JPS60120342A - 投影光学装置 - Google Patents
投影光学装置Info
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- JPS60120342A JPS60120342A JP58228225A JP22822583A JPS60120342A JP S60120342 A JPS60120342 A JP S60120342A JP 58228225 A JP58228225 A JP 58228225A JP 22822583 A JP22822583 A JP 22822583A JP S60120342 A JPS60120342 A JP S60120342A
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- Japan
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- lens
- projection
- objective lens
- magnification
- wafer
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/24—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/02—Objectives
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/021—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses for more than one lens
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は投影光学系の倍率精度を簡便に補正し得る投影
光学装置に関する。
光学装置に関する。
（発明の背景）
縮小投影型露光装置（以下ステッパと呼ぶ）は近年超Ｌ
ＳＩの生産現場に多く導入され、大きな成果をもたらし
ているが、その重要な性能の一つに重ね合せマツチング
精度があげられる。このマツチング精度に影響を与える
要素の中で重要なものに投影光学系の倍率誤差がある。
ＳＩの生産現場に多く導入され、大きな成果をもたらし
ているが、その重要な性能の一つに重ね合せマツチング
精度があげられる。このマツチング精度に影響を与える
要素の中で重要なものに投影光学系の倍率誤差がある。
超ＬＳＩに用いられるパターンの大きさは年々微細化の
傾向を強め、それに伴ってマツチング精度の向上に対す
るニーズも強くなってきている。従って投影倍率を所定
の直に保つ必要性はきわめて高くなってきている。現在
投影光学系の倍率は装置の設置時に調整することによυ
倍率誤差が一応無視できる程度になっている。しかしな
がら、超ＬＳＩの高密度化に十分対応するためには、装
置の稼動時におけるクリーンルーム内の僅かな気圧変動
等、環境条件が変化した時の倍率誤差をも補正する必要
がある。
傾向を強め、それに伴ってマツチング精度の向上に対す
るニーズも強くなってきている。従って投影倍率を所定
の直に保つ必要性はきわめて高くなってきている。現在
投影光学系の倍率は装置の設置時に調整することによυ
倍率誤差が一応無視できる程度になっている。しかしな
がら、超ＬＳＩの高密度化に十分対応するためには、装
置の稼動時におけるクリーンルーム内の僅かな気圧変動
等、環境条件が変化した時の倍率誤差をも補正する必要
がある。
従来ステッパ以外の投影光学系では投影倍率を補正する
ために物体（レチクル）と投影レンズの間隔を機械的に
変化させたり、投影レンズ中のレンズエレメントを光軸
方向に動かしたシする方法がとられていた。しかしステ
ッパのように極めて高精度々倍率設定が必要な装置に上
記のように光学部材を光軸方向に変化させるという方法
を採用すると機械的な可動部の偏心（シフト、ティルト
）のため光軸を正しく保ったまま変位を与えることが難
しい。そのため物体を含めた光学系が共軸でなくなって
しまい、光軸に対して非対称な倍率分布が像面上に生じ
てしまう欠点が生ずる。又ウェハ上で０．０５μｍ以下
の誤差しか発生しない様に精度良く倍率設定するために
は光学部材の変化量を偏心（シフト、ティルト）を含め
て数μｍないし１μｍ以下に制御する必要がありこれら
の実現には多大の困難がともなう。
ために物体（レチクル）と投影レンズの間隔を機械的に
変化させたり、投影レンズ中のレンズエレメントを光軸
方向に動かしたシする方法がとられていた。しかしステ
ッパのように極めて高精度々倍率設定が必要な装置に上
記のように光学部材を光軸方向に変化させるという方法
を採用すると機械的な可動部の偏心（シフト、ティルト
