JPS601227A - Production of siloxane-modified polyamic acid - Google Patents

Production of siloxane-modified polyamic acid

Info

Publication number
JPS601227A
JPS601227A JP11065683A JP11065683A JPS601227A JP S601227 A JPS601227 A JP S601227A JP 11065683 A JP11065683 A JP 11065683A JP 11065683 A JP11065683 A JP 11065683A JP S601227 A JPS601227 A JP S601227A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diamine
acid
polyamic acid
polyimide
diaminosiloxane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11065683A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0315661B2 (en
Inventor
Yasuyuki Shimozato
康之 下里
Hiroharu Ikeda
池田 弘治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd, Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP11065683A priority Critical patent/JPS601227A/en
Publication of JPS601227A publication Critical patent/JPS601227A/en
Publication of JPH0315661B2 publication Critical patent/JPH0315661B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce the titled acid excellent in room-temperature storage stability, by reacting a specified diaminosiloxane as a diamine component with 2,3,5- tricarboxycyclopentylacetic acid (anhydride). CONSTITUTION:The titled acid is produced by reacting a diamine mixture comprising 1-40wt% diaminosiloxane of formula I (wherein R1 is a bivalent hydrocarbon group, R2 is a monovalent hydrocarbon group, and n is 0-100), e.g., a compound of formula II, and 99-60wt% diamine other than the above diamine (e.g., p-phenylenediamine) with 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid. Unlike conventional polyamic acids, this polyamic acid is excellent in room temperature storage stability and, in addition, a polyimide obtained by the dehydrating ring closure of this acid shows excellent heat and chemical resistance, electrical and mechanical properties and low water absorption rate as well.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はシロキサン変性ポリアミック酸の製造方法に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a siloxane-modified polyamic acid.

一般にポリアミック酸をイミド化することによちて得ら
れるポリイミドは優れた耐熱性を有しているため高温下
で使用するフィルム、電線被覆。
Polyimide, which is generally obtained by imidizing polyamic acid, has excellent heat resistance and is therefore used in films and wire coatings used at high temperatures.

接着剤、塗料等の原料として非常に有用である。Very useful as a raw material for adhesives, paints, etc.

従来のポリイミドとしては無水ピロメリット酸等の芳香
族テトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミンとを、極
性溶媒中で反応させて芳香族ポリアミック酸を得2次に
これの溶液を基材に塗布し。
Conventional polyimide is produced by reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride such as pyromellitic anhydride with an aromatic diamine in a polar solvent to obtain an aromatic polyamic acid.Secondly, a solution of this is applied to a substrate. death.

フィルム状にした後、加熱等の方法によシ脱水閉環して
得られるフィルム状芳香族ポリイミドが知られている。
A film-like aromatic polyimide obtained by forming the film into a film and then dehydrating and ring-closing it by a method such as heating is known.

しかし、従来の芳香族ポリイミドは。However, traditional aromatic polyimide.

半の前駆体である芳香族ポリアミック酸の安定性が悪く
、室温で放置すると、ポリアミック酸溶液の粘度が低下
し、さらに長期間放置すると一部が脱水閉環してポリイ
ミドとな9.不溶化して白濁を生じるなどの欠点を有し
ている。このため、従来の芳香族ポリアミック酸の溶液
は低温で保存する必要があり、その取扱いには注意を要
するという欠点があった。
9. The aromatic polyamic acid, which is a semi-precursor, has poor stability, and if left at room temperature, the viscosity of the polyamic acid solution decreases, and if left for a long time, part of it undergoes dehydration and ring closure to form polyimide.9. It has disadvantages such as becoming insolubilized and causing cloudiness. Therefore, conventional solutions of aromatic polyamic acids have to be stored at low temperatures and must be handled with care.

また従来のポリイミドは吸水率が、高いことが知られて
いる。そのため電子材料用部品に使用する場合に電気特
性が低下したり2寸法安定性に欠けるという問題点を有
していた。
Furthermore, it is known that conventional polyimide has a high water absorption rate. Therefore, when used in parts for electronic materials, there have been problems in that electrical properties deteriorate and two-dimensional stability is lacking.

本発明者らはこれらの欠点を解決すべく鋭意検討した結
果、特定のジアミノシロキサンをジアミンの1成分とし
て2.3.5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸また
はその無水物と反応させることにより得られるポリアミ
ック酸の溶液が室温での保存安定性に優れており、しか
も該ポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミド
は耐熱性。
As a result of intensive studies to solve these drawbacks, the present inventors have developed a polyamic acid obtained by reacting a specific diaminosiloxane as one component of a diamine with 2.3.5-tricarboxycyclopentyl acetic acid or its anhydride. The solution has excellent storage stability at room temperature, and the polyimide obtained by dehydrating and ring-closing the polyamic acid is heat resistant.

