JPS6015305B2 - 微生物反応における高濃度酸素利用法 - Google Patents
微生物反応における高濃度酸素利用法Info
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- JPS6015305B2 JPS6015305B2 JP55062523A JP6252380A JPS6015305B2 JP S6015305 B2 JPS6015305 B2 JP S6015305B2 JP 55062523 A JP55062523 A JP 55062523A JP 6252380 A JP6252380 A JP 6252380A JP S6015305 B2 JPS6015305 B2 JP S6015305B2
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- C12M27/02—Stirrer or mobile mixing elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
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- C12M29/06—Nozzles; Sprayers; Spargers; Diffusers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M29/00—Means for introduction, extraction or recirculation of materials, e.g. pumps
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は微生物反応における高濃度酸素利用法に関する
ものである。
ものである。
従来の通気擬梓槽を用いた好気性下の微生物反応では酸
素源として空気を用い、空気は糟下部に設けられた通気
装置から反応槽液相部に供給されて上昇し、液面から離
脱して糟外に排出される。
素源として空気を用い、空気は糟下部に設けられた通気
装置から反応槽液相部に供給されて上昇し、液面から離
脱して糟外に排出される。
この場合、微生物への酸素供給速度が不足し、微生物反
応による生産物の生成速度の低下をきたす場合が多い。
酸素供給速度が不足する場合、通気量および蝿拝速度を
増加させるか、または高濃度酸素ガスを用いて酸素供給
速度を増大させることが通常行わわれている。通気量お
よび瀦梓速度の増大は所要動力の増大をきたす。高濃度
酸素ガスを用いれば、糟外に排出した気体の再利用をは
からないかぎり酸素の利用効率は著しく低下する。一方
、排出ガスの再利用にさし、しては吸収装置、除菌装置
その他が必要になるとともに操作も複雑になるなどの欠
点がある。一般に、好気性下の微生物反応では液中の反
応物質および酸素が消費されて菌体増殖および代謝生産
物が生産される。
応による生産物の生成速度の低下をきたす場合が多い。
酸素供給速度が不足する場合、通気量および蝿拝速度を
増加させるか、または高濃度酸素ガスを用いて酸素供給
速度を増大させることが通常行わわれている。通気量お
よび瀦梓速度の増大は所要動力の増大をきたす。高濃度
酸素ガスを用いれば、糟外に排出した気体の再利用をは
からないかぎり酸素の利用効率は著しく低下する。一方
、排出ガスの再利用にさし、しては吸収装置、除菌装置
その他が必要になるとともに操作も複雑になるなどの欠
点がある。一般に、好気性下の微生物反応では液中の反
応物質および酸素が消費されて菌体増殖および代謝生産
物が生産される。
この場合、エタノールおよびプロパン資化性菌、グルタ
ミン酸生成菌などのように、菌株によっては溶存酸素濃
度の最適値が存在し、その濃度近辺以外ではこれら生産
物に対する阻害作用を示す場合があり、また生成した炭
酸ガス濃度もエタノール資化性菌、アミノ酸生成菌など
のように溶存酸素濃度と同様の阻害作用を示す場合があ
る。これらの場合、阻害作用を示さない溶存酸素濃度お
よび炭酸ガス濃度で操作する必用がある。本発明は上記
従釆法の欠点を除去するとともに上記阻害作用を受けな
いで有効に高濃度酸素ガスを利用することを目的とする
。
ミン酸生成菌などのように、菌株によっては溶存酸素濃
度の最適値が存在し、その濃度近辺以外ではこれら生産
物に対する阻害作用を示す場合があり、また生成した炭
酸ガス濃度もエタノール資化性菌、アミノ酸生成菌など
のように溶存酸素濃度と同様の阻害作用を示す場合があ
る。これらの場合、阻害作用を示さない溶存酸素濃度お
よび炭酸ガス濃度で操作する必用がある。本発明は上記
従釆法の欠点を除去するとともに上記阻害作用を受けな
いで有効に高濃度酸素ガスを利用することを目的とする
。
なお、従来の好気性微生物の液内反応では酸素源として
空気を用いているが、latmの空気の酸素分圧は0.
