JPS60115831A - ２次元電気泳動ゲル用像計測装置 - Google Patents
２次元電気泳動ゲル用像計測装置Info
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- JPS60115831A JPS60115831A JP58226489A JP22648983A JPS60115831A JP S60115831 A JPS60115831 A JP S60115831A JP 58226489 A JP58226489 A JP 58226489A JP 22648983 A JP22648983 A JP 22648983A JP S60115831 A JPS60115831 A JP S60115831A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
- G01N21/5907—Densitometers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
げ）産業上の利用分野
この発明は２次元ｍ気泳動ゲル用像計測装置に関し、詳
しくはデンシトメータを備えた２次元電気泳動スキャナ
における２次元電気泳動ゲルの測定構造の改良に関する
ものである。
しくはデンシトメータを備えた２次元電気泳動スキャナ
における２次元電気泳動ゲルの測定構造の改良に関する
ものである。
（ロ）従来技術
一般に２次元電気泳動のゲルに現われた泳動パターンに
対してデンシトメトリーを行なう場合、従来の２次元電
気泳動ゲル用像計測装置は、第１図に示すように、透光
薄層板（薄層プレー−））（１）上の電気泳動ゲル（２
）に、照射光（３）を当て、ＯｉＩ記薄層板（１）に平
行な１次元イメージセンサ（４）の受光面に、電気泳動
ゲル（以下ゲルと称す）（２）の一部分の像を結像させ
て観測していた。
対してデンシトメトリーを行なう場合、従来の２次元電
気泳動ゲル用像計測装置は、第１図に示すように、透光
薄層板（薄層プレー−））（１）上の電気泳動ゲル（２
）に、照射光（３）を当て、ＯｉＩ記薄層板（１）に平
行な１次元イメージセンサ（４）の受光面に、電気泳動
ゲル（以下ゲルと称す）（２）の一部分の像を結像させ
て観測していた。
しかし、この方法では、照射光かゲル（２）面に対して
完全に垂直な平行光線でない場合には、ゲル（２）が所
定の厚さを有しているために、ゲル（２）の前記センサ
（４）側の測定対象スポット（５）とこのスポット下方
の透光＃層板（１）に垂直なゲル（２）断面上のスポッ
ト（６）に光が回り込み１次元イメージセンサ（４）上
に結像されるため、これらのスポット（５）（６）があ
たかもゲル（２）の同一水平面上に並んでいるかのよう
に誤って読み取られ、誤った測定が行なわれる可能性が
あった。
完全に垂直な平行光線でない場合には、ゲル（２）が所
定の厚さを有しているために、ゲル（２）の前記センサ
（４）側の測定対象スポット（５）とこのスポット下方
の透光＃層板（１）に垂直なゲル（２）断面上のスポッ
ト（６）に光が回り込み１次元イメージセンサ（４）上
に結像されるため、これらのスポット（５）（６）があ
たかもゲル（２）の同一水平面上に並んでいるかのよう
に誤って読み取られ、誤った測定が行なわれる可能性が
あった。
例えば、米国アルゴンヌ国立研究所のフラットベッド形
スキャナは、透光薄層板上の試料ゲルを結像レンズを介
して１次元イメージセンサの受光面に結像させる方式で
あるが、光源として通常の単純な螢光灯を用いているた
め、明らかに前記ゲルに前記のごとく光の回り込みが発
生すると共に、結像レンズに螢光灯からの照射光が平行
光線として入射することなく、約１０傾斜して入射して
いると言われている。すなわち、結像レンズの光軸と、
結像レンズ及びゲル上のスポット間とを結ぶ線との成す
結像角度が約ＩＯをなしている。そのため、前記ゲルの
厚さと結像角との相互作用によって、前記のごとく読み
取り誤差が生じることがあり、従ってゲルそのものを高
速のスキャンを行なわせて測定することが難しかった。
スキャナは、透光薄層板上の試料ゲルを結像レンズを介
して１次元イメージセンサの受光面に結像させる方式で
あるが、光源として通常の単純な螢光灯を用いているた
め、明らかに前記ゲルに前記のごとく光の回り込みが発
生すると共に、結像レンズに螢光灯からの照射光が平行
光線として入射することなく、約１０傾斜して入射して
