JPS601275A - Electrically conductive resin paste - Google Patents

Electrically conductive resin paste

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JPS601275A
JPS601275A JP10776683A JP10776683A JPS601275A JP S601275 A JPS601275 A JP S601275A JP 10776683 A JP10776683 A JP 10776683A JP 10776683 A JP10776683 A JP 10776683A JP S601275 A JPS601275 A JP S601275A
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JP
Japan
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resin
paste
polyimide resin
polyimide
solvent
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Application number
JP10776683A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigenori Yamaoka
重徳 山岡
Yukihiro Okabe
岡部 幸博
Ryuzo Nakatsuka
中塚 隆三
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To provide a highly heat-resistant electrically conductive resin paste having a high initial bonding strength and suitable as mounting resin, prepd. by adding silver powder, a solvent, etc. to a polyimide resin consisting of a thermo- plastic polyimide resin and a thermosetting epoxy resin. CONSTITUTION:The resin paste is prepd. by adding silver powder, a solvent (e.g. N-methylpyrrolidone or dimethylformamide), a hardener (e.g. dicyandiamide), a curing accelerator (e.g. tertiary amine), etc. to a polyimide resin obtained by blending a thermoplastic polyimide resin (e.g. pyromelletic acid/diaminodiphenyl ether condensate type) with a thermosetting epoxy resin (e.g. epoxidized phenol novolac resin) in a blend ratio of 90-99.5:0.5-10 by weight. The paste is suitable for sealing semiconductor elements.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は銀粉、ポリイミド系樹脂溶液よシなる導電性樹
脂ペーストに関するものである。更に詳しくは高耐熱性
マウント用樹脂組成物に関するものである。エレクトロ
ニクス業界の最近の著しい発展によシ、トランジスター
、IC,LSI、超LSIと進化していき、これら半導
体素子に於ける回路の集積度が急激に増大すると共に大
量生産が可能となシ、これらを用いた半導体製品の普及
と相俟って、その量産に於ける作へ!性の向上並びにコ
ストダウンが重要な問題となってきた。従来は半導体素
子を基板導体、リードフレーム上に金箔を用いて所謂A
u−3i共晶法に、よシ接合し、次いでこれをハーメチ
ックシールにより封止して半導体製品となすのが普通で
あった。これに対し、最近エポキシ樹脂などによる8j
脂封止法が開発され、それに併いマウントエ8をもエポ
キシ樹脂系の導電性接ffi剤、所R円マウント用(Q
↑脂によって行われるようになって来た。エレクトロニ
クス業界の大勢としては、低コストで大量生産向きの樹
脂封止が主流ではあるが、特に高信頼性を要する高性能
品の分野では依然として・・−メチツクシールが根強く
残されている。ハーメチックシールには金属封止、セラ
ミック封止、ガラス封止などの方法があるが、何れの工
程に於いても低融点ガラスによる封止が行われている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a conductive resin paste made of silver powder and a polyimide resin solution. More specifically, the present invention relates to a highly heat-resistant resin composition for mounting. The recent remarkable development of the electronics industry has led to the evolution of transistors, ICs, LSIs, and VLSIs, and as the degree of circuit integration in these semiconductor devices has rapidly increased, mass production has become possible. Coupled with the spread of semiconductor products using semiconductors, the mass production of these products has become increasingly popular! Improving performance and reducing costs have become important issues. Conventionally, semiconductor elements were fabricated using a substrate conductor and gold foil on a lead frame.
It was common practice to make semiconductor products by bonding using the U-3i eutectic method and then sealing with a hermetic seal. On the other hand, recently, 8J using epoxy resin etc.
Along with the development of the fat sealing method, Mount 8 was also developed using an epoxy resin-based conductive adhesive for R-circle mounts (Q
↑It has come to be done using fat. In the electronics industry, low-cost, mass-produced resin sealing is the mainstream, but especially in the field of high-performance products that require high reliability, methic seals still remain. Hermetic sealing includes methods such as metal sealing, ceramic sealing, and glass sealing, but sealing with low melting point glass is performed in all processes.

従ってその際450℃の高温にチップ・基板導体(リー
ドフレーム)間の接着層がさらされるので、その高耐熱
性が必要である。従来はそのため金箔を接着層とするA
u−5i共晶法が。
Therefore, since the adhesive layer between the chip and the substrate conductor (lead frame) is exposed to a high temperature of 450° C., high heat resistance is required. Conventionally, gold foil was used as the adhesive layer A.
U-5i eutectic method.

