JPS60154448A - イオン源 - Google Patents

イオン源

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Publication number
JPS60154448A
JPS60154448A JP59009720A JP972084A JPS60154448A JP S60154448 A JPS60154448 A JP S60154448A JP 59009720 A JP59009720 A JP 59009720A JP 972084 A JP972084 A JP 972084A JP S60154448 A JPS60154448 A JP S60154448A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion source
reaction gas
ions
ionization chamber
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59009720A
Other languages
English (en)
Inventor
Norio Mizuno
水野 悳夫
Koji Azuma
光士 東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Nihon Denshi KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Nihon Denshi KK filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP59009720A priority Critical patent/JPS60154448A/ja
Publication of JPS60154448A publication Critical patent/JPS60154448A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/10Ion sources; Ion guns
    • H01J49/14Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は質量分析装置等に用いられるイオン源に関し、
特に化学イオン化(CI)イオン源に関Jる一bのであ
る。
従来のClイAン源の構造を第1図に示す。図において
1はイオン源外壁、2はイオン化室で、該イオン化室内
には導入管3.4を介して反応ガス及び試料ガスが夫々
導入されると共に、内部は化学イオン化に最適な例えば
ITorr程度の圧力に保たれる。5は電子導入口で、
フィラメント6から発生した電子が該尋人口5を介して
イオン化室内へ導入される。そして、導入された電子に
より先ず反応ガスがイオン化され、生成された反応ガス
のイオンと試料分子との間のイオン分子反応により試料
がイオン化され、得られた試料イオンはイオン出射ロア
を介してイオン化室外へ取出される。8は試料イオンを
加速したり収束したりするだめのスリット電極である。
かかる従来例では、電子尋人口から漏れ出すガスにより
フィラメントが損傷を受参り易く、特に腐蝕性ガスを反
応ガスとして用いた場合や、導入管4を液体クロマトグ
ラフとオンラインで接続し、イオン化室内に大量の1−
1goが導入される場合などにはそれが激しく、フィラ
メントの寿命が極めて短くなつ(しまい、頻繁に交換し
なければならないという問題があった。
本発明はこの点に鑑みてなされたものであり、フィラメ
ントに代えて一次イオン源を設け、該−次イオン源から
のイオンビームを用いて反応ガスをイλ゛ン化すること
により、上記問題点を除くことの(゛ぎるイオン源を提
供J−ることを目的としている。
本発明は、イオン化室と、該イオン化室へ試料を導入す
るための手段と、該イオン化室へ反応ガスを導入するた
めの手段と、−次イオン源と、該−次イオン源からの一
次イAンビームを導入するために上記イオン化室にii
!【プられた導入口とを備えたことを特徴とし”(いる
。以下、図面を用いて本発明を詳述り゛る。
第2図は本発明の一実施例の構造を示し、第1図と同一
の構成要素には同一番号がイ]されている。
第2図においC9は一次イAン源で、イオン源外壁1に
開【ノられ/、:n通口を介してイオン源内部へその一
次イオンビーム出射口10が挿入される。
該出射口10は導入口5′に近接して対向配置されてお
り、該−次イAン源で生成され出射口10から高速1衰
で出射するアルゴン等の一次イオンビームは、導入口5
′を介してイオン化室2内へ導入される。この高速イオ
ンと反応ガス分子との衝突により反応ガス分子はイオン
化され、反一応ガス分子のイオンが生成される。この反
応ガス分子イオンと試料分子とのイオン分子反応により
試料がイオン化され、得られた試料イオンはイオン出射
ロアより取出される。
第3図は本発明の他の実施例の構造を示す。本実施例に
おいては、−次イオン源とイオン化室との間に例えばア
ルゴンガスを充満させた衝突室11を設置し、イオンビ
ームをガス分子と衝突させてイオンから電荷を奪うこと
により、高速の中性粒子ビームに変換し、この高速中性
粒子ビームをηλ口5−を介してイオン化室内へ導入し
、この高速中性粒子ビームの持つエネルギーに上り反応
ガス分子をイAン化するようにしているっ尚、−次イオ
ン源として、イオンと中性粒子が 1混在するビームを
発生するものを用いる場合には、必ずしも衝突室を設り
る必要はないことは言うよでもない。
以上詳述の如く、本発明によれば従来のように電子で反
応ガスをイオン化するのではなく、−次イオン源からの
イオンビームによって反応ガスをイオン比重るため、入
射口5′の近傍にフィラメントを配置する必要がなく、
従ってフィラメントの寿命を考虞する必要がない。
尚、上記2つの実施例において、試料導入管4から液体
クロマトグラフの流出液を微粒子の状態で導入すれば、
液体クロマトグラフで展開された1試料成分をオンライ
ンでイオン化し、質最分析することか可能である。その
場合、流出液中の溶媒として反応ガスの役目を果すJ:
うなものを用いれば、導入管3を介して反応ガスをイオ
ン化室に尋人覆る必要はなく、反応ガスの供給を停止゛
りることができる。このように液体クロマトグラフとイ
オン源を直接結合すると、イオン化室内に大量の流出液
が導入され、圧力が高くなり過ぎるので、イオン化室内
を排気する手段を別個に設ければ、イオン化室内を化学
イオン化に最適な圧力に保持することが可能である。
又、ガス状の試料ではなく、液状又は固体状の試料を化
学イオン化でイオン化する場合には、直接試料導入プロ
ーブの先端に該試料を保持し、導入管4を介して該プロ
ーブをイオン化室内に挿入Jれば良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のCIイオン源の構造を示す図、第2図及
び第3図は夫々本発明の一実施例の構造を示−4図であ
る。 1:イオン源外壁、2:イオン化室、 3.4:導入管、5′:導入口、 7:イオン出射口、9ニ一次イオン源、10ニー次イオ
ンビーム出胴口。 特許出願人 日本電子株式会社 代表者 伊藤 −夫

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)イオン化室と、該イオン化室へ試料を導入づるた
    めの手段と、該イオン化室へ反応ガスを導入するための
    手段と、−次イオン源と、該−次イオン源からの一次イ
    オンビームを尋人するために上記イオン化室に設けられ
    た導入口とを備えたことを特徴とするイオン源。
  2. (2)前記−次イオン源と導入口との閤にイオンビーム
    を中性化する手段が設置される特許請求の範囲第1項記
    載のイオン源。
JP59009720A 1984-01-23 1984-01-23 イオン源 Pending JPS60154448A (ja)

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JP59009720A JPS60154448A (ja) 1984-01-23 1984-01-23 イオン源

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59009720A JPS60154448A (ja) 1984-01-23 1984-01-23 イオン源

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JPS60154448A true JPS60154448A (ja) 1985-08-14

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JP59009720A Pending JPS60154448A (ja) 1984-01-23 1984-01-23 イオン源

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