機械的特性、電気特性、耐薬品特性等に優れ、さらに吸
水率が低いことを見出し本発明に到達した。
The present invention was achieved by discovering that it has excellent mechanical properties, electrical properties, chemical resistance properties, etc., and also has a low water absorption rate.

すなわち本発明は、下記一般式で示されるジアミノシロ
キサン1〜40重量係および該ジアミノシロキサン以外
のジアミン99〜60重量係とからなるジアミン混合物
と2.3.5− )リカルボキシシクロペンチル酢酸ま
たはその無水物とを有機溶媒中で反応させることを特徴
とするシロキサン変性ポリアミック酸の製造方法を提供
するものである。
That is, the present invention provides a diamine mixture consisting of 1 to 40 weight parts of diaminosiloxane represented by the following general formula and 99 to 60 weight parts of diamines other than the diaminosiloxane; The present invention provides a method for producing a siloxane-modified polyamic acid, which is characterized by reacting a polyamic acid with a siloxane-modified polyamic acid in an organic solvent.

t2R2 ■ 2R2 (R11は2価の炭化水素基、 R12は1価の炭化水
素基であり、nは0〜100の整数を示す)本発明に使
用される2 3.5− ) IJカルボキシシクロペン
チル酢酸(以下TCAと称する)は2例エバジシクロペ
ンタジェンをオゾン分解し、過酸化水素で酸化する方法
(英国特許第87235号。
t2R2 ■ 2R2 (R11 is a divalent hydrocarbon group, R12 is a monovalent hydrocarbon group, n is an integer of 0 to 100) 2 3.5-) IJ carboxycyclopentyl acetic acid used in the present invention (hereinafter referred to as TCA) is a method in which evadicyclopentadiene is ozonolyzed and oxidized with hydrogen peroxide (British Patent No. 87235).

J、Org、Chern、、28.2537(1963
))。
J, Org, Chern, 28.2537 (1963
)).

またけジシクロペンタジェンを水和して得られるヒドロ
キシジシクロペンタジェンを硝酸酸化する方法(西独特
許第1078120号)などによって製造することがで
き、このTCAを脱水することにより2,3,5.−)
リカルボキシシクロペンチル酢酸無水物(以下TCA−
AHと称する)を製造することができる。
It can be produced by a method such as oxidizing hydroxydicyclopentadiene obtained by hydrating dicyclopentadiene with nitric acid (West German Patent No. 1078120), and by dehydrating this TCA, 2,3,5 .. −)
Licarboxycyclopentyl acetic anhydride (hereinafter TCA-
AH) can be produced.

本発明で使用するジアミノシロキサンにおけるR1は二
価の炭化水素基であり脂肪族、脂環族、芳香族の中から
選ばれたものであシ2例えばトリノチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基。
R1 in the diaminosiloxane used in the present invention is a divalent hydrocarbon group selected from aliphatic, alicyclic, and aromatic groups.2 For example, trinothylene group, tetramethylene group, and pentamethylene group.

シクロヘキシレン基、フェニレン基環カ挙ケラレる。ま
たR2は1価の炭化水素基であり脂肪族。
Cyclohexylene group, phenylene group rings are vignetted. Further, R2 is a monovalent hydrocarbon group and is an aliphatic group.

脂環族、芳香族の中から選ばれたものであシ22例エバ
メチル、エチル基、フェニル基、シクロヘキシル基等を
例示することができる。またnはO〜100であり、n
が100を越えると機械的強度が低下するので好ましく
ない。ジアミノシロキサンの具体例としては。
It is selected from alicyclic groups and aromatic groups, such as evamethyl, ethyl, phenyl, and cyclohexyl groups. Further, n is O to 100, and n
If it exceeds 100, the mechanical strength decreases, which is not preferable. A specific example of diaminosiloxane is:

H3CH3 H2N+CHzt’3Si−0−Si +C’H2−)
3NH□■ H3CH3 CH3C113 H2N−f C1−12+、−8 i −0−S i 
−f C1−12九N1−I21 CH2Cl(3 H3CH3 CH3CH3 等を挙げることができる。
H3CH3 H2N+CHzt'3Si-0-Si +C'H2-)
3NH□■ H3CH3 CH3C113 H2N-f C1-12+, -8 i -0-S i
-f C1-129N1-I21 CH2Cl (3 H3CH3 CH3CH3 etc. can be mentioned.

該ジアミノシロキサン以外のジアミンは、一般式: l
−12N−R−N1−I2で示される化合物(Rは2価
の芳香族基、脂肪族基または脂環族基を示す)である。
The diamine other than the diaminosiloxane has the general formula: l
-12N-R-N1-I2 (R represents a divalent aromatic group, aliphatic group, or alicyclic group).

