JPS5996735A - ウエツトエツチング槽及びそれを用いたウエツトエツチング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （並架上の第１」用分封） 不党明はＬＳＩ製造に２いて、ウェハの酸・アルカリ柴
品なとによる尚相反りエットエツテング槽及びそオシ音
用いたエツチング装置に関するものでβ心。

（従来技術） 従来では、ウェットエツチングの軸度ン向上でせるには
、エツチング液の温度會制御丁ゐことにＬυ実現できる
と考えらｒしていた。このため、エツチング槽内のエツ
チング液の温度’ｋ　一定に保持させる方法として、エ
ツチング液の入ったエツテンク惰勿一定環境庫にあるク
リーンペンテ同に放置したり、めるいは−矩温度の水浴
内に浸漬させる方法がとらｒしていたが、エツチング槽
内のエツチング液が一冗温度ＶＣなるのにｏ　ｔｉｌｔ
が力・か９、またエツチング槽の置かｎている環視に左
右さｎ−？丁く、常に一足温度に保持して寂くことか難
しかった。唸だ、エツチング液か一定温度になっている
こと？確認し、ウェットエツチング液に浸漬させた場付
にも、エツチング槽内のエツチング液の温度ＶＣ変動が
生じたシして、ロット内のウェハ問およびウェハ曲内で
のエツチングはらつきか人さくなり、エツチングの制御
性・８現性などに問題〃）めった。

このため、エツチング槽とホンダと熱父侯器？配置′Ｖ
Ｃより結付ざぜ、ホンダてエツチング液全エツチング憎
と熱父侯器１ｂｊにａｉ創ぜて、熱父侠器により直接エ
ツチング液の温度勿制御する方法も利用さ扛１いる。し
７＋ユし、このようにエツチング槽内の歌温を一足に市
１」御してｔ１エツナンク槽内でのエンテンク准の流ｆ
Ｌ方に起因するエツチングはらつき力・生じるため、エ
ツチングの制御性・再現性は禾だ不光分でめった。

以上の久点刀島めるため、Ｂｒｍの岸さのエツチングを
行うには、ウェハ【エツチング液に浸漬させてから、一
定時間毎にウニ／Ｓｆ引き上は目視したり、エツナンク
映厚２　ａ＋＋＋定ずゐ必恢かめ、９、Ｌ、ＳＩＮ造フ
ロセスにおけるエツチング工程が極めて夛ト幼率８’Ｊ
であるとともに、七の工程の自相υ化娑し」晃ｘｖＬＩ
、てい瓦。

（発明の目的） 本発明はこ扛らの欠点ケ除去するため、エツチング槽内
のエツフ゛ンク液勿ボンフにより熱父挾器を介して循環
名ゼ、エツチング７夜の直接ｒ晶度制御勿行うとともに
、更にエツチング槽内てエツチング液かロット内の谷つ
エノ＼面内に一様な栄件で流ＩＬるような槽構造ケ湊案
じ、こ扛によりエツチングの制帥性・再現性の同上２図
り、ウェットエツチング工程の自動化ｋ　ｍｌ　籠ニ’
ｉ−ルことｔ目的と−」−ゐものでめる。

（発明の構＆） 前部の目的し１與ｊる７λめ、本発明はエツチング槽ビ
Ｊのエツチング処理部と、削ｉじのエツチング槽にエツ
チング液ケ供給するエツチング液供煽部と、眩エツチン
グ槽Ｖｃ刊眩さＩしたエツチング液回収部と、姥エツナ
ンクｎ久回収都よりのエツナンク液ｋｍ度制りｌ　Ｌだ
上−〇エツチング槽に循環流出せしめる伽塚数ωＬ出５
「４と、該楯しン仮流出１′より苑出し１こエツチング
ｉｔ　ｋエツチング対象物の接触面に一抹に流ず′ｆ′
ｃめの制御４に（桁と音物えることｒ特徴とするウエソ
）・エツチング槽を発明の貴官とするものでりる。

さらに本発明はエツチング槽と、Ｎｌｌ記のエツチング
槽より取シ出したエツチング対象物のエツチングｍ。勿
洗い流す水洗憎と、前記の水抗佃よシ取り出したエツチ
ング対象４３；ａ　Ｆ乾燥さゼる乾燥装置と、これらの
間にエツナンク対象物忙、その垂直移！ＶＩ運展と水半
朴劾ガセ度と１エツナンク液のエツチング速１ｌｔＶ（
対ルシ、させ１制御秒勤せしめる移動機構と葡倫えゐこ
とに’け似とするワエットエッチング装置奮発明り表旨
と丁ゐもりでめる。

