JPS60139482A - Waterless planographic printing base plate - Google Patents

Waterless planographic printing base plate

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JPS60139482A
JPS60139482A JP24547183A JP24547183A JPS60139482A JP S60139482 A JPS60139482 A JP S60139482A JP 24547183 A JP24547183 A JP 24547183A JP 24547183 A JP24547183 A JP 24547183A JP S60139482 A JPS60139482 A JP S60139482A
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base material
rubber
rubber elastic
elastic base
layer
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Kuniyuki Sakai
酒井 国行
Yoichi Shimokawa
下川 洋市
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Toray Industries Inc
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/003Printing plates or foils; Materials therefor with ink abhesive means or abhesive forming means, such as abhesive siloxane or fluoro compounds, e.g. for dry lithographic printing

Abstract

PURPOSE:To prevent a continuous feed obstruction by avoiding surface stickiness without damaging image reproducibility and printing quality, by providing unevenness with specific roughness to the surface of the rubber elastic layer on a support. CONSTITUTION:Unevenness of which the center line average roughness Ra is 0.2-1.0mum and the ten-point average roughness Rz is 0.5-10mum is provided to the surface of the rubber elastic layer on a support having rubbery elasticity. The center line average roughness Ra of the rubber elastic base material for a waterless planographic plate material must not exceed 10mum and the ten-point average roughness Rz must not exceed 10mum. The waterless planographic plate material using a rubber elastic base material with rougheness exceeding said numerical values is inferior to image reproducibility because the projections of the surface of said base material are not sufficiently covered by a plate constituting element and a pattern faithful to an original can not be obtained. The upper limit of especially pref. surface roughness is 0.5mum in Ra and 5mum in Rz. On the other hand, the lower limit of the unevenness of the rubber elastic base material is determined from the point of surface stickiness and 0.2mum or more in Ra and 0.5mum or more in Rz.

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、ゴム弾性を有する基材を用いた水なし平版に
関するものであり、特に該基材の表面に微小な凹凸が形
成されていることを特徴とする水なし平版材に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to a waterless lithographic plate using a base material having rubber elasticity, and is particularly characterized in that minute irregularities are formed on the surface of the base material. This relates to waterless planographic materials.

従来技術 シリコーンゴムを用いる水なし平版材は2例えば、特公
昭44 23042号、特公昭46−16044号、特
公昭51 17081号、特開昭48−94505号な
ど、フッ素化合物を用いるものは、特開昭51 + 5
8105号など多数提案されている。
Prior Art Waterless lithographic materials using silicone rubber are known2. For example, those using fluorine compounds are Kaisho 51 + 5
Many proposals have been made, including No. 8105.

まだ、ゴム弾性を有する基材を用いた水なし平版も特開
昭56−78991号2%開昭57−22242号など
で提案されており、特に直刷り印刷においてインキ膜の
厚い優れた印刷物が得られることが知られており、プリ
ント配線板の印刷などの用途に利用することが行なわれ
ている。
Waterless lithography using a base material with rubber elasticity has also been proposed in JP-A-56-78991 and JP-A-57-22242, etc., and excellent printed matter with a thick ink film, especially in direct printing, has been proposed. It is known that it can be obtained, and it is used for applications such as printing on printed wiring boards.

このような版材に用いられるゴム弾性を有する基材、!
:L、てハ、ニトリルゴム、クロロプレンゴム。
A base material with rubber elasticity used for such plate materials!
:L, Teha, nitrile rubber, chloroprene rubber.

スチレンゴムなどの合成ゴムや天然ゴムなどから得られ
る加硫されたゴムやポリウレタンゴムなどの外に、ポリ
エーテルエステルエラストマのような熱可塑性エラスト
マが使用できることが、前記の公知例で開示されている
The above-mentioned known examples disclose that thermoplastic elastomers such as polyetherester elastomers can be used in addition to vulcanized rubbers and polyurethane rubbers obtained from synthetic rubbers such as styrene rubber and natural rubbers. .

これらの基材に要求される特性は、ゴム弾性的性質のみ
ならず、印刷版材としての各種の特性が要求される。例
えば、インキやインキ洗浄剤などに対する耐溶剤性や形
態的な精度や寸法安定性が必要である。寸法安定性を確
保するだめに通常。
The properties required of these base materials include not only rubber elastic properties but also various properties as printing plate materials. For example, solvent resistance against ink and ink cleaning agents, morphological precision, and dimensional stability are required. Usually to ensure dimensional stability.

プラスチックフィルムないしはシート、あるいは金属板
が支持体として、ゴム弾性暴利の裏打ち材に用いられる
A plastic film or sheet or a metal plate is used as a support for the backing material of the elastomer.

ゴム弾性基材の表面の状態も重要な特性であり。The surface condition of the rubber elastic base material is also an important property.

平滑性、均一性に優れたものである必要がある。It must have excellent smoothness and uniformity.

印刷物の欠陥として現われる様な凹凸はあってはならず
、現想的には、基材表面は鏡面状態であることが好まし
い。
There should be no irregularities that would appear as defects in printed matter, and it is currently preferable that the surface of the substrate be mirror-like.

ゴム弾性を有する基材に要求される特性は、印刷版とし
ての最終用途のみならず1版材製造時に要求される特性
をも満す必要がある。ゴム弾性基材上に塗布される塗液
に対する耐溶剤性や乾燥。
The properties required of a base material having rubber elasticity must satisfy not only the final use as a printing plate but also the properties required during the production of a single plate material. Solvent resistance and drying properties for coating liquids applied to rubber elastic substrates.