行われていたが、負金属類の高騰によシコスト的には著
しくネオ・lとな9つつあり、シかも工程の自動化、能
率化も内裏しであるので、この賜金でも樹脂によるマウ
ント1へ急速に移行しつつある。このような高温に駒え
るマウント用M 胆組成物としでは、エポキシ系Q!脂
をベースとしたものでは不十分であり、ポリイミド系■
fが1′ベースのものが好ましい。
However, due to the soaring prices of negative metals, the cost is becoming significantly lower than that of neo-l, and there is also a need to automate and streamline the process, so even with this gift, we will continue to use resin mounts. It is rapidly transitioning. Epoxy-based Q! Grease-based products are insufficient, so polyimide-based products■
Preferably, f is 1' based.

マウント用4(1↑加“として必要なl時性は次の辿り
である。
The required temporality for mounting 4 (1↑addition) is as follows.

■マウント強度°350℃の加熱時、−65〜]50℃
の熱ショノクザイクル、熱水処理へ)の後の’J+2Z
 ;r’T。
■Mount strength °When heated at 350℃, -65~]50℃
'J+2Z after thermal shock cycle, hydrothermal treatment)
;r'T.

力。Power.

■熱放散性 ■1B、気伝導性 ■作薮性、ティノペンザーにJ:る定量注入性、スクリ
ーン印刷性、スクンビング性ナト。
■ Heat dissipation properties ■ 1B, air conductivity ■ Thicketing properties, quantitative injection properties, screen printing properties, and scrubbing properties.

■硬化性二オーブン方式、ホソ)プレート方式などによ
る硬化性。
■Curing properties Curing properties using the two-oven method, the flat plate method, etc.

■ボイド:低いこと。■Void: Low.

■信頼性゛耐湿通電テストによる不良のないこと、即ち
銀のマイグレーション、接着剤硬化物よりの発生ガスに
よる素子の特性の変動、ハロゲン、アルカリメタル等イ
オン性不純物によるアルミ配録の腐食などのないこと。
■Reliability ゛No defects in the humidity resistance current test, i.e., no silver migration, no variation in device characteristics due to gas generated from cured adhesive, no corrosion of aluminum wiring due to ionic impurities such as halogens and alkali metals, etc. thing.

■ワイヤーボンデング性二硬化物よシの発生ガスによる
ボンディング性の低下、ブリードによる汚染などのない
こと。
■Wire bonding properties: There should be no deterioration in bonding properties due to gas generated from the double-cured material, and no contamination due to bleeding.

■ベレットクラック;リードフレーム(特に銅合金の場
合)とのfl’% 11脹の差による応力発生に対する
バッファーのよいこと。
■Bellet crack: A good buffer against stress caused by the difference in fl'% 11 with the lead frame (especially in the case of copper alloy).

しかし、従来この穏のiF!i耐熱性マウント用樹脂に
11成物では、Q終曲な耐熱接着力としては十分である
としても、初期接着力の立上シが不十分であり、作フ;
(性、信頼性の面より大幅な改善が要望されていた。そ
の原因は熱可塑タイプのポリイミド四側自体が枯造的に
金属面との親和性、粘着件に砦しく劣るためである。
However, conventionally this calm iF! Even if the heat-resistant mounting resin No. 11 has sufficient heat-resistant adhesive strength at the end of the Q curve, it is insufficient to build up the initial adhesive strength.
(Significant improvements were required in terms of performance and reliability. The reason for this was that the thermoplastic polyimide sides themselves had poor affinity with metal surfaces and poor adhesion.

本発明者らはこれらの点について種々検討した結果、■
熱可塑タイプのポリイミド樹脂と液状エポキシ樹脂とは
ごく狭い範囲内ではあるが相溶性があること、■両者の
配合物は水温で安定であると、■加熱時の硬化は速く、
しかも硬化初期の立上シが大きいこと、■硬化物は均一
で耐熱性は殆んど劣化しないことなどの事ヲ5を見出し
、これをもとに本発明をなすに至った。
As a result of various studies on these points, the inventors found that
Thermoplastic polyimide resins and liquid epoxy resins are compatible, albeit within a very narrow range, and ■ their blends are stable at water temperatures; ■ they cure quickly when heated;
In addition, the inventors have discovered that (5) there is a large rise in the initial stage of curing, (2) the cured product is uniform, and there is almost no deterioration in heat resistance, and based on these findings, the present invention has been completed.