）のため光軸を正しく保ったまま変位を与えることが難
しい。そのため物体を含めた光学系が共軸でなくなって
しまい、光軸に対して非対称な倍率分布が像面上に生じ
てしまう欠点が生ずる。又ウェハ上で０．０５μｍ以下
の誤差しか発生しない様に精度良く倍率設定するために
は光学部材の変化量を偏心（シフト、ティルト）を含め
て数μｍないし１μｍ以下に制御する必要がありこれら
の実現には多大の困難がともなう。
（発明の目的）
本発明は、これらの欠点を除き、非対称な倍率分布を発
生することなく簡便に倍率を補正し得る投影光学装置を
提供することを目的とする。
生することなく簡便に倍率を補正し得る投影光学装置を
提供することを目的とする。
（発明の概要）
本発明にあたって投影対物レンズの投影倍率の変動要因
の一つが大気圧変動にあることを見い出し、鋭意検討し
た結果圧力変動のみによって投影倍率が無視し得ない程
度に変化する場合があることが判明した。そとで、本発
明は、投影対物レンズ内の各空気間隔及び投影対物レン
ズと投影原板（レチクル）との間の空間並びに投影対物
レンズと感光物体（ウェハ）との間の空間のうち、投影
対物レンズ内のレンズ面間に形成される空気室を全て外
気から遮断し、一体重に所定の圧力にて密封することに
よってレンズ内部での圧力変動を除き実用上十分な倍率
精度の維持を可能としたものである。
の一つが大気圧変動にあることを見い出し、鋭意検討し
た結果圧力変動のみによって投影倍率が無視し得ない程
度に変化する場合があることが判明した。そとで、本発
明は、投影対物レンズ内の各空気間隔及び投影対物レン
ズと投影原板（レチクル）との間の空間並びに投影対物
レンズと感光物体（ウェハ）との間の空間のうち、投影
対物レンズ内のレンズ面間に形成される空気室を全て外
気から遮断し、一体重に所定の圧力にて密封することに
よってレンズ内部での圧力変動を除き実用上十分な倍率
精度の維持を可能としたものである。
このような本発明によれば、露光装置において交換可能
に取付けられる投影原板（レチクル）や、露光及びアラ
イメントごとに頻繁に移動する感光物体（ウェハ）につ
いては何ら関与することなく投影対物レンズにおいての
み倍率補正がなされるため極めて簡単な構成である。ま
た補正のために何ら機械的な動きを必要とせず、いわば
静的補正であるため、＠心を生ずる恐れが無く結像性能
を非対称に劣化させることもない。
に取付けられる投影原板（レチクル）や、露光及びアラ
イメントごとに頻繁に移動する感光物体（ウェハ）につ
いては何ら関与することなく投影対物レンズにおいての
み倍率補正がなされるため極めて簡単な構成である。ま
た補正のために何ら機械的な動きを必要とせず、いわば
静的補正であるため、＠心を生ずる恐れが無く結像性能
を非対称に劣化させることもない。
また、本発明では、投影対物レンズ鏡筒の内部を密閉す
るに際して所定の圧力に設定しておくことが望ましい。
るに際して所定の圧力に設定しておくことが望ましい。
すなわち、一般には投影対物レンズの製造場所とこれを
組込んだ投影露光装置の使用場所とは異なるため、標高
差等によシ基本的に大気圧に差があシ、対物レンズ内部
の圧力を使用場所の環境に応じて最適とする必要がある
。
組込んだ投影露光装置の使用場所とは異なるため、標高
差等によシ基本的に大気圧に差があシ、対物レンズ内部
の圧力を使用場所の環境に応じて最適とする必要がある
。
このような投影対物レンズ内部の圧力を使用場所の環境
に応じて変えるためには、対物レンズ鏡筒の密閉空間に
栓を設け、必要に応じて栓を開放し又は積極的に加圧、
又は減圧した上で再び密閉しておくように構成すること
が望ましい。特に。
に応じて変えるためには、対物レンズ鏡筒の密閉空間に
栓を設け、必要に応じて栓を開放し又は積極的に加圧、
又は減圧した上で再び密閉しておくように構成すること
が望ましい。特に。
内部の圧力を使用場所の環境に順応するよう一体的に最
適圧力に保つことは、投影対物レンズの内部と外部との
圧力差を小さくできるため以下の点で優れている。（１
）投影対物レンズを構成するレンズ要素のうち最も外側
のレンズ表面が大気圧とレンズ内部の圧力との圧力差に
よって変形したシ変位を生ずる恐れが少なく、（２）ま
た長時間においても空気のリークが少なく投影対物レン
ズ内部の圧力が変化しにくいため倍率等の光学性能に変
動を生ずることが沙ない。
適圧力に保つことは、投影対物レンズの内部と外部との
圧力差を小さくできるため以下の点で優れている。（１
）投影対物レンズを構成するレンズ要素のうち最も外側
のレンズ表面が大気圧とレンズ内部の圧力との圧力差に
よって変形したシ変位を生ずる恐れが少なく、（２）ま
た長時間においても空気のリークが少なく投影対物レン
ズ内部の圧力が変化しにくいため倍率等の光学性能に変