21a血である。
空気を用いているが、latmの空気の酸素分圧は0.
21a血である。
いま、液浸高さ10の前後の微生物反応槽で溶存酸素濃
度を制御しない場合を例にとれば、糟内気泡の平均酸素
分圧はほゞ0.3tmになる。しかし、この場合でも酸
素供給速度が不足する場合が多いことから、これを0.
&tmとし、気体目吸式微生物反応装置に適用すれば、
気相部酸素分圧は0.傘tm近辺となる。したがって、
供給ガスの酸素濃度は4小ol近辺となり、この値が安
全を充分とった酸素濃度になることから4びol%以上
の酸素濃度のガスを用いることとした。また、溶存酸素
濃度の制御を行う場合、供給ガスの酸素濃度をlowo
l%とすることにより漆存酸素濃度の最適値に容易に設
定することができる。これらのことから供給ガスの酸素
濃度を40〜lowol%とした。以下に、第1図の強
制気体巻込み装置を例にとって本発明を詳述すれば、鷹
梓槽Aの気相部Fから液相部Eに巻込まれた高濃度酸素
の気泡から酸素が液中に溶解し、微生物によって消費さ
れた酸素濃度が減少する一方、炭酸ガスが生成される。
度を制御しない場合を例にとれば、糟内気泡の平均酸素
分圧はほゞ0.3tmになる。しかし、この場合でも酸
素供給速度が不足する場合が多いことから、これを0.
&tmとし、気体目吸式微生物反応装置に適用すれば、
気相部酸素分圧は0.傘tm近辺となる。したがって、
供給ガスの酸素濃度は4小ol近辺となり、この値が安
全を充分とった酸素濃度になることから4びol%以上
の酸素濃度のガスを用いることとした。また、溶存酸素
濃度の制御を行う場合、供給ガスの酸素濃度をlowo
l%とすることにより漆存酸素濃度の最適値に容易に設
定することができる。これらのことから供給ガスの酸素
濃度を40〜lowol%とした。以下に、第1図の強
制気体巻込み装置を例にとって本発明を詳述すれば、鷹
梓槽Aの気相部Fから液相部Eに巻込まれた高濃度酸素
の気泡から酸素が液中に溶解し、微生物によって消費さ
れた酸素濃度が減少する一方、炭酸ガスが生成される。
例えば溶存酸素濃度日が、0.21atm、36℃の酸
素ガスに対する溶存酸素飽和度を100とした場合の溶
存酸素飽和度の相対値(以下これを相対溶存酸素飽和度
という)を検出してこれが制御機構1に入力として入り
、その出力によって操作弁Jを関弁し高濃度酸素貯槽G
から高濃度酸素ガスが糟気相部Fに供給され、気相部F
の酸素分圧、液相部Eの相対溶存酸素飽和度を増大させ
る。所定の相対溶存酸素飽和度に達すれば、溶存酸素濃
度計日、制御機構1を経て操作弁Jを開弁させる。炭酸
ガスについて、気相部Fの炭酸ガス濃度計Kが炭酸ガス
濃度を検出して制御機構Lに入力として入り、所定の濃
度に達すれば制御機構Lの出力によって操作弁Mを開弁
させて気相部Fの気体を装置外に排出させる。かくして
、相対熔存酸素飽和度および気相部炭酸ガス濃度を所定
値に制御するこにより、気相部Fの圧力は高濃度酸素ガ
ス供給と気相部Fの気体排出とによってさまる圧力にな
り微生物反応が円滑に行われる。
素ガスに対する溶存酸素飽和度を100とした場合の溶
存酸素飽和度の相対値(以下これを相対溶存酸素飽和度
という)を検出してこれが制御機構1に入力として入り
、その出力によって操作弁Jを関弁し高濃度酸素貯槽G
から高濃度酸素ガスが糟気相部Fに供給され、気相部F
の酸素分圧、液相部Eの相対溶存酸素飽和度を増大させ
る。所定の相対溶存酸素飽和度に達すれば、溶存酸素濃
度計日、制御機構1を経て操作弁Jを開弁させる。炭酸
ガスについて、気相部Fの炭酸ガス濃度計Kが炭酸ガス
濃度を検出して制御機構Lに入力として入り、所定の濃
度に達すれば制御機構Lの出力によって操作弁Mを開弁
させて気相部Fの気体を装置外に排出させる。かくして
、相対熔存酸素飽和度および気相部炭酸ガス濃度を所定
値に制御するこにより、気相部Fの圧力は高濃度酸素ガ