本発明は銀粉、ポリイミド系樹脂、溶剤よりなる導電性
樹脂ペーストであって、ポリイミド系樹脂は熱可塑性の
ポリイミド系hJ脂90乃至99.5部(M量、以下同
じ)と熱硬化性の液状エポキシ樹脂0.5乃至10部よ
p7J:、る混合物を用いることによシ接着力が一段と
改行された高耐熱性−液域マウント用樹脂を得んとする
ものである。本発明に用いる銀粉としては、ハロゲンイ
オン、アルカリ金属イオンなどのイオン性不純物を好ま
しくは10 ppm以下であることが好ましい。粒径は
0.1〜50μの範囲であり、要すれば比較的粗なフレ
ーク状または樹枝状のものと比較的細い粒状のものとが
適宜混合したものを選んで用いてもよい。
The present invention is a conductive resin paste consisting of silver powder, a polyimide resin, and a solvent, in which the polyimide resin is a thermoplastic polyimide hJ resin of 90 to 99.5 parts (M amount, the same applies hereinafter) and a thermosetting liquid. By using a mixture of 0.5 to 10 parts of epoxy resin and p7J:, it is intended to obtain a highly heat-resistant liquid area mounting resin with improved adhesive strength. The silver powder used in the present invention preferably contains ionic impurities such as halogen ions and alkali metal ions at 10 ppm or less. The particle size is in the range of 0.1 to 50 μm, and if necessary, a mixture of relatively coarse flakes or dendritic particles and relatively fine particles may be selected and used.

