スクのドーミングを抑制するカラー受像管である。
〔発明の実施例〕
以下本発明(二ついて実施例C:基き詳細C二説明する
。尚、本発明のカラー受像管の部材構成自体は第1図1
:示すものと同様であるので詳細な説明は省略する。第
1図C二示すようなカラー受像管(二於いて、スクリー
ン(4) C近接対向して配設されるシャドウマスク(
5)の電子銃側の表面にガラスを主体とする、例えば鉛
はり酸塩ガラスからなる層が中央部分を除き左右領域(
:部分的C:形成されている。
その状態を電子銃側から見た状態が第2図で、斜線の部
分がガラス層が形成されている領域を示している。第2
図(:おいて、実質的(:矩形状の主面の短辺長t−v
、長辺長ヲ甘、短せ及び長辺(=平行で管軸を含む中央
線をそれぞれv−v、、h−hで示す。
また、ガラス層の形成される領域は中央m v−vけて
それぞれ対称的に矩形状(二形成されている。
この鉛#1う酸塩ガラス層線ニトロセルロースヲ数チ溶
かした酢酸ブチルアルコール溶液で溶かされた平均粒径
約5μmの鉛はう酸塩ガラスを膜厚1o湘乃至20μm
となるよう(−塗布する。塗布(−際しては透孔の目詰
まりを生じないこと及び所定の膜厚に制御することが必
要である。この観点からはけ塗りは好ましくない。スプ
レー法の場合ハ、20画乃至30副の距離からスプレー
圧約31に4/cslで塗布するとよい。スプレー法で
はガラス粒子のシャドウマスクへの付着効率を考慮して
スプレー時間を制御しなければならない。静電塗布法の
場合は、シャドウマスクを陽極として接地し、ガラス粒
子噴、射装置は直流電源から負の高電圧、例えば−90
KVt印加し、シャドウマスクと噴射装置の間(二高圧
の静電界を形成させる。供給槽より噴射装置を通じて噴
霧された鉛はう酸塩ガラス粒子は負(二帯電して静電昇
揚にのり対極の゛シャドウマスクC:連続的に封着させ
ることができる。非塗布部には適宜遮蔽板を用いればよ
い。静電塗布法C二よるガラス層の形成は、負(二帯電
したガラス粒子が正に帯電したシャドウマスクに付着す
る付着効率が極めて高く、材料損失は非常に少なく、透
孔の目詰まりの危険性も少ない。また静電界を一足(二
保持すれば塗布膜厚の均一性も高いものが得られる。さ
らにガラス粒子は通常不良導体であるため帯電し易く靜
@塗布法C:好適する。
以上のよう(ニガラス層を塗布し、乾燥後このシャドウ
マスク全最高温度が約440℃でその保持時間が35分
以上の熱処理炉を通過させると、シャドウマスク(5)
の電子銃側(ニガラス化された鉛はう酸塩ガラス層が形
成できる。この鉛はう酸塩ガラスはPbOの重量パーセ
ントが44〜93チの範囲でガラス化するが、結晶化(
二対し安定なのは70〜85チであジ、この範囲が量産
(二適している。また、一般(=金属とガラスを封着す
る場合ガラスC:無理な歪力がかからないようC二する
ことが必要である。
ガラスではその圧縮強度が引っ張り強度の約10倍であ
り、従って封着後ガラスにわずかに圧縮力が加わってい
る状態(二することがよいので、ガラスの熱膨張よりも
封着金属のそれがわずかに大きい方が好ましい。一般(
二冷間圧延鋼板よりなるシャドウマスク(5)の熱膨張
係数は約1.2XIO−’/lであるが、前記Pboの
重量パーセントが70〜80%の鉛はう酸塩ガラスの熱
膨張係数は0.7〜1.2X10 7℃であり、冷間圧
延鋼板のシャ1゛ウマスクに封着するのに非常に適して
いる。ところでこのような鉛はう酸塩ガラスを結晶化す
るため(ユは、4oo℃乃至600℃の最高温度とそれ
を30分以上保持でさる炉が必要であるが、通常シャド
ウマスクとマスクフレームを組み合わせたシャドウマス
ク構体はへネルと組み合わせた状態で4001:乃至4
50℃でスタビライズを行なっている。従ってガラス層
“形成後の熱処理工程は上記スタビライズ熱処理工程と
兼用して行なうことができ特に熱処理工程を追加する必
要はない。また従来のスタビライズ工程と兼用させるた
めC:最適化結晶に必要な温度を調整する必要がある場
合はZnO’p CuOを鉛はう酸塩ガラス添加しても
よい。この場合は熱膨張係数音あまり変化させないでよ
り低温で結晶化させることが可能となる。
ところで、従来のようにシャドウマスクの電子銃側全域
にガラス層を形成すると、ガラスと金属との封着C二際
し封着時の歪力が加わり、ガラス層とシャドウマスク内
部の残留応力にょクマスクの板厚とガラス層の膜厚の条
件(=よっては、マスク変形が生ずる場合がある。
すなわち、第3図(&)i:示すように、金属(13と
ガラスODが高温、例えば440℃に加熱された封着前
の状態では両者の長さLは同一であったとする。
この状態から第3図Φ)に示すように両者を封着しない
尽で常温まで戻した場合は、ガラスの熱膨張よりも金属
のそれがわずか(二大きく選択しであるので、両者の長
さの関係はtg>Amとなる。一方、第3図(C)(=
示すよう(=金属cI邊とガラス(lυを高温で封着結
合し常温まで冷却した場合は、ガラスは金属の几めC:
より縮み、逆C:金属はガラスがあるが故にその熱(二
よる収縮が途中が妨たげられる。従って結局封着結合後
の常温での長さは、Ag>t>tmとなる。この結果ガ
ラス内部(:は圧縮応力Pcが、金属内部(二は引張応
力pTが残留歪力として常に残ること(=なる。即ちシ
ャドウマスクへのガラス層形成後の熱処理による結晶化
工程(二よムシャドウマスクは上記残留歪力を受けて、
時としてマスク変形を起こし、ガラス層(11)の膜厚
が厚い程、また々が長い程、換言すればシャドウマスク
の電子銃側全領域(二於て、ガラス層の占める領域が広
い程、変形し易く、変位も大きくなる。また、シャドウ
マスク(I4の板厚が薄い程、変形し易くなることは云
うまでもない。特にシャドウマスクの主面の周辺部はパ
ネル外形に対して折9曲げられたスカート部を成形する
際(ニスカート部のスプリングバックにより若干ひずみ
が残っているため(=特(:変形しやすい。
またカラー受像管tm動作させた時、シャドウマスクの
透孔を通過するいわゆる有効電子ビームはその機構上1
/3以下であシ、他の電子はシャドゥマスク(二衝突し
熱エネルギー、あるいはX線等(二置換される。また一
部のものはバックスキャツタリング(二より電子銃側へ
反射され九り、更(−衝突(=よりニ次電子が放出され
たりして管内では乱反射が生じている。このバックスキ
ャツタリングは周知の如く原子量の多いもの程高くなる
。従来カラー受像管内に用いられる材料で原子量の高い
ものから序列するとBa、Fe、A)、C,・・・の順
であるが、前記したよう(:鉛はう酸塩ガラス中のPb
oの含有率は70?85チと高く、また周知のとと(P
bOの原子量はPb>Haであるため、シャドウマスク
の電子銃側全域に鉛はう酸塩ガラス層を設けた場合は管
内でのビームの乱反射が増加し、コントラストが著しく
低下する。例えば21吋型90度偏向管でシャドウマス
ク主面の第2図(=示すHが約400箇。
■が300m、板厚が0.18mのシャドウマスク主面
の電子銃側全領域にガラス層を形成させた場合約5割の
確率でシャドウマスク主面の周辺部(二変形が生じた。
しかし乍ら第2図に示すガラス層の形成領域のXおよび
ytそれぞれ0.8XH、0,8XV l:すること(
二よりシャドウマスク主面の周辺部の変形は殆んど防止
することができた。
更に、シャドウマスクにガラス層を設けない場合のシャ
ドウマスクからのバックスキャツタリング(二よるスク
リーンの不要発光輝度’ttとすると、ガラス層會シャ
ドウマスク略全域(=形成した場合の不9発光輝度は約
2となり著しくコントラスト全低下させたが、上記実施
例(二おいて、第2図におけるWの寸法に120mmと
すると、約1.6となり、更にW 全16011I11
とすると約1.2となりコントラストの低下は実用上認
められなくなった。実質的にはyVHk 30%以下と
することでこのようなコントラストの低下は実質的に防
止することができた。
またこのようなカラー受像管を動作させた場合、シャド
ウマスクのドーミング(=よる色純度の劣化は従来のシ
ャドウマスクの電子銃側全域にガラス層を設けたカラー
受像管よりも悪くなることが懸念される。
しかしながらカラー受像管はその構造上、あるいはスク
リーン面に対する電子ビームの入射角など、その機構上
シャドウマスクのドーミング(:よる電子ビームのミス
ランディングは中央付近よりも第2図で示せばl/4H
よりやや外側の領域が最も大きくなる。これは主面の中
央付近はドーミン 。
グを生じても電子ビームのランディングエラーがちまり
色純度に影響を及ぼ°さないことと、スカート部につな
がる折り曲げ部を有する周辺部は機械的強度が他の主面
より高くドーミングを生じ難いためでちる。従ってシャ
”ドウマスクの中央付近にガラス層を設けなくても、ド
ーミング(二よる電子ビームのミスランディングの大き
い左右領域(二形成すれば実質的に色純度の劣化を防ぐ
ことが出来る。第2図に於てWを120瓢乃至240+
m+シャドウマスク全体(一対するガラス層の面積比で
は3oチ〜70%の割合で部分的にガラス層を形成して
も、シャドウマスク全体にガラス層全形成した時と、略
同等の効果が得られた。
〔発明の効果〕
以上のよう(二本発明(二よれば、ガラス層を形成した
こと1−よる製造上の問題、及び他の特性の劣化を解消
し、シャドウマスクのドーミング現象全効果的(二軽減
して色ずれや色むら等の色純度劣化を改善することがで
き、工業的(二有利である。
【図面の簡単な説明】
第1図はシャドウマスク型カラー受像管の構成を示す概
略断面図、第2図は本発明によるカラー受像管のシャド
ウマスクを電子銃側から見た模式平面図、第3図(1)
乃至第3図(c)はガラスと金属の封着現象を説明する
ための模式図である。 (1)・・・パネル (21・・・ファンネル(3)・
・・ネック (4)・・・スクリーン(5)・・・シャ
ドウマスク