上記一般式における好ましいRとしては2例えば。A preferable example of R in the above general formula is 2, for example.

1 (式中X1.X2.X3およびX4は同一でも異なって
もよ(、−H,−CH5−jたは一0CH3,Yは−C
H2,−C2H4−+−〇−、−8−。
1 (In the formula, X1.X2.X3 and X4 may be the same or different (, -H, -CH5-j or -CH3, Y is -C
H2, -C2H4-+-〇-, -8-.

CH3CFa 1]は0または1を示す)で示される芳香族基。CH3CFa 1] represents 0 or 1).

−(CH2)n=(n=2〜20)。-(CH2)n=(n=2-20).

CH3 (”H2)3 C(CH2)3 。CH3 (”H2)3 C(CH2)3.

CH3 で示される炭素数2〜20の脂肪族基または脂環族基が
挙げられる。
Examples include an aliphatic group or alicyclic group having 2 to 20 carbon atoms and represented by CH3.

本発明において得られるポリアミック酸をイミド化反応
を行うことにより得られるポリイミドの耐熱性をさらに
向上させるためには、Rが芳香族であることが好ましい
In order to further improve the heat resistance of the polyimide obtained by imidizing the polyamic acid obtained in the present invention, it is preferable that R is aromatic.

上記ジアミンの具体例としては、バラフェニレンジアミ
ン、メタフェニレンジアミン、4.4’−ジノ アミノジフェニルメタン、4.4’−ジアミテジフェニ
ルエタン、ベンジジン、4.4’−ジアミノジフェニル
スルフ(ト+ 4.4’ 7アミノジフエニルスルホン
、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、L5−ジア
ミノナフタレン、3.3’−ジメチル−4,4’−ジア
ミノビフェニル、3.4’−ジアミノベンズアニリド、
3.4’−ジアミノジフェニルエーテル、メタキシリレ
ンジアミン、パラキシレンジアミン、エチレンジアミン
、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン
、ペンタメチレンジアミン。
Specific examples of the above-mentioned diamine include phenylene diamine, metaphenylene diamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamitediphenylethane, benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulf(t+4) .4' 7-amino diphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, L5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,4'-diaminobenzanilide,
3.4'-diaminodiphenyl ether, metaxylylene diamine, paraxylylene diamine, ethylene diamine, 1,3-propanediamine, tetramethylene diamine, pentamethylene diamine.

ヘキザメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オ
クタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4.4
’−ジメチルへブタメチレンジアミン。
Hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, nonamethylene diamine, 4.4
'-Dimethylhebutamethylenediamine.

1.4−ジアミノシクロヘキサン、テトラヒドロジシク
ロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒトロー4.7−
メタノインダニレンシメチレンジアミン。
1.4-diaminocyclohexane, tetrahydrodicyclopentadienylene diamine, hexahythro 4.7-
Methanoindanilene symethylene diamine.

トリシクロ[6,2,1,02・7〕−ランデシレンジ
メチルジアミン等を挙げることができる。これらは単独
または混合して用いることができる。
Tricyclo[6,2,1,02.7]-landecylenedimethyldiamine and the like can be mentioned. These can be used alone or in combination.

該ジアミノシロキサンと該ジアミノシロキサン以外のジ
アミンとの使用割合は1〜40重量%:99〜60重量
係である。該ジアミノシロキサンが1重量係未満では吸
水率を改善できず、40重量%を越えると得られるポリ
アミック酸をイミド化したときに耐熱性および機械的強
度が低下する。
The ratio of the diaminosiloxane to the diamine other than the diaminosiloxane is 1 to 40% by weight:99 to 60% by weight. If the diaminosiloxane is less than 1% by weight, the water absorption rate cannot be improved, and if it exceeds 40% by weight, the heat resistance and mechanical strength will decrease when the resulting polyamic acid is imidized.

本発明に使用する反応溶媒としては、N−メチル−2−
ピロリドン、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−
ジメチルアセトアミド、N、N’−ジメチルスルホオキ
シド等のN−アルキルピロリドン類、N、N−ジアルキ
ルアミド類等の双極子極性溶媒が好ましいが、一般的な
有機溶媒であるアルコール類、フェノール類、ケトン類
、エステル類、ラクトン類、エーテル類、ハロゲン化炭
化水素類、炭化水素類1例えばメチルアルコール。
The reaction solvent used in the present invention is N-methyl-2-
pyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-
Dimethylacetamide, N-alkylpyrrolidones such as N,N'-dimethylsulfoxide, and dipolar polar solvents such as N,N-dialkylamides are preferred, but general organic solvents such as alcohols, phenols, and ketones are preferred. esters, lactones, ethers, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons 1 such as methyl alcohol.