また、銀粉製造に際しては適宜沿剤として金属石鹸など
の界面活性剤を添加する場合もあるが、その場合には熱
水洗な等により予め除去することが壁ましい。また洗滌
は銀粒子表面の汚染の除去、活性化にも効果があるが、
粒度分布がかなり変化することがあるので注意を要する
。本発明に於ける銀粉の混合割合としては、組成物に対
して70〜85%(重分、以下同じ)であることが望ま
しい。これより少いと沈降分離し易くなること、導電性
が低くなることなどで望ましくなく、それ以↓用いても
’Xj”TI性能がさほど向上しないのにコストが著し
く増大し、接着力などが低下するので望葦しくない。本
発明に用いるポリイミド樹脂は1、t!ν可塑タイプの
ものであり、はぼ線状のポリマーでN−メチル−2ピロ
リドンのような溶媒に可溶のものであることが必要であ
る。ポリイミド樹脂のタイプとしては、ピロメリット酸
、ベンゾフェノン、テトラカルボンG2などのビス酸無
水物類及びナジック口?、メチルナジック酸、無水マレ
イン酸などの活性な不飽和基を有する酸無水物類とジア
ミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルケトン、
ジアミノジフェニルメタンなど及びにこれらの低級アル
キル核1胃、換誘導体などの芳香族系ジアミノ化合物と
の間の縮合反応などにより得られるもので、主鎖がイミ
ド基によって線状に連結された構造を有するポリマーで
ある。これらのポリマーはN−メチル−2ピロリドンの
ような溶剤を用いて10ft)乃至25乃(重量、以下
同じ)の溶液として用いられる。なお、これらのポリマ
ーは通常溶液状態ではポリアミック酸の形であり、加熱
時溶剤の揮発と共に脱水閉環して不溶化するものである
。本発明に用いるエポキシ樹脂としては、通常のグリシ
シール型のものでも脂環式のものでも何れでもよい。速
硬化性が得られるためにはエポキシ基を分子当シ、3ヶ
以上有する多官能性のものを含んでいることがiEtし
い。エポキシ樹脂に対する硬化剤としては、多価フェノ
ール類、多塩基酸無水物などの活性水↓(く基を有する
化合物、ジシアンジアミドなどのような7昌伏′l/I
Elだ(rよ室温では比較的安定f!硬化剤が特に好ま
しく、更に硬化促進剤として第3にアミンまたはその匁
(を適宜含んでいてもよい。本発明に用いる溶剤として
は、N−メチル−ピロリドン、ジメチルポルムアミド、
ジメチルアセトアミドなどが溶gy (’l:が良好で
あるので9脣しい。ただし2次6剤としてセロソルブ類
、カルビトールレ]:4などの高沸点の溶剤を適宜併用
してもよい。木うi−明におけるポリイミド樹脂/エポ
キシ’tijl l]irとの混合;+、’IJ合は9
0〜99.5 / 0.5〜10(重−1よ比)である
−ことが必ηヱである。一般にポリイミド什l脂に対し
てエポキシ樹脂は相溶性が小さいのでこれ以上用いても
均一な混合物が得られず、従ってかえって接2,1力の
低下をおこすおそれがあるので好宜しくない。まだこれ
より少ない表エポキシ・1・′f↑力[すの添加の効果
が発j;le出来ず、初41jJl接シr、力の立上り
を促、龜する作用がなくなるので望脣しくない。本発明
に用いるポリイミド位1脂、エボキシゼ11脂、溶剤、
6[、!粉末は伺れもクロルイオン、ナトリウムイオン
などのイオン性不純物はそれぞれ10 ppm (升1
士、六以下同じ)であることが望ましい。エポキシ+;
J JJirのうちグリシシール型のものは、通常加水
分解性ハロゲン基を不純物とし。
Further, when producing silver powder, a surfactant such as metal soap may be added as a additive, but in this case it is preferable to remove it in advance by washing with hot water or the like. Washing is also effective in removing contamination and activating the surface of silver particles, but
Care must be taken as the particle size distribution may change considerably. The mixing ratio of silver powder in the present invention is preferably 70 to 85% (weight content, the same applies hereinafter) to the composition. If the amount is less than this, it is undesirable because it becomes easy to settle and separate, and the conductivity becomes low. If it is used more than that, the 'Xj' TI performance does not improve much, but the cost increases significantly and the adhesive strength etc. decreases. The polyimide resin used in the present invention is of the 1,t!ν plastic type, and is a linear polymer that is soluble in a solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone. The types of polyimide resins include bis-acid anhydrides such as pyromellitic acid, benzophenone, and tetracarboxylic acid G2, and active unsaturated groups such as nadic acid, methylnadic acid, and maleic anhydride. Acid anhydrides and diaminodiphenyl ether, diaminodiphenyl ketone,
It is obtained by a condensation reaction between diaminodiphenylmethane, etc. and an aromatic diamino compound such as a lower alkyl nucleus or a substituted derivative thereof, and has a structure in which the main chain is linearly connected by imide groups. It is a polymer. These polymers are used as a solution of 10 ft) to 25 ft (weight, hereinafter the same) using a solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone. Note that these polymers are usually in the form of polyamic acid in a solution state, and are insolubilized by dehydration and ring closure as the solvent evaporates during heating. The epoxy resin used in the present invention may be either a normal glycysil type or an alicyclic type. In order to obtain fast curing properties, it is recommended that each molecule contains a polyfunctional compound having three or more epoxy groups. As curing agents for epoxy resins, active water such as polyhydric phenols, polybasic acid anhydrides, etc.
El (r) is relatively stable at room temperature f! A curing agent is particularly preferred, and may further contain an amine or its mome as a third curing accelerator.As the solvent used in the present invention, N-methyl -pyrrolidone, dimethylpolamide,
Dimethylacetamide and the like have a good solubility (9). However, as a secondary 6 agent, high boiling point solvents such as cellosolves and carbitolre] may be used in combination as appropriate. Mixing with polyimide resin/epoxy 'tijl l]ir in light; +, 'IJ case is 9
It is essential that the ratio is 0 to 99.5/0.5 to 10 (ratio of weight -1). Generally, epoxy resin has low compatibility with polyimide fat, so even if it is used in excess, a homogeneous mixture cannot be obtained, which is not preferable since there is a risk that the contact force will be reduced. This is not desirable because the effect of adding less surface epoxy 1.'f↑ force cannot be produced, and the effect of accelerating the rise of force and slowing down during initial contact is eliminated. Polyimide position 1 fat used in the present invention, eboxyze 11 fat, solvent,
6 [,! The powder contains ionic impurities such as chloride ions and sodium ions at 10 ppm each (1 square meter).
It is desirable that the applicant has a degree of 6 or below. Epoxy+;
Among JJJir, glycysil type ones usually contain hydrolyzable halogen groups as impurities.

て数百ppmtたけそれ以上含んでいて、これは上記の
イオン性不純物とは異なりjf口常の洗滌、蒸溜、再結
晶などのf1゛♂δイ、゛(方法で(りし除去し!I“
・11いものである。
It contains several hundred ppmt or more, and unlike the ionic impurities mentioned above, it can be removed by conventional methods such as washing, distillation, and recrystallization. “
・It is 11 ugly things.