ス供給と気相部Fの気体排出とによってさまる圧力にな
り微生物反応が円滑に行われる。
以下、本発明の実施例について具体的に詳述する。
実施例として、エタノール資化性菌の増殖について第1
図に示す強制気体巻込み装置に本発明の高濃度酸素利用
法を適用し、高濃度酸素として純酸素ガスを用い、回分
操作から給液だけを行う半連続操作にうつる方式の増殖
を行った場合と、第2図に示す従来の通気檀洋槽に従来
の通気法を用し、、空気または空気に純酸素ガスを加え
た混合気体を用い、強制気体巻込み装置の場合と同様回
分操作から給液だけを行う半連続操作にうつる方式の増
殖を行った場合とを比較した結果について示す。
図に示す強制気体巻込み装置に本発明の高濃度酸素利用
法を適用し、高濃度酸素として純酸素ガスを用い、回分
操作から給液だけを行う半連続操作にうつる方式の増殖
を行った場合と、第2図に示す従来の通気檀洋槽に従来
の通気法を用し、、空気または空気に純酸素ガスを加え
た混合気体を用い、強制気体巻込み装置の場合と同様回
分操作から給液だけを行う半連続操作にうつる方式の増
殖を行った場合とを比較した結果について示す。
第1図に示す強制巻込み装置は、初期液熔積23.5ク
、槽Aの径316肋、気液界面下15肋に設けた上部気
体巻込み用船用プロペラ3枚羽根の径72肋、気液界面
近辺に設けたドラフト・チューブCの径78肌、糟底よ
り液高の1/3の位置に設けた下部気泡分散用軸流ター
ビン6枚羽根Dの径135脚、液高は槽径とほゞ等しく
したものである。
、槽Aの径316肋、気液界面下15肋に設けた上部気
体巻込み用船用プロペラ3枚羽根の径72肋、気液界面
近辺に設けたドラフト・チューブCの径78肌、糟底よ
り液高の1/3の位置に設けた下部気泡分散用軸流ター
ビン6枚羽根Dの径135脚、液高は槽径とほゞ等しく
したものである。
純酸素ガス貯槽は200ク容積のものである。第2図に
示す従来の通気櫨梓槽は、初期液溶積2.42夕、糟A
′の径165側、糟底より液高の1/3の位置に設けた
タービン6枚羽根8の径8物奴、蝿梓羽根の下部に設け
た通気装置のリング・スパージャ−C′の径6仇帆、液
高は糟径とはゞ等しくしたものである。供謎菌株はCa
ndidabrasslcae、強制巻込み装置の場合
の初期反応液組成は、C2&OHO.95vol%、(
N比)2S04 3.8タ′そ、KH2P04 2タ′
そ、MgS04・7日200.6夕/そ、yeaste
xはact 2 夕/〆、CaC12・母L0 30の
9/Z、NaC1 80の9/そ、FeC13・細20
50雌/夕、Z船04・7日2 60の9/夕、Cu
S〇4・9L〇 2の9′そMnS〇4・4日2〇 3
の9/Z、CoCl2・肌200.4雌′〆Na2Mo
o4・2日200.1の9/そAIC13・細200.
5の2′そであり、回分操作から半連続操作にきりかえ
たのちの給液の組成は、濃度が250タ′そのアンモニ
アに加えて回分操作の反応液組成のうち無機塩溶液の濃
度を3M騎こしたものである。
示す従来の通気櫨梓槽は、初期液溶積2.42夕、糟A
′の径165側、糟底より液高の1/3の位置に設けた
タービン6枚羽根8の径8物奴、蝿梓羽根の下部に設け
た通気装置のリング・スパージャ−C′の径6仇帆、液
高は糟径とはゞ等しくしたものである。供謎菌株はCa
ndidabrasslcae、強制巻込み装置の場合
の初期反応液組成は、C2&OHO.95vol%、(
N比)2S04 3.8タ′そ、KH2P04 2タ′
そ、MgS04・7日200.6夕/そ、yeaste
xはact 2 夕/〆、CaC12・母L0 30の
9/Z、NaC1 80の9/そ、FeC13・細20
50雌/夕、Z船04・7日2 60の9/夕、Cu
S〇4・9L〇 2の9′そMnS〇4・4日2〇 3
の9/Z、CoCl2・肌200.4雌′〆Na2Mo
o4・2日200.1の9/そAIC13・細200.
