JPS5998725A - 炭化水素留分の水素化処理用固定床接触反応器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明装置は並流多相反応体装入原料ケ接触反応する反
応器に関する。特に本発明は反応体流の液相及びガス状
相を分離し、反応体降流を反応器触媒粒子床上へ均一に
分散する方法及び装↑ａに関する１、精油所または石油
化学合成工場における炭化水素類あるいは他の有機物質
の処理に際して種々の接触法例えばセオライト触媒を用
いた水素化分解、Ｃｏ　、　Ｎｉ　　またはＭｏのｌ柚
またはコ抽以上含有触媒を用いた水素化脱硫処理等が使
用される。しばしばこれらの方法は固定床反応器中多相
反応体装入原料混合物を用いて行なわれ、該装入原料混
合物は触媒床上へ降流式並流のために反応器上部で導入
される。

従来の反応器において液体の分散は反応器本体内に備な
えられ、且つ触媒床上に液体を均一に散布するための送
り穴、越流せきあるいは多数の導管を有する水平トレー
等で達成された。

先行技術及び本発明に好都合に使用する代表的な反応器
本体は反応体が垂直軸方向に流れる円筒状形態を持つ。

しかし長い多角形状あるいは楕円状本体のような他の反
応器もまた使用される。接触水素化法に部用される型の
圧力容器は過圧に耐えなければならず、したがって圧力
容器は反応体ガスの所望の分圧に依存して数気圧から数
百気圧までの内部圧力に耐えるために組み立てられてい
る。代表的な水素化反応器は溶接した３θゲステンレス
鋼及び炭素ｆＪＡ等で構成されている。

化学製造合成工場が異なる方法の設備を収容するように
変更される時接触反応器を改装することが望ましい。多
くの汎用の加圧反応器は長さ：直径（Ｌ：Ｄ）比約、２
：／−１ｏ＝７、好談しくは４ｔ：／〜６：７を持ち、
溶接した鋼で構成されている。これらの反応器は上部及
び下部で溶接して作製した半球状端部区域にボルト締め
して封止されている。流体装入口及び排出口、保守用開
口あるいは他の配管または計器用開口等が備えられてい
る。

装入ガス及び液体部体は混合相流の形態で簡単な装入管
を通って反応器上部で導入され、多孔質反応器床を通っ
て降流する。反応器横断面全体に均一な流れを保つため
に反応体は触媒床の上部表面上に分散される。ゾール（
Ｄ８ｒりらの米国特許第Ｑ、／２１．！；３９号及びバ
ラード（Ｂａｌｌａｒｄ　）らの米国特許第、３．ユ／
Ｉｔ１４１り号に開示されているような若干の先行技術
反応器では分散器トレーは分散させる蒸気及び液体反応
体を受入れるために触媒床上に設置された。この型の内
部配貨は新規に設備を設置する時には満足なものである
が、既存の反応器本体に設置することは困難である。こ
の困難は溶接あるいは他の設ｆ’ｄ技法の間反応器本体
を弱めるためである。

内部分散器要素を現場溶接し、得られた構造体を焼鈍し
て圧力容器を完全な状態に保つことは技術的に可能であ
るとしても、そのような改変は高価であり、時間を浪費
する。

石油化学プラン′トのための反応器改変は多段階法のた
めの一段階装置改造あるいは他の内部構造物の変更及び
または配管の再設置を必要とする。現存の装置のそのよ
うな改変は方法転換を促進し、新しい設置方法のコスト
を減する。

周知の流れノズル方式は単−相液体あるいはガス分散の
ために、あるいは高圧力降下がさしつかえない時に適当
である。しかし並流反応器において混合されたガス及び
液体装入原料のための低圧力降下分散器を設置すること
は非常に困難であることを見い出した。