次に本発明の実施例を姉ｆＪ図ＬＦｉｌについて説明す
る。な２大流例は一つｖ）　（＜１小てりつ−し、本発
明の軸押を逸脱しない馳囲内で、担々の笈史めるいは改
良ケ行いうろことは言う１でもない。

第１図は本発明の実施例であって、図によ・いて、１は
エツチング槽でるり、２はエツチング槽からのオーバフ
ローのエツチング徹回収部、３１２よひ３２は液ｌ検出
器、４は温風検出器、５はエツナング液供粘配管、６は
純水供給配管、７はエツチング槽甲板（ナカイタ）、８
はポンプ、９１は熱１５Ｃ侠器、９２は熱交侠益用温度
匍」御器、１０１〜１０５はエア弁、１１１〜１１５は
配管、１２は廃液排出音、１３はエツテングｆの循塚腋
流出１゛、１４１３よひ１４２はオーバフローのエツチ
ング液の導入板、１５７−１：ウェハキャリヤ、Ｐよひ
１６はウェハである。２６はヘリであって、オーバフロ
ーしたエツチング液が一様に流才りるために、ウェハを
囲むよシに設けたへりである。

第２図Ｖｉ該エツナング槽の側面図である。

ｌた、第３図を１９１の熱父侠器と９２の熱父換器用制
御４Ｉ器の配置図でめジ、１７は黙父侠用タンク、１８
は温度検出器、１９は熱父換器設置台でめる。

第１図に示したエツチング装置の制御は、作業油゛自身
で行うことができるか、制御装置の設置によりエツチン
グ装置の自動詞＃もｉｉｊ菌してるる。以下に、自動制
御により、ウェハのエッテンク葡付シ手ノ唄を示づ−６ （１）、エツチング液の供給方法 エツチング液の供給は、１０１　、１０２２よび１０３
のエア升勿閉じ、１０４のエア弁を開けて、エッテンダ
液供話目己せ５により行い、エツチング槽ｌに供給δ扛
る。エツチング槽へのエツチング液の供給は液ｌ１ｆＯ
恢出器３２により検知さｎるが、さらに供給δｒしてエ
ツチング液回収部２にオーバフローする。准面恢出器３
１か恨知丁ゐとポンツー８か始動し、黙交侠器を介して
エツチング液が俯環する。このホンン°始動時は、自己
管１１３　。

１１４、熱父候器などに強制的にエツチング畝葡送り込
むため、エツチング液回収部２の液■刀為一時的に下が
る。この間、供松配首５によシエツテング准が供給さｔ
している〃）ら、伽塊糸全体にエツチング液が光足さγ
Ｌると、書ひエツチング液回収部２の液面が上が９、液
面検出器３１に検知される。このときエア弁１０４か開
じ、エツチング液の供給に停止さ扛る・・ （１１）敢接触面の拐科 第１図のエツチング装置で１エツナンク准と接触すると
ころは丁べて配糸品性のめる４話４月旨拐料ヶ使用し一
〇いる。エツチング槽はテフロン、グイフロン寺勿秋用
し、自己管はテフロン製でめる。ポンプ′も１叙接）う
出面は丁べてテフロン製でめる必女か１地ベロー７１イ
ンブを使ｊ’ｌ’ｌ　してＶ）る。ベローボンフ′Ｕユ
ーイ里のヒ゛ストン運鯛でン保會送出δぜるため、エツ
テンク畝が１ｉｌｘηＣになる。−ｉ　ｙこ、熱父保器
内の徹接触面も丁へ−ＣＣノンンで一４１戊している。