キュア条件に耐える耐熱性が要求される。特にゴム弾性
基材をロールで搬送しながら、塗布加工を連続的に行な
う場合には2表面の粘着性が問題となる。連続的な長尺
物を搬送する場合1通常蛇行を避けることができない。
Heat resistance that can withstand curing conditions is required. In particular, when the coating process is carried out continuously while the rubber elastic base material is being conveyed by rolls, the tackiness of the two surfaces becomes a problem. When conveying continuous long objects, meandering cannot usually be avoided.

そこで、蛇行によって所定の位置からずれた場合には、
それを検知し。
Therefore, if it deviates from the specified position due to meandering,
Detect it.

自動的にロールを動かして左右の張力を調整して蛇行を
修正するような装置(EPC;エツジポジションコント
ローラ)を採用する。この時、僅かであるが、搬送ロー
ル表面とゴム弾性基材の表面の間では滑りが生じ、蛇行
が修正される。もしこの滑りがないと、蛇行が才すまず
増長されたり。
A device (EPC; edge position controller) is adopted that automatically moves the roll and adjusts the left and right tension to correct meandering. At this time, a slight amount of slippage occurs between the surface of the conveying roll and the surface of the rubber elastic base material, and the meandering is corrected. If this slippage were not present, the meandering would not stop and would increase.

途中にしわが発生してスムースな搬送が出来なくなる。Wrinkles may occur on the way, making smooth conveyance impossible.

このような表面の粘着性による搬送障害は、ゴム弾性基
材の成形加工においても問題となる。ゴムの成形加工に
おいては、この問題は周知のことであり、これを解決す
るだめに、タルクなどの防着用パウダーを表面に散布す
ることが広く行なわれている。しかし、このようにして
得られたゴムを当該技術の水なし平版用の基材として用
いるのは1次のような理由で不適当である。
Such conveyance failure due to surface tackiness also poses a problem in the molding process of rubber elastic base materials. This problem is well known in the molding process of rubber, and in order to solve this problem, it is widely practiced to sprinkle a protective powder such as talc on the surface. However, it is inappropriate to use the rubber thus obtained as a base material for waterless lithography according to the art for the following reasons.

塗液を塗布するに先立ち2表面の防着パウダーを除去し
なければならないが、ゴム表面をきすつけないで、パウ
ダーだけを完全に洗浄、除去することが非常に困難であ
る。寸だ、タルク自体の一次粒子は微粉末であっても、
散布されたものは通常凝集しており、ゴム表面に不均一
な凹み発生の原因となっている。基本的に問題となるの
は、タルクを除去した後のゴム表面の粘着性である。搬
送するためには、このゴム表面とロール表面との接着を
避けることができない。均一な張力をコーム暴利に作用
させ、塗液を均一に塗布するだめには。
Before applying the coating liquid, it is necessary to remove the adhesion-preventing powder from the two surfaces, but it is very difficult to completely clean and remove just the powder without scratching the rubber surface. Even if the primary particles of talc itself are fine powder,
The sprayed particles usually clump together, causing uneven dents on the rubber surface. The basic problem is the stickiness of the rubber surface after the talc has been removed. In order to convey the product, adhesion between the rubber surface and the roll surface cannot be avoided. In order to apply uniform tension to the comb and apply the coating liquid evenly.

ニップロールやプライドルロールを必要とするからであ
る。
This is because it requires a nip roll or a priddle roll.

ゴノ・表面の粘着性を避ける他の方法は、シリコーン樹
脂で処理した離形紙や帆布でゴム表面をカバーして成形
加工し、その表面に凹凸を転写させることである。しか
し、このようにして得られたゴム表面は目の粗い凹凸や
不均一な凹凸があり。
Another way to avoid sticky surfaces is to cover and mold the rubber surface with release paper or canvas treated with silicone resin, and then transfer the irregularities to the surface. However, the rubber surface obtained in this way has rough irregularities and uneven irregularities.

当該技術の対象としている精密な印刷を目的とする印刷
版用の基材としては不適切である。特に布を用いて凹凸
を付けたゴム弾性基材から得られる水なし平版材の場合
9画像パターンによってはモアレ現像が発生し、使用す
ることができない。
It is unsuitable as a base material for printing plates for the purpose of precision printing, which is the subject of this technology. In particular, in the case of a waterless planographic material obtained from a rubber elastic base material with unevenness made using cloth, moiré development occurs depending on the image pattern, making it unusable.

熱可塑性エラストマなどについても2表面を鏡面に近づ
ければ粘着性が大きくなることは、先の加硫ゴムの場合
と全く同じである。これらのエジストマは、ゴム弾性を
発現するために硬いセグメンi・と柔らかいセグメント
からなっているが、後者は例えばポリテトラメチレング
リコールのような非晶質で、ガラス転位点の低いポリマ
からなっているためである。
As with the case of vulcanized rubber, the adhesiveness of thermoplastic elastomers increases as the two surfaces approach mirror surfaces, just as in the case of vulcanized rubber. These elastomers consist of a hard segment i and a soft segment in order to exhibit rubber elasticity, but the latter is made of an amorphous polymer with a low glass transition point, such as polytetramethylene glycol. It's for a reason.

特に、印刷効果を高めるために、柔軟でゴム弾性の良好
な工ゆラストマをめた場合には、この柔らかいセグメン
トの含有量が大きくなシ、一層粘着性が増加し、成形加
工や塗布加工時の連続的搬送が困難となる。
In particular, when a plastic lastomer that is flexible and has good rubber elasticity is used to enhance the printing effect, the content of this soft segment is large, and the adhesiveness increases even more during molding and coating processes. Continuous transportation becomes difficult.