並流降流式接触反応器用の改善された反応体流分散装置
が設計された。この装置ｄは既存の上部装入口を備えた
垂直反応器本体を改装設置するために特に適している。

該装置はまた封止反応器本体に含まれる触媒粒子の多孔
質床を備えた固定床接触反応器における炭化水素の水素
化処理法に特に好都合である。したがって本発明の第７
の実施態様はそのような固定床接触反応器に関し、第一
の実施態様は該反応器に有用な新規な反応体相分離及び
流れ分散装置に関し、第３の実施態様は新規に開示する
反応器及び分離−分散装置を使用する炭化水素留出油流
の水素化処理法に関する。

本発明による反応器は封止反応器本体中に触媒粒子の一
般に水平に設置ｚされた多孔質床を含む固定床接触反応
器より成る。該反応器はガス状及び液体成分両方からな
る混合反応体流を導入して降流させるための装入口装置
、前記混合反応体流を受は入れ、分離し、次に分散する
ための相分離装置、及び反応器本体からガス状及び液体
状生成物を回収する装置を備え、且つ前記相分離装置は
装入口装置と多孔質触媒床との間において反応器本体内
に設置される。この相分離装置は多数のガス放出口を含
む有孔質壁によって形成された上部区域を備える。該ガ
ス放出口は反応体装入原料の実質上ガス法相を相分離装
置から外へすなわち触媒床上の反応器上部へ放出するこ
とを可能にする。相分離装置はまた反応体装入原料の実
質上液相区分流を受入れ、該液相区分を多孔質触媒床の
上部に向かって導かれる間隔を距てた液体流に分割する
液体分散装置より成る低部区域を備える。

相分離−分散装置（相分離及び分散装置）においては本
発明は反応体相分離−分散装置を備えるが、この装置は
前述のように上部装入口装置と取付は装置を備え且つガ
ス−液体多相反応体装入原料の装入口装置の下方におい
て反応器内に水平に設置された触媒粒子固定床を有する
既存の垂直式反応器を改装するために特に適している。

該相分離−分散装置は多相装入原料を受は入るための、
反応器上部取付は装置へ取付は自在な中空受入れ装置、
間隔を置いて配置された周縁ガス放出口を備えた同軸の
ガス放出上部分離区域及び前記ガス放出上部分離区域と
液体分散装置の間に動作可能に接続された液体収集低部
分離区域を備え、前記ガス放出上部分離区域は比較的低
い圧力降下で前記ガス放出上部分離区域からガスを放出
させるのに充分な総数出口断面積を備え、前記液体収集
低部区域は液体流が前記液体分散装置を通って触媒上に
流れるのに十分な静力学圧力を与える。

本発明方法の実施態様は封止反応器本体内に一般に水平
に設置された触媒粒子の多孔質床を備えた固定床接触反
応器における炭化水素留出油の水素化処理法を提供する
にある。該方法は（ａ）反応器本体頂部における装入口
装置に水素含有ガス法相及び炭化水素含有液相からなる
混合反応体流を下降式に導入し；（ｂ）装入口装置と多
孔質触媒床の間の反応器本体内に設置された相分離装置
に混合反応体流を受入れ；（Ｃ）混合反応体流の実質上
ガス相区分を分離装荷の上部区域を形成し且つ多数のガ
ス放出口を備えた有孔質壁を通って分離装置から外側の
反応器上部区域へ流出させ；（ｄ）反応体流の実質上液
相区分の流れを上部分離区域から相分離装置の低部区域
へ流し；（ｅ）低部分離区域の液相区分を触媒床に向っ
て導かれる多数の間隔ヲ１にいて距てた液体流に分割し
；（ｆ）触媒粒子床を接触する水素含有ガスと接触反応
させて炭化水素液？転化し；（ｇ）反応器からガス状及
び液体反応生成物を回収する工程より成る。

以下にｆＡｌ〜６図を使用して本発明実施態様ケ説明す
る。

石油化学工業あるいは精油工業において接触転化に使用
される代表的な反応装置を第１表に示す。該反応装置は
頂部及び底部に半球形の封止区域／２．／４１を備えた
垂直の円筒状物より成る鋼製反応器本体ｌθを備える。

装入口装置２０は装入原料導管からガス−液体多相反応
体装入原料を下降式に導入するための装置である。頂部
０．２コには後述のように装入原料導管及び相分離装置
をそれぞれ結合するためのフランジ付取付は装置が備え
られる。

反応器中央区域３０は球面ビード、押出成形物、ポリロ
ーバル造形物のような触媒粒子３２固定床を備える。

一示例として提示した第１図の配置においてＺＳＭ−ｓ
／アルミナからなる触媒３コの固定床は生成物収集室７
２のまわりの穿孔邪魔板生成物取出し装置７θ上の格子
３Ａ及び格子装置（格子支持部材層）３ｇ上のそれぞれ
大粒径底部層、中粒径中央層及び小粒径上部層より成る
セラミックボール３’ｌの組合わせによって支持される
。

反応器１０の低部区域内に位置する同軸の導管７グはセ
ラミックボールの上部あるいは底部の位１ｄから触媒及
びセラミックボールを反応器から空にするための手段を
与えるために収集室７コの下の所まで延びている。操作
の間、導管７グは触媒の移動を防止するために不活性物
質を満たし、また操作の間液体及び蒸気の移動を防止す
るために封止される。

頂部に円形の封止部を有する円筒状の穿孔邪魔板生成物
取出し装置７０により形成される円筒状の生成物収集室
７２は格子支持部材層に対して触媒床の種々の半径方向
の区域から中央にある生成物収集室７２への物質の流れ
に固有の圧力降下を最少限にするような大きさをもち、
且つ配置される。円筒状の生成物収集室７コは生成物分
離装置（図示せず）へ生成物を送るために生成物取出し
導管７Ａ（部分的に示す）へ接続される。

上述の配置及び少なくとも３種の粒径より成るセラミッ
クボールは種々の粒子径の触媒層より成る上述の触媒床
を支持する。不活性セラミックボール頂部層３ｓは反応
器の水平断面に実質上均一な流体分散を達成し、且つ触
媒粒子３コを所定の個所に保持する＝ 第１図に示す相分離装置ｌＩｏは取付はリングコダに同
軸的に接続することができる相分離装置上部区域グーを
備え、該上部区域は装入口装置の下方へ伸びる。相分離
装置上部区域ｌＩ２は一般の円筒状有孔質壁の周縁に間
隔を置いて配置された一連のガス放出口’ｘ＋を持ち、
相分離装置ｑｏから外側の反応器の上部区域へ反応体流
中の実質上ガス法相区分を放出する放出口を形成される
。

相分離装置は多相装入原料を受は入れるための中空受器
として作用する。低部液体収集区域５０は後に詳細に述
べるように上部ガス流出区域と液体分散装置６θの間に
動作可能に接続される。

相分離装置の一層完全な理解は第２図によって得られ、
第−図中点線矢印及び実線矢印はそれぞれ装入原料流コ
ロから改善された相分離装置グθへ入るガス（点線矢印
）及び液体（実線矢印）混合装入原料である。この装置
は第１図の反応器の取り付はリング、２ダ上の合せ部と
係合するための上部保持フラジンダ６を持つ円筒状スリ
ーブのような内部構造として組み立てられる。

液相物質の実質上すべて及び蒸気相物質の一部は上部有
孔質区域から下方の密実の円筒状壁よりなる低部液体収
集区域ｊθ及び分散区域へ通過する。低部及び上部区域
は現場で完成用の組立式の上部区域と下部区域とが一体
に形成すなわち作製されたものでもよい。第２図及び第
３図に示す分離装置は間隔をおいて配置された結合用孔
を有する合せ部内側縁部より成る結合装置５コによって
上部及び下部区域をボルド締めされている。

液体は低部液体収集区域に集められ、液体の上部水準は
液体分散装置の大きさ、静水頭及び上部分離区域と相分
離装置をとり囲む上部反応器室との圧力差によって決定
される。

液体放出口及び低部液体収集区域の底は最も下のガス放
出口の下に少なくとも管直径７本分〜コ本分の間隔があ
るのが好ましく、それによって液頭を維持し且つ適当な
分離帯域が設けられる。一般に全ガス放出口面積は多相
装入原料装入口の断面積以下で、好ましくはＳθ〜１０
θチである。しかし、装入原料中のガス含量が小割合の
時は恐らくガス放出面積は、２ｓ％であってもよい。他
の場合、例えば装入原料の非常に大きな割合が蒸気相で
あり、且つ低圧力降下が望才れる時、　７５０％までの
孔面積が使用される。

上部有孔質分離壁は相分離装置の低部区域中に実質上ガ
スを含まない液体が維持され同時にガス相は放出される
のに充分な孔面Ｍ／封止部面積比を持つ。個々の装置に
おいて使用される特定の比は混合装入原料流中のガス／
全液体体積比に適応させる。

胃−） 液体は相分離装置の下部から静水頭下に速度をもって触
媒床の上に分散するための多数の流れに分れて流れる。

好適な液体分散装置は相分離装Ｍグθの底部に設置され
た分離された液体と連通ずる多管配列乙θである。放射
状水平管６スは間隔をあけて配置された放出口ｂｌＩ（
第１図）から液体を放出するための［スパイダー（５ｐ
ｉｄｅｒ　）　Ｊ形に支持され、放出口Ａ’ｌは放射状
水平管の長さに沿って穴を空けて造ってもよい。

放射状水平管乙２はその外端で周縁の導管へ接続するこ
とが好都合であり、それによってスポーク付車輪形を形
成する。この構造は放射状水平管にさらに支持構造体が
設けることになり、また周縁導管放出口を通る別の液体
分散流を生ずることを可能となす。さらに別の液体放出
口Ａ６は低部分離装置の底部平面に穴を空けることによ
り造られる。他の液体分散装置はカッセル（Ｋａｓθθ
ｌ）による米国特許第２，１４０２５３号及びバーリス
（Ｈａｒｒｉｓ　）らによる米国特許第３、’７９　／
、！；２夕号に開示されている。

他の相分離装置を第３図に示す。この実施態様において
上部有孔質壁／グーは内部円筒状スリーブ／１１３によ
って装入原料流から分離され、内部円筒状スリーブ／４
ｔ３は低部液体収集区域（図示せず）に向かってガス放
出口を通過する混合ガス及び液体装入原料を下方に導く
。この構造は外壁に沿う液体の被膜生成を防止し、放出
口／１ＩＩＩを外側へ通過するガス流によって液体の過
量の飛沫同伴を防止することによって相分離を増強する
。この設計においてガスは流れの方向にさからって流れ
て遮へい壁孔／ダＳを通過し、上部反応器室に入る前に
環状室／’ＩＡへ入る。この実施態様は比較的低いガス
／液体比を持つ混合物に有利である。

第り図はフラツフを付けた層分離装置上部区域ダコの上
部保持フラツフ’ＩＡが取付はリングｕ４’のくぼみへ
どのように合わせられるかを説明する。装入原料装入管
グざは反応器へ接続し、オーリングシールｌＩ９により
流体損失が防止される。フラツフは従来と同様にボルト
締めされ、保守組立を容易に行うことができる。

第Ｓ図に示す実施態様においては、円筒状反応器本体２
１０の頂端部はフラジン付中央開孔コ２１がある。取付
はリングが垂直装入管コ２−を接続し、装入管Ｌ―に隣
接し且つ軸方向に心合わせされた相分離装置２ダＯを取
付ける適当な手段を与える。装入管の相対的な大きさ及
び形態及び上部相分離区域は設計上の選択の問題である
；しかし同じ内径を持つかあるいは装入管と上部相分離
区域、１’１２の中間に乱流を生じないように外へ張出
した首区域２’ｌ／を持つ円形導管を使用することが好
ましい。もし細い装入管を使用すれば第３図のように同
軸相分離装置へ部分的に延長することができる。

第Ｓ図に示す装置は特に重油、灯油のような石油留分の
接触脱ロウのために窓間される。記述したことを除いて
第７図及び第２図と実質上同じである。低部液体収集区
域２ＳＯは流体流通式に６本の放射状管コロ２を持つ液
体分散装置へ接続し、該放射状管は相分離へ螺接あるい
は溶接され、補強板部材、２ｓ２によって補強される。

それぞれの放射状管コロ２の中間に円形の補強棒、２１
ｇを取り付けることによってさらに別に構造的に保全さ
れる。液体分散放出口２１、ｌＩ及び２乙６は液体収集
区域の底部に間隔を謔いて及びそれぞれの放射状管に沿
ってそれぞれの底部に７〜３個の孔が蕎簿（第６図）呑
間隔をあけて穿入されている。

相分離装置は／Ａ’−ｇ型３１６ステンレス鋼あるいは
他の適当な構造用材料で組み立てられる。

第Ｓ図及び第６図に示した図は相分離装置にｌＩ／ｘｍ
ｉ（／ｘｇインチパイプスケジュールナンバー１０Ｓ〔
メカニカルエンジニアース（（Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　
Ｆｉｎｇｉｎｅｅｒａ）、マツフグローヒル（Ｍｃ　Ｇ
ｒａｗ　Ｈｌｌｌ　）刊ｇ−ｉｓｂ頁〜ｇ−／Ａ／頁参
照〕を使用し、４ｔ／６關（７６インチ）×−θｇ關（
ｇインチ）の径違い継手を介して２０ざｖａｔ（ｇイン
チ）パイプスケジュールナンバー２０の装入管へ取り付
けられる。有孔質壁は４ｔ＋　ｍｙ等辺のピッチで２４
　ｍｙｉ　（フインチ）の直径の孔３／り個を空けられ
ている。放射状分散管は第６図に示すように／−〜／　
４１１１１１の間隔をあけて孔を空けられたりＩｒ　ｍ
Ｍ　（３インチ）パイプスケジュールナンバーダθＢの
管である。この相分離装置は現存の内径２．２　ｇ　ｌ
ｓ　ｍの反応器本体内の触媒床の１Ｉｓｃｒｎ上に設置
することが適当である。

相分離装置のガス放出口の数及び大きさは維持される背
圧を決定する。有孔質壁の全放出口断面積は首区域２１
Ｉ／の上部分離装置の断面積の普通約２Ｓ〜１５ｏ％に
等しい。装入原料中のガスの体積割合が非常に大きい時
は相分離装置における非常に大きな圧力降下を防止する
ために比較的大きな全放出口面積を必要とする。これに
対して装入原料中に液体の割合が大きい時は液体分散装
置における適当な圧力降下を維持するために比較的小さ
い全放出口面積を必要とする。

本発明方法による処理のための混合装入原料はＱ　ＭＡ
的低いガス／液体体積比のものであってもよい。例えば
加圧水素から本質的になる比較的純粋なガス相は液体区
分と等しいかあるいは少なくてもよい。しかしより代表
的な状態はより大きな割合のガス相を含み、その場合、
反応体ガスは乏しく、不活性ガス及び気化された炭化水
素を混合している。そのような場合においてガス／液体
体積比は／／／より大＠　＜　、Ｖ／〜Ｓθθ／／ある
いはそれ以上である。若干の装置において装入原料中１
０〜ｑＯ重景％液体を普通液体軽質成分の気化のために
高温で操作することが意図される。

ガス放出及び液体分散口は円形、三角形、長方形等であ
り；また液体導管は均一分散を達成するために適当な形
態であればよい。

炭化水素転化方法のための多相装入原料流においては種
々の液体及び蒸気成分を含むことができる。石油留分は
蒸気相でならびに液相で存在する比較的揮発性のガソリ
ンあるいは灯油範囲の炭化水素類である。留出油中の重
質炭化水素類あるいは重質軽油液相には高分子量芳香族
あるいは脂肪族分子、ロウ質パラフィン質成分等を含む
。ガス法相は水素のような反応体ガスあるいは窒素のよ
うな不活性ガスと低分子量炭化水素ガスとの混合物を含
む。

