JPS60138098A - めつき液への塩基性金属イオン補給装置 - Google Patents
めつき液への塩基性金属イオン補給装置Info
- Publication number
- JPS60138098A JPS60138098A JP24915683A JP24915683A JPS60138098A JP S60138098 A JPS60138098 A JP S60138098A JP 24915683 A JP24915683 A JP 24915683A JP 24915683 A JP24915683 A JP 24915683A JP S60138098 A JPS60138098 A JP S60138098A
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- JP
- Japan
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- plating solution
- powder
- liquid
- tank
- plating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はめつき液への塩基性金属イオン補給装置に係シ
、特に塩基性化合物粉末の堆積、閉そくを防止できる装
置に関する。
、特に塩基性化合物粉末の堆積、閉そくを防止できる装
置に関する。
不溶性陽極を有する電気めっきラインにおいて、銅帯に
めっき金属をめつき″するとめつき液中のめつき金属の
イオン濃度が低下し水素イオン濃度が低下する。この変
化に対してめっき液の組成を調整するためめっきライン
の系外からめつき金属の塩基性化合物を粉末またはスラ
リー状の形でめっき液に投入する。
めっき金属をめつき″するとめつき液中のめつき金属の
イオン濃度が低下し水素イオン濃度が低下する。この変
化に対してめっき液の組成を調整するためめっきライン
の系外からめつき金属の塩基性化合物を粉末またはスラ
リー状の形でめっき液に投入する。
従来の粉末塩基性化合物を連続して循環するめつき液に
溶解する方法を第１図、第２図によシ説明する。鋼帯２
は不溶性陽極４を正電極としてめっきされるが、めつき
槽６内のめっき液１０は金属イオンが消費され、それと
等量の水素イオンが発生しめっき液１０のｐＨは低下す
る。このため系外よシめつき金属イオンの塩基性化合物
をめっき液１０に投入して金属イオン濃度とｐＨを調整
する。このためめっき液１０をめっき液受入配管１２に
よって溶解槽１４に導入し、一方、粉末の塩基性化合物
１６をホッパー１８から必要に応じてコンベヤ２０によ
シ計量槽２２に移送しロードセル２４によって計量しつ
つ所定の供給速度のスクリューフィーダ′２６で投入筒
２８を経て溶解槽１４に切出し、棺拌機３０で撹拌しめ
っき液１０で溶解する。塩基性化合物１６を溶解して金
属イオンを補給されｐＨを調整されためつき液１０はめ
っき液返送配管３２、送液ポンプ３４によってめつき槽
６に送液される。一方溶解槽１４の排気は塩基性化合物
１６の粉末が浮遊しているので、排気管３６を経て湿式
集塵機３８で除塵され放出される。
溶解する方法を第１図、第２図によシ説明する。鋼帯２
は不溶性陽極４を正電極としてめっきされるが、めつき
槽６内のめっき液１０は金属イオンが消費され、それと
等量の水素イオンが発生しめっき液１０のｐＨは低下す
る。このため系外よシめつき金属イオンの塩基性化合物
をめっき液１０に投入して金属イオン濃度とｐＨを調整
する。このためめっき液１０をめっき液受入配管１２に
よって溶解槽１４に導入し、一方、粉末の塩基性化合物
１６をホッパー１８から必要に応じてコンベヤ２０によ
シ計量槽２２に移送しロードセル２４によって計量しつ
つ所定の供給速度のスクリューフィーダ′２６で投入筒
２８を経て溶解槽１４に切出し、棺拌機３０で撹拌しめ
っき液１０で溶解する。塩基性化合物１６を溶解して金
属イオンを補給されｐＨを調整されためつき液１０はめ
っき液返送配管３２、送液ポンプ３４によってめつき槽
６に送液される。一方溶解槽１４の排気は塩基性化合物
１６の粉末が浮遊しているので、排気管３６を経て湿式
集塵機３８で除塵され放出される。
上記従来の塩基性金属イオンの補給装置は次の如き欠点
を有している。
を有している。
（イ）高温のめっき液１０から発生する蒸気が、投入筒
２８内に結露し塩基性化合物１６の粉末が付着、堆積し
、最悪の場合は投入筒２８が閉そくする。
２８内に結露し塩基性化合物１６の粉末が付着、堆積し
、最悪の場合は投入筒２８が閉そくする。
←）溶解槽１４の内壁に粉末が付着、堆積する。
（ハ）排気管３６が粉塵で閉そく、排気が不能となる。
に）粉末が溶解せずめっき液１０に浮遊しているとめっ
きの品質を低下させる。
きの品質を低下させる。
従来の補給装置においては、上記の如く各所に粉末が付
着、堆積し、安定しためつき作業を阻害し問題となって
いた。
着、堆積し、安定しためつき作業を阻害し問題となって
いた。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し安定し
ためつき作業ができる塩基性金属イオンの補給装置を提
供するにある。
ためつき作業ができる塩基性金属イオンの補給装置を提