5の2′そであり、回分操作から半連続操作にきりかえ
たのちの給液の組成は、濃度が250タ′そのアンモニ
アに加えて回分操作の反応液組成のうち無機塩溶液の濃
度を3M騎こしたものである。
エタノールは反応液組成が0.5vol%になるように
制御して給液した。なお、供試菌株は発泡性が非常に強
いので、反応初期に反応液組成が0.05vol%にな
るように抑泡剤を加えた。pHおよび温度は回分、半連
続両操作ともそれぞれ5.0、3がoとした。pH調整
は2NNaOHを用いて行った。従来の通気燈梓槽を用
いた場合、回分操作における初期エタノール濃度の0.
87vol%、初期菌体濃度の0.175夕/そおよび
通気縄梓方法以外は強制巻込み装置の場合と同様にした
。供謎菌株の増殖に及ぼす相対溶存酸素飽和度および気
相部炭酸ガス濃度の影響について予備実験を行った結果
、相対溶存酸素飽和度については200%近辺以下、炭
酸ガス濃度では4ルol%近辺以下で操作すればそれぞ
れの菌体増殖に対する阻害作用が認められなかった。操
作について、第1図の強制巻込み装置の場合気相部気体
は、上述のことから空気を用いて初期相対溶存酸素飽和
度を100%とし、菌体が増殖するに従ってその値は低
下し、25%に達すれば溶存酸素濃度計日がこれを検出
して制御機構1、操作弁Jによって純酸素貯槽Gの純酸
素ガスを槽気相部に供給し、以後25%近辺の値になる
ように制御した。
制御して給液した。なお、供試菌株は発泡性が非常に強
いので、反応初期に反応液組成が0.05vol%にな
るように抑泡剤を加えた。pHおよび温度は回分、半連
続両操作ともそれぞれ5.0、3がoとした。pH調整
は2NNaOHを用いて行った。従来の通気燈梓槽を用
いた場合、回分操作における初期エタノール濃度の0.
87vol%、初期菌体濃度の0.175夕/そおよび
通気縄梓方法以外は強制巻込み装置の場合と同様にした
。供謎菌株の増殖に及ぼす相対溶存酸素飽和度および気
相部炭酸ガス濃度の影響について予備実験を行った結果
、相対溶存酸素飽和度については200%近辺以下、炭
酸ガス濃度では4ルol%近辺以下で操作すればそれぞ
れの菌体増殖に対する阻害作用が認められなかった。操
作について、第1図の強制巻込み装置の場合気相部気体
は、上述のことから空気を用いて初期相対溶存酸素飽和
度を100%とし、菌体が増殖するに従ってその値は低
下し、25%に達すれば溶存酸素濃度計日がこれを検出
して制御機構1、操作弁Jによって純酸素貯槽Gの純酸
素ガスを槽気相部に供給し、以後25%近辺の値になる
ように制御した。
気相部炭酸ガス濃度は菌体が増殖するに従って増加し、
3仇ol%に達すれば炭酸ガス濃度計Kがこれを検出し
て制御機構L、操作弁Mによって気相部気体を糟外に排
出し、以後3ルol%近辺の値になるように制御した。
この場合、気相部Fの圧力が低下して相対溶存酸素飽和
度が低下し、これに伴って純酸素ガス貯槽Gから気相部
F‘こ酸素ガスが供給され、相対溶存酸素飽和度が25
%近辺の値に制御された。また、初期菌体濃度0.21
夕/そ、上部気体巻込み用燈梓羽根Bの回転速度180
比pm、下部気泡分散用燈浮羽根Dの回転速度40仇p
mとした。回分操作は5.則r行った後半連続操作にき
りかえ、全体で1岬r実験を行った。菌体濃度、単位液
容積あたりの酸素供給総量、相対溶存酸素飽和度その他
