JPS6015135A - 濡れ性向上方法 - Google Patents
濡れ性向上方法Info
- Publication number
- JPS6015135A JPS6015135A JP12273883A JP12273883A JPS6015135A JP S6015135 A JPS6015135 A JP S6015135A JP 12273883 A JP12273883 A JP 12273883A JP 12273883 A JP12273883 A JP 12273883A JP S6015135 A JPS6015135 A JP S6015135A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- synthetic resin
- resin body
- wettability
- oxygen plasma
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明は、合成樹脂体への流動性ある塗布体塗布の改善
に係り、特に、該合成樹脂体の濡れ性向上の方法に関す
。
に係り、特に、該合成樹脂体の濡れ性向上の方法に関す
。
山） 技術の背景
一般に合成樹脂は臨界表面張力が低く、そのため、それ
に塗布しようとするものに対して濡れ性が良くなく、敢
えて塗布しても、均一性に欠けたり被着強度が弱かった
りして、所望の性状を得ることが出来ない場合が多い。
に塗布しようとするものに対して濡れ性が良くなく、敢
えて塗布しても、均一性に欠けたり被着強度が弱かった
りして、所望の性状を得ることが出来ない場合が多い。
一方、写真用乾板は、従来のポリエステルシートを基板
とした銀塩写真用の用途はそれとして、例えば、情報化
機器の発展によりその機器の部材として使用されるなど
、新しい用途が生まれ、銀塩に限らず、重クロム酸ゼラ
チンやポリビニルカルバゾール等の感光性プラスチック
を感光材料とした乾板が望まれるに至っている。こうし
た用途には、従来、濡れ性の良いガラス基板が用いられ
ているが、重くまた割れ易いため、ガラス基板に代わっ
て合成樹脂基板の使用が望まれて、前記濡れ性が問題に
なったりしている。
とした銀塩写真用の用途はそれとして、例えば、情報化
機器の発展によりその機器の部材として使用されるなど
、新しい用途が生まれ、銀塩に限らず、重クロム酸ゼラ
チンやポリビニルカルバゾール等の感光性プラスチック
を感光材料とした乾板が望まれるに至っている。こうし
た用途には、従来、濡れ性の良いガラス基板が用いられ
ているが、重くまた割れ易いため、ガラス基板に代わっ
て合成樹脂基板の使用が望まれて、前記濡れ性が問題に
なったりしている。
（ｃｌ 従来技術と問題点
従来、写真として、ハロゲン化銀をゼラチン中に含ませ
た感光層をガラス基板またはポリエステルシート上に形
成したものが多用されてきた。また、近年、ホログラム
用に、重クロム酸ゼラチンやポリビニルカルバゾール等
の感光性プラスチックが開発されつつある。
た感光層をガラス基板またはポリエステルシート上に形
成したものが多用されてきた。また、近年、ホログラム
用に、重クロム酸ゼラチンやポリビニルカルバゾール等
の感光性プラスチックが開発されつつある。
ポリエステルの場合は、可撓性がありフィルム状にして
使用するには適しているが、変形を嫌う用途には通さな
いため、こうした場合には専らガラス基板が用いられて
きた。然し、ガラス基板は割れ易（且つ重いため、アク
リルやアリルジグリコールカーボネイトなどの透明度の
良い合成樹脂基板への移行が望まれている。
使用するには適しているが、変形を嫌う用途には通さな
いため、こうした場合には専らガラス基板が用いられて
きた。然し、ガラス基板は割れ易（且つ重いため、アク
リルやアリルジグリコールカーボネイトなどの透明度の
良い合成樹脂基板への移行が望まれている。
合成樹脂基板化の要望は、特に、ＰＯ３端末やレーザー
プリンタのホログラムレーザースキャナなどで強い。そ
れは、こうした装置には、現在ガラス基板の写真（ホロ
グラム）が使用されているが、高速でこれを回転すると
、該回転のため生ずる応力で割れると云う問題があり、
また、重いためモーターや筐体への負荷が大きくコスト
高になると云う問題があるからである。
プリンタのホログラムレーザースキャナなどで強い。そ
れは、こうした装置には、現在ガラス基板の写真（ホロ
グラム）が使用されているが、高速でこれを回転すると
、該回転のため生ずる応力で割れると云う問題があり、
また、重いためモーターや筐体への負荷が大きくコスト
高になると云う問題があるからである。