いると言われている。すなわち、結像レンズの光軸と、
結像レンズ及びゲル上のスポット間とを結ぶ線との成す
結像角度が約ＩＯをなしている。そのため、前記ゲルの
厚さと結像角との相互作用によって、前記のごとく読み
取り誤差が生じることがあり、従ってゲルそのものを高
速のスキャンを行なわせて測定することが難しかった。
そのため、以上の問題を避けるために、照射光を透光薄
板に対して垂直な垂直光のみに絞り、透光薄層板を機械
的手段を用いて水平方向に移動させてゲル面を測定して
いたが、ゲル面の一部分ずつを順次測定していくため、
測定所要時間が長くなる欠点があった。
板に対して垂直な垂直光のみに絞り、透光薄層板を機械
的手段を用いて水平方向に移動させてゲル面を測定して
いたが、ゲル面の一部分ずつを順次測定していくため、
測定所要時間が長くなる欠点があった。
（ハ） 目 的
この発明は以上の事情に鑑みなされたもので、ゲル面の
全面をゲル面に対して垂直な平行光線で照射して光の回
り込みを防ぐことによって、ゲル上のスポットの読取り
誤差を無くすと共に、測定所要時間を大幅に短縮しよう
とするものである。
全面をゲル面に対して垂直な平行光線で照射して光の回
り込みを防ぐことによって、ゲル上のスポットの読取り
誤差を無くすと共に、測定所要時間を大幅に短縮しよう
とするものである。
に）構成
この発明の構成は、光源からの照射光によって、フィル
ム状の２次元電気泳動ゲルの全面を結像させる、このゲ
ルと平行な２次元イメージセンザ板と、前記ゲルの入射
側近傍に取り替え可能に設置され、入射光を平行光線束
として出射させて、前記ゲル全面に垂直に照射光を入射
させる、少なくとも前記ゲルと同面積以上の平面積を有
するコリメーターレンズとを備えてなる２次元電気泳動
ゲル用像計測装置である。
ム状の２次元電気泳動ゲルの全面を結像させる、このゲ
ルと平行な２次元イメージセンザ板と、前記ゲルの入射
側近傍に取り替え可能に設置され、入射光を平行光線束
として出射させて、前記ゲル全面に垂直に照射光を入射
させる、少なくとも前記ゲルと同面積以上の平面積を有
するコリメーターレンズとを備えてなる２次元電気泳動
ゲル用像計測装置である。
（ホ）実施例
以下図に示す実施例に基づいてこの発明を詳述する。な
お、これによってこの発明は限定されるものではない。
お、これによってこの発明は限定されるものではない。
第２図は２次元電気泳動ゲル用像計測装置（７）の全体
構成を示す図である。
構成を示す図である。
（８）は光源ランプであり、このランプから発光する１
つの照射光の光路上に、光源ランプ（８）側から順に、
集光レンズａ（９）、ピンホールを有するスリットａＱ
Ｏ，コリメーターレンズ０］）、差し替え可能な狭帯域
型干渉フィルター（２）、集光レンズｂ０３、俵用角型
レンズ０７）、最終結像用レンズ（ト）及び２次元イメ
ージセンサＯＩを備えている。
つの照射光の光路上に、光源ランプ（８）側から順に、
集光レンズａ（９）、ピンホールを有するスリットａＱ
Ｏ，コリメーターレンズ０］）、差し替え可能な狭帯域
型干渉フィルター（２）、集光レンズｂ０３、俵用角型
レンズ０７）、最終結像用レンズ（ト）及び２次元イメ
ージセンサＯＩを備えている。
前記スリットｂα勾は、第８図に示すように正方形板か
らなり、その中央に集光レンズｂａ３の円形の焦点像に
内接する正方形の小孔（ホ）が穿設されている。干渉フ
ィルター〇旧よ、結像用角型レンズ０η以降の光学系を
簡素化するために、予め照射光を単色化するもので、照
射光の波長の切換はこのフィルター０２を差し替えて行
う。また前記イメージセンサα旧ヨ、テレビカメラなど
に用いる固体の半導体素子であり、この素子の規模は、
例えば、測定すべきゲルの１辺が１００ｍｇならば１０
０ＯＸｉｏｏｏ画素程度は必要である。
らなり、その中央に集光レンズｂａ３の円形の焦点像に
内接する正方形の小孔（ホ）が穿設されている。干渉フ
ィルター〇旧よ、結像用角型レンズ０η以降の光学系を
簡素化するために、予め照射光を単色化するもので、照
射光の波長の切換はこのフィルター０２を差し替えて行
う。また前記イメージセンサα旧ヨ、テレビカメラなど
に用いる固体の半導体素子であり、この素子の規模は、
例えば、測定すべきゲルの１辺が１００ｍｇならば１０
０ＯＸｉｏｏｏ画素程度は必要である。
前記角型コリメーターレンズＯＱは、フィルム状の２次
電気泳動ゲルＣ２］）（以下ゲルと称す）と同寸法で、
縦及び横の長さがそれぞれ８０αの正方形の取り替え又
は差し替え可能な凸レンズからなり、入射光を平行光線
束として出射させるように入射側が平面で、出射側が凸
面に構成されている。また結像用角型レンズαηもゲル
シυと同寸法の正方形の断面が８日月型の差し替え可能
なレンズからなる。
電気泳動ゲルＣ２］）（以下ゲルと称す）と同寸法で、
縦及び横の長さがそれぞれ８０αの正方形の取り替え又
は差し替え可能な凸レンズからなり、入射光を平行光線
束として出射させるように入射側が平面で、出射側が凸
面に構成されている。また結像用角型レンズαηもゲル
シυと同寸法の正方形の断面が８日月型の差し替え可能
なレンズからなる。
以上の構成からなる２次元電気泳動ゲル用像計測装［（
７）を用いて厚さ１．０〜１．５關、縦・横３０１の正
方形のゲルｅυを測定する方法を説明する。
７）を用いて厚さ１．０〜１．５關、縦・横３０１の正
方形のゲルｅυを測定する方法を説明する。
まず光源ランプ（８）から発光する照射光に）を集光レ
ンズａ（９）でその焦点位置にあるスリットａαＱのピ
ンホールに一旦果光させる。そしてこの照射光（支）を
コリメーターレンズＱυから干渉フィルター（２）を透
過させて単色化して、集光レンズｂ（至）でその焦点位
置にあるスリン）ｂＱＪの小孔（ホ）に再び集光さぜる
。次いで小孔（ホ）によって絞られた照射光に）を角型
コリメーターレンズＱυに入射させて、平行光線束を出
射させる。そしてゲルＱ１の全面を完全垂直に透過させ
て、−息角型結像レンズＱｆ）で第２図λ−Ｂにゲル０
１）の逆さの像を結像させた後に、最終結像レンズ（ト
）で正像に戻して２次元イメージセンサＱＩの受光面に
、光の回り込みのないゲルＱ］）全面を正しく結像させ
て、数十〜数百７／Ｊ８ｅＣの短時間でゲルｅυ全面を
測定する。
ンズａ（９）でその焦点位置にあるスリットａαＱのピ
ンホールに一旦果光させる。そしてこの照射光（支）を
コリメーターレンズＱυから干渉フィルター（２）を透
過させて単色化して、集光レンズｂ（至）でその焦点位
置にあるスリン）ｂＱＪの小孔（ホ）に再び集光さぜる
。次いで小孔（ホ）によって絞られた照射光に）を角型
コリメーターレンズＱυに入射させて、平行光線束を出
射させる。そしてゲルＱ１の全面を完全垂直に透過させ
て、−息角型結像レンズＱｆ）で第２図λ−Ｂにゲル０
１）の逆さの像を結像させた後に、最終結像レンズ（ト
）で正像に戻して２次元イメージセンサＱＩの受光面に
、光の回り込みのないゲルＱ］）全面を正しく結像させ
て、数十〜数百７／Ｊ８ｅＣの短時間でゲルｅυ全面を
測定する。
以上のごとく２次元泳動ゲル用像計測装ｆｉ（７）を構
成することによって、以下に挙げる効果を得ることがで
きる。
成することによって、以下に挙げる効果を得ることがで
きる。
（ａ） 試料としての２次元電気泳動ゲルをメカニカル
に移動させてスキャンさせる必要が皆無となるため、そ
の測定所要時間を大幅に短縮できる。
に移動させてスキャンさせる必要が皆無となるため、そ
の測定所要時間を大幅に短縮できる。
（ｂ） 照射光を２次元電気泳動ゲル上の一部分に絞っ
て測定する手数を省くことができる。
て測定する手数を省くことができる。
（Ｃ）２次元電気泳動ゲル面全体を完全な平行光線束で
照射することにより余分な光の回り込みを防ぐことがで
き、それによってこのゲル上のスポットの読取り誤差を
なくすことかできる。
照射することにより余分な光の回り込みを防ぐことがで
き、それによってこのゲル上のスポットの読取り誤差を
なくすことかできる。
また、この装置（７）において、ゲルにｖの縦・横の寸
法が変った場合は、このゲル寸法と同一の角型コリメー
ターレンズ及び結像用角型レンズに、これらのレンズを
差し替えて測定を行うこともでき、さらにゲルがｍ２図
のゲルＱυよりも小さい場合には、第２図の角型コリメ
ーターレンズ０呻とゲルＱυとの間、及びゲル？つと結
像用角型レンズ０ηとの間に、平行光線束をゲルの大き
さに遮光する遮光板をそれぞれ設けて測定することもで
きる。この場合これらの遮光板は、角型コリメーターレ
ンズＯＱと結像用角型レンズαηとの間に、共通の遮光
板取付基準原点を決めて取り付ける。
法が変った場合は、このゲル寸法と同一の角型コリメー
ターレンズ及び結像用角型レンズに、これらのレンズを
差し替えて測定を行うこともでき、さらにゲルがｍ２図
のゲルＱυよりも小さい場合には、第２図の角型コリメ
ーターレンズ０呻とゲルＱυとの間、及びゲル？つと結
像用角型レンズ０ηとの間に、平行光線束をゲルの大き
さに遮光する遮光板をそれぞれ設けて測定することもで
きる。この場合これらの遮光板は、角型コリメーターレ
ンズＯＱと結像用角型レンズαηとの間に、共通の遮光
板取付基準原点を決めて取り付ける。
また、第２図の光源ランプ（８）から角型コリメーター
レンズＱυまでの光学部材をゲル取付部α・より右側、
すなわち２次元イメージセンサ０呻側に移して、ゲルＱ
υに反射光が入射するように配置すればＴＬＣ用の薄層
プレートなどを用いる反射吸収法により％１１プレート
上に展開されたスポットをも測定することができる。
レンズＱυまでの光学部材をゲル取付部α・より右側、
すなわち２次元イメージセンサ０呻側に移して、ゲルＱ
υに反射光が入射するように配置すればＴＬＣ用の薄層
プレートなどを用いる反射吸収法により％１１プレート
上に展開されたスポットをも測定することができる。
（へ）効果
この発明は、２次元電気泳動ゲルの全面を結像させる２
次元イメージセンサと、前記ゲルの入射側に、入射光を
平行光線束として出射させてゲル全面に垂直に照射光を
入射させるコリメーターレンズとを備えることによって
、試料としての２次元電気泳動ゲルの測定所要時間を大
幅に短縮でき、しかも２次元電気泳動ゲルに余分な光の
回り込みを防ぐことができ、それによって前記ゲル面の
スポットの続取り誤差をなくすことができるようにする
ものである。
次元イメージセンサと、前記ゲルの入射側に、入射光を
平行光線束として出射させてゲル全面に垂直に照射光を
入射させるコリメーターレンズとを備えることによって
、試料としての２次元電気泳動ゲルの測定所要時間を大
幅に短縮でき、しかも２次元電気泳動ゲルに余分な光の
回り込みを防ぐことができ、それによって前記ゲル面の
スポットの続取り誤差をなくすことができるようにする
ものである。
第１図は従来の２次元電気泳動ゲル用像計測装置の要部
構成説明図、第２図はこの発明に係る２次元電気泳動ゲ
ル用像計副装口の一実施例を示す構成説明図、第８図は
このスリットｂの正面図である。 （７）・・・２次元電気泳動ゲル用像計６（す装置、（
８）・・・光源ランプ、０Ｑ・・・角型コリメーターレ
ンズ、０η・・・結像用角型レンズ、ａ榎・・・１終結
像用レンズ、Ｑｌ・−・２次元イメージセンサ、 ｖ】）・・・２次元電気泳動ゲル。
構成説明図、第２図はこの発明に係る２次元電気泳動ゲ
ル用像計副装口の一実施例を示す構成説明図、第８図は
このスリットｂの正面図である。 （７）・・・２次元電気泳動ゲル用像計６（す装置、（
８）・・・光源ランプ、０Ｑ・・・角型コリメーターレ
ンズ、０η・・・結像用角型レンズ、ａ榎・・・１終結
像用レンズ、Ｑｌ・−・２次元イメージセンサ、 ｖ】）・・・２次元電気泳動ゲル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光源からの照射光によって、フィルム状の２次元電
気ｖＫ動ゲルの全面を結像させる、このゲルと平行な２
次元イメージセンサ板と、前記ゲルの入射側近傍に取り
替え可能に設置され、入射光を平行光線束として出射さ
せて、前記ゲル全面に棄直に照射光を入射させる、少な
くとも前記ゲルと同面積以上の平面積分有するコリメー
ターレンズとを備えてなる２次元電気泳動ゲル用象計測
装置。 ２、２次元イメージセンサ板の受光面に前記ゲルを結像
させるための結像レンズが、２次元イメージセンサ板と
２次元電気泳動ゲルとの間に複数個設置されてなる特許
請求の範囲第１項記載の２次元電気泳動ゲル用象計測装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58226489A JPH0695071B2 (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | ２次元電気泳動ゲル用像計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58226489A JPH0695071B2 (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | ２次元電気泳動ゲル用像計測装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60115831A true JPS60115831A (ja) | 1985-06-22 |
| JPH0695071B2 JPH0695071B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=16845896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58226489A Expired - Lifetime JPH0695071B2 (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | ２次元電気泳動ゲル用像計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695071B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023248280A1 (ja) * | 2022-06-20 | 2023-12-28 | 株式会社東陽テクニカ | マイクロチップ、２次元試料分離システム及びマイクロチップの製造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5449184A (en) * | 1977-09-26 | 1979-04-18 | Agency Of Ind Science & Technol | Analyzer |
| JPS5451576A (en) * | 1977-09-30 | 1979-04-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | Concentration measurement method |
| JPS566140A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Tokyo Optical Co Ltd | Spectrophotometer for trace sample |
| JPS5666738A (en) * | 1979-11-05 | 1981-06-05 | Anritsu Corp | Spectrometer for gas measurement |
| JPS57204426A (en) * | 1981-06-01 | 1982-12-15 | Du Pont | Spectrophotometer |
-
1983
- 1983-11-29 JP JP58226489A patent/JPH0695071B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5449184A (en) * | 1977-09-26 | 1979-04-18 | Agency Of Ind Science & Technol | Analyzer |
| JPS5451576A (en) * | 1977-09-30 | 1979-04-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | Concentration measurement method |
| JPS566140A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Tokyo Optical Co Ltd | Spectrophotometer for trace sample |
| JPS5666738A (en) * | 1979-11-05 | 1981-06-05 | Anritsu Corp | Spectrometer for gas measurement |
| JPS57204426A (en) * | 1981-06-01 | 1982-12-15 | Du Pont | Spectrophotometer |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023248280A1 (ja) * | 2022-06-20 | 2023-12-28 | 株式会社東陽テクニカ | マイクロチップ、２次元試料分離システム及びマイクロチップの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0695071B2 (ja) | 1994-11-24 |
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