の時間経過を第1表に示す。また、単位液容積あたりの
酸素供給総量、酸素利用効率、単位液容積あたりのエタ
ノール消費総量および最終菌体濃度を第2表に示す。第
1表 第2表 上記実験と並行して従来の通気蝿枠槽を用いて実験を行
った。
3仇ol%に達すれば炭酸ガス濃度計Kがこれを検出し
て制御機構L、操作弁Mによって気相部気体を糟外に排
出し、以後3ルol%近辺の値になるように制御した。
この場合、気相部Fの圧力が低下して相対溶存酸素飽和
度が低下し、これに伴って純酸素ガス貯槽Gから気相部
F‘こ酸素ガスが供給され、相対溶存酸素飽和度が25
%近辺の値に制御された。また、初期菌体濃度0.21
夕/そ、上部気体巻込み用燈梓羽根Bの回転速度180
比pm、下部気泡分散用燈浮羽根Dの回転速度40仇p
mとした。回分操作は5.則r行った後半連続操作にき
りかえ、全体で1岬r実験を行った。菌体濃度、単位液
容積あたりの酸素供給総量、相対溶存酸素飽和度その他
の時間経過を第1表に示す。また、単位液容積あたりの
酸素供給総量、酸素利用効率、単位液容積あたりのエタ
ノール消費総量および最終菌体濃度を第2表に示す。第
1表 第2表 上記実験と並行して従来の通気蝿枠槽を用いて実験を行
った。
実験は、始め回分操作を5.抽r行ったのち給液を開始
して半連続操作にきりかえて全体で1仇r行ったことは
強制巻込み装置の場合と同一である。また、供試菌株、
回分操作における初期反応液組成、抑泡剤濃度、半連続
操作における給液の組成およびエタノールの供給方法p
H調整方法は強制気体巻込み装置の場合と同一とした。
通気燈洋及び相対溶存酸素飽和度は、反応初期から5.
則rの間通気量は0.827〆(空気)/そ(液)・m
in、鷹梓速度は60仇pm、5.5〜九rの間遠気量
は0.61そ(空気)ノク(液)・min‘こ加えて0
.081〆(酸素)/〆(液)・min、瀦浮遊度は6
0仇pm、7〜8.劫rの間通気量は0.393そ(空
気)/夕(液)・伽に加えて0.363夕(酸素)/Z
(液)・min、縄梓速度は60びpm、8.5〜1血
での間通気量は0.1織そ(空気)/そ(液)・mln
、に加えて0.565〆(酸素)/そ(液)・mm、縄
拝速度は70比pmとした。なおお、これらの値は溶存
酸素濃度計H′によって相対溶存酸素飽和度を測定し、
この値が25%近辺以下に低下しないように手動で操作
した。また、空気または空気と酸素との混合気体はリン
ダ・スパージヤー〇から液相部G′に供給されて気泡に
なり、気液界面から離脱して気相部1′に入って糟外に
排出された。菌体濃度、単位液容積あたりの酸素供給総
量、相対溶存酸素飽和度その他の時間経過を第1表に、
また単位液容積あたりの酸素供聯合総量、酸素利用効率
、単位液容積あたりのエタノール消費総量および最終菌
体濃度を第2表にそれぞれ示す。第1表をみると、糟内
液容積は両者とも反応開始後5.批rから給液して半連
続操作にきりかえているため、半連続操作では漸増して
いる。
して半連続操作にきりかえて全体で1仇r行ったことは
強制巻込み装置の場合と同一である。また、供試菌株、
回分操作における初期反応液組成、抑泡剤濃度、半連続
操作における給液の組成およびエタノールの供給方法p
H調整方法は強制気体巻込み装置の場合と同一とした。
通気燈洋及び相対溶存酸素飽和度は、反応初期から5.
