JPS6014023B2 - N−チオスクシノイミドを用いる新規な合成方法 - Google Patents

N−チオスクシノイミドを用いる新規な合成方法

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JPS6014023B2
JPS6014023B2 JP50096693A JP9669375A JPS6014023B2 JP S6014023 B2 JPS6014023 B2 JP S6014023B2 JP 50096693 A JP50096693 A JP 50096693A JP 9669375 A JP9669375 A JP 9669375A JP S6014023 B2 JPS6014023 B2 JP S6014023B2
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Nippon Soda Co Ltd
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はジスルフィド化合物の新規な製造方法に関する
ものであり、さらに詳しくは一般式 (式中R,は低級アルコキシカルボニル基、ピリジル基
、または を示す。
ここでAはハロゲン原子を、mは0または1か2の整数
を示し、Yはハロゲン原子、メチル基、メトキシ基もし
くはトリフルオルメチル基から操ばれた異種または同種
の置換基を、nは0または1もしくは2の整数を示す。
Xは低級ァルキル基、低級ァルコキシ基、低級アルキル
チオ基低級アルコキシカルボニルメチルチオ基、フェニ
ル基、ピロリジン1ィル基、ピベリジン1ィル基、モル
ホリン1ィル基、2・6ージメチルモルホリン1ィル基
、インドリン1ィル基、2−メチル−4ークロルフェニ
ルピベラジン1ィル基、4ーェチルフェニルピベラジン
1ィル基またはを示す。
ここでr,は水素原子またはアルキル基を、らは低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、メトキシプロピル基、フ
ェニルアミノ基またはを示し、ここでZはメチル基また
はハロゲン原子から選ばれた異種または同種の置換基を
、nは0または1もしくは2を示す。
)で表わされる化合物に一般式(式中R2はフェニル基
、低級アルキル基もしくはハロゲン原子で置換されたフ
ヱニル基またはハロゲン原子で置換されたペンジル基を
示す。
)で表わされるN−チオスクシノィミドを反応せしめる
ことを特徴とする一般式 (式中R,、XおよびR2は先に定義したものと同一の
意味を有する。
)で表わされる新規なジスルフィド化合物の新規な製造
方法に関するものであり、その目的は前記一般式〔m〕
で表わされるジスルフィド化合物を純度よくしかも高収
率で得んとするものである。本発明方法により得られる
ジスルフィド化合物は新規物質であって、禾本科雑草に
対する除草作用を有し、また疫病、斑落、苗立枯、かし
・よう病等の植物病原菌に対する殺菌作用やイエバエ、
チカィェカ等の衛生害虫に対する殺虫作用また、アシノ
ワハダニ等植物寄生性ダニ類に対する殺ダニ作用を有す
るものもあり、有害生物防除剤として有用である。
従来本発明製造方法に類似のジスルフィドの生成反応と
してチオノカーバメートとスルフェニルクロリドとの反
応(J.AC.S82 155〜8.1969)と、チ
オ尿素とチオールを過酸化水素の存在下で反応させる方
法〔ケミカルフオーマシューティカル ビユレテイン
18【2}235〜242(1970)〕とが知られて
いるが、これらの方法は原料化合物がチオノカーバメー
ト、チオ尿素、チオアミドなどに制限されること、チオ
ノカーバメートとスルフェニルクロリドとの反応ではピ
リジンの如き第三級アミンを添加して、副生する塩酸を
除かなければジチオホルムィミド酸ヱステルは単離でき
ない、またチオ尿素とチオールの反応はアルカンチオー
ルでは進行するがチオフェノールでは反応しないなどの
欠点を有している。
しかしながら本発明方法に依れば、原料化合物もチオノ
カーバメート、チオ尿素、チオアミド等に制限されるこ
となく広い範囲のものに適用でき、反応の条件も、室温
で放置するだけでよく、温度の制御は必要としないうえ
、反応終了後、水洗、乾燥、溶媒蟹去するだけでほゞ純
品が高収率で得られるという特徴を有している。
本発明製造方法の実施にあたっては、一般式(1)で表
わされる化合物と一般式(0)で表わされるN−チオス
クジノィミドとを塩化メチレン、ベンゼン等の有機溶媒
中で、室温で数時間渡洋して反応させた後水で数回洗浄
し無水硫酸マグネシウム等で乾燥後溶媒を留去すること
により、ほ)、純粋な一般式(m)で表わされる新規な
ジスルフィド化合物類が高収率で得られる。
得られた化合物は結晶の場合は再結晶させて、液体の場
合は溶媒で洗浄して精製し、元素分析、NMR.IR等
により構造を確認した。次に本発明の製造方法を実施例
をあげて詳細に説明する。実施例 1 NーメチルーN′ーフエニルチオウレア1.66夕、N
一4ークロルフエニルチオサクシノイミド2.42夕及
び塩化メチレン20の‘の混合物を室温で数時間鷹拝す
る。
水で数回洗い、熱水硫酸マグネシウムで乾燥したのち塩
化メチレンを蟹去すると固化する、これをへキサン−四
塩化炭素混合物溶媒から再結晶すると無色、融点934
℃のNーメチル、N′−フエニルS−4ークロルフエニ
ルチオイソチオウレア2.94夕(95%)が得られる