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l)スクリーンの螢光体を選択発光せしめる電子ビーム
    を射出する電子銃と、前記スクリーン(=近接対向して
    配置され、実質的(:矩形状の主面1:多数の透孔を有
    するシャドウマスクとを少なくとも備えたカラー受像管
    (:おいて、前記シャドウマスクの少なくとも前記電子
    銃側表面Cニガラスを主体とする層が部分的に形成され
    てなることを特徴とするカラー受像管。 2)前記ガラスを主体とする層が前記シャドウマスクの
    実質的C:矩形状の主面の短辺C:実質的C二平行で管
    軸を含む中央線を少なくとも含まない両側領域に形成さ
    れたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のカラ
    ー受像管。 3)前記シャドウマスクの実質的に矩形状の主面の前記
    中央線を含む前記ガラス層を形成しない部分の前記主面
    の長辺(:平行な部分の長さが前記長辺の長さの30−
    以下でちることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
    のカラー受像管。 4)前記ガラスを主体とする層が前記シャドウマスクの
    主面の全領域の30チ〜70チの割合で形成されてなる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のカラー受
    像管。 5)前記ガラスを主体とする層が少なくともPbO、B
    、03およびZnO、またはPbO、B、O,およびC
    uOを含む鉛はう酸塩ガラスからなることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載のカラー受像管。 6)前記鉛はう酸塩ガラス中(:含まれるpboが70
    重量%乃至85重量%であることを特徴とする特許請求
    の範囲第5項記載のカラー受像管7)前記鉛はう酸塩ガ
    ラス中1m unitまたはCOρ3が含まれているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第5項乃至第6項記載の
    カラー受像管。 8)前記シャドウマスクと前記鉛はう酸塩ガラス全主体
    とする層の間に酸化膜を介在せしめたことを特徴とする
    特許請求の範囲第5項乃至第7項記載のカラー受像管。 癩シ載 −
JP1104884A 1984-01-26 1984-01-26 カラ−受像管 Granted JPS60157140A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1104884A JPS60157140A (ja) 1984-01-26 1984-01-26 カラ−受像管