則rの間通気量は0.827〆(空気)/そ(液)・m
in、鷹梓速度は60仇pm、5.5〜九rの間遠気量
は0.61そ(空気)ノク(液)・min‘こ加えて0
.081〆(酸素)/〆(液)・min、瀦浮遊度は6
0仇pm、7〜8.劫rの間通気量は0.393そ(空
気)/夕(液)・伽に加えて0.363夕(酸素)/Z
(液)・min、縄梓速度は60びpm、8.5〜1血
での間通気量は0.1織そ(空気)/そ(液)・mln
、に加えて0.565〆(酸素)/そ(液)・mm、縄
拝速度は70比pmとした。なおお、これらの値は溶存
酸素濃度計H′によって相対溶存酸素飽和度を測定し、
この値が25%近辺以下に低下しないように手動で操作
した。また、空気または空気と酸素との混合気体はリン
ダ・スパージヤー〇から液相部G′に供給されて気泡に
なり、気液界面から離脱して気相部1′に入って糟外に
排出された。菌体濃度、単位液容積あたりの酸素供給総
量、相対溶存酸素飽和度その他の時間経過を第1表に、
また単位液容積あたりの酸素供聯合総量、酸素利用効率
、単位液容積あたりのエタノール消費総量および最終菌
体濃度を第2表にそれぞれ示す。第1表をみると、糟内
液容積は両者とも反応開始後5.批rから給液して半連
続操作にきりかえているため、半連続操作では漸増して
いる。
エタノール濃度は両者とも回分操作の5.劫rまではほ
ぼ等しい時間経過をもって減少しており、半連続操作の
5.5〜1価rまではほゞ所定の0.5vol%前後の
濃度に制御されている。相対燈存酸素飽和度及び単位液
容積あたりの酸素供繋舎総量について、本発明の方法法
では反応開始後2.批rで相対溶存酸素飽和度が25%
に低下しているが、従来の遠気燈梓の方法では酸素源と
して空気だけを用いた回分操作の5.劫rまでは40%
以上で本発明の方法より大きな値を示している。半連続
操作で相対溶存酸素飽和度が両者とも25%近辺になっ
た7hr〜1皿rの間では、本発明の方法の単位液容積
あたりの酸素供給総量は27.8そ(酸素)/そ(液)
、従来の通気鍵拝の方法に酸素による通気を併用した方
法で、通気空気による酸素を含めた酸素供総合総量は8
5夕(酸素)/そ(液)となり、後者は前者の3.3倍
に達している。また、この場合通気空気の酸素量を除外
しても酸素供給総量は80夕(酸素)/そ(液)となり
、本発明の方法の2.9倍になり本発明の方法が酸素の
有効利用について極めて有用である。菌体濃度について
、反応開始時では本発明の方法では従来の通気燈洋の方
法に酸素による通気を併用した方法に比して20%増し
て1価r後では30%増にそれぞれなっており、反応開
始時の菌体濃度を考慮しても菌体生成は本発明明の方法
の場合が多少有利になっている。第2表をみるに、単位
液容積あたりの酸素供給総量は従来の通気燈拝の方法に
酸素による通気を併用した方法が本発明の方法の4.3
倍、通気空気中の酸素を除外しても2.4倍になってい
る。
ぼ等しい時間経過をもって減少しており、半連続操作の
5.5〜1価rまではほゞ所定の0.5vol%前後の
濃度に制御されている。相対燈存酸素飽和度及び単位液
容積あたりの酸素供繋舎総量について、本発明の方法法
では反応開始後2.批rで相対溶存酸素飽和度が25%
に低下しているが、従来の遠気燈梓の方法では酸素源と
して空気だけを用いた回分操作の5.劫rまでは40%
以上で本発明の方法より大きな値を示している。半連続
操作で相対溶存酸素飽和度が両者とも25%近辺になっ
た7hr〜1皿rの間では、本発明の方法の単位液容積
あたりの酸素供給総量は27.8そ(酸素)/そ(液)
、従来の通気鍵拝の方法に酸素による通気を併用した方
法で、通気空気による酸素を含めた酸素供総合総量は8
5夕(酸素)/そ(液)となり、後者は前者の3.3倍
に達している。また、この場合通気空気の酸素量を除外
しても酸素供給総量は80夕(酸素)/そ(液)となり
、本発明の方法の2.9倍になり本発明の方法が酸素の
有効利用について極めて有用である。菌体濃度について
、反応開始時では本発明の方法では従来の通気燈洋の方
法に酸素による通気を併用した方法に比して20%増し
て1価r後では30%増にそれぞれなっており、反応開
始時の菌体濃度を考慮しても菌体生成は本発明明の方法
の場合が多少有利になっている。第2表をみるに、単位
液容積あたりの酸素供給総量は従来の通気燈拝の方法に
酸素による通気を併用した方法が本発明の方法の4.3
倍、通気空気中の酸素を除外しても2.4倍になってい
る。
さらに、酸素の利用効率は本発明の方法は従釆の通気燈
梓の方法に酸素による通気を併用した方法の5.針節こ
なっている。単位液容積あたりのエタノール消費総量は
本発明の方法は従来の通気蝿拝の方法に酸素による通気
を併用した方法より31%多くしたがって最終菌体濃度
も本発明の方法が31%多くなっている。以上のように