これらの粘着防止のだめに、加硫ゴムと同様の従来技術
の適用が可能であるが、得られた基材の表面状態は、当
該技術の対象とする印刷版材用しては不適切であること
も同じである。
To prevent these adhesion, conventional techniques similar to those for vulcanized rubber can be applied, but the surface condition of the obtained substrate is inappropriate for the printing plate material targeted by this technique. The same is true.

発明の目的 本発明は、ゴム弾性を有する基材を用いた水なし平版材
において、そのゴム弾性基材の表面特性に関するもので
ある。さらに詳しく述べれば画像再現性や印刷品質を損
なわないで、かつ9表面粘着性を回避し、連続的搬送障
害が防止された表面特性を有するゴム弾性基材に関する
ものであり。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention relates to surface characteristics of a rubber-elastic base material in a waterless planographic material using a rubber-elastic base material. More specifically, the present invention relates to a rubber elastic base material having surface properties that do not impair image reproducibility or print quality, avoid surface tackiness, and prevent continuous conveyance failure.

このようなゴム弾性基材を用いた水なし平版利を提供す
ることを目的としている。
The object of the present invention is to provide a waterless planographic printing press using such a rubber elastic base material.

発明の(1G成 本発明のl、〜成はゴム弾性を有する支持体を用いる水
なし平版印刷版厚板において、該支持体のゴム弾性層表
ij′11に、中心線平均粗さRaが02〜1.0μ。
The (1G) of the present invention is a waterless lithographic printing plate plate using a support having rubber elasticity, and the rubber elastic layer surface ij'11 of the support has a centerline average roughness Ra of 02. ~1.0μ.

十点平均粗さRZが05〜10μの凹凸を有する水なし
平版印刷版原板をその要旨とするものである。
The gist thereof is a waterless lithographic printing plate precursor having irregularities with a ten-point average roughness RZ of 05 to 10 μm.

以下1本発明のty、V成を具体的に説明する。The ty and V configurations of the present invention will be specifically explained below.

基材表m]に凹凸を形成させる方法として、基材の製造
後ザンドプラストやパフかけなどの後加工によっても可
能であるが、特に好捷しい方法は。
As a method for forming irregularities on the surface of the base material, it is also possible to perform post-processing such as Zandoplast or puffing after manufacturing the base material, but a particularly preferred method is as follows.

該基材の製造加工時において、基材表面を微少々凹凸を
有するプラスチックフィルムで被寺夏し、その凹凸を該
基材表面に転写して形成させることである。
During manufacturing and processing of the base material, the surface of the base material is covered with a plastic film having slight irregularities, and the irregularities are transferred and formed onto the surface of the base material.

本発明のゴム弾性基材の凹凸は2画像再現性や印刷品質
を阻害してはならない。すなわち、この基材表面に塗布
される版材構成要素によって、十分に均一に被覆される
ことが必要であり、したがって凹凸の粗さには上限があ
る。
The unevenness of the rubber elastic base material of the present invention must not impede two-image reproducibility or printing quality. That is, it is necessary that the surface of the base material be sufficiently uniformly covered by the plate constituent elements applied to the surface of the base material, and therefore there is an upper limit to the roughness of the irregularities.

表面粗さを完全に表現するのは、困難であるが。However, it is difficult to completely express surface roughness.

ここでは、J I S BO601’−1975で規定
されている中心線平均イ且さRaと十点平均粗さRzで
表現する。
Here, it is expressed by center line average roughness Ra and ten point average roughness Rz defined in JIS BO601'-1975.

本発明の水なし平版材用のゴム弾性基材のRaは1 p
mを越えてはならない。まだ、Rzは10μmを越えて
はならない。これらの数値を越える粗さのゴム弾性基材
をJ−[1いた水なし平版材は、その基材表面の突起部
分が版構成要素によって十分に被覆されていないだめに
9画1象再現性が劣り、原画に忠実なパターンを得るこ
とができない。特に好捷しい表面粗さの上限は、Raが
05μm、Rzが5μmである。
Ra of the rubber elastic base material for waterless planographic material of the present invention is 1 p
Must not exceed m. Still, Rz must not exceed 10 μm. Waterless lithographic materials made of rubber elastic substrates with roughness exceeding these values may suffer from poor reproducibility of 9 strokes and 1 image because the protrusions on the surface of the substrate are not sufficiently covered by plate constituent elements. is inferior, and it is not possible to obtain a pattern that is faithful to the original. Particularly preferable upper limits of the surface roughness are 05 μm for Ra and 5 μm for Rz.

一方、ゴム弾性基材の凹凸の下限は1表面粘着性の点か
ら決定される。それは、Raで02μm以」二、もしく
はR2で05μm以上である。
On the other hand, the lower limit of the unevenness of the rubber elastic base material is determined from the viewpoint of surface tackiness. It is 02 μm or more in Ra or 05 μm or more in R2.

上記のような表面粗さを有するゴム弾性基材を製造する
には、前記の表面粗さを壱するプラスチックフィルムを
用意し、ゴム弾性基材の製造時にその表面を該プラスチ
ックフィルムで被覆し、その凹凸をゴム弾性基材表面に
転写するのが最も好ましい。
In order to produce a rubber elastic base material having the above-mentioned surface roughness, a plastic film having the above-mentioned surface roughness is prepared, and the surface of the rubber elastic base material is covered with the plastic film during production of the rubber elastic base material. Most preferably, the unevenness is transferred to the surface of the rubber elastic base material.