供するにある。
本発明の要旨とするところは次のとおシである。
すなわち、ホッパーからコンベヤ、計量槽、スクリュー
フィーダ、投入筒を介して粉末状の塩基性化合物を溶解
槽に切出し該溶解槽中のめつき液に溶解し、排気管、湿
式集塵機を介して排気する不溶性陽極を有する電気めっ
き装置の循環するめつき液への塩基性金属イオン補給装
置において、前記投入筒の上部に設けられためつき液溢
流装置と、前記めっき液溢流装置の下方に設けられた貫
通孔を有する邪魔板と、前記排気管に設けられためつき
液散布装置および濾過装置と、を有することを特徴とす
るめつき液へ塩基性金属イオンの補給装置である。
フィーダ、投入筒を介して粉末状の塩基性化合物を溶解
槽に切出し該溶解槽中のめつき液に溶解し、排気管、湿
式集塵機を介して排気する不溶性陽極を有する電気めっ
き装置の循環するめつき液への塩基性金属イオン補給装
置において、前記投入筒の上部に設けられためつき液溢
流装置と、前記めっき液溢流装置の下方に設けられた貫
通孔を有する邪魔板と、前記排気管に設けられためつき
液散布装置および濾過装置と、を有することを特徴とす
るめつき液へ塩基性金属イオンの補給装置である。
本発明の詳細を第３図、第４図に示した実施例によシ説
明する。電気めっきラインおよびホッパー１６からスク
リューフィーダ２６までおよび溶解槽１４本体は第１図
で示した従来の装置と同一である。次に本発明の特徴と
する装置としては、まず、粉末の投入筒２８Ａの上部に
は送液ポンプ２９が付属しためつき液溢流装置４０が設
けられている。また投入筒２８Ａのめっき液溢流装置４
０の下方には第５図（５）、（ハ）に示す如く貫通孔４
２を有する邪魔板４４がらせん形またはクロス形に設け
られている。一方排気管３６Ａにはめっき液散布装置４
６が設けられ、それと交互にｐ過装置４８が設置されて
いる。濾過装置４８には必要に応じて更に充填物５０を
載置することができる。
明する。電気めっきラインおよびホッパー１６からスク
リューフィーダ２６までおよび溶解槽１４本体は第１図
で示した従来の装置と同一である。次に本発明の特徴と
する装置としては、まず、粉末の投入筒２８Ａの上部に
は送液ポンプ２９が付属しためつき液溢流装置４０が設
けられている。また投入筒２８Ａのめっき液溢流装置４
０の下方には第５図（５）、（ハ）に示す如く貫通孔４
２を有する邪魔板４４がらせん形またはクロス形に設け
られている。一方排気管３６Ａにはめっき液散布装置４
６が設けられ、それと交互にｐ過装置４８が設置されて
いる。濾過装置４８には必要に応じて更に充填物５０を
載置することができる。
次に上記の如き構成を有する本発明の塩基性金属イオン
の補給装置の作用と効果について説明する。送液ポンプ
２９を作動させ、めっき液溢流装置４０からめっき液１
０を投入筒２８Ａの内面に流下させながら粉末状の塩基
性化合物１６を切出すので、投入筒２８Ａの内面にはめ
っき液１０の膜ができており、粉末が付着堆積すること
はない。
の補給装置の作用と効果について説明する。送液ポンプ
２９を作動させ、めっき液溢流装置４０からめっき液１
０を投入筒２８Ａの内面に流下させながら粉末状の塩基
性化合物１６を切出すので、投入筒２８Ａの内面にはめ
っき液１０の膜ができており、粉末が付着堆積すること
はない。
また、切損された粉末は邪魔板４４によって落下する間
に幾度も反転するので、めっき液１０と十分に混合され
溶解される。また邪魔板４４には貫通孔４２があるので
裏面に粉末が付着することもない。従って投入筒２８Ａ
から溶解槽１４に装入されためつき液ｌＯと粉末は十分
混合されており、従来の粉末が直接溶解槽１４め液面に
落下するのと異なシ、溶解槽１４において完全に溶解さ
れるので、溶解槽１４の摺面に付着、堆積することはな
く、まためつき槽６に返送されるめっき液１０は粉末の
浮遊がなくめっき品質は良好となる。一方排気管３６Ａ
にめっき液散布装置４６と濾過装装置４８が設けられて
いるので、溶解槽１４の上部空間から吸引される排気は
粉塵を補足されめっき液１０で流下されるので、排気中
の粉塵は極めて微量となり排風管３６Ａに付着し、閉そ
くすることはない。
に幾度も反転するので、めっき液１０と十分に混合され
溶解される。また邪魔板４４には貫通孔４２があるので
裏面に粉末が付着することもない。従って投入筒２８Ａ
から溶解槽１４に装入されためつき液ｌＯと粉末は十分
混合されており、従来の粉末が直接溶解槽１４め液面に
落下するのと異なシ、溶解槽１４において完全に溶解さ
れるので、溶解槽１４の摺面に付着、堆積することはな
く、まためつき槽６に返送されるめっき液１０は粉末の
浮遊がなくめっき品質は良好となる。一方排気管３６Ａ
にめっき液散布装置４６と濾過装装置４８が設けられて
いるので、溶解槽１４の上部空間から吸引される排気は
粉塵を補足されめっき液１０で流下されるので、排気中
の粉塵は極めて微量となり排風管３６Ａに付着し、閉そ
くすることはない。
本発明は上記実施例からも明らかな如く、スクリューフ
ィーダからの投入筒にめっき液溢流装置と邪魔板とを設
け、溶解槽からの排気管にめっき液散布装置とデ過装置
を設けることにより、塩基性化合物粉末の装置に対する
付着を防止しめつき液への溶解を促進し安定した電気め
っき作業を可能とする効果をあげることができた。