、本発明の方法は従来の通気櫨梓の方法に酸素による通
気を併用した方法に比し、気相部気体の再利用にともな
う炭酸ガス吸収装置循環ポンプ、除菌器その他を設贋す
ることなく、とくに有効に酸素を利用することができ、
かつ実用装置では槽底からの通気の動力が不要であるた
め所要動力も軽減されるという多くの特徴を有する高純
度酸素利用法である。
梓の方法に酸素による通気を併用した方法の5.針節こ
なっている。単位液容積あたりのエタノール消費総量は
本発明の方法は従来の通気蝿拝の方法に酸素による通気
を併用した方法より31%多くしたがって最終菌体濃度
も本発明の方法が31%多くなっている。以上のように
、本発明の方法は従来の通気櫨梓の方法に酸素による通
気を併用した方法に比し、気相部気体の再利用にともな
う炭酸ガス吸収装置循環ポンプ、除菌器その他を設贋す
ることなく、とくに有効に酸素を利用することができ、
かつ実用装置では槽底からの通気の動力が不要であるた
め所要動力も軽減されるという多くの特徴を有する高純
度酸素利用法である。
第1図は本発明方法を実施するための装置の1例を示す
模式図、第2図は従来の装置の1例を示す模式図である
。 A,A′・・・蝿梓槽、F,1′・・・気相部、E,G
′・・・液相部。 弟l図 第2図
模式図、第2図は従来の装置の1例を示す模式図である
。 A,A′・・・蝿梓槽、F,1′・・・気相部、E,G
′・・・液相部。 弟l図 第2図
Claims (1)
- 1 気体自吸式微生物反応装置を用いた好気性微生物の
液内反応における高濃度酸素の利用法として装置気相部
気体が反応液中に自吸されて気泡となり、気泡中の酸素
が反応液中に溶解して微生物に消費される量に応じて4
0〜100vol%の高濃度酸素ガスを装置気相部に供
給し、微生物反応による生産物を効率よく生産するとと
もに、酸素を有効に利用することを特徴とした微生物反
応における高濃度酸素利用法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55062523A JPS6015305B2 (ja) | 1980-05-12 | 1980-05-12 | 微生物反応における高濃度酸素利用法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55062523A JPS6015305B2 (ja) | 1980-05-12 | 1980-05-12 | 微生物反応における高濃度酸素利用法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56158091A JPS56158091A (en) | 1981-12-05 |
JPS6015305B2 true JPS6015305B2 (ja) | 1985-04-18 |
Family
ID=13202623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55062523A Expired JPS6015305B2 (ja) | 1980-05-12 | 1980-05-12 | 微生物反応における高濃度酸素利用法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6015305B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5758880A (en) * | 1980-09-26 | 1982-04-08 | Hitachi Ltd | Incubator |
US6280996B1 (en) * | 1999-03-22 | 2001-08-28 | Praxair Technology, Inc. | Method of using oxygen to eliminate carbon dioxide poisoning in aerobic fermentation |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4919585A (ja) * | 1972-06-15 | 1974-02-21 |
-
1980
- 1980-05-12 JP JP55062523A patent/JPS6015305B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4919585A (ja) * | 1972-06-15 | 1974-02-21 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56158091A (en) | 1981-12-05 |
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