エチルアルコール、イングロビルアルコール、エチレン
グリコール、フロピレンゲリコール、L4−ブタンジオ
ール、トリエチレングリコール、エチレンクリコールモ
ノメチルエーテル、フェノール、m−クレゾール、アセ
トン、メチルエチルケトIン、メチルイソブチルケトン
、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、シュウ1酸ジエチル、マロン酸ジエチル、γ−ブ
チロラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジクロルメタン、L2−ジ
クロルエタン、■、4−ジクロルブタン、トリクロルエ
タン、クロルベンゼン、0−ジクロルベンゼン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン。
Ethyl alcohol, inglobil alcohol, ethylene glycol, propylene gellicol, L4-butanediol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, phenol, m-cresol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate , ethyl acetate, butyl acetate, diethyl oxalate, diethyl malonate, γ-butyrolactone, diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, dichloromethane, L2-dichloroethane, ■, 4-dichlorobutane, trichloroethane, chlorobenzene, 0-dichlorobenzene, hexane, heptane, octane.

ベンゼン、トルエン、キシレンなども使用スることがで
きる。特に上記極性溶媒と一般的な有機溶媒とを混合し
て用いると高分子量のポリアミック酸を得やすくkる。
Benzene, toluene, xylene, etc. can also be used. In particular, when the above polar solvent and a general organic solvent are mixed and used, it is easy to obtain a high molecular weight polyamic acid.

例えばアセトン/ジメチルホルムアミド−7/3(容量
比)程度の溶媒を用いてTCA−AHとジアミンとを反
応させると反応系が均一となり、特に高分子量のポリア
ミック酸が得やすくなる。
For example, when TCA-AH and diamine are reacted using a solvent of about 7/3 (volume ratio) of acetone/dimethylformamide, the reaction system becomes uniform and it becomes easy to obtain a polyamic acid having a particularly high molecular weight.

上記TCA4たはTCA−AHとジアミンとの反応割合
は当モルで行なうのが好ましいが2本発明の目的が達成
される限り若干の過不足があってもよく2例えばTCA
またはTCA−AH−モルに対してジアミン混合物0.
7〜1.3モル程度の割合で反応させることができる。
The reaction ratio of the above TCA4 or TCA-AH and diamine is preferably carried out in equimolar amounts; however, as long as the purpose of the present invention is achieved, there may be a slight excess or deficiency.2 For example, TCA
or TCA-AH-mol to diamine mixture 0.
The reaction can be carried out at a ratio of about 7 to 1.3 moles.

またモノアミンやジカルボン酸無水物を添加してポリア
ミック酸の分子量を調整することもできる。
Moreover, the molecular weight of the polyamic acid can also be adjusted by adding a monoamine or a dicarboxylic acid anhydride.

溶媒の使用量は好ましくはTCA4たけ’I’CA・A
Hとジアミン混合物の合計量に対して0.5〜20重量
倍である。
The amount of solvent used is preferably TCA4'I'CA・A
It is 0.5 to 20 times the weight of the total amount of H and diamine mixture.

本発明においてポリアミック酸を製造する際の゛反応温
度は、TCAとTCA−AHのどちらを出発原料にする
かによって異なり、’rCAを原料とする場合には脱水
縮合を行なわせるために2通常。
In the present invention, the reaction temperature for producing polyamic acid varies depending on whether TCA or TCA-AH is used as a starting material, and when rCA is used as a starting material, the reaction temperature is usually 2 to perform dehydration condensation.

50〜300℃、好ましくは100〜250’Cで反応
を行なうのが効果的である。一方、TCA・AHを原料
とする場合には付加重合であり、必らずしも高温で反応
させる必要はなく2通常は20〜100℃で反応を行え
ばよい。
It is effective to carry out the reaction at 50-300°C, preferably 100-250'C. On the other hand, when TCA/AH is used as a raw material, addition polymerization is performed, and the reaction does not necessarily have to be carried out at a high temperature; it is usually sufficient to carry out the reaction at a temperature of 20 to 100°C.

一般的に’I’CAと’l”CA−A)(とでは、TC
A・AH,%に2無水物を用いることが好ましく。
In general, 'I'CA and 'l'CA-A) (and TC
It is preferable to use dianhydride for A.AH,%.

有機溶媒に可溶なポリアミック酸の製造が容易になる。It becomes easy to produce polyamic acid that is soluble in organic solvents.

このようにして得られるポリアミック酸の固有粘度ηi
 n b (濃度0.5g/100m1.溶媒N。
Intrinsic viscosity ηi of the polyamic acid obtained in this way
n b (concentration 0.5 g/100 ml 1. solvent N.