例えば、加硫ゴムからなるゴム弾性基材の場合には、ゴ
ムをカレンダーで圧延シート化し9表面に上記凹凸を有
するプラスチックフィルムをラミネートシ、裏面には、
必要によって接着剤を塗布したアルミシートをラミネー
トした後、ドラムに巻き取り2通常の加硫缶で加熱加硫
を行ない、プラスチックフィルムを剥離して2本発明の
ゴム弾性基材を得ることができる。
For example, in the case of a rubber elastic base material made of vulcanized rubber, the rubber is rolled into a sheet using a calender, a plastic film having the above-mentioned irregularities is laminated on the surface, and the back surface is
After laminating an aluminum sheet coated with adhesive if necessary, it is wound up on a drum. 2 It is heated and vulcanized in a normal vulcanizing can, and the plastic film is peeled off to obtain the rubber elastic base material of the present invention. .

熱可塑性エラストマからなるゴム弾性基材の成形加工法
の代表的なものは、溶融押出し成形法であるが、この場
合には、成形用ダイスから押出された溶融エラストマが
完全に冷却固化される前に。
A typical method for molding rubber elastic base materials made of thermoplastic elastomer is melt extrusion, but in this case, the molten elastomer extruded from a molding die is completely cooled and solidified. To.

その表面に上記の凹凸を有するプラスチックフィルムを
ラミネートし、必要によって支持体を裏面にラミネート
して7本発明のゴム弾性基インを製造することができる
The rubber elastic substrate of the present invention can be produced by laminating a plastic film having the above-mentioned irregularities on the surface thereof and, if necessary, laminating a support on the back surface.

このように凹凸表面を有するプラスチックフィルムで$
、覆し、その凹凸を転写する方法の副次的なメリットは
、!8!造時に発生する種々の異物の付着混ムが防止で
きることである。この意味で、プラスチックフィルムの
剥離は、引き続き行なわれる版材構成要素の塗布加工寸
前に行なうのが好ましい。マットフィルムを用いる他の
メリットは。
In this way, a plastic film with an uneven surface costs $
, the secondary benefit of the method of overturning and transferring that unevenness is! 8! It is possible to prevent the adhesion and mixing of various foreign substances that occur during manufacturing. In this sense, it is preferable to peel off the plastic film just before the subsequent coating process of the plate material components. What are the other benefits of using matte film?

ラミネートや加硫時の空気抜けが良好なことで。Good air release during lamination and vulcanization.

プレーンフィルムを用いた時に生じる空気だ捷りに起因
する平面性不良を避けることができることである。
It is possible to avoid flatness defects caused by air sagging that occurs when a plain film is used.

ここで用いるプラスチックフィルムの選択は。What is the selection of plastic film used here?

表面粗さが前記特性を満たすことはもちろんであるが、
ゴム弾性基材の加工温度や剥離強さを考慮する必要があ
る。このような条件を満たす最も良好なプラスチックフ
ィルムはポリオレフィン、特にポリプロピレンを主体と
するフィルムである。
Of course, the surface roughness satisfies the above characteristics, but
It is necessary to consider the processing temperature and peel strength of the rubber elastic base material. The best plastic film that satisfies these conditions is a film based on polyolefin, especially polypropylene.

ニトリルゴムやクロロプレンゴムのようi 加(a コ
ムやポリエーテルエステルエラストマやポリウレタンゴ
ムなどからなるゴム弾性基材の製造に用いることができ
る。
It can be used in the production of rubber elastic base materials made of nitrile rubber, chloroprene rubber, polyether ester elastomer, polyurethane rubber, etc.

本発明に使用されるゴム弾性基材として、ニトリルゴム
、クロロプレンゴム、スチレン・ブタジェンゴム、ブタ
ジェンゴム、アクリルゴム、ウレタンゴム、ポリエステ
ルエラストマ、ポリアミドエラストマなどの材料を挙げ
られる。これらのゴム弾性体の硬度は、JIS K6ろ
01−1975に規定されたA硬度が90以下であるこ
とが奸才しく。
Examples of the rubber elastic base material used in the present invention include materials such as nitrile rubber, chloroprene rubber, styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, acrylic rubber, urethane rubber, polyester elastomer, and polyamide elastomer. The hardness of these rubber elastic bodies is preferably A hardness of 90 or less as defined in JIS K6 Ro01-1975.

さらに最適には85以下である。JISA硬度90を越
えるゴム弾性体を用いた場合、印刷改善効果が不十分で
ある。ゴム弾性体の厚みは通常001〜5皿程度のもの
が使用できる。
More optimally, it is 85 or less. When a rubber elastic body with a JISA hardness exceeding 90 is used, the printing improvement effect is insufficient. The thickness of the rubber elastic body is usually about 0.001 to 5.00 mm.

ゴム弾性体は、印刷版として要求される寸法安定性、形
態保持性を与えるだめに、アルミ板や鉄板などの金属板
やポリ(エチレンテレツクレート)のようなプラスチッ
クフィルムを裏打ちして使用することができる。
In order to provide the dimensional stability and shape retention required for printing plates, the rubber elastic body is used by being backed with a metal plate such as an aluminum plate or iron plate, or a plastic film such as poly(ethylene telecrate). I can do it.

本発明のゴム弾性基材上に適用される水なし平版の基本
的な技術は、すでに公知である。
The basic technology of waterless lithography applied on the rubber elastic substrate of the present invention is already known.

感光性樹脂層上に、非感光性シリコーンゴム層を設ける
例として、特公昭44−26042・特公昭46−16
044.特開昭48 94503.特開昭57−101
45などをあげることができる。
As an example of providing a non-photosensitive silicone rubber layer on a photosensitive resin layer, Japanese Patent Publications No. 44-26042 and No. 46-16
044. Japanese Unexamined Patent Publication No. 1973 94503. JP-A-57-101
45 etc. can be given.