ィーダからの投入筒にめっき液溢流装置と邪魔板とを設
け、溶解槽からの排気管にめっき液散布装置とデ過装置
を設けることにより、塩基性化合物粉末の装置に対する
付着を防止しめつき液への溶解を促進し安定した電気め
っき作業を可能とする効果をあげることができた。
第１図は従来の塩基性金属イオンの補給装置を示す断面
図、第２図は第１図の一部拡大断面図、第３図は本発明
実施例の補給装置を示す断面図、第４図は第３図の一部
拡大断面図、第５図（５）、（ハ）はいずれも本発明の
邪魔板の態様を示す斜視図である。 ２・・・鋼帯 ４・・・不溶性陽極 ６・・・めつき槽
１０・・・めっき液 １４・・・溶解槽 １６・・・塩
基性化合物 １８・・・ホッパー ２０・・・コンベヤ
２２・・・ 計量槽 ２６・・・スクリューフィーダ２
８．２８Ａ・・・投入筒 ３６．３６Ａ・・・排気管３
８・・・湿式集塵機 ４０・・・めっき液溢流装置４２
・・・貫通孔 ４４・・・邪魔板 ４６・・・めっき液
散布装置 ４８・・・濾過装置 代理人 弁理士 中 路 武 雄
図、第２図は第１図の一部拡大断面図、第３図は本発明
実施例の補給装置を示す断面図、第４図は第３図の一部
拡大断面図、第５図（５）、（ハ）はいずれも本発明の
邪魔板の態様を示す斜視図である。 ２・・・鋼帯 ４・・・不溶性陽極 ６・・・めつき槽
１０・・・めっき液 １４・・・溶解槽 １６・・・塩
基性化合物 １８・・・ホッパー ２０・・・コンベヤ
２２・・・ 計量槽 ２６・・・スクリューフィーダ２
８．２８Ａ・・・投入筒 ３６．３６Ａ・・・排気管３
８・・・湿式集塵機 ４０・・・めっき液溢流装置４２
・・・貫通孔 ４４・・・邪魔板 ４６・・・めっき液
散布装置 ４８・・・濾過装置 代理人 弁理士 中 路 武 雄
Claims (1)
- （１） ホッパーからコンベヤ、計量槽、スクリューフ
ィーダ、投入筒を介して粉末状の塩基性化合物を溶解槽
に切出し該溶解槽中のめつき液に溶解し、排気管、湿式
集塵機を介して排気する不溶性陽極を有する電気めっき
装置の循環するめつき液への塩基性金属イオン補給装置
において、前記投入筒の上部に設けられためつき液溢流
装置と、前記めっき液溢流装置の下方に設けられた貫通
孔を有する邪魔板と、前記排気管に設けられためつき液
散布装置およびν過装置と、を有することを特徴とする
めつき液への塩基性金属イオン補給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24915683A JPS60138098A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | めつき液への塩基性金属イオン補給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24915683A JPS60138098A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | めつき液への塩基性金属イオン補給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60138098A true JPS60138098A (ja) | 1985-07-22 |
| JPS6357517B2 JPS6357517B2 (ja) | 1988-11-11 |
Family
ID=17188735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24915683A Granted JPS60138098A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | めつき液への塩基性金属イオン補給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60138098A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102240525A (zh) * | 2011-05-26 | 2011-11-16 | 株洲冶炼集团股份有限公司 | 防扬尘装置及包含该防扬尘装置的反应器 |
| CN103157404A (zh) * | 2013-03-18 | 2013-06-19 | 陈红斌 | 一种水幕式熔融造粒系统 |
-
1983
- 1983-12-26 JP JP24915683A patent/JPS60138098A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102240525A (zh) * | 2011-05-26 | 2011-11-16 | 株洲冶炼集团股份有限公司 | 防扬尘装置及包含该防扬尘装置的反应器 |
| CN103157404A (zh) * | 2013-03-18 | 2013-06-19 | 陈红斌 | 一种水幕式熔融造粒系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6357517B2 (ja) | 1988-11-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |