JPS60109594A - ３−デアザグアノシンの製造法 - Google Patents
３−デアザグアノシンの製造法Info
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- JPS60109594A JPS60109594A JP58217224A JP21722483A JPS60109594A JP S60109594 A JPS60109594 A JP S60109594A JP 58217224 A JP58217224 A JP 58217224A JP 21722483 A JP21722483 A JP 21722483A JP S60109594 A JPS60109594 A JP S60109594A
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- Japan
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- compound
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- ammonia
- deazaguanosine
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な３−デアザグアノシンの製造法に関す
るものである。− ３−デアザグアノシンは１９７５年にＰ、 Ｄ、クノク
ラニヨッテ合成され（ＪＡｍ、 Ｃｈｅｍ、 ５ｏｃ、
、 ＶＯＩ９７．２９１６ （’１９７５））、ＤＮＡ
ウィルスおよびＲＮ Ａウィルスのいずれに対しても増
Ｍｌ’ｉ １ｉ１１止活性を示すことから注目を浴びて
いる化合物−（ある。３−デアザグアノシンは、保護し
たりホスと５ （４１−シアノメチルイミダゾール−４
１５１−カルボン酸メチルエステルを縮合して５−／ア
ノメチルー １−β−Ｄ−リボフラノノルイミダゾール
−４−カルボン酸メチルエステル体を得、これを■液体
ア・・−アて１００’Ｃ，３’時間加熱処理して４−カ
ルボキサミド′体に導びき、次いてエタノール中で５％
炭酸ナトリウム水溶液と３０分加熱還流する方法、■液
体アンモニアで１１０’Ｃ。
るものである。− ３−デアザグアノシンは１９７５年にＰ、 Ｄ、クノク
ラニヨッテ合成され（ＪＡｍ、 Ｃｈｅｍ、 ５ｏｃ、
、 ＶＯＩ９７．２９１６ （’１９７５））、ＤＮＡ
ウィルスおよびＲＮ Ａウィルスのいずれに対しても増
Ｍｌ’ｉ １ｉ１１止活性を示すことから注目を浴びて
いる化合物−（ある。３−デアザグアノシンは、保護し
たりホスと５ （４１−シアノメチルイミダゾール−４
１５１−カルボン酸メチルエステルを縮合して５−／ア
ノメチルー １−β−Ｄ−リボフラノノルイミダゾール
−４−カルボン酸メチルエステル体を得、これを■液体
ア・・−アて１００’Ｃ，３’時間加熱処理して４−カ
ルボキサミド′体に導びき、次いてエタノール中で５％
炭酸ナトリウム水溶液と３０分加熱還流する方法、■液
体アンモニアで１１０’Ｃ。
２２時間処理する方法により合成されていた（ｊ憩即簀
α正、Ｖｏｌ、９８．１４９２ （１９７６））。これ
らの方法にはいずれも１位置換イミダジス ールの４位エステル基は核試薬の一リｉ７に対して抵抗
するために閉環反応の前段階として４位をアミド基に変
換する際に過酷な加熱条件を必要としｌこ。
α正、Ｖｏｌ、９８．１４９２ （１９７６））。これ
らの方法にはいずれも１位置換イミダジス ールの４位エステル基は核試薬の一リｉ７に対して抵抗
するために閉環反応の前段階として４位をアミド基に変
換する際に過酷な加熱条件を必要としｌこ。
本発明者らは、かかる閉環反応に際し、５−ジアノメチ
ル−１−β−Ｄ−リボフラノシルイミダゾール−４−カ
ルボン酸アルキルエステルのニトリル基を活性化し、そ
の分子内求核置換反応を利用することにより、より緩和
な条件で目的を達成できることを知見し、本発明を完成
した。すなわち、本発明は、一般式（１） ） 〔式中、Ｒ１は低級アルキル基、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４
は水素または保護基を示す。〕で表わされるイミダゾー
ルヌクレオシドをアルコール溶媒中で金属アルコラード
と反応させ、次いてアンモニアで処理して一般式（Ｉｌ
ｌ 〔式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同意義。〕で表
わされる３−デアザグアノシンを製造する方ｎ、である
。
ル−１−β−Ｄ−リボフラノシルイミダゾール−４−カ
ルボン酸アルキルエステルのニトリル基を活性化し、そ
の分子内求核置換反応を利用することにより、より緩和
な条件で目的を達成できることを知見し、本発明を完成
した。すなわち、本発明は、一般式（１） ） 〔式中、Ｒ１は低級アルキル基、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４
は水素または保護基を示す。〕で表わされるイミダゾー
ルヌクレオシドをアルコール溶媒中で金属アルコラード
と反応させ、次いてアンモニアで処理して一般式（Ｉｌ
ｌ 〔式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同意義。〕で表
わされる３−デアザグアノシンを製造する方ｎ、である
。
本発明方法における原料化合物である一般式〔１〕化合
物の調製法には特に限定されない。従来公知の縮合法に
より調製することもてきるし、本発明者らか開発したウ
リジンから出発して得られる４−アルコキンカルボニル
−２−オキソイミダゾ−／Ｌ／ （＋：ｈｅｍ、 ｐｈ
ａｒｍ、 １３ｕ１１．、Ｖｏｌ、２６ 、 ３３２２
（１９７８））を経て調製する方法によることもてき
る（後記参考側参照）。一般式〔１〕において、Ｒ１の
低級アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチルなどが挙げられる。Ｒ２、Ｒ３およびＲ
４の保護基は、ヌクレオシド化学において使用される伝
意のものを選択すればよく、そのような保護基の具体例
としては、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンゾ
イル、Ｉ・ルオイルなどのアシル基、インプロピリデン
、エチリデンなどのアルキリデン基、メトキンメチレン
、エトキンメチレン、エトキシエチレンなどのアルコキ
シアルキリデン基、ｐ−メチルベンジル、トリチルなど
のアルアルキル基、メトキシメチル、トリメトキシメチ
ル、エトキシエチルなとのアルフキ／アルキル基なとか
挙げられる。
物の調製法には特に限定されない。従来公知の縮合法に
より調製することもてきるし、本発明者らか開発したウ
リジンから出発して得られる４−アルコキンカルボニル
−２−オキソイミダゾ−／Ｌ／ （＋：ｈｅｍ、 ｐｈ
ａｒｍ、 １３ｕ１１．、Ｖｏｌ、２６ 、 ３３２２
（１９７８））を経て調製する方法によることもてき
る（後記参考側参照）。一般式〔１〕において、Ｒ１の
低級アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチルなどが挙げられる。Ｒ２、Ｒ３およびＲ
４の保護基は、ヌクレオシド化学において使用される伝
意のものを選択すればよく、そのような保護基の具体例
としては、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンゾ
イル、Ｉ・ルオイルなどのアシル基、インプロピリデン
、エチリデンなどのアルキリデン基、メトキンメチレン
、エトキンメチレン、エトキシエチレンなどのアルコキ
シアルキリデン基、ｐ−メチルベンジル、トリチルなど
のアルアルキル基、メトキシメチル、トリメトキシメチ
ル、エトキシエチルなとのアルフキ／アルキル基なとか
挙げられる。
第一工程の金属アルコラードとの反応はアルコール溶媒
中で行われる。アルコールとしてはメタノール、エタノ
ール、プロパツールなとか適月ヒＣきる。金属アルコラ
ードとしてはすトリウ１、メトキシド、カリウムメトキ
ッド、ナトリウムエト、１−ンド、カリウムエトキシド
、ナトリウムプロ小−１−シトなどを用いることができ
る。反応は’４Ｅ ｌ：＋＋ｊて進行する。未反応によ
って原料化合物の５位のＪ−トリル基かイミノエーテル
体に活性化される。
中で行われる。アルコールとしてはメタノール、エタノ
ール、プロパツールなとか適月ヒＣきる。金属アルコラ
ードとしてはすトリウ１、メトキシド、カリウムメトキ
ッド、ナトリウムエト、１−ンド、カリウムエトキシド
、ナトリウムプロ小−１−シトなどを用いることができ
る。反応は’４Ｅ ｌ：＋＋ｊて進行する。未反応によ
って原料化合物の５位のＪ−トリル基かイミノエーテル
体に活性化される。
第二工程のアンモニア処理は同しくアルコ ル溶媒中て
室温て行うことかてきる。
室温て行うことかてきる。
生成物の脱保護を必要とする場合には、常法によればよ
く、たとえばトリフルオロ酢酸、過塩素酸、６硫酸、希
塩酸などによる酸処理を適用することができる。アシル
保護基は前記アルカリ↑１１反応中に脱離しうる。
く、たとえばトリフルオロ酢酸、過塩素酸、６硫酸、希
塩酸などによる酸処理を適用することができる。アシル
保護基は前記アルカリ↑１１反応中に脱離しうる。
目的生成物の単離精製も常法によればよく、たとえば吸
着カラムクロマトグラフィー、山結晶なとの精製手段を
適用すればよい。
着カラムクロマトグラフィー、山結晶なとの精製手段を
適用すればよい。
以下、本発明方法の一丈施態様を実施例として示す。ま
た、原料化合物の調製例を参考例として記述する。
た、原料化合物の調製例を参考例として記述する。
参考例
１− （２，３，５−トリーＯ−アセチルーβ−Ｄ−リ
ボフラノシル）−２−オキソ−４−メトキシカルボニル
イミダゾール１５ｇのオキソ塩化リン（１１８ｍ１）、
Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン（１１，８ｍ／’）懸濁液
をアルゴン気流下、８時間加熱還流反応させた後、反応
液を減圧濃縮し、濃縮液を氷水中に徐々に加え、クロロ
ホルム（２００ｍｌ×８）で抽出した。クロロポルム層
を分取し 溶媒を留去してｈＩＪ状物を得、これをメタ
ノールに溶解し、ナトリウムメトキシド４２ｇを加え、
室温下２時間撹拌反応させた後、アンバーライト１２０
て中和濾過し、濾液を濃縮して１−（β−Ｄ−リボフラ
ノシル）−２−クロロ−４−メトキシカルボニルイミダ
ゾール（化合物Ａ）の白色結晶６．８９を得た（収率６
１．１％）。
ボフラノシル）−２−オキソ−４−メトキシカルボニル
イミダゾール１５ｇのオキソ塩化リン（１１８ｍ１）、
Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン（１１，８ｍ／’）懸濁液
をアルゴン気流下、８時間加熱還流反応させた後、反応
液を減圧濃縮し、濃縮液を氷水中に徐々に加え、クロロ
ホルム（２００ｍｌ×８）で抽出した。クロロポルム層
を分取し 溶媒を留去してｈＩＪ状物を得、これをメタ
ノールに溶解し、ナトリウムメトキシド４２ｇを加え、
室温下２時間撹拌反応させた後、アンバーライト１２０
て中和濾過し、濾液を濃縮して１−（β−Ｄ−リボフラ
ノシル）−２−クロロ−４−メトキシカルボニルイミダ
ゾール（化合物Ａ）の白色結晶６．８９を得た（収率６
１．１％）。
化合物Ａ４．７ＬＪのアセトン（訟濁液５００ ｍｌに
過塩素酸２．０ ｍｌを加え、室温下３時間撹１′１′
反応さし」た後、炭酸カリウムで中和、濾過後、濾液を
）Ｊツム分離（シリカゲル６０！７．１％メタノール
クロロホルム→２％メタノールクロロホルム）シて１−
（２，３−０−イソプロピリデン−７ｔ −１）−リボ
フラノシル）−２−クロロ−４−メトキノカルボニルイ
ミダゾール（化合物Ｂ）の白色結晶５．０ｇを得た（収
率９４．０％）。
過塩素酸２．０ ｍｌを加え、室温下３時間撹１′１′
反応さし」た後、炭酸カリウムで中和、濾過後、濾液を
）Ｊツム分離（シリカゲル６０！７．１％メタノール
クロロホルム→２％メタノールクロロホルム）シて１−
（２，３−０−イソプロピリデン−７ｔ −１）−リボ
フラノシル）−２−クロロ−４−メトキノカルボニルイ
ミダゾール（化合物Ｂ）の白色結晶５．０ｇを得た（収
率９４．０％）。
化合物Ｂａ、 ａ ｙにアセトン５０ｍ１、ンメトキノ
メタン１００ ｍｌ、メタンスルホン酸１．５コを加え
、室温下−夜撹拌反応させた。反応液に飽和炭酸水素す
トリウムを加えて中和した後、クロロｉｊ゛ルト（５０
πｔｘ ａ）で抽出し、クロロホルム層を分取し、溶媒
を留去して淡黄色油状物を得た。こ、１１４力ラム分離
（シリカゲル４００ｇ、ヘンゼンー酌酸エチル（４：１
））して１−（２，８−０イソプロピリデン−５−０−
メトキンメチル−βＤ−リボフラノシル）−２−クロロ
−４−メトキノカルボニルイミダゾール（化合物Ｃ’）
ｓ、ｏｙを得た（収率７９２％）。
メタン１００ ｍｌ、メタンスルホン酸１．５コを加え
、室温下−夜撹拌反応させた。反応液に飽和炭酸水素す
トリウムを加えて中和した後、クロロｉｊ゛ルト（５０
πｔｘ ａ）で抽出し、クロロホルム層を分取し、溶媒
を留去して淡黄色油状物を得た。こ、１１４力ラム分離
（シリカゲル４００ｇ、ヘンゼンー酌酸エチル（４：１
））して１−（２，８−０イソプロピリデン−５−０−
メトキンメチル−βＤ−リボフラノシル）−２−クロロ
−４−メトキノカルボニルイミダゾール（化合物Ｃ’）
ｓ、ｏｙを得た（収率７９２％）。
核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ２． ＤＭＳＯ−ｄ５
）７．９５ （ｓ、 ＩＨ，Ｃ３−Ｈ）、５．９８ （
ｄ、 Ｌ Ｈ，Ｈ−１’）４．９４〜４．７４ （ｍ、
Ｈ−２’およびＨ−３’）４．６８ （Ｓ、２Ｈ，メ
トキシメチレン−ＣＨ２）４．５８〜４．４８ （ｍ、
１１−Ｉ、ｌ−１−４’）３、８８ （Ｓ 、８ Ｈ，
−ＣＯ２ＣＩ−１３）８．８５−８．７６ （ｍ、２Ｈ
，Ｈ−５’）８．８７ （Ｓ、３Ｈ，メトキシメチレン
−ＣＩ（３）１．６２ （Ｓ、３Ｈ，インプロピリデン
）１．８８ （Ｓ、８Ｈ，インプロピリデン）ｎ−ブチ
ルリチウム３．８１ ｍｌおよびジ−イソプロピルアミ
ン０．６６ ｍｌから−７５〜−７０°Ｃでリチウムジ
イソプロピルアミドを調製し、これを化合物Ｃ１，２９
のテトラヒドロフラン１５ｍ／溶液に一７５°Ｃて滴下
し、２０分撹拌後、乾燥させたギ酸エチル０．８８ ｐ
ｕｔを滴下し、４０分間撹拌反応させた。反応液に酢酸
０．３ ｍｌを加えて反応を停止させ、室温に戻した後
、メタノールで倍に希釈し、水素化ホウ素ナトリウム１
０１ ｍＥｌて還元処理した。
）７．９５ （ｓ、 ＩＨ，Ｃ３−Ｈ）、５．９８ （
ｄ、 Ｌ Ｈ，Ｈ−１’）４．９４〜４．７４ （ｍ、
Ｈ−２’およびＨ−３’）４．６８ （Ｓ、２Ｈ，メ
トキシメチレン−ＣＨ２）４．５８〜４．４８ （ｍ、
１１−Ｉ、ｌ−１−４’）３、８８ （Ｓ 、８ Ｈ，
−ＣＯ２ＣＩ−１３）８．８５−８．７６ （ｍ、２Ｈ
，Ｈ−５’）８．８７ （Ｓ、３Ｈ，メトキシメチレン
−ＣＩ（３）１．６２ （Ｓ、３Ｈ，インプロピリデン
）１．８８ （Ｓ、８Ｈ，インプロピリデン）ｎ−ブチ
ルリチウム３．８１ ｍｌおよびジ−イソプロピルアミ
ン０．６６ ｍｌから−７５〜−７０°Ｃでリチウムジ
イソプロピルアミドを調製し、これを化合物Ｃ１，２９
のテトラヒドロフラン１５ｍ／溶液に一７５°Ｃて滴下
し、２０分撹拌後、乾燥させたギ酸エチル０．８８ ｐ
ｕｔを滴下し、４０分間撹拌反応させた。反応液に酢酸
０．３ ｍｌを加えて反応を停止させ、室温に戻した後
、メタノールで倍に希釈し、水素化ホウ素ナトリウム１
０１ ｍＥｌて還元処理した。
反応液を減圧濃縮し、残渣をカラム分ＦｉＩ （／１）
ツノゲル５０ｇ、クロロホルム）処理１こ付して１−
（２，３−０−インプロピリデン−５−０−メト−１
ジメチル−β−Ｄ−リボフラノツル）−２−り１ノロ−
５−ヒドロキシメチル−４−メトキンブＪル＋ｌｒニル
イミダゾール（化合物Ｄ）１．０４ｇをＨＨ７ノこ（収
率８１．３％）。
ツノゲル５０ｇ、クロロホルム）処理１こ付して１−
（２，３−０−インプロピリデン−５−０−メト−１
ジメチル−β−Ｄ−リボフラノツル）−２−り１ノロ−
５−ヒドロキシメチル−４−メトキンブＪル＋ｌｒニル
イミダゾール（化合物Ｄ）１．０４ｇをＨＨ７ノこ（収
率８１．３％）。
５．９０ （ｄ、 ＩＨ，ｌ−ｌ−１’）４゜９５ （
Ｓ、 ２Ｈ，５−ＣＨ２０Ｈ）４．８８ （ｍ、 ＩＨ
，Ｈ−２’） ４．８５ （ｍ、 ＩＨ，Ｈ−８’） ４．６１ （ｓ、２Ｈ，メトキシメチレン−Ｃｉ−Ｉ２
）４．４Ｂ （ｍ、 １’Ｈ，Ｈ−４’）３、９３ （
Ｓ 、 ８ Ｈ，−ＣＯ２ＣＨ３）３．７７〜３．７８
（ｍ、 Ｉ Ｉ−Ｌ Ｈ−５’）３．３４（３，８１
〜■、メトキシメチレン−ＣＩ（３）ｔ６１．（ｓ、３
Ｈ，インプロピリデン）１．３８ （Ｓ、８Ｈ，インプ
ロピリデン）化合物Ｄ ０．９９９のメタノール６０
ｍｌ溶液に１０％パラジウム−炭素２１７ ｍｒｔとト
リエチルアミン２．５ ｍを加え、２．５気圧で２０時
時間光し、パラジウム−炭素を濾去後、カラム分離（シ
リカゲル５０９−０．５％メタノール−クロロホルム）
して１−（２，８−０−インプロピリデン−５−〇−メ
トキシメチルーβ−Ｄ−リボフラノシル）−５−ヒドロ
キシメチル−４−メトキシカルボニルイミダゾール（化
合物Ｅ）を９７．３％の収率て得た。
Ｓ、 ２Ｈ，５−ＣＨ２０Ｈ）４．８８ （ｍ、 ＩＨ
，Ｈ−２’） ４．８５ （ｍ、 ＩＨ，Ｈ−８’） ４．６１ （ｓ、２Ｈ，メトキシメチレン−Ｃｉ−Ｉ２
）４．４Ｂ （ｍ、 １’Ｈ，Ｈ−４’）３、９３ （
Ｓ 、 ８ Ｈ，−ＣＯ２ＣＨ３）３．７７〜３．７８
（ｍ、 Ｉ Ｉ−Ｌ Ｈ−５’）３．３４（３，８１
〜■、メトキシメチレン−ＣＩ（３）ｔ６１．（ｓ、３
Ｈ，インプロピリデン）１．３８ （Ｓ、８Ｈ，インプ
ロピリデン）化合物Ｄ ０．９９９のメタノール６０
ｍｌ溶液に１０％パラジウム−炭素２１７ ｍｒｔとト
リエチルアミン２．５ ｍを加え、２．５気圧で２０時
時間光し、パラジウム−炭素を濾去後、カラム分離（シ
リカゲル５０９−０．５％メタノール−クロロホルム）
して１−（２，８−０−インプロピリデン−５−〇−メ
トキシメチルーβ−Ｄ−リボフラノシル）−５−ヒドロ
キシメチル−４−メトキシカルボニルイミダゾール（化
合物Ｅ）を９７．３％の収率て得た。
化合物Ｅ Ｏ，４６ｆ７のジメチルホルムアミド１ ｍ
ｌ溶液にメシルクロライド０．２ ｗｔと２，６−ルチ
ジン０．８ ｍｌを加え、室温下２時間撹拌した後、飽
和炭酸水素ナトリウムを加えて反応を停止させ、酢酸エ
チル（８０ｇｔＸ２）で抽出した。４３機層をカラム分
離（シリカゲル２０す、０．５％メタノール−クロロホ
ルム）して１−（２，８−０−インプロピリデン−５−
〇−メトキシメチルーβ−Ｄ−リボ′フラノシル）−５
−クロロメチル−４−メトキシカルボニルイミダゾール
（化合物Ｆ ） ０．４８７り （収率９００％）を１
１また。
ｌ溶液にメシルクロライド０．２ ｗｔと２，６−ルチ
ジン０．８ ｍｌを加え、室温下２時間撹拌した後、飽
和炭酸水素ナトリウムを加えて反応を停止させ、酢酸エ
チル（８０ｇｔＸ２）で抽出した。４３機層をカラム分
離（シリカゲル２０す、０．５％メタノール−クロロホ
ルム）して１−（２，８−０−インプロピリデン−５−
〇−メトキシメチルーβ−Ｄ−リボ′フラノシル）−５
−クロロメチル−４−メトキシカルボニルイミダゾール
（化合物Ｆ ） ０．４８７り （収率９００％）を１
１また。
臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム７、８７ ！／とシ
アン化ナトリウム１．２０Ｑを水２０ｍ１に溶解させ、
クロロホルム（１０ｍｅ Ｘ ３ ）で抽出し、ｒＪ圏
層を分取し、そのうち１０ｍ１を化合物Ｆ３１８ｍ！／
のクロロホルム２ ｍｌ溶液に加え、室温下４時間１ｉ
２拌反応させた後、ノＪラム濾過（ソリカゲル２０ｑ−
クロロホルム）で大部分のンアン化テトラ１１ブチルア
ンモニウムを除去し、次５１てカラム分Ｆｉｌ！（シリ
カゲル７０ｇ、０．５９６メタノール−り（Ｊ ＬＪホ
ルム）して１−（２，３−０−イソプロピリデン−５−
０−メトキシメチル−β−Ｄ−リボフラノツル）−５−
シアノメチル−４−メｉ・キノノア ／ｌ／ボニルイミ
ダゾール（化合物Ｇ）２６７ｍｇを得た（収率８２．９
％）。
アン化ナトリウム１．２０Ｑを水２０ｍ１に溶解させ、
クロロホルム（１０ｍｅ Ｘ ３ ）で抽出し、ｒＪ圏
層を分取し、そのうち１０ｍ１を化合物Ｆ３１８ｍ！／
のクロロホルム２ ｍｌ溶液に加え、室温下４時間１ｉ
２拌反応させた後、ノＪラム濾過（ソリカゲル２０ｑ−
クロロホルム）で大部分のンアン化テトラ１１ブチルア
ンモニウムを除去し、次５１てカラム分Ｆｉｌ！（シリ
カゲル７０ｇ、０．５９６メタノール−り（Ｊ ＬＪホ
ルム）して１−（２，３−０−イソプロピリデン−５−
０−メトキシメチル−β−Ｄ−リボフラノツル）−５−
シアノメチル−４−メｉ・キノノア ／ｌ／ボニルイミ
ダゾール（化合物Ｇ）２６７ｍｇを得た（収率８２．９
％）。
′ｔ′党（２１）化合。。４ｓｏｍｇｏ’ｖ）ッ、〜７
．６よ、。、、９゜、−トリウムメトキシド 拌反応させ、反応液をカラム分離（シリカゲル５ｏ ｔ
） 、４ ９６メタノールークロロホルム）Ｌ−ＣＩ−
（２．３−０−インプロピリデン−５−０−メトキン
メチルーβ−Ｄ−リボフラノシル） −５ −７トキソ
イミノエチルー４−メトキシカルボニルイミダゾール（
化合物Ｈ）を得た。
．６よ、。、、９゜、−トリウムメトキシド 拌反応させ、反応液をカラム分離（シリカゲル５ｏ ｔ
） 、４ ９６メタノールークロロホルム）Ｌ−ＣＩ−
（２．３−０−インプロピリデン−５−０−メトキン
メチルーβ−Ｄ−リボフラノシル） −５ −７トキソ
イミノエチルー４−メトキシカルボニルイミダゾール（
化合物Ｈ）を得た。
化合物Ｈをアンモニア−メタノール中で３ Ｉｆ 間装
置してｇ−（２，ａ−ｏ−インプロピリデン−５−０−
