JPS6015374B2 - 多段スプレ−塔 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガスの吸収及び／又は冷却に使用されるガスと
液との接触面積が大なることが要求される向流多段スプ
レー塔に関するものである。

ガス吸収及びガス冷却操作は化学工業においては重要な
役割を果している。ガスの吸収及び／又は冷却を目的と
した代表的な装置にスプレー塔がある。スプレー塔にお
いては液でガス中のある部分を吸収したり、ガス自身を
冷却するために、ガスと液との接触面積を増加させる必
要がある。一般にガスと液との接触面積を大ならしめる
ためにスプレー塔のスプレー室の一室当りの高さを塔径
に比較して大きくしてもスプレーされた液滴はスプレー
塔の壁に当って流下するため、液とガスとの接触面積は
塔高を高くした割には増加しない。従って従釆のスプレ
ー塔では第１図に示すようにスプレー室を数個持ち、上
段でスプレーされた液を液コレクター４で回収し、液コ
レクター下部に設けたスプレーノズル３で再び次段のス
プレー室のガス中に重力スプレーする方式が取られてい
た。

第１図はスプレー室一室当りに１つのスプレー／ズルを
有するシングルスプレー塔１である。

ガスは塔内を下方から上方へ上昇し、液はポンプ圧によ
って最上部のスプレーノズル２よりスプレーされ、その
後、液はガスと向流接触しながら順次各々のスプレー室
内において回収と重力によるスプレーを繰返してスプレ
ー塔の下部まで達する。第１図において、５はディスト
リビューター、６はバツフル、７は液体の出口、８はガ
ス入口、９は液入口、１０はガス出口である。

第１図の如き従来の液とガスとが向流接触する向流式の
多段スプレー塔１においては、液とガスとが同一に流下
する並流方式の場合と異なり上段でスプレーされた液を
回収し、更に必要なスプレー圧を液に与えるために或一
定の高さを持った液コレクター４を努内に設置する必要
がある。

この内部装置の高さ分はガスと液との接触に直接関与し
ない空間であり、且つ液を重力スプレーするためには液
コレクターの高さが相当高くなり、益々該空間を大にす
る必要がある。そのためスプレー塔の塔高を必要以上に
高くしなければならず、それだけスプレー塔のコストが
高くつく欠点がある。

本発明は多段スプレー塔への液の供給方法、及びスプレ
ー塔内部装置を改良することによりガスと液との接触に
直接関与しない空間、所謂デッドスペースを無くするこ
とによって、スプレー塔全体の高さを従釆のスプレー塔
に比較して低くすることを可能ならしめ、しかもスプレ
ー塔の性能が低下しない多段スプレー塔を製作すること
を目的とするもので図面によって本発明を詳細説明する
。

第２図は本発明のシングルスプレー塔の一実施例で第２
図においてスプレー塔本体１１の内部の最上部及びその
下のスプレー室に圧力スプレーノズル１２，１２′を設
け、これらより下のスプレー室には重力スプレーノズル
１３，１３′を設ける。

最上部及び最下部のスプレーノズルの周りにはガスバッ
フル１６，１６′を設け、中間のスプレーノズルの周り
にはガスバツフルの働きを兼ねたコレクタ−１４，１４
′を設ける。

液コレクター内の液はスプレー塔本体１１の外部の配管
１７，１７′によりその下の重力スプレー／ズル１３，
１３′に導かれる。第２図ではガスの分布を均一にして
液体へのガスの吸収を良好ならしめるためディストリビ
ューター１５を最下部のスプレー段にのみ設置したもの
である。

本発明の操作方法としては第２図の場合について説明す
れば、ガスはスプレー塔本体１ １の下方８から入り上
方に上昇し、液はスプレー塔の最上部及びその直下のス
プレーノズル１２，１２′からポンプ圧によってガス中
にスプレーされる。

９は液のスプレー塔外部の送給路である。

最上部のスプレーノズル１２よりスプレーされた液はそ
の殆んどが上から２番目のスプレーノズル１２′周りの
液コレクター１４によって回収され、コレクター１４よ
りの外部配管１７により上から３番目のスプレーノズル
１３に導かれ、再びガス中に重力スプレーされる。同様
に上から２番目のスプレーノズル１２′によりスプレー
された液はその下のスプレーノズル周りの液コレクター
１４′によって回収され、上から４番目のスプレーノズ
ル１３′で再びガス中に重力スプレーされる。

コレクター１４，１４′はガスのバッフルを兼ねた形状
となしたものである。第３図、第４図の場合も第２図の
場合とほぼ同様の操作方法が採用される。

上記の様に本発明の多段スプレー塔では第１図の如き従
来のスプレー塔に劣らないスプレー状態が得られるばか
りでなく、従来のスプレー塔に見られたようなガスと液
との接触に直接関与しない空間が著しく少くなる利点が
ある。