多相装入原料は普通熱交換あるいは反応器装入口から上
昇流式に備えられた炉を通して均一の反応温度で導入さ
れる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明相分離装置を示す接触反応器の垂直断面
図、第一図は相分離装置の好適な実施態様を示す垂直断
面図、第３図は上部相分離装置の一部側面を切り取った
図、第ダ図は代表的な反応器取り付は装置の垂直断面図
、第Ｓ図は代表的な反応器上部区域及び相分離装置の垂
直断面図、第６図は第５図の直線６から上を見る相分離
装置の水平断面図である。図中二／θ・・反応器本体、
／コ・・（頂部）封止区域、／り・・（底部）封止区域
、−〇・・装入口装置、ツー・・頂部口、２ダ・・取付
はリング（頂部取り付はリング）、コロ・・装入原料流
、３０・・反応器中央区域、３コ・・触媒（触媒粒子）
、３１Ｉ・・セラミックボール、３Ｓ・・不活性セラミ
ックボール頂部層、３６・・格子、３ｇ・・格子装置、
ｌＩＯ・・層分離装置（分離装置）、４’、２・・層分
離装置上部区域（分離装置上部区域）、１ＩＩＩ・・ガ
ス放出口（放出口）、ダ６・・上部保持フラツフ、グざ
・・装入原料装入管、９？・・オーリングシール、ＳＯ
・・低部液体収集区域、Ｓ２・・結合装置、Ａコ・・放
射状水平管、＆ＩＩ、６４・・液体放出口（放出口）、
７０・・穿孔邪魔板生成物取出し装置、７２・・生成物
収集室、’ＩＩＩ、７／。 ／Ｆ４・・環状チェンバー、２／θ・・円筒状反応器本
体、２２２・・垂直装入管、−１２１Ｉ・・フラジン付
中央開孔、ユダＯ・・層分離装置（分離装置）、２’ｌ
／・・首区域、２’１２・・上部相分離区域、２ＩＯ・
・低部液体収集区域、２６２・・放射状管、２ｂ’ｌ、
２４４・・“液体分散放出口（放出口）、コロｇ・・補
強棒。 ＦＩＧ、　２ ＦＩＧ　　３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｌ　閉じた反応器本体内に一般に水平に設置された触媒
   粒子の多孔質床を備えた固定床触媒反応器において、前
   記反応器が ガス状及び液体成分両方からなる混合反応体下降流を導
   入する装入口装置： 前記装入口装置及び前記多孔質触媒床の間の反応器本体
   内に配置された前記混合反応体流を受入れ、相分離する
   ための相分離装置：及び 反応器本体からガス状及び液体反応生成物を回収する装
   置を備え、 且つ前記相分離装置が前記分離装置から外側の触媒床上
   の前記反応器上部区域へ反応体装入原料の実質上ガス状
   相区分を流出させる多数のガス放出口を持つ有孔質壁に
   よって形成される上部区域、及び反応体装入原料の実質
   上液相区分の流れを取は入れ、前記液相区分を多孔質触
   媒床の上部へ向って導く多数の互に間隔を距てた流体流
   へ分散するための液体分散装置より成る低部区域とを備
   えてなる固定床接触反応器。 ユ　反応器本体が反応器本体上端部に配置された中央頂
   部取付はリングを備えた一般に垂直円柱状圧力容器であ
   り、前記反応器装入口装置が一般に垂直な尋人管で前記
   中央頂部取付はリングへ接続され、且つ相分離装置が前
   記中央頂部取付はリングへ取付けられ、装入口装置下方
   へ伸びる特許請求の範囲第１項記載の反応器。 ユ　液体分散装置が相分離装置から外側へ一般に円柱状
   の反応器本体に向かって放射状に延びる多数の管を備え
   、該放射状管が触媒床上へ実質上均一な液体流を分散す
   るための間隔を距でた穴を備えてなる特許請求の範囲第