動を生ずることが沙ない。
（実施例）
以下、本発明の実施例に基づいて本発明を説明する。第
１図はステッパーに用いられる投影対物レンズの一例を
示すレンズ配置図であシ、この対物レンズによシレチク
ル（６）上の所定のパターンがウェハ■上に縮小投影さ
れる。図中にはウェハとレチクルとの軸上物点の共役関
係を表わす光線を示した。この対物レンズはレチクル（
２）側から順にり１． Ｌ、 、・・・Ｌ１４の合計１
４個のレンズからなり、各レンズの間隔及びレチクル（
２）、ウェハＷとの間に、レチクル側から順にａ、ｂ、
ｃ、・・・・・・、０の合計１５個の空気間隔が形成さ
れている。この対物レンズの諸元を表１に示す。但し、
ｒは各レンズ面の曲率半径、Ｄは各レンズの中心厚及び
空気間隔、Ｎは各レンズのｉ線（λ＝３６５．０ｎｍ）
に対する屈折率を表わし１表中左端の数字はレチクル側
から順序を表わすものとする。また、Ｄｏはレチクル■
と最前レンズ面との間隔、Ｄ３．は最終レンズ面とウェ
ハ■との間隔を表わす。
１図はステッパーに用いられる投影対物レンズの一例を
示すレンズ配置図であシ、この対物レンズによシレチク
ル（６）上の所定のパターンがウェハ■上に縮小投影さ
れる。図中にはウェハとレチクルとの軸上物点の共役関
係を表わす光線を示した。この対物レンズはレチクル（
２）側から順にり１． Ｌ、 、・・・Ｌ１４の合計１
４個のレンズからなり、各レンズの間隔及びレチクル（
２）、ウェハＷとの間に、レチクル側から順にａ、ｂ、
ｃ、・・・・・・、０の合計１５個の空気間隔が形成さ
れている。この対物レンズの諸元を表１に示す。但し、
ｒは各レンズ面の曲率半径、Ｄは各レンズの中心厚及び
空気間隔、Ｎは各レンズのｉ線（λ＝３６５．０ｎｍ）
に対する屈折率を表わし１表中左端の数字はレチクル側
から順序を表わすものとする。また、Ｄｏはレチクル■
と最前レンズ面との間隔、Ｄ３．は最終レンズ面とウェ
ハ■との間隔を表わす。
いま、この対物レンズにおいて、空気間隔ａ。
ｂ、・・・０の気圧をそれぞれ＋１３７．５ｍｒｎＨｇ
だけ変化させたとすると、各空気間隔の相対屈折率は１
．００００５に変化し、この時の倍率変化、及び結像面
すなわちレチクル（２）との共役面の変化は表２に示す
ようになる。但し１倍率変化ΔＸは、結像面上において
気圧変動がない時に光軸より５．６６玉離れた位置に結
像する像点が、各空気間隔の気圧変化後の移動量をμｍ
単位で表わし、気圧変、動が無い場合の結像面すなわち
所定のウェハ面上により大きく投影される場合（拡大）
を正符号として示した。また、結像面の変化Δ２は軸上
の結像点の変化として示し、対物レンズから遠ざかる場
合を正符号として示した。両者の直は共にμｍ単位であ
る。
だけ変化させたとすると、各空気間隔の相対屈折率は１
．００００５に変化し、この時の倍率変化、及び結像面
すなわちレチクル（２）との共役面の変化は表２に示す
ようになる。但し１倍率変化ΔＸは、結像面上において
気圧変動がない時に光軸より５．６６玉離れた位置に結
像する像点が、各空気間隔の気圧変化後の移動量をμｍ
単位で表わし、気圧変、動が無い場合の結像面すなわち
所定のウェハ面上により大きく投影される場合（拡大）
を正符号として示した。また、結像面の変化Δ２は軸上
の結像点の変化として示し、対物レンズから遠ざかる場
合を正符号として示した。両者の直は共にμｍ単位であ
る。
表２
上記の表２よシ第１空間ａ即ち、レチクルと投影対物レ
ンズとの空間、及び第１５空間Ｏ・即ちウェハと投影対
物レンズとの空間における倍率変動は共に正の瞳であシ
、その合計は０．０４３である。
ンズとの空間、及び第１５空間Ｏ・即ちウェハと投影対
物レンズとの空間における倍率変動は共に正の瞳であシ
、その合計は０．０４３である。
従って、投影対物レンズ内に形成される全ての空間、即
ち第２空間ｂ〜第１４空間ｎを大気圧から遮断し、一体
重に密閉することによって、これら投影対物レンズ内の
空間に帰因する倍率変化は発生せず、第１空間ａと第１
５空間０とによる倍率変動のみとなシ、全系によって生
じ得る倍率変動の約４％に抑える仁とが可能となる。
ち第２空間ｂ〜第１４空間ｎを大気圧から遮断し、一体
重に密閉することによって、これら投影対物レンズ内の
空間に帰因する倍率変化は発生せず、第１空間ａと第１
５空間０とによる倍率変動のみとなシ、全系によって生
じ得る倍率変動の約４％に抑える仁とが可能となる。
又、投影対物レンズ内に形成される全ての空間を大気圧
から遮断することによって、結像面の変化も１．０２μ
ｍになシ全系によって生じ得る変化の約７優に抑えられ
る。
から遮断することによって、結像面の変化も１．０２μ
ｍになシ全系によって生じ得る変化の約７優に抑えられ
る。
第２図は表１に示した投影対物レンズの鏡筒構造の概要
を示す断面図である。対物レンズを構成する１４個のレ
ンズＬ１． Ｌ２ 、・・・・・・、Ｌ、４はそれぞれ
第１支持鏡筒（１）、第２支持鏡筒（２）。
を示す断面図である。対物レンズを構成する１４個のレ
ンズＬ１． Ｌ２ 、・・・・・・、Ｌ、４はそれぞれ
第１支持鏡筒（１）、第２支持鏡筒（２）。
・・・・・・、第１４支持鐘筒（１４）によって支持さ
れている。これら１４個の支持鏡筒が積み重ねられるこ
とによって実質的に内部鏡筒が形成され、これらは外部
鏡筒（２０）によって一体重に収納支持され、押え３Ｊ
（２１）によって固定されている。
れている。これら１４個の支持鏡筒が積み重ねられるこ
とによって実質的に内部鏡筒が形成され、これらは外部
鏡筒（２０）によって一体重に収納支持され、押え３Ｊ
（２１）によって固定されている。
第ルンズＬ、から第１４レンズＬ、４ をそれぞれ支持
する第１支持鏡筒（１）〜第１４支持鏡筒（１４）によ
って鏡筒内に１３個の空気室Ｂ−Ｎが形成されておシ、
これらの空気室Ｂ −Ｎはそれぞれ第１図に示した空気
間隔ｂ −ｎに対応している。ここで第２レンズＬ、を
支持する第２鏡筒支持（２）から第１３レンズを支持す
る第１３支持鏡筒（１３）までにはそれぞれ隣接する空
気室を連通ずるための貫通孔（＋２ ａ ）〜（１３ａ
）が形成されている。また、対物レンズの先端に位置す
る第１４レンズＬ１４を支持する第１４支持鏡筒（１４
）は、第１４レンズＬ＋４を介して外気と接する第１３
空気室Ｎを外気から遮断するように第１４レンズＬ、４
を密封支持し、また外部鏡筒（２０）によって密封支持
されている。そして、第ルンズＬ、を支持する第１支持
鏡筒は第ルンズＬ、を密封支持すると共に、外気と第１
空気室Ｂとを遮断し得る栓（２２）を有し、外部鏡筒（
２０）に密封支持されている。栓（２２）は、第３図の
部分拡大断面図に示すごとく、第１支持鏡筒（１）に形
成された貫通孔（１ａ）にオーリング（２３）を介して
螺合しておシ、オーリング（２３）によってレンズの内
部圧力と外気とは完全に遮断される。従って、栓（２２
）を閉じることによって。
する第１支持鏡筒（１）〜第１４支持鏡筒（１４）によ
って鏡筒内に１３個の空気室Ｂ−Ｎが形成されておシ、
これらの空気室Ｂ −Ｎはそれぞれ第１図に示した空気
間隔ｂ −ｎに対応している。ここで第２レンズＬ、を
支持する第２鏡筒支持（２）から第１３レンズを支持す
る第１３支持鏡筒（１３）までにはそれぞれ隣接する空
気室を連通ずるための貫通孔（＋２ ａ ）〜（１３ａ
）が形成されている。また、対物レンズの先端に位置す
る第１４レンズＬ１４を支持する第１４支持鏡筒（１４
）は、第１４レンズＬ＋４を介して外気と接する第１３
空気室Ｎを外気から遮断するように第１４レンズＬ、４
を密封支持し、また外部鏡筒（２０）によって密封支持
されている。そして、第ルンズＬ、を支持する第１支持
鏡筒は第ルンズＬ、を密封支持すると共に、外気と第１
空気室Ｂとを遮断し得る栓（２２）を有し、外部鏡筒（
２０）に密封支持されている。栓（２２）は、第３図の
部分拡大断面図に示すごとく、第１支持鏡筒（１）に形
成された貫通孔（１ａ）にオーリング（２３）を介して
螺合しておシ、オーリング（２３）によってレンズの内
部圧力と外気とは完全に遮断される。従って、栓（２２
）を閉じることによって。
対物レンズ内に形成された１３個の空気室Ｂ −Ｎは一
様の圧力で一体的に外気から遮断されて密封される。
様の圧力で一体的に外気から遮断されて密封される。
このような投影対物レンズの構成によって、これを組込
んだステッパーを使用する場所の環境に最も適した内部
圧力を維持することができ、大気圧の変動によっても倍
率変動がルなく結像面の変動も少ない状態で投影露光を
行なうことが可能となる。尚、投影対物レンズ内の空気
室には窒素ガスや炭酸ガス等の特定の気体を一定圧力に
て封入することによって同様に倍率変動を補正し得るこ
とはいうまでもない。
んだステッパーを使用する場所の環境に最も適した内部
圧力を維持することができ、大気圧の変動によっても倍
率変動がルなく結像面の変動も少ない状態で投影露光を
行なうことが可能となる。尚、投影対物レンズ内の空気
室には窒素ガスや炭酸ガス等の特定の気体を一定圧力に
て封入することによって同様に倍率変動を補正し得るこ
とはいうまでもない。
（発明の効果）
以上のごとく１本発明によれば何ら機械的な動作を必要
とすることなく静的に倍率変動の補正が可能であシ、光
学性能を非対称に劣化させることもなく常に安定した高
精度の重ね合せマ・ンチングがなされ、超ＬＳＩ等の高
密度半導体素子の製造に大きく寄与するものである。
とすることなく静的に倍率変動の補正が可能であシ、光
学性能を非対称に劣化させることもなく常に安定した高
精度の重ね合せマ・ンチングがなされ、超ＬＳＩ等の高