本発明の目的のためには、加水分解性ハロゲン基が可及
的少ないものを51へぶことがq7−5しい。しかし本
発明ではエボギシ;+Ir’J脂の配合割合が少ないの
で、その加水分子〕Hり:ハロゲン基の4はさほど大き
な影へ・;七はなく、1,000ppm以下であれば十
分である。従って本発明のマウント用樹脂組成物は、エ
ポキシ樹脂系のものに比し、木デI的に加水分解性ハロ
ゲン基の含有−)十が少なく、硬化物のプレッシャーク
ツカーテスト(20時間)後の溶出クロルイオン、ナト
リウムイオンが(;メめて少ないことが特長の一つであ
る。イオン性不純物の試励方法は次のようである。
For the purpose of the present invention, it is preferable that 51-5 have as few hydrolyzable halogen groups as possible. However, in the present invention, since the blending ratio of Ebogishi;+Ir'J fat is small, the hydration molecule [H]: 4 of the halogen group does not have a very large influence, and 1,000 ppm or less is sufficient. Therefore, the mounting resin composition of the present invention has a lower content of hydrolyzable halogen groups than epoxy resin-based ones, and after the cured product is pressure tested (20 hours). One of the features is that the amount of eluted chloride ions and sodium ions is extremely small.The method for testing ionic impurities is as follows.

塩素イオンは液状試料15グを純水20m1!と2時間
振禮後、水層をが:3心分1可し検液とする。次に検液
15ccをポールピペットで採取し、6%鉄ミョワバン
水iW液4 mQ、1・0.3 %チオシアン酸・水銀
エタノール溶液2m℃を加え25 mF、になるまで純
水で稀釈するΦイ1)られた検液は分)“0光度計で4
6011mの波畏に於ける吸ブe +2>fを測定して
、ブランクテストとの対比に於いて予め作成した検覇腺
を用いて不純物として含−まれる塩素イオンjz“・′
1度をめる。
For chlorine ions, add 15g of liquid sample to 20ml of pure water! After shaking for 2 hours, the aqueous layer is divided into 3 cores and used as the test solution. Next, collect 15 cc of the test solution with a Pall pipette, add 4 mQ of 6% iron alum aqueous iW solution, and 2 m°C of 1.0.3% thiocyanic acid/mercury ethanol solution, and dilute with pure water until it reaches 25 mF. b1) The sample solution is 4 minutes) with a 0 photometer
We measured the suction e+2>f in the waves of 6011 m, and in comparison with a blank test, we used a pre-prepared test gland to determine the chloride ion contained as an impurity.
Take it once.

なおエポキシ(:、J脂、マウント用tit脂組成物、
硬化剤などのうち粘#J)、曽1ソ状乃至固形の揚台に
は、試料15f’r+−ルエン30mflに均一に溶解
し、純水100rrleを加えて2時間振r後水層を遠
心外Fil して伐液とし、Jソ下向杼に行う。ナトリ
ウムイオンは、上記t、jA 71 J:J:フレーム
レス原子吸光分析装置を用いて33(1,2nmの波長
の吸ブC度より、ブランクテストとの対比に於いて予め
作成しだ検景紹Hを用いて年産・li物として含咬れる
すl・リウノ、イオンをめる。
In addition, epoxy (:, J fat, tit fat composition for mounting,
Among the curing agents, viscous #J), etc., was uniformly dissolved in 30 mfl of sample 15f'r+-luene, and after shaking for 2 hours, the aqueous layer was centrifuged. Fil outside and use it as a cutting liquid, and then move it to the lower shuttle. Sodium ions were measured using a frameless atomic absorption spectrometer using the above t, jA 71 J:J: Absorption C degree at a wavelength of 33 (1, 2 nm). Using Sho H, we will collect the annual production of sl., liun, and ion, which are included as li materials.

エポキシ(σI脂の加水分1〕′f+1−塩型の定−;
;[法は、491脂107葡トル工ン30m1にとかし
、更に0. I N KOH−エタノール(”rr液5
0m1!と30分間加毀呑還流させ、次に消費されブこ
アルカリの)]を0.1NHC1により滴定してめる。
Epoxy (hydration of σI fat 1)'f+1-salt type constant-;
; [Method: 491 fat, 107 fat, 30ml, and further 0. I N KOH-Ethanol ("rr liquid 5
0m1! The solution was refluxed for 30 minutes, and then the consumed butoalkali) was titrated with 0.1N HCl.

消費されたアルカリの盆と’l f(の塩素最を計釣二
でめ、加水分解性塩素賦とする。
The consumed alkaline basin and the chlorine content of 'l f(') are combined into a total of two, and are considered as hydrolyzable chlorine charge.