然し、アクリルやアリルジグリコールカーボネイトの基
板は、その臨界表面張力が３０ｄｙｎ ／ ｃｍ程度と
低く、塗布体であるゼラチン水溶液にたいする濡れ性が
良くないため、該塗布体を均一に塗布することが出来な
い欠点がある。
板は、その臨界表面張力が３０ｄｙｎ ／ ｃｍ程度と
低く、塗布体であるゼラチン水溶液にたいする濡れ性が
良くないため、該塗布体を均一に塗布することが出来な
い欠点がある。
この場合、均一に塗布する方法は幾つかある。
例えば、前記基板の表面を機械的又は化学的手段等で粗
Ｕ７て小さな凹凸を形成したり、前記塗布体中に界面活
性剤を添加する方法等が考えられる。
Ｕ７て小さな凹凸を形成したり、前記塗布体中に界面活
性剤を添加する方法等が考えられる。
前者は、該基板表面の見掛けの臨界表面張力を大きくす
るごとで、後者は、該塗布体の表面張力を低下させるこ
とで、それぞれ濡れ易くしようとするものであるが、該
基板に凹凸を形成すると光散乱が生じてノイズの原因に
なり、該塗布体に異物を混入すると感光材の組成が変化
して感度や現像に影響を及ぼすため、これらの方法を採
用することは望ましくない。
るごとで、後者は、該塗布体の表面張力を低下させるこ
とで、それぞれ濡れ易くしようとするものであるが、該
基板に凹凸を形成すると光散乱が生じてノイズの原因に
なり、該塗布体に異物を混入すると感光材の組成が変化
して感度や現像に影響を及ぼすため、これらの方法を採
用することは望ましくない。
（ｄｉ 発明の目的
本発明の目的は上記従来の欠点に鑑み、合成樹脂基板の
表面に凹凸が形成されることなく、該合成樹脂基板表面
の塗布体に対する濡れ性を向上させる方法を提供するに
ある。
表面に凹凸が形成されることなく、該合成樹脂基板表面
の塗布体に対する濡れ性を向上させる方法を提供するに
ある。
（ｅｌ 発明の構成
上記目的は、流動性ある塗布体を該塗布体に対して濡れ
性の良くない合成樹脂体の表面に塗布するに先立ち、該
合成樹脂体の表面に酸素プラズマを当てて該濡れ性を向
上させることを特徴とする本発明の濡れ性向上方法によ
って達成される。
性の良くない合成樹脂体の表面に塗布するに先立ち、該
合成樹脂体の表面に酸素プラズマを当てて該濡れ性を向
上させることを特徴とする本発明の濡れ性向上方法によ
って達成される。
本発明は実験の結果得られた知見であり、合成樹脂体の
表面に酸素プラズマを当てると、該プラズマ中に発生し
た酸素ラジカルが該合成樹脂体表面の炭素に付加されて
高エネルギー表面を形成し、臨界表面張力が大きくなっ
て前記濡れ性が向上するものと考えられる。
表面に酸素プラズマを当てると、該プラズマ中に発生し
た酸素ラジカルが該合成樹脂体表面の炭素に付加されて
高エネルギー表面を形成し、臨界表面張力が大きくなっ
て前記濡れ性が向上するものと考えられる。
前記酸素プラズマの当てる量を前記合成樹脂体の表面形
状が変化しない程度にすれば、該酸素プラズマにより影
響を受けるのは該合成樹脂体の表面のみとなり光学的性
質には変化が無く、前述のような光散乱の問題を起こさ
ずに前記塗布体を均一に塗布することが可能になる。
状が変化しない程度にすれば、該酸素プラズマにより影
響を受けるのは該合成樹脂体の表面のみとなり光学的性
質には変化が無く、前述のような光散乱の問題を起こさ
ずに前記塗布体を均一に塗布することが可能になる。
（ｆｌ 発明の実施例
以下本発明の詳細な説明する。
前述のホログラムレーザースキャナなどで使用の要望が
あるアクリル板（フレアライト：日東樹脂工業製）およ
びアリルジグリコールカーボネイト板（ＣＲ−３９：旭
ガラス製）で実験を行った。
あるアクリル板（フレアライト：日東樹脂工業製）およ
びアリルジグリコールカーボネイト板（ＣＲ−３９：旭
ガラス製）で実験を行った。
これらは、ゼラチンを基材とする感光材に対して濡れ性
が良くないと同様に水に対しても濡れ性が良くない。
が良くないと同様に水に対しても濡れ性が良くない。
酸素プラズマ処理の条件は次の通りである。
装置 ：平行平板型リアクティブ
イオンエツチング装置
圧力 ： ０．３ Ｔｏｒｒ
印加エネルギーＦ Ｏ，２５Ｗ／ｃｔＪ処理時間 ＝１
． 分間 上記条件で処理をした結果、アクリル板、アリルジグリ
コールカーボネイト板、共に、水に対して完全に濡れる
ようになった。水の表面張力は７２ｄｙｎ ／（１）で
あるので、臨界表面張力はこの値より大きくなったこと
になる。また、ガラス板の場合は水を多少撥ねるので、
ガラス板より濡れ性が優れたものになったことになる。
． 分間 上記条件で処理をした結果、アクリル板、アリルジグリ
コールカーボネイト板、共に、水に対して完全に濡れる
ようになった。水の表面張力は７２ｄｙｎ ／（１）で