N′−ジメチルアセトアミド、測定温度30’C)は好
ましくは0.05dl/g以上、特に好ましくは0.0
5〜20dl/gである。なお固有粘度ηinhは。
N'-dimethylacetamide, measurement temperature 30'C) is preferably 0.05 dl/g or more, particularly preferably 0.0
It is 5 to 20 dl/g. Note that the intrinsic viscosity ηinh is.

(tはポリマー溶液の流下速度、toはN、N′−ジメ
チルアセトアミドの流下速度である)で表される粘度で
ある。
(t is the flow rate of the polymer solution, to is the flow rate of N,N'-dimethylacetamide).

本発明によシ得られるポリアミック酸は溶媒に溶は易く
、かつアミド結合の一部がイミド化しても溶媒に溶ける
ため、溶液状態で非常に安定である。
The polyamic acid obtained according to the present invention is easily soluble in a solvent, and even if some of the amide bonds are imidized, it is soluble in the solvent, so it is very stable in a solution state.

得られたポリアミック酸の有機溶媒溶液は、そのまま、
または有機溶媒溶液から常法によりポリアミック酸を回
収し、必要に応じて精製した後。
The obtained organic solvent solution of polyamic acid was used as it was.
Or after recovering polyamic acid from an organic solvent solution by a conventional method and purifying it as necessary.

再度有機溶媒に溶解し、有機カルボン酸無水物の存在下
に、所望により3級アミンを添加して有機溶媒中で加熱
することによジイミド化反応を行うこともでき、この方
法によって有機溶媒に可溶なポリイミドを容易に製造す
ることができる。この場合の有機溶媒としては、前記と
同様の有機溶媒を例示することができ、ポリアミック酸
の有機溶媒溶液の濃度は好ましくは1〜50重量係、特
に好ましくは1〜30重量係である。またイミド化反応
時に使用される有機カルボン酸無水物の沸点は250℃
以下であることが好捷しい。有機カルボン酸無水物の沸
点が250℃を越えると、フィルム化時に加熱により溶
媒を除去する工程で、有機カルボン酸無水物が同時に除
去されず、フィルム中に残留することになシ、物性等に
悪影響を与える。このよう々有機カルボン酸無水物とし
ては。
The diimidization reaction can also be carried out by dissolving the mixture in an organic solvent again, adding a tertiary amine if desired in the presence of an organic carboxylic acid anhydride, and heating in the organic solvent. Soluble polyimide can be easily produced. Examples of the organic solvent in this case include the same organic solvents as mentioned above, and the concentration of the organic solvent solution of polyamic acid is preferably 1 to 50% by weight, particularly preferably 1 to 30% by weight. Furthermore, the boiling point of the organic carboxylic acid anhydride used during the imidization reaction is 250°C.
It is preferable that the following is true. If the boiling point of the organic carboxylic acid anhydride exceeds 250°C, the organic carboxylic acid anhydride will not be removed at the same time during the process of removing the solvent by heating during film formation, and will remain in the film, resulting in adverse effects on physical properties, etc. have a negative impact. As described above, as an organic carboxylic acid anhydride.

例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸。For example, acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride.

無水イン酪酸、無水吉草酸等が使用される。これらの有
機カルボン酸の混合酸無水物9例えば酢酸とプロピオン
酸から得られる酸無水物等も使用可能である。有機カル
ボン酸無水物の添加量は、ポリアミック酸の繰返し構造
単位1モル当り0.2〜20倍モルが好ましい。0.2
倍モル未満の場合はイミド化反応の進行が遅くなり、ま
た20倍モルを越えるとポリアミック酸の有機溶媒に対
する溶解度が低下する。さらにイミド化反応を促進させ
るために、所望により触媒として3級アミンを添加する
ことができる。3級アミンは、イミド化反応の促進の他
に、得られるポリイミドの溶液粘度の低下を抑制する効
果も生ずる。3級アミンは。
Inbutyric anhydride, valeric anhydride, etc. are used. Mixed acid anhydrides 9 of these organic carboxylic acids, such as acid anhydrides obtained from acetic acid and propionic acid, can also be used. The amount of the organic carboxylic acid anhydride added is preferably 0.2 to 20 moles per mole of repeating structural unit of polyamic acid. 0.2
When the amount is less than 2 times the mole, the imidization reaction progresses slowly, and when it exceeds 20 times the amount, the solubility of the polyamic acid in the organic solvent decreases. Furthermore, in order to promote the imidization reaction, a tertiary amine can be added as a catalyst if desired. In addition to promoting the imidization reaction, the tertiary amine also has the effect of suppressing a decrease in the solution viscosity of the resulting polyimide. Tertiary amine.