なお0. I N KOHメタノール溶液で15分間加
熱還流・するのか従来の6i11定法であったが、こ肛
では加水分解性塩素1ノ:−とじでかなり過小の111
tがイ)Jられるので本発明の目的の7ヒめには好丑し
くない。
Note that 0. The conventional 6i11 method was to heat and reflux an I N KOH methanol solution for 15 minutes, but in this case, the hydrolyzable chlorine was 1:- and the 111 was considerably undersized.
Since t is a) J, it is not suitable for the seventh objective of the present invention.

本発明のマウント用仙JnT 、i、ii成酸物製造工
程は次のようである。
The manufacturing process of the JnT, I, and II oxides for mounting according to the present invention is as follows.

先ず所定jjQiのポリイミドuj脂浴故、エポキシ]
J・IJI11才、硬化前り、硬化促j色ア司、/i;
ri’J合そ才りぞれ・叶七ノし、混線し均−cd液と
する。このに:’;a合混i、にには通常の攪拌槽、4
’jh潰器、三本ロール、インクミルなど〕上適宜組合
せて用いてよい。仄に所定:、rの仏旬全科取し、上記
iMi を指7a液と(IL線して完全に均一なペース
ト状にする。この1易合にもイ・′、″拌槽、拵r:′
1器、三本ロールなどt適宜組合せて用いる。次にペー
スト状樹脂組成物を所定の容器に杵V4;9分配し、真
空チャンバー中で脱泡して製品とする。このJ!、h合
マウント用樹脂j(ツが1!2jいと十分に脱泡出来な
いので可及的に薄い層にすることが好丑しい。このよう
にして得られた+f+、J脂組成物は一15℃またはそ
れ以下の温度で貯蔵し号、)送することが必要である。
First, in a polyimide fat bath of a given jjQi, epoxy]
J・IJI 11 years old, pre-hardening, accelerated hardening, /i;
ri'J's group, Kano Nanano, mixes up and makes it a uniform CD liquid. For this:'; a mixing i, a normal stirring tank for this, 4
'jh crusher, three rolls, ink mill, etc.] may be used in combination as appropriate. Take the prescribed Buddha shun of R, and mix the above iMi with liquid 7a (IL) to make a completely uniform paste. r:′
Use in appropriate combinations such as one roll or three rolls. Next, the paste-like resin composition is distributed into predetermined containers using a pestle V4;9, and defoamed in a vacuum chamber to obtain a product. This J! , h mounting resin j (if the thickness is 1 or 2 j, sufficient defoaming will not be possible, so it is preferable to make the layer as thin as possible. The +f+, J resin composition obtained in this way is It is necessary to store and transport the product at a temperature of 15°C or lower.

これより温度が上ると貯蔵寿命を若しく低下させるので
好ましくない。
If the temperature is higher than this, the shelf life will be slightly reduced, which is not preferable.

本発明のマウント用4・1・4 )hi X’、ti成
酸物従来品に比し次のような特長を有している。
4.1.4) hi X', Ti oxide for mounting of the present invention has the following features compared to conventional products.

(1)高純度である。(1) High purity.

マウント用1す1脂硬化物中に熱水分解性のものをも含
むイオン性不i屯物の邦°が)lf、(めて少ない。従
って耐湿通電テスト時のアルミ配線のイオン性ネオ・u
物による)Pa食は太1:、′4に改良されておシ、信
頼性の面では従来品に比し一段とすぐれたものである。
The number of ionic impurities, including those that are hydrolytically decomposable, in the cured resin for mounting is extremely small. u
(Depending on the material) The Pa food has been improved to 1:, 4, and is even better than conventional products in terms of reliability.

(2)速硬化性である。(2) It is fast curing.

オーブン中150℃、1時間に次いで250℃、1時間
で硬化するが、この際初期の接着力の立上りが速い。
It is cured in an oven at 150° C. for 1 hour and then at 250° C. for 1 hour, but the initial adhesive strength builds up quickly at this time.

(3)高温時の接’;+j力が太きい。(3) Contact at high temperatures; +J force is large.

ハーメチックシール時の450℃の高温にも耐える十分
な接シ1メr力(マウント強度)を有し7ている。
It has sufficient contact strength (mounting strength) to withstand high temperatures of 450°C during hermetic sealing.

(4)その他熱放散性、電気体心性、ディスペンサー作
条性、低ボイド、鉄のマイグレーシコン、発生ガスによ
る汚染、ベレットクラックなどの故障をおこさないこと
などは従来品に比し筐さるとも劣らないものでるること
(4) Other features such as heat dissipation, electric body centering, dispenser stripability, low voids, iron migration silicone, contamination from generated gas, and no malfunctions such as pellet cracks are inferior to conventional products. Something that doesn't exist appears.