あるので、臨界表面張力はこの値より大きくなったこと
になる。また、ガラス板の場合は水を多少撥ねるので、
ガラス板より濡れ性が優れたものになったことになる。
更に、前記感光材の場合になぞらえて、２％ゼラチン水
溶液に浸漬し、ゆっくり引上げたところ、撥ねは全く無
く均一なゼラチン塗膜を得ることが出来た。
溶液に浸漬し、ゆっくり引上げたところ、撥ねは全く無
く均一なゼラチン塗膜を得ることが出来た。
なお、アクリル板、アリルジグリコールカーボネイト板
、共に、前記処理前後で可視光の光透過率や光散乱につ
いては全く変化がなかった。
、共に、前記処理前後で可視光の光透過率や光散乱につ
いては全く変化がなかった。
（ｇｌ 発明の効果
以上に説明したように、本発明による構成によれば、合
成樹脂基板の表面に凹凸が形成されることなく、該合成
樹脂基板表面の塗布体に対する濡れ性を向上させる方法
が提供出来、例えば、写真乾板において、その新しい用
途であるホログラムレーザースキャナなどで要望されて
いる、ガラス基板を合成樹脂基板へ切り換えることを可
能にさせる効果がある。
成樹脂基板の表面に凹凸が形成されることなく、該合成
樹脂基板表面の塗布体に対する濡れ性を向上させる方法
が提供出来、例えば、写真乾板において、その新しい用
途であるホログラムレーザースキャナなどで要望されて
いる、ガラス基板を合成樹脂基板へ切り換えることを可
能にさせる効果がある。
２０３−
Claims (3)
- （１）流動性ある塗布体を該塗布体に対して濡れ性の良
くない合成樹脂体の表面に塗布するに先立ち、該合成樹
脂体の表面に酸素プラズマを当てて該濡れ性を向上させ
ることを特徴とする濡れ性向上方法。 - （２） 前記酸素プラズマを当てることにおいて、その
当てる量を前記合成樹脂体の表面形状が変化しない程度
にすることを特徴とする特許請求の範囲第＋１１項記載
の濡れ性向上方法。 - （３）前記合成樹脂体は写真用乾板の基板であり、前記
塗布体はその感光材であることを特徴とする特許請求の
範囲第（２）項記載の濡れ性向上方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12273883A JPS6015135A (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | 濡れ性向上方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12273883A JPS6015135A (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | 濡れ性向上方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6015135A true JPS6015135A (ja) | 1985-01-25 |
Family
ID=14843367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12273883A Pending JPS6015135A (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | 濡れ性向上方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6015135A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110071227A1 (en) * | 2008-04-15 | 2011-03-24 | Gelita Ag | Rapidly wetting material containing hydrocolloid, method for the manufacture thereof and use thereof |
-
1983
- 1983-07-06 JP JP12273883A patent/JPS6015135A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110071227A1 (en) * | 2008-04-15 | 2011-03-24 | Gelita Ag | Rapidly wetting material containing hydrocolloid, method for the manufacture thereof and use thereof |
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