有機カルボン酸無水物の場合と同様な理由で沸点250
℃以下のものが好ましく9例えばトリエチルアミン、ト
リプロピルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族3級ア
ミン、N、N−ジメチルアニリン等の芳香族3Rアミン
、ピリジン、2−メチルビリジン、N−メチルイミダゾ
ール、キノリン等の複素環化合物が挙げられる。3級ア
ミンの添加量は、ポリアミック酸の繰返し構造単位1モ
ル当、920倍モル以下が好ましい。20倍モルを超え
るとポリアミック酸の有機溶媒に対する溶解性が低下す
る傾向にある。イミド化反応の反応温度は、好ましくは
60〜′200℃、特に好ましくは100〜170℃で
ある。60℃未満ではイミド化反応の進行が遅れ、また
200℃を越えるとポリイミドの分子量が大きく低下す
る。有機カルボン酸無水物および3級アミンの添加順序
は、いずれが先でもよく、捷だ両者を混合してから添加
してもよい。
The boiling point is 250 for the same reason as in the case of organic carboxylic acid anhydrides.
℃ or less, preferably 9. For example, aliphatic tertiary amines such as triethylamine, tripropylamine, and tributylamine, aromatic 3R amines such as N,N-dimethylaniline, pyridine, 2-methylpyridine, N-methylimidazole, and quinoline. Examples include heterocyclic compounds such as. The amount of the tertiary amine added is preferably 920 times or less per mole of repeating structural unit of the polyamic acid. When the amount exceeds 20 times the mole, the solubility of polyamic acid in organic solvents tends to decrease. The reaction temperature of the imidization reaction is preferably 60 to 200°C, particularly preferably 100 to 170°C. If the temperature is lower than 60°C, the progress of the imidization reaction will be delayed, and if the temperature exceeds 200°C, the molecular weight of the polyimide will decrease significantly. The organic carboxylic acid anhydride and the tertiary amine may be added in either order, or they may be added after being mixed together.

このようにして得られたポリイミドは、ガラス板、金属
板等の基材の上に2反応後のポリイミドの有機溶媒溶液
を流延した後、加熱等の方法によシ有機溶媒、有機カル
ボン酸無水物および3級アミンを除去することによりフ
ィルム化することができる。また反応後のポリイミドの
有機溶媒溶液から、ポリイミドを回収した後、有機溶媒
に再溶解させ9次いで上記方法によりフィルム化するこ
ともできる。この再溶解に用いられる有機溶媒としては
、前記の極性溶媒のほか、ポリイミドを溶解する溶媒2
例えばフェノール、メタクレゾール。
The polyimide thus obtained is produced by casting an organic solvent solution of the polyimide after two reactions onto a base material such as a glass plate or a metal plate, and then applying the organic solvent and organic carboxylic acid by heating or other methods. Film formation can be achieved by removing the anhydride and tertiary amine. Furthermore, after the polyimide is recovered from the organic solvent solution of the polyimide after the reaction, it can be redissolved in the organic solvent and then formed into a film by the above method. In addition to the above-mentioned polar solvents, the organic solvent used for this redissolution includes the solvent 2 that dissolves polyimide.
For example, phenol, metacresol.

パラクレゾールまたはこれらを混合したフェノール系溶
媒等が挙げられる0 ポリアミック酸のイミド化方法としては、前記有機溶媒
溶液中で省なう方法以外に、ポリアミック酸溶液を基材
に塗布または含浸させ、溶媒を除去しながらまたは除去
した後、100〜500℃で加熱する方法を例示するこ
とができる。
Examples of imidization methods for polyamic acids include para-cresol and phenolic solvents that are a mixture of these. An example is a method of heating at 100 to 500° C. while or after removing.

本発明により得られるポリアミック酸には、酸化防止剤
等の安定剤を1例えばポリアミック酸100重量部に対
して0.O1〜5重量部程度力lえてもよく、マた充填
剤などの添加剤を1例えばポリアミック酸100重量部
に対して1〜100重量部程重量先程もよい。
In the polyamic acid obtained according to the present invention, a stabilizer such as an antioxidant is added to the polyamic acid, for example, 1.0. About 1 to 5 parts by weight of O may be added, and about 1 to 100 parts by weight of an additive such as a filler may be added, for example, to 100 parts by weight of polyamic acid.

本発明により得られるポリアミック酸を前駆物質とする
ポリイミドは、耐熱性9機械的特性、電気特性、耐薬品
特性等に優れた特性を示し、さらに吸水率が低いという
特徴を有し1例えば高温用フィルム、接着剤、塗料等に
有用であり、具体的にはプリント配線基板、フレキシブ
ル 半導体集積回路素子の表面保護膜または眉間絶縁膜,エ
ナメル電線用被覆材,各種積層板,ガスケット等に有用
である。
The polyimide using polyamic acid as a precursor obtained by the present invention exhibits excellent properties such as heat resistance, 9 mechanical properties, electrical properties, and chemical resistance, and furthermore has a low water absorption rate. It is useful for films, adhesives, paints, etc. Specifically, it is useful for printed wiring boards, surface protective films or glabellar insulating films for flexible semiconductor integrated circuit elements, coating materials for enameled electric wires, various laminates, gaskets, etc. .

以下,本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが
,本発明はこれらの実施例によって制限されるものでは
ない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

( CH2 )3 NH2 0. 4 7 gとジアミ
ノジフェニルエーテル4.11gを加え,N,N−ジメ
チルホルムアミド(DMF’)46.2gを加えて攪拌
し,次いでTCA−AH4.75gを粉末のまま加えて
室温で24時間反応させた。得られたポリアミック酸の
DMF中30℃のηInhは1. 8 7 dl/ g
であった。得られたポリアミック酸溶液にDMF51.
1gを加えて稀釈した後,攪拌しながら無水酢酸9、4
g,ピリジン10.2gを加えた後,120℃で2時間
反応させた。得られたポリイミドを大量のメタノールに
注いで凝固した。このポリイミドを回収後,80℃で1
2時間真空乾燥を行なった。
(CH2)3NH20. 47 g and 4.11 g of diaminodiphenyl ether were added, 46.2 g of N,N-dimethylformamide (DMF') was added and stirred, and then 4.75 g of TCA-AH was added as a powder and reacted at room temperature for 24 hours. . The obtained polyamic acid has a ηInh in DMF of 1. 8 7 dl/g
Met. DMF51.
After diluting by adding 1 g, add acetic anhydride 9, 4 while stirring.
After adding 10.2 g of pyridine, the mixture was reacted at 120° C. for 2 hours. The obtained polyimide was poured into a large amount of methanol and coagulated. After collecting this polyimide, it was heated to 80℃ for 1
Vacuum drying was performed for 2 hours.

このポリイミドのDMF中30℃のηinhは1。29
de/gであった。このポリイミドを再度DM Fに溶
解しガラス板上に流延した後,80℃で1時間乾燥し,
フィルムをはがし取って150℃で24時間真空乾燥し
た。この時の膜厚は約50μm1】であった。このフィ
ルムを一定の面積に切り取り23℃の蒸留水中に10時
間浸漬した後,フィルムを取り出した後,フィルムの両
面をふき取lす,室温で2時間放置後,このフィルムの
重量増加量を測定した。この結果吸水率は2.9%であ
った。このフィルムを100℃で1晩真空乾燥した後,
JISK6911により引張試験を行った結果。
The ηinh of this polyimide in DMF at 30°C is 1.29
It was de/g. This polyimide was dissolved again in DMF and cast onto a glass plate, and then dried at 80°C for 1 hour.
The film was peeled off and vacuum dried at 150°C for 24 hours. The film thickness at this time was about 50 μm. This film was cut into a certain area and immersed in distilled water at 23°C for 10 hours. After taking out the film, both sides of the film were wiped off. After being left at room temperature for 2 hours, the weight increase of this film was measured. did. As a result, the water absorption rate was 2.9%. After vacuum drying this film at 100°C overnight,
Results of tensile test according to JISK6911.

引張強度8. 5 Kg/crJ 、伸度25%であっ
た。
Tensile strength8. 5 Kg/crJ, and elongation was 25%.

実施例2 実施例1におけるジアミノシロキサンを0,97g,ジ
アミノジフェニルエーテルを3.99g使用した以外は
実施例1と同様にして,ηinhが1.48at / 
gのポリアミック酸を合成した後,実施例1と同様にイ
ミド化した。ポリイミドのηinhは1、04dl/g
であった。このポリイミドの吸水率は1.8係であった
Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that 0.97 g of diaminosiloxane and 3.99 g of diaminodiphenyl ether were used in Example 1, and ηinh was 1.48 at/
After synthesizing the polyamic acid (g), it was imidized in the same manner as in Example 1. ηinh of polyimide is 1.04 dl/g
Met. The water absorption rate of this polyimide was 1.8.

実施例3 実施例1におけるジアミノシロキサンを2.11g、ジ
アミノジフェニルエーテルを3.72g使用した以外は
実施例1と同様にしてηinhが0.95dl/gのポ
リアミック酸を合成した後、実施例1と同様にイミド化
した。ポリイミドのηinhは0.68dl/gであっ
た。このポリイミドの吸水率は1.1%であった。
Example 3 A polyamic acid with an ηinh of 0.95 dl/g was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 2.11 g of diaminosiloxane and 3.72 g of diaminodiphenyl ether were used in Example 1, and then the same as in Example 1 was used. It was imidized in the same way. The ηinh of the polyimide was 0.68 dl/g. The water absorption rate of this polyimide was 1.1%.

比較例1 実施例1のジアミン混合物の代りにジアミノジフェニル
エーテル4.23 gを使用した以外は実施例1と同様
にしてηinhが2.34 dl/ gのポリアミック
酸を合成した後、実施例1と同様にイミド化した。ポリ
イミドのηinhは1.26dl/gであった。このポ
リイミドの吸水率は4.2係であった。
Comparative Example 1 Polyamic acid with ηinh of 2.34 dl/g was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 4.23 g of diaminodiphenyl ether was used instead of the diamine mixture of Example 1, and then It was imidized in the same way. The ηinh of the polyimide was 1.26 dl/g. The water absorption rate of this polyimide was 4.2.

特許出願・人 日本合成ゴム株式会社Patent application/person Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 下記一般式で示されるジアミノシロキサン1〜40重量
%と該ジアミノシロキサン以外のジアミン99〜60重
量%とからなるジアミン混合物と2.35− )リカル
ボキシシクロペンチル酢酸またはその無水物とを有機溶
媒中で反応させることを特徴とするシロキサン変性ポリ
アミック酸の製造方法 R2R。 1 R,2R2 (R1は2価の炭化水素基、几2は1価の炭化水素基で
あシ、nは0〜100の整数を示す)
[Scope of Claims] A diamine mixture consisting of 1 to 40% by weight of a diaminosiloxane represented by the following general formula and 99 to 60% by weight of a diamine other than the diaminosiloxane, and 2.35-)licarboxycyclopentyl acetic acid or its anhydride. A method for producing a siloxane-modified polyamic acid R2R, which comprises reacting the above in an organic solvent. 1 R, 2R2 (R1 is a divalent hydrocarbon group, 几2 is a monovalent hydrocarbon group, n is an integer from 0 to 100)
JP11065683A 1983-06-20 1983-06-20 Production of siloxane-modified polyamic acid Granted JPS601227A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11065683A JPS601227A (en) 1983-06-20 1983-06-20 Production of siloxane-modified polyamic acid

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11065683A JPS601227A (en) 1983-06-20 1983-06-20 Production of siloxane-modified polyamic acid

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS601227A true JPS601227A (en) 1985-01-07
JPH0315661B2 JPH0315661B2 (en) 1991-03-01

Family

ID=14541175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11065683A Granted JPS601227A (en) 1983-06-20 1983-06-20 Production of siloxane-modified polyamic acid

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS601227A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005330479A (en) * 2004-04-22 2005-12-02 Shin Etsu Chem Co Ltd Polyimide silicone-based resin composition of non-solvent type and resin film given by using the same
JP2010254947A (en) * 2009-03-31 2010-11-11 Jsr Corp Polyimide-based material, film and composition, and method of producing the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005330479A (en) * 2004-04-22 2005-12-02 Shin Etsu Chem Co Ltd Polyimide silicone-based resin composition of non-solvent type and resin film given by using the same
JP4602151B2 (en) * 2004-04-22 2010-12-22 信越化学工業株式会社 Solvent-free polyimide silicone resin composition and resin film using the same
JP2010254947A (en) * 2009-03-31 2010-11-11 Jsr Corp Polyimide-based material, film and composition, and method of producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0315661B2 (en) 1991-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3968835B2 (en) Heat resistant adhesive containing siloxane polyimide
EP0879839A1 (en) Polyimide copolymer, polyimide copolymer resin molded products and their preparation
JP5027416B2 (en) Aromatic polyamic acid and polyimide
JP5985977B2 (en) Polyimide resin solution
JPH025774B2 (en)
JPH1036506A (en) New polyimide composition and polyimide film
JPH01121A (en) Polyimide resin composition and its manufacturing method
JP3687044B2 (en) Copolymerized polyimide film and method for producing the same
JPS614730A (en) Production of organic solvent-soluble polyimide compound
JP3079867B2 (en) Polyimide copolymer, method for producing the same, and polyimide film
JP4225325B2 (en) Siloxane polyimide and heat-resistant adhesive containing the same
JPS601227A (en) Production of siloxane-modified polyamic acid
JPH08217877A (en) Polyimide resin and polyimide film
JPH0315660B2 (en)
JP2910796B2 (en) Polyamic acid copolymer, polyimide film comprising the same, and methods for producing them
JP2666457B2 (en) Alicyclic tetracarboxylic acids and derivatives thereof
JPH0562893B2 (en)
JP2831867B2 (en) Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer comprising the same, polyimide film, and methods for producing them
JP3676073B2 (en) Polyimide film and manufacturing method thereof
JP3456256B2 (en) Polyimide copolymer and method for producing the same
JP2724424B2 (en) New polyimide polymer film
JP4017034B2 (en) New polyimide film
JP3299777B2 (en) Polyimide film and method for producing the same
JP3375346B2 (en) Polyamic acid and polyimide film and their production method
JPS5952898B2 (en) Method for producing polyimide precursor