   コ項記載の反応器。 侶　相分離装置のガス放出口が実質的に均一な液体分散
   を行うための液体流への圧力を与えるのに十分な大きさ
   である特許請求の範囲第１項記載の反応器。 左　頂部口及び頂部取付装置を備え且つガス−液体多相
   反応体装入原料用装入装置の下方に設けられた触媒粒子
   の水平固定床を備えてなる既存の垂直反応器中における
   特に改装に適した改善された反応体相分離−流分散装置
   であって、前記装置が 反応器頂部取付は装置へ取付は自在で、且つ前記多相反
   応体装入原料を受入れるための中空受入れ装置；間隔を
   置いて配置された周縁ガス放出口を備えた同軸のガス放
   出上部分離区域；及び前記ガス放出上部区域と液体分散
   装置の間に動作可能に接続された液体収集低部分離区域
   ；を備え、前記同軸ガス放出上部分離区域が比較的低い
   圧力降下で前記ガス放出上部分離区域からガスを放出さ
   せるのに充分な総数出口断面積を備え、前記液体収集低
   部区域は液体流が前記液体分散装置を通つて流れるのに
   十分な静力学圧力を与えることより成る改善された反応
   体相分離及び流れ分散装置。 ム　ガス放出上部分離区域が混合ガス反応体及び液体反
   応体装入原料をガス放出口を通って下方へ向けて液体収
   集低部分離区域に導き、それによってガス放出口を通っ
   て外側へガスにより液体が過度に同伴されるのを防止す
   るための内部円筒状スリーブを備えてなる特許請求の範
   囲第Ｓ項記載の反応体相分離及び流れ分散装置。 ７　ガス放出上部分離区域が円筒状を呈し、反応器頂部
   取付は装置を取付けるための上部取付はフラツフを備え
   る特許請求の範囲第５項記載の反応体相分離及び流れ分
   散装置。 ｇ　ガス放出上部分離区域のガス放出口が多相反応体装
   入装置の断面積の８１〜／ｋＯ’ｂの全放出口断面積を
   備える特許請求の範囲第５項記載の反応体相分離及び流
   れ分散装置。 ９　前記全放出口断面積が多相反応体装入装置の断面積
   より小さい特許請求の範囲第３項記載の反応体相分離及
   び流れ分散装置。 ｌθ　閉じた反応器本体内に一般に水平に設置された触
   媒粒子の多孔質床を備えた固定床接触反応器中における
   炭化水素留分の水素化処理方法において、前記水素化処
   理方法が （ａ）　　反応器本体頂部の装入口装置に水素含有ガス
   状相及び炭化水素含有液相からなる混合反応体流を下降
   式に導入し； （ｂ）　　前記装入装置と前記多孔質触媒床の間の反応
   器本体内に設置された相分離装置に混合反応体流を受入
   れ；　。 （ｅ）　　反応体流の実質上ガス相区分を分離装置の上
   部区域を形成し且つ多数のガス放出口を備えた有孔質壁
   を通って分離装置から外側の反応器上部区域へ流出させ
   ； （ｄ）　　反応体流の実質上液相区分の流れを上部分離
   区域から相分離装置の低部区域へ流し；（θ）低部分離
   区域の液相区分を触媒床に向って導かれる多数の間隔を
   距てた液体流に分割し、 （ｆ）触媒粒子床を接触する水素含有ガスと接触反応さ
   せて炭化水素液を転化し。 （ｇ）　　反応器からガス状及び液体反応生成物を回収
   する工程より成る閉反応器本体内に一般に水平に設置さ
   れた触媒粒子の多孔質床を備えた固定床接触反応器にお
   ける炭化水素留分の水素化処理方法。 ｌ／　ロウ質成分含有炭化水素留出油をＺＳＭ−３触媒
   上で選択的に水素化分解して脱ロウ液体生成物となす特
   許請求の範囲第１Ｏ項記載の水素化処理方法。