従って塔高を低くすることができ経済的に有利である。

第１図の従釆の４段のシングルスプレー塔と第２図の本
発明の４段のシングルスプレー塔とを比較すると、同者
とも同程度の性能が得られ、努径が比較的大きい場合で
も後者は前者の８割程度の塔高に抑えることができる。
塔径が小さい従釆のシングルスプレー塔においては、塔
高に対して液コレクタ−４の占める高さの割合が大きく
なるので、本発明のシングルスプレー塔では同程度の性
能を得るためには更に塔高を低く抑えることが可能であ
る。又既設のスプレー塔を本発明の多段スプレー塔に改
良すれば性能の向上が可能である。

第２図に於ては最下部のスプレー段だけにディストリビ
ュータ−１５を設置しているが、第３図に示すようにス
プレー塔本体２１の各スプレー段にデイストリビユータ
ー２５，２６′，２５″，２５′′′を設置することが
可能で、液コレクター２４の上部にディストリビュータ
ー２５を置き、圧力スプレーノズル２２′或は重力スプ
レーノズル２３，２３′を液コレクタ−の下に配置する
。

第３図の場合には液コレクターの高さ分の空間がガスと
液との接触に直接関与しない部分となり、若干のデッド
スべ−スを生じるが従来の多段スプレー塔に比較して液
コレクタ−２４の高さが低くても差支えないため、塔高
を従来のスプレー塔より低くすることができる。第３図
の如くディストリピューターを各スプレー段に取付けれ
ばガスは各段で均一に分布されるため多段スプレー塔の
性能が一そう向上する。

更に第４図は本発明を比較的ガス量が多い場合に使用さ
れるマルチスプレー塔にした場合の実施例で、第４図に
おいては第３図の場合と同様に若干のデッドスペースが
生ずるものの液コレクター３６，３６′とその下の圧力
スプレーノズル３３，３３′或は重力スプレーノズル３
４，３４′との距離を第３図の場合と同様に小さく取れ
るため本発明のマルススプレー塔の塔高をそれだけ低く
することができる。３８，３８′，３８″，３８′′′
は夫々デイストリビユーターである。

本発明は上記の如くスプレー塔の最上部及びその下のス
プレーノズルの２ケ所で液を圧力スブレーし、塔内に簡
単な構造の液コレクターを設けることによって従来のス
プレー塔と同程度のスブレ‐性能が得られ、しかもスプ
レー塔の塔高を従来のものに比較して低くすることがで
きるため、的 スプレー塔の制作費が安くなる。

‘ロー 風荷重が小さくなるため、基礎の設計が有利と
なる。

し一 驚高が低くなるため法規の拘束からはずされる場
合がある。

の利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従釆のシングルスプレー塔の概略図、第２図は
本発明のシングルスプレー塔の一実施例の概略図、第３
図、第４図は本発明の他の実施例の夫々概略図を示す。 １，１１，２１，３１……スプレ−搭本体、２，１２，
１２′，２２，２２′，３２，３２′，３３，３３′…
…圧力スプレーノズル、３，１３，１３′，２３，２３
′，３４，３４′，３５，３５′…・・・重力スプレー
ノズル、４，１４．１４′，２４，２４′，３６，３６
′……液コレクター、５，１５，２５，２５′，２５″
，２５″′，３８，３８′，３８″，３８′′′……デ
イストリビユーター、６，１６，１６′……ガスバツフ
ル。第２図第３図 第４図 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ガスと液とが向流接触する多段スプレー塔において
   、スプレー塔の最上段及び次段のスプレー室に圧力スプ
   レーノズルを備え、且つスプレー塔内にスプレーノズル
   よりの液を収容する液コレクターをガスの通路を残して
   各々スプレー室の周囲に設け、該液コレクターに収容さ
   れた液を一段おきのスプレー室にスプレーするようにそ
   れぞれ重力スプレーするノズルを次段より下方の各スプ
   レー室に備え多段スプレー塔の少くとも一段にはノズル
   の下方にガスのデイストリビユーターを設けたことを特
   徴とする多段スプレー塔。 ２ 多段スプレー塔のスプレー室の最上段及び次段の圧
   力スプレーノズル及びそれより下方の各段の重力スプレ
   ーノズルを夫々複数個備えた特許請求の範囲第１項記載
   の多段スプレー塔。 ３ 液コレクターの内側壁を下段から上昇するガスのバ
   ツフルを兼ねしめるようならしめた特許請求の範囲第１
   項又は第２項記載の多段スプレー塔。 ４ 重力スプレーノズルに通ずる液の送給路を多段スプ
   レー塔本体外に設けた特許請求の範囲第１項又は第２項
   又は第３項記載の多段スプレー塔。