従って本発明のマヴ・ント用イi’4J脂組酸物は、K
4近急激に高度化しつつある臣しクトロ=クスa3’J
?の要望に合致した極めて工業的価値の高いものである
。なおプレッシャークツカーテストによるF、y、j、
水分解性クロルイオンの測定方法は次のようである。
Therefore, the i'4J fatty acids for Mav-Nt of the present invention are K
4.Cuthro-Cus a3'J, a vassal who is rapidly becoming more sophisticated.
? It is of extremely high industrial value as it meets the needs of In addition, F, y, j, by pressure cutter test,
The method for measuring water-decomposable chlorine ions is as follows.

マウント用樹)i’aを200 ’C130分間で硬化
させ、次いで硬化物を粉砕する。イL′られた粉末試ネ
122を分解ルツボ中でエタノール3川Cを加えて十分
浸漬させる。次に純水40mflを加えた後、完全に密
封し125℃、20時間処理する。処理後、左すれば遠
心分1+71t シ、上澄液を検液とする。検液中の塩
素イオン伝′4度、ナトリウムイオン畜“一度は上記の
方法に塾じてめる。
Mounting tree) i'a is cured at 200'C for 130 minutes, and then the cured product is crushed. The prepared powder sample 122 is thoroughly immersed in a decomposition crucible by adding ethanol 3g C. Next, after adding 40 mfl of pure water, the container was completely sealed and treated at 125° C. for 20 hours. After treatment, centrifuge for 1+71 t and use the supernatant as the test solution. Chlorine ions in the test solution are transmitted 4 times, sodium ions are detected.

以下実施例について説明する。Examples will be described below.

実施例 ポリイミド4iiJ Jiir kj:ピロメリツトj
:ii /ジアミノジフェニルニーデル縮合タイプ(ポ
リアミン酸糖で15 % 01<if、以下同じ)Nメ
チルピロリドン溶液)160部(正月“、以下同じ)、
エポキシ樹脂はエポキシ化フェノールノボラック(数平
均分子j<I、’ : G 80、エポキシ轟Jim 
: 180、エポキシ基の数7分子:3.6、加水分解
性クロル基:800ppm)O12部f、 J、’: 
’Iで1゛シ、均−溶71゛Yとする。更に銀粉末10
0部を加えて看!・潰器でンP、π・(1し、六?後に
三本ロールを則して均一なペースト状マウント用樹)笛
組酸物全イ4Jる。イ)Iられだペースト状マウント用
A(’:I )’Jfj組成物は液のJIXさ20 v
n以下にバット中に拡げて真空チンバー中、常温、5 
maIIf?以下の高真空下にjQ、 r包する。脱?
己された(・I )Ii’r flt成物酸物−ドフレ
ーム上にスクリーン印刷丑だはスタンピングにより定員
的に自1j・h伊、給され、チップをマウントする。、
11・fli!¥の硬化はオーブン中150℃、60分
、次いで250℃、60分の加熱により得られる。
Example polyimide 4iiJ Jiir kj: Pyromerite j
:ii/diaminodiphenyl needle condensation type (polyamic acid sugar 15% 01<if, same below) N methylpyrrolidone solution) 160 parts (New Year's Day, same below),
The epoxy resin is epoxidized phenol novolac (number average molecule j<I,': G 80, epoxy Todoro Jim
: 180, Number of epoxy groups: 7 molecules: 3.6, Hydrolyzable chloro group: 800 ppm) O12 part f, J,':
'I is 1゛, and the homogeneous solution is 71゛Y. Furthermore, silver powder 10
Add part 0 and watch!・In a crusher, P, π・(After 1st and 6th round, roll three rolls to make a uniform paste-like mounting tree). A) Jfj composition for paste-like mounting is liquid JIX 20v
Spread in a vat to less than n and store in a vacuum chamber at room temperature for 5 minutes.
maIIf? Pack jQ and r under high vacuum as follows. Taking it off?
The chips were applied to a capacity by screen printing or stamping onto a prepared (I) composite acid frame and the chip was mounted. ,
11・fli! Curing of ¥ is obtained by heating in an oven at 150°C for 60 minutes and then at 250°C for 60 minutes.