密度半導体素子の製造に大きく寄与するものである。
第１図は本発明による一実施例の投影対物レンズのレン
ズ構成図、第２図は本実施例における投影対物レンズ鏡
筒の構造を示す概略断面図、第３図は鏡筒の端部に設け
られた栓の拡大断面図である。 （主要部分の符号の説明） Ｒ・・・・・・投影原板（レチクル） Ｗ・・・・・・感光物体（ウエノ・） Ｌ、、Ｌ２〜Ｌ 、ａ・・・・・・レンズａ、ｂ 〜
０・・・・・・空気間隔 Ｂ、Ｃ−Ｎ・・・・・・空気室 矛２図 、ｆ−５図
ズ構成図、第２図は本実施例における投影対物レンズ鏡
筒の構造を示す概略断面図、第３図は鏡筒の端部に設け
られた栓の拡大断面図である。 （主要部分の符号の説明） Ｒ・・・・・・投影原板（レチクル） Ｗ・・・・・・感光物体（ウエノ・） Ｌ、、Ｌ２〜Ｌ 、ａ・・・・・・レンズａ、ｂ 〜
０・・・・・・空気間隔 Ｂ、Ｃ−Ｎ・・・・・・空気室 矛２図 、ｆ−５図
Claims (1)
- 投影原板上のパターンを感光物体面上に投影露光するた
めの対物レンズを有する投影光学装置において、該投影
対物レンズ内の各レンズ面の間に形成される全ての空気
間隔を外気から遮断し所定の圧力にて一体的に密封可能
に構成したことを特徴とする投影光学装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58228225A JPS60120342A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 投影光学装置 |
| DE19843443856 DE3443856A1 (de) | 1983-12-02 | 1984-11-30 | Optisches projektionsgeraet |
| US07/291,324 US4883345A (en) | 1983-12-02 | 1988-12-28 | Projection optical apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58228225A JPS60120342A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 投影光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60120342A true JPS60120342A (ja) | 1985-06-27 |
Family
ID=16873130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58228225A Pending JPS60120342A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 投影光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60120342A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6187124A (ja) * | 1984-07-19 | 1986-05-02 | ジ−・シ−・エ−・コ−ポレ−シヨン | マイクロリソグラフイ装置 |
| JPS62296135A (ja) * | 1986-06-17 | 1987-12-23 | Nec Kyushu Ltd | 縮小投影型露光装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56130710A (en) * | 1980-02-25 | 1981-10-13 | Xerox Corp | Gas lens unit |
-
1983
- 1983-12-02 JP JP58228225A patent/JPS60120342A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56130710A (en) * | 1980-02-25 | 1981-10-13 | Xerox Corp | Gas lens unit |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6187124A (ja) * | 1984-07-19 | 1986-05-02 | ジ−・シ−・エ−・コ−ポレ−シヨン | マイクロリソグラフイ装置 |
| JPS62296135A (ja) * | 1986-06-17 | 1987-12-23 | Nec Kyushu Ltd | 縮小投影型露光装置 |
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