。実施例 2N・N′−ピスー4ーメチルフエニルチオ
ウレア2.56夕、N一4一teれ ブチルフエニルチ
オサクシノイミド2.磯夕、及び塩化メチレン20の‘
の混合物を実施例1と同様に処理すると、無色融点11
6〜8℃のN・N′−ビスー4ーメチルフエニル−S一
4一tenブチルフエニルチオイソチオウレア2.64
2(63%)が得られる。
実施例 3 N・Nージーisoプロピル−N′−フヱニルチオウレ
ア2.36タNーフエニルチオサクシノイミド2.07
夕、及び塩化メチレン20地の混合物を実施例1と同様
に処理すると、無色融点56.5〜8℃のN・N−ジー
isoプロピルーN′−フエニルーS−フェニルチオイ
ソチオウレア3.36夕(98%)が得られる。
実施例 4 Nーメチル、N′・N′一ジフエニルチオウレア2.4
0夕、N一4−メチルフエニルチオサクシノイミド2.
21夕、及び塩化メチレン20の上の混合物を実施例1
と同機に処理すると無色融点66〜70のNーメチルー
N′−N′−ジフヱニル S一(4−メチルフエニルチ
オ)イソチオウレア2.40夕(66%)が得られる。
実施例 5Nーフェニルジチオカルバミン酸プロピル2
.11夕、N一4−クロルフエニルチオサクシノイミド
2.42夕、及び塩化メチレン20私の混合物を実施例
1と同様に処理すると、油状Nーフェニルー(4一クロ
ロフヱニルジチオ)ホルムイミドイルチオプロパン2.
76夕(78%)が得られる。
実施例 6N−フェニルチオノカルバミン酸エチル1.
81夕、N−フェニルチオサクシノイミド2.07夕、
及び塩化メチレン20の‘の混合物を実施例1と同様に
処理すると油状のエチル一N−フェニル1−(フエニル
ジチオ)ホルムイミデート2.11夕(73%)が得ら
れる。
実施例 7 N一(4−クロル−2ーメチル)フエニルチオベンズア
ミド2.62夕、N一4ークロルフエニルチオサクシノ
イミド2.42夕、及び塩化メチレン20の‘の混合物
を実施例1と同様に処理すると、無色融点66〜7℃の
N−1−(4ークロルフェニルジチオ)ペンジリデン−
(4ークロルー2ーメチル)アニリン2.64夕(65
%)が得られる。
次に本発明方法により製造されを化合物を第1表に示す
。第 1 表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は低級アルコキシカルボニル基、ピリジン
    3イル基、▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。 ここでAはハロゲン原子を、mは0または1か2の整数
    を示し、Yはハロゲン原子、メチル基、メトキシ基もし
    くはトリフルオルメチル基から選ばれた異種または同種
    の置換基を、nは0または1もしくは2の整数を示す。 Xは低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキ
    ルチオ基、低級アルコキシカルボニルメチルチオ基、シ
    クロヘキシルオキシ基、フエニル基、ピロリジン1イル
    基、ピペリジン1イル基、モルホリン1イル基、2・6
    −ジメチルモルホリン1イル基、インドリン1イル基、
    2−メチル−4−クロルフエニルピペラジン1イル基、
    4−エチルフエニルピペラジン1イル基または▲数式、
    化学式、表等があります▼ を示す。 こゝでr_1は水素原子またはアルキル基を、r_2は
    低級アルキル基、低級アルケニル基、メトキシプロピル
    基、フエニルアミノ基または▲数式、化学式、表等があ
    ります▼ を示し、こゝでZはメチル 基またはハロゲン原子から選ばれた異種または同種の置
    換基を、nは0または1もしくは2を示す。 )で表わされる化合物に一般式▲数式、化学式、表等が
    あります▼ (式中R_2はフエニル基、低級アルキル基もしくはハ
    ロゲン原子で置換されたフエニル基またはハロゲン原子
    で置換されたベンジル基を示す。 )で表わされるN−チオスクシノイミドを反応せしめる
    ことを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし式中R_1、XおよびR_2は先に定義したも
    のと同一の意味を有する。 )で表わされるジスルフイド化合物の製造方法。
JP50096693A 1975-08-11 1975-08-11 N−チオスクシノイミドを用いる新規な合成方法 Expired JPS6014023B2 (ja)

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JPS5223033A JPS5223033A (en) 1977-02-21
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JPH0649945Y2 (ja) * 1988-03-31 1994-12-14 株式会社東芝 ブレーキ付回転電機
JPH0280234U (ja) * 1988-12-12 1990-06-20

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JPS5223033A (en) 1977-02-21

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