マウント用樹脂の各細の性能は第1表の通りでおる。な
お、上記のポリイミド」〕(脂のみでエポキシ1も1脂
を加えないこと以外は全く同様にして樹脂式)l酸物を
甜′1造したが、初期の接惰力の立上りがおそく、杵築
性は著しく劣シ望ましくなかった。
The performance of each detail of the mounting resin is shown in Table 1. In addition, although the above-mentioned polyimide (resin formula was made in exactly the same way as epoxy 1 except that no fat was added) l acid was produced, the initial build-up of the contact force was slow. The punchability was extremely poor and undesirable.

第1表マウント用樹脂の性能 (注)*X10’Ωcf3 ** X 10 ”cat/ see ″c房***グ
レソシャークッカー(2003間)手続補正帯(自発) 昭和58年 8月 3日 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第107766号 2、発明の名称 導電性tH脂ペースト 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区内幸町1丁目2番2号4、補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
Table 1 Performance of resin for mounting (Note) *X10'Ωcf3 ** Director-General of the Agency 1. Indication of the case Patent Application No. 107766 filed in 1982 2. Name of the invention Conductive tH fat paste 3. Relationship with the person making the amendment Patent applicant address 1-2 Uchisaiwai-cho, Chiyoda-ku, Tokyo No. 2 No. 4, Detailed description of the invention in the specification subject to amendment.

5、補正の内容 (1)第10頁第15行 「10Bをトルエフ30m1にとかし、更に0.IN 
KOIIJ を[0,5gをジオキサン30m lにと
め化、更にIN KOIIJに補正する。
5. Contents of correction (1) Page 10, line 15 “Combine 10B into Toluev 30ml, and add 0.IN
[0.5 g of KOIIJ is stopped in 30 ml of dioxane and further corrected to IN KOIIJ.

(2)第10頁第16行 [50+nlJを15m1J
に補正する。
(2) Page 10, line 16 [50+nlJ to 15m1J
Correct to.

以 上 手続補」r′、書(自発) 昭和59年 1月 51ヨ 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第10’7766号 2、発明の名称 導電性樹脂ペース) 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京t;1;千代目」区内幸町1丁目2番2号
明細四の発明の1洋#lllな説明の1ITh’l。
Supplementary Procedures for the above"r', written (self-motivated) January 59, 1980 Dear Commissioner of the Japan Patent Office 1, Indication of the case Patent Application No. 10'7766 of 1988 2, Name of the invention Conductive resin paste) 3. Relationship with the case of the person making the amendment Patent Applicant Address: Tokyo t;1;

5、補正の内容 (1)第10頁第1. ’7 ”j」 「シ肖費されたアルカリの量を(1,lNl−lClに
より」を1−生成したクロルイオンの11:、をQ、1
)IABNo、により」とj+u正する。
5. Contents of amendment (1) Page 10, No. 1. '7 ``j'' ``The amount of alkali consumed (by 1,lNl-lCl'') is 1-11 of the chlorine ion produced, Q, 1
)IABNo.,'' j+u is corrected.

(2)第10頁第18〜11〕行(2) Page 10, lines 18-11]

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 銀粉、ポリイミド系樹脂、溶剤よシなる感電性樹脂ペー
ストであって、ポリイミド系樹脂は熱可塑性のポリイミ
ド樹脂と熱硬化性のエポキシ樹脂よりなシ、RRポリイ
ミド樹脂対エポキシ樹脂の配合比(重量)は90〜99
.5 / 0.5〜10であることを特徴とする初期接
着力の優れた高耐急性導電性樹脂ペースト。
An electrically sensitive resin paste consisting of silver powder, a polyimide resin, and a solvent, where the polyimide resin is a thermoplastic polyimide resin and a thermosetting epoxy resin, and the blending ratio (weight) of RR polyimide resin to epoxy resin. is 90-99
.. 5/A highly resistant acute conductive resin paste with excellent initial adhesion strength, characterized by a ratio of 0.5 to 10.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5232962A (en) * 1991-10-09 1993-08-03 Quantum Materials, Inc. Adhesive bonding composition with bond line limiting spacer system
JP2005113059A (en) * 2003-10-09 2005-04-28 Shin Etsu Chem Co Ltd Curable resin composition and electrically conductive adhesive

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5750670A (en) * 1980-09-12 1982-03-25 Toshiba Corp Ultrasonic video device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5750670A (en) * 1980-09-12 1982-03-25 Toshiba Corp Ultrasonic video device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5232962A (en) * 1991-10-09 1993-08-03 Quantum Materials, Inc. Adhesive bonding composition with bond line limiting spacer system
JP2005113059A (en) * 2003-10-09 2005-04-28 Shin Etsu Chem Co Ltd Curable resin composition and electrically conductive adhesive

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