感光性樹脂層は、活性な光線を照射することにより光不
溶化捷たは光射溶化する性質を有する層である。この層
は、ゴム弾性基材上に直接捷だけ接着層などの中間層を
介して、均一に形成される。
The photosensitive resin layer is a layer that has the property of being photo-insolubilized or photo-solubilized by irradiation with active light. This layer is uniformly formed directly on the rubber elastic substrate via an intermediate layer such as an adhesive layer.

その膜厚は任意であるが1通常05μ〜100μである
。感光性樹脂層は凹凸のあるゴム弾性基材の表面を十分
に被mしている必要がある。被覆が不完全な場合には2
画@再現性は不完全となる。一般的に云えば、凹凸の小
さいゴム弾性基材を用いる場合には、感光性樹脂層は薄
くても良いが、凹凸の大きい基材の場合には厚くする必
要がある。
Although the film thickness is arbitrary, it is usually 05 μm to 100 μm. The photosensitive resin layer must sufficiently cover the uneven surface of the rubber elastic base material. 2 if the coverage is incomplete
Image@Reproducibility will be incomplete. Generally speaking, when using a rubber elastic base material with small irregularities, the photosensitive resin layer may be thin, but in the case of a base material with large irregularities, it needs to be thick.

凹凸の大きい基Hの場合に、感光性樹脂層を薄くするた
めに、その凹凸を埋合せるだめの被覆層を前もって設け
ることも有効である。
In the case of the base H having large irregularities, it is also effective to provide a coating layer in advance to compensate for the irregularities in order to make the photosensitive resin layer thinner.

この感光性樹脂層」−にインキ反発性層としてシリコー
ンゴム層が、必要によって接着層を介して。
A silicone rubber layer is provided as an ink repellent layer on this photosensitive resin layer, with an adhesive layer interposed therebetween if necessary.

設けられる。provided.

インキ反発性シリコーンゴム層が下層の例として、特公
昭47−2361 、インキ反発性層がフッ素化合物の
例として、特公昭44−28726.感光性を有するシ
リコーン組成物を用いる例として、特公昭55−254
18.特公昭55−27337などをあげることができ
る。
An example in which the ink-repellent silicone rubber layer is the lower layer is disclosed in Japanese Patent Publication No. 47-2361, and an example in which the ink-repellent layer is a fluorine compound is disclosed in Japanese Patent Publication No. 44-28726. As an example of using a photosensitive silicone composition, Japanese Patent Publication No. 55-254
18. Examples include Special Publication No. 55-27337.

これらの例も寸だ1本発明のゴム弾性基材に適用するこ
とができる。
These examples can also be applied to the rubber elastic base material of the present invention.

熱可塑性エラストマを用いる基材ρ製造法の1例を略記
する。第1図において、溶融押出機から供給された溶融
状態のエラストマは成形用ダイ1でシート状にされ、圧
着ロール2と冷却ロール乙の間で支持体6とカバーフィ
ルム8がラミネーI・され、冷却される。カバーフィル
ムをつけた状態もしくは必要によって、剥離ロール4の
位置でカバーフィルムを剥離した状態の基材10が巻取
りロール5によってロール状に仕上けられる。
An example of a method for manufacturing the base material ρ using a thermoplastic elastomer will be briefly described. In FIG. 1, a molten elastomer supplied from a melt extruder is formed into a sheet by a forming die 1, and a support 6 and a cover film 8 are laminated between a pressure roll 2 and a cooling roll B. cooled down. The base material 10 with the cover film attached or with the cover film peeled off at the position of the peeling roll 4 is finished into a roll shape by the winding roll 5.

基制上に感光剤などを塗布して水なし平版材を作成する
塗布工程の1例を略記する。第2図において2巻出しロ
ール11より供給される基材20は、カバーフィルムの
付いている場合には、剥離ロール12によってカバーフ
ィルム19が剥がされ、張力によって塗布用ロール1ろ
に密着した状態で、塗液供給よラド14から供給される
塗液で被覆され、加熱炉15によって乾燥剤だは硬化反
応によって基板上に塗布層が形成される。必要によって
保護用フィルム21が圧着ロール16によってラミネー
トされ2巻取りロール18によって。
An example of a coating process for producing a waterless planographic material by coating a photosensitive agent on a base will be briefly described. In FIG. 2, the base material 20 supplied from the second unwinding roll 11 is in a state in which, if it has a cover film, the cover film 19 is peeled off by the peeling roll 12, and the base material 20 is in close contact with the coating roll 1 due to tension. Then, the substrate is coated with the coating liquid supplied from the coating liquid supply layer 14, and a coating layer is formed on the substrate by a curing reaction of the desiccant in the heating furnace 15. If necessary, the protective film 21 is laminated by a pressure roll 16 and then by a two-winding roll 18.

ロール状に巻取られる。この時、EPC17によって基
材端面の位置を検出して、塗液供給ヘッド14に対する
基材20の相体的な位置修正や巻取られるロール端面を
整合させるだめに2巻取りロール18の位置を修正する
。これらの工程の繰返しにより、感光層、シリコーンゴ
ム層が基材上に形成されて、水なし平版材が製造される
It is wound up into a roll. At this time, the position of the end surface of the substrate is detected by the EPC 17, and the position of the two winding rolls 18 is adjusted in order to correct the position of the substrate 20 relative to the coating liquid supply head 14 and to align the end surfaces of the rolls to be wound. Fix it. By repeating these steps, a photosensitive layer and a silicone rubber layer are formed on the base material, and a waterless planographic material is manufactured.