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1104884A JPS60157140A (ja) 1984-01-26 1984-01-26 カラ−受像管

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60157140A true JPS60157140A (ja) 1985-08-17
JPH0515027B2 JPH0515027B2 (ja) 1993-02-26

Family

ID=11767142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1104884A Granted JPS60157140A (ja) 1984-01-26 1984-01-26 カラ−受像管

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60157140A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0515027B2 (ja) 1993-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4784627A (en) Method of forming a glass layer onto a shadow mask
US4884004A (en) Color cathode-ray tube having a heat dissipative, electron reflective coating on a color selection electrode
JPH0738295B2 (ja) カラー受像管
KR890002133B1 (ko) 칼라 수상관
JPS60157140A (ja) カラ−受像管
US4671776A (en) Manufacturing method of color picture tube
JP2964939B2 (ja) カラー陰極線管
JPS6091534A (ja) カラ−受像管の製造方法
JPS6059625A (ja) カラ−受像管の製造方法
JPH0471288B2 (ja)
JPH07182986A (ja) カラー受像管
KR890004382B1 (ko) 컬러 수상관
JPS60148036A (ja) カラ−受像管
JPS6079645A (ja) カラ−受像管
JPS6074240A (ja) カラ−受像管
JPH0685304B2 (ja) カラ−受像管
JPH0775147B2 (ja) カラ−受像管
JPH0546046B2 (ja)
JPH0467732B2 (ja)
JPS62272430A (ja) カラ−ブラウン管
JPH07182985A (ja) カラー受像管
JPS63108652A (ja) 陰極線管
JPH0640466B2 (ja) カラ−受像管
JPS6261239A (ja) カラ−受像管の製造方法
JPH03129647A (ja) 陰極線管

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term