メトキシメチル−β−Ｄ−リボフラノシル）−３−デア
ザグアニンを６１．５％の収率で得た。
置してｇ−（２，ａ−ｏ−インプロピリデン−５−０−
メトキシメチル−β−Ｄ−リボフラノシル）−３−デア
ザグアニンを６１．５％の収率で得た。
融点 ２６７〜２６９°Ｃ
紫外部吸収
λ ２ ７ ６ ｎｍ ８ ０ ２ ｎｍａｘ
λ ２ ｉ３ ５ ｎｍ ２ ９ ５ ｎｍｌｎ
化合物■を５０％トリフルオロ酢酸水溶液で室温下１２
時間処理して３−デアザグアノシンを得た。
時間処理して３−デアザグアノシンを得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式（１） 〔式中、Ｒ１は低級アルキル基、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４
は水素または保護基を示す。〕で表わされるイミダゾー
ルヌクレオシドをアルコール溶媒中で金属アルコラード
と反応させ、次いでアンモニアで処理して一般式（ＩＩ
） 〔式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同意義〕で表わ
古 される３−デアザグアノシンを１成することを１１徴と
する３−デアザグアノシンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58217224A JPS60109594A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | ３−デアザグアノシンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58217224A JPS60109594A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | ３−デアザグアノシンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60109594A true JPS60109594A (ja) | 1985-06-15 |
Family
ID=16700787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58217224A Pending JPS60109594A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | ３−デアザグアノシンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60109594A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994021658A1 (en) * | 1993-03-15 | 1994-09-29 | Kalman Thomas I | Antiviral imidazolinone nucleoside derivatives |
-
1983
- 1983-11-17 JP JP58217224A patent/JPS60109594A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994021658A1 (en) * | 1993-03-15 | 1994-09-29 | Kalman Thomas I | Antiviral imidazolinone nucleoside derivatives |
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