実施例1〜2.比較例1〜4 図1に略記した押出ラミネータを用い、ゴム弾性基材を
成形し、この基材上に2図2に略記した塗布設備を用い
て、水なし平版材を作成した。
Examples 1-2. Comparative Examples 1 to 4 A rubber elastic base material was molded using the extrusion laminator shown in FIG. 1, and a waterless lithographic plate material was produced on this base material using the coating equipment shown in FIG. 2.

テレフタル酸1494部、インクタル酸16.6部およ
び数平均分子量1oooのポリテトラメチレングリコー
ル381部をチタンテトラブトキシド触媒の存在下に重
合したポリエステルエジストマからなる厚み06皿のシ
ートを押出し成形した。押出機の温度は約210°C,
グイ温度は約180’c、冷却ドラムは約7叶Cに設定
した。この時、圧着ロール側から厚み250μのポリエ
チレンテレツクレートフィルム(゛ルミラー’250H
10,東しく株)製品)を挿入し、冷却ドラム側から表
1に示したカバーフィルムを挿入し、ゴム弾性基材を作
成した。
A sheet having a thickness of 0.6 mm and made of a polyester elastomer obtained by polymerizing 1494 parts of terephthalic acid, 16.6 parts of inctal acid, and 381 parts of polytetramethylene glycol having a number average molecular weight of 100 in the presence of a titanium tetrabutoxide catalyst was extruded. The temperature of the extruder is approximately 210°C,
The Gui temperature was set at about 180'C, and the cooling drum was set at about 7'C. At this time, a 250μ thick polyethylene telescrate film ("Lumirror'250H") was removed from the pressure roll side.
10, Toshiku Co., Ltd. product) was inserted, and the cover film shown in Table 1 was inserted from the cooling drum side to create a rubber elastic base material.

このようにして得られたゴム弾性基材に図2に略記した
塗布設備を用いて、塗液供給ヘッドから感光液を塗布、
乾燥した。感光性樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂
の0−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル
で、溶媒エチルセロソルブで20%溶液としたものを用
い、100°C×4.6分乾燥で、塗布量が2〜2.5
 g/m2になるように設定した。
Using the coating equipment shown in FIG. 2, a photosensitive liquid is applied to the rubber elastic base material obtained in this way from a coating liquid supply head.
Dry. The photosensitive resin was 0-naphthoquinone diazide-5-sulfonic acid ester of novolac type phenol resin, which was made into a 20% solution in the solvent ethyl cellosolve, dried at 100°C for 4.6 minutes, and the coating amount was 2. ~2.5
g/m2.

ゴム弾性基材の搬送に問題がなく、感光層が良好に塗布
できたものは、さらに接着層およびシリコーンゴム層を
塗9重ねだ。接着剤はアミノエチルトリメトキシラノを
用い、炭化水素溶媒゛アイソパー″E(エツジ製品)で
0.2 % 溶液とし。
If there was no problem in transporting the rubber elastic base material and the photosensitive layer could be coated well, an adhesive layer and a silicone rubber layer were further coated nine times. The adhesive used was aminoethyltrimethoxylano, which was made into a 0.2% solution in a hydrocarbon solvent, Isopar E (Edge product).

120°C×06分乾燥で、塗布量が0.04 g/m
2となるように設定した。
Drying at 120°C for 06 minutes, coating amount is 0.04 g/m
It was set to be 2.

シリコーンゴムは末端水酸基のポリメチルシロキサン(
分子量約2万)100部、エチルトリアセトキシシラン
6部、ジプチル錫ジラウレート0.12部の混合物を”
アイソパー″Eで15%としたものを塗布し、100’
cxろ5分キュアで、塗布量6〜5g/m2となるよう
に設定した。
Silicone rubber is polymethylsiloxane with terminal hydroxyl groups (
A mixture of 100 parts of molecular weight (approximately 20,000), 6 parts of ethyltriacetoxysilane, and 0.12 parts of diptyltin dilaurate.
Apply 15% with Isopar "E" and apply 100'
The coating amount was set to 6 to 5 g/m 2 after 5 minutes of cx filter curing.

得られた水なし平版原版上に、線巾の異なるパターンか
らなるネガフィルムを密着し、メタルハライドランプを
照射して、パターンを焼付け、アルコール65部、゛ア
イソパーE″E 35 部からなる混合液をしみこ寸せ
た綿パッドでこずって。
A negative film consisting of patterns of different line widths was closely adhered to the obtained waterless lithographic original plate, the patterns were printed by irradiation with a metal halide lamp, and a mixed solution consisting of 65 parts of alcohol and 35 parts of Isopar E was applied. Difficulty with a soaked cotton pad.

視像し、25倍の拡大鏡でパターンのシャープさを観察
した。
The sharpness of the pattern was observed using a 25x magnifying glass.

実施例1は、成形時の巻き姿が良好であり、感光液の塗
布時に脈動がなく、蛇行が発生してもRPC(エツジポ
ジションコントローラー)ニょシ許容範囲内に修正でき
、連続的な搬送塗布が出来だ。 ゛ 感光層2.5 g/m2. シリコーンゴム層3 g/
m2の条件で作成した湿し水不要平版の画像再現性は良
好であった。
In Example 1, the winding appearance during molding is good, there is no pulsation when applying the photosensitive liquid, even if meandering occurs, it can be corrected within the RPC (edge position controller) tolerance range, and continuous conveyance is possible. The coating is ready.゛Photosensitive layer 2.5 g/m2. Silicone rubber layer 3 g/
The image reproducibility of the lithographic plate that did not require dampening water and was prepared under the conditions of m2 was good.

実施例2も、実施例1と同様に良好に搬送塗布できた。Similarly to Example 1, Example 2 was also able to perform conveyance coating well.

感光層2.5 g/m2.シリコーンゴム層5g//m
2の条件で作成した水なし平版の両縁再現性は良好であ
った。
Photosensitive layer 2.5 g/m2. Silicone rubber layer 5g//m
The reproducibility of both edges of the waterless planographic plate prepared under the conditions of 2 was good.

比較例1は、ゴム弾性基材表面の粘着性が大きいために
、その製造において冷却ドラムから離れる時に脈動し2
表面に横縞模様が発生し、まだ。
In Comparative Example 1, since the surface of the rubber elastic base material had high tackiness, it pulsated when it was separated from the cooling drum during its production.
Horizontal stripes appear on the surface and still remain.

巻き姿の整ったものが?4Iられなかった。感光液の塗
布時において、蛇行が修正できず、連続的な搬送・塗布
が出来なかった。
The one with a neat shape? 4I couldn't do it. When applying the photosensitive liquid, meandering could not be corrected and continuous conveyance and application were not possible.

比較例2は、カバーフィルムに用いたポリエステルフィ
ルムとゴム弾性体との接着力が強すぎて剥離することが
出来なかった。
In Comparative Example 2, the adhesive force between the polyester film used for the cover film and the rubber elastic body was too strong to be peeled off.

比較例6は、カバーフィルム剥離後、ゴム弾性体表面の
粘着性が大きく2巻き姿が不良であった。
In Comparative Example 6, after the cover film was peeled off, the surface of the rubber elastic body was highly sticky and the two-wrap appearance was poor.

感光液の塗布時においても脈動し2寸だ蛇行を修正する
ことが出来ず、連続的な搬送・塗布が出来なかった。
Even when applying the photosensitive liquid, it pulsated and meandering by 2 inches could not be corrected, making continuous conveyance and application impossible.

比較例4も、比較例6と同じであった。Comparative Example 4 was also the same as Comparative Example 6.

実施例5〜4.比較例5〜B 各種の配合剤を加えたN B Rにトリルゴム)を、逆
り字型カレンダーで圧延し、厚み025mのシートに成
形しながら、ゴムシートの片面に接着剤を塗布した″ル
ミラー″25DHIOを、他面に表2に示したカバーフ
ィルムをラミネートした。
Examples 5-4. Comparative Example 5-B "Lumirror" in which NBR (trill rubber) containing various compounding agents was rolled in an inverted calendar and formed into a sheet with a thickness of 025 m, while an adhesive was applied to one side of the rubber sheet. 25DHIO was laminated with a cover film shown in Table 2 on the other side.

加硫用ドラムに巻き取り、水蒸気で加熱する加硫缶に入
れ、120〜160°c、3時間加熱加硫した。これを
巻き戻しながら紙管上に巻きなおした。
It was wound up on a vulcanizing drum, placed in a vulcanizing can heated with steam, and heated and vulcanized at 120 to 160°C for 3 hours. This was re-wound onto the paper tube while being rewound.

このようにして得られたゴム弾性基材について。About the rubber elastic base material thus obtained.

カバーフィルムをはがしながら、実施例1と同様に、感
光液を塗布した。感光層が良好に塗布できたものについ
ては、さらに接着層およびシリコーンゴム層を塗り重ね
て・水なし平版を作成し、露光・現像して、得られた画
像を評価した。
A photosensitive liquid was applied in the same manner as in Example 1 while peeling off the cover film. For those on which the photosensitive layer was well coated, an adhesive layer and a silicone rubber layer were further coated to prepare a waterless planographic plate, which was exposed and developed, and the resulting image was evaluated.

実施例6のゴム弾性基材は、塗布時にスムースに搬送で
きた。蛇行が発生してもEPCによシ許容範囲内に修正
できた。感光層2; 5 g/m2 、 シリコーンゴ
ム層5 g/m20条件で作成した水なし平版の画像再
現性は良好であった。
The rubber elastic base material of Example 6 could be transported smoothly during coating. Even if meandering occurred, it could be corrected to within the allowable range using EPC. The image reproducibility of the waterless planographic plate prepared under the conditions of photosensitive layer 2: 5 g/m2 and silicone rubber layer: 5 g/m20 was good.

実施例4も実施例ろと同様に、基板の搬送性も良好であ
シ、また画像再現性も良好であった。
Similar to Example 4, Example 4 also had good substrate conveyance and good image reproducibility.

比較例5は、搬送上の問題はなく、塗布加工出来たが9
画像が悪かった。現像時にパッドでこするとき、ゴム表
面に伺着しているメルクとともに非画像部の感光層をこ
すり落しだためと思われる。
In Comparative Example 5, there were no transportation problems and the coating process was successful, but 9
The image was bad. This seems to be because when rubbing with a pad during development, the photosensitive layer in the non-image area is rubbed off along with the Merc adhering to the rubber surface.

また2局部的にタルクの凝集した所があり2画像を損な
った原因となった。
In addition, there were two localized areas where talc aggregated, causing two images to be damaged.

塗布前に、メルクを洗浄除去することを行なった。通常
の水あり平版の自動現像機を改造した装置で、流水と回
転ブラシで洗浄したが、ゴム表面とタルクの粘着が強く
、完全に洗浄することができなかった。また2強くこす
ると、ゴム表面にキズが発生した。
Prior to application, Merck was washed and removed. It was cleaned with running water and a rotating brush using a modified automatic developing machine for water-filled lithography, but the rubber surface and talc were too sticky and could not be completely cleaned. Also, when I rubbed it hard, scratches appeared on the rubber surface.

比較例乙のゴム弾性基材は表面粘着性が大きく。The rubber elastic base material of Comparative Example B has a high surface tackiness.

連続的にスムースに搬送できなかった。カバーフィルム
とゴム表面との粘着性も強く、カバーフィルムの剥離に
力を要した。局部的に空気だまりによる凹みがあった。
Continuous and smooth conveyance was not possible. The adhesiveness between the cover film and the rubber surface was also strong, and force was required to peel off the cover film. There were local dents caused by air pockets.

比較例7のゴム弾性基材は、カバーフィルムとゴムの粘
着力または接着力が強く、カバーフィルム剥離時にゴム
の一部がカバーフィルム側について、ゴム表面が破壊さ
れた。
In the rubber elastic base material of Comparative Example 7, the adhesive force or adhesive force between the cover film and the rubber was strong, and when the cover film was peeled off, a part of the rubber was attached to the cover film side, and the rubber surface was destroyed.

比較例8は、ゴム表面の粘着性が強く、連続的にスムー
スに搬送できなかった。また2局部的に空気だまりによ
る平面性不良部分があった。一部作成できだ版の画像は
良好であった。
In Comparative Example 8, the rubber surface had strong adhesiveness and could not be conveyed continuously and smoothly. In addition, there were two local areas with poor flatness due to air pockets. The image of the first version that was partially created was good.

実施例5 実施例6のゴム弾性基材を用い2次の組成を有する固形
分60重量係溶液(溶媒:メチルエチルケトン/n−ブ
タノール、=8/2)を2図2のコータで塗布し、16
0’a、5分間処理して20μの被ω層を設けることを
行なったが、ゴム弾性基材の搬送はスムースに出来2表
面状態の良好なものが得られた。
Example 5 Using the rubber elastic base material of Example 6, a solution with a solid content of 60 weight ratio having the following composition (solvent: methyl ethyl ketone/n-butanol, = 8/2) was coated with the coater shown in Figure 2, and 16
Although a 20μ thick ω layer was formed by treating the substrate at 0'a for 5 minutes, the rubber elastic base material could be transported smoothly and a good surface condition was obtained.

“ニラボール1072” ’ 20重量部(日本ゼオン
製N B R、) “スーパーベッカミンL125−60# 80重量部(
大日本インキ工業製メラミン樹脂) さらに、この被覆層上に、実施例6と同じ条件で感光層
、接着層とシリコーン層を塗設し2画隊を形成させたと
ころ、良好な画像が得られた。
“Nila Ball 1072” 20 parts by weight (NBR manufactured by Zeon) “Super Beckamine L125-60# 80 parts by weight (
Melamine resin manufactured by Dainippon Ink Industries) Further, a photosensitive layer, an adhesive layer and a silicone layer were coated on this coating layer under the same conditions as in Example 6 to form two groups, and a good image was obtained. Ta.

比較例9 比較例8のゴム基板を用い、実施例5と同じ被覆層を塗
設しようとしたが、ゴム基板が蛇行し。
Comparative Example 9 An attempt was made to apply the same coating layer as in Example 5 using the rubber substrate of Comparative Example 8, but the rubber substrate meandered.

連続的に塗布できなかった。Unable to apply continuously.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、熱可塑性エラストマを用いる基材の成形加工
用装置の要部略図であり、第2図は基材上に感光剤など
の塗布用装置の略図である。 1:成形用ダイ 2:圧着ロール ろ:冷却ロール 4:剥離用ロール 5;巻取りロール 6;支持体 7:エラストマ 8:カバーフィルム 9二カバーフイルム 10:基材 11:巻出しロール 12:剥離ロール 16:塗布用ロール14:塗液供給
用ヘッド 15:加熱炉 16:圧着ロール 17:EPC18:巻取りロール 19:カバーフィルム 20:基材 21:保獲フィルム 特許出願人 東 し 株 式 会 社
FIG. 1 is a schematic diagram of essential parts of an apparatus for molding and processing a base material using a thermoplastic elastomer, and FIG. 2 is a schematic diagram of an apparatus for applying a photosensitive agent or the like onto a base material. 1: Molding die 2: Pressure roll: Cooling roll 4: Peeling roll 5; Winding roll 6: Support 7: Elastomer 8: Cover film 9 2 Cover film 10: Base material 11: Unwinding roll 12: Peeling Roll 16: Coating roll 14: Coating liquid supply head 15: Heating furnace 16: Pressing roll 17: EPC 18: Winding roll 19: Cover film 20: Base material 21: Patented film Patent applicant Azuma Shi Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ゴム弾性を有する支持体を用いる水なし平版印刷版原板
において、該支持体のゴム弾性層表面に中心線平均粗さ
Raが0.2〜1.0μ、十点平均粗さRzが0,5〜
10μの凹凸を有することを特徴とする水なし平版印刷
版原板。・
In a waterless lithographic printing plate precursor using a support having rubber elasticity, the surface of the rubber elastic layer of the support has a center line average roughness Ra of 0.2 to 1.0 μ and a ten point average roughness Rz of 0.5. ~
A waterless lithographic printing plate original plate characterized by having an unevenness of 10μ.・
JP24547183A 1983-12-28 1983-12-28 Waterless planographic printing base plate Granted JPS60139482A (en)

Priority Applications (1)

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JPH0250461B2 JPH0250461B2 (en) 1990-11-02

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02105158A (en) * 1988-10-14 1990-04-17 Nec Corp Production of semiconductor device
EP0830940A1 (en) * 1996-09-18 1998-03-25 Agfa-Gevaert N.V. A heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
EP1167062A3 (en) * 2000-06-19 2003-04-02 Kimoto Co., Ltd. Lithographic plate material

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EP1167062A3 (en) * 2000-06-19 2003-04-02 Kimoto Co., Ltd. Lithographic plate material

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