このような耐架品１生の必り拐Ａ→忙使用し１いるＩＣ
の、エツチング液りＣ装ＬＩｉ！、栴）戎拐科か俗解し
、ウエノ・ｔｆＩｊ染ぢせゐこと力・生じない。

（ＩＮ）エツテンク畝の温度制御 エツチング液の１１−炬は熱父俟器用制御器９２から竹
ない、エツチング液の温匿市１ｊ餌τ熱父侠器９１Ｆ、
（弁じて行わ７Ｌゐ。丁なわち、エツチング１ダケホン
７８により、エツテング４’＋’ｉ　１１）ユラエソテ
ンク徹回収部２、白Ｃｌｆ　Ｉｌｌ　、　１１２　、１
１３ゲ辿し１熱父侠器９ｉ　ＩＩＣ流入芒ぜ、第３図に
ボした熱交侠器円の温度挟田岳１８の恢知温反に基つき
、熱文快器用ｎｆｌ　（却命９ｚに弁し一〇熱父侯器Ｈ
のエツチング畝娑刀ＬＩ熱Ｘ　７Ｃは耐坤して、エツチ
ング液の幌度市１」１剃１７行なう。このイダ、トｊ−
自１１４２よひ循環７佼θｎ出看１３を介してエツチン
グ槽に旅出芒ぜ、エツチング槽甲板７の多奴の穴〃・ら
エツチング郁ｖＣ伽璋ａせる。このような檜だになって
いる′ｌ））ら、エツチング槽内のエツチング敢ｒ常に
ｂ１定の扇風に、址た慴ビ」での温度分布ｔ±０．１℃
の罹度で電り但１ｊテることか町有巳でりゐ。

（Ｖ）エツチング液の流ｔしの制御 エツチング槽ｌｂに工・りるエツチング液の流γしの制
僻はｌ＋発明の安息であり、熱父侯で温度　−制イ１ｌ
−１Ｉさ７’Ｌ７とエツチング液は、備１米畝宛出前１
３〃）らエツチング液のノ氏（ｒｃ向力）うて流出芒ぜ
、ここでエツナンク敢ヲ＾し流にし７たりと１エツチン
グ僧中板７の多数の穴からエツテンダ＋！円に流出させ
、エツナンク慣円でのエツチング液のＭＣ７ｔが、ウェ
ハキャリヤ１５（ハ）の谷ウェハ面１６に同一の条件で
一様に流ｊＬるようにしたあと、エツチング種の四方の
へりから、ヘリ一体に一様にオーバフローさゼ°て、エ
ツチング液回収都２で回収し、ホンプ８で餉城させる。

このような猶造にすることにより、エツチング種りでの
エツチング液の流ｊＬは谷ウェハに対して同一の条件に
なり、′：ｌ：た槽内でのエツチング液の温度分布も±
０．１℃以内で一致することから、尚相反のウェハのエ
ツチングケ実埃することが口」能になった。

ここで、該エツチング装置ハペローポンス全使用してと
り、循環するエツチング″＃！ｉは脈直になる。このた
め、エツナンク惜円の谷ウェハに接触するエツチング液
のびＬｔ’Ｌ　Ｌ７）栄件ケ一定にするには、循環液流
出管１３から流用するエツチング液の液流上清中板７で
いかに調整する〃１ということに技術的散点がるり、以
下に槽中板に関する検討触りを説明する。

用いたベローホンプは１０回のヒストン動作で約１．６
５ｔのエンチング液？送出させる。また、試′４＋は７
．６２錆（３インナ）直径のシリコンウェハ上に形成さ
せたシリコン融化膜を用い、エツチング前とエツチング
液の取化挨の膜厚分布ｔ？エバ面全体に渡って、特定位
置の１３７点ｙｃついて６１１１　ｗし、エツチング液
佐の取化映厚の着がらウェハ曲内のエツチングの均−注
を評価した。

し〃・シ、以下に述べるエツチングはらっさの数字は計
ｎ七簡単にするたの、第４図に示すウェハ曲内の特定の
５点り位置について、テフロンキャリヤ内の２５枚のウ
ェハのエッナンク映厚會測定し、平均値を求めためと、
その平均値からのすγしの最も大きい埴勿瑯ひ、平均値
に対するすれのバーセンテイジｒ求めてエツチングはら
つきと走教したか、こＣによって問題は生じない。ｌだ
、エツチング族としては３％１（Ｆと緩衝フッ岐畝（Ｎ
Ｈ４Ｆ　＋’ＨＦ　）を用いたが、ここではエツチング
液の＊ｊｔの影響に敏感な緩衝フッ酸液を用いた。なお
、ｇ温は２２℃でエツチング時間は２分であり、このと
きのエソテンク狭厚は約１０００穴である。

第５図に７．’６２ｃＩｎウエノ・用の槽中板の実施秒
１示す。なＶ、　　φは穴の直径上水し、Ｐは穴と穴の
間隔（ピッチ）奮示す。第６図のψ＝　２　ｔｎＭ。

Ｐ　＝　１０　ｍｎ＋の１台中板盆用い、９自塚液流出
官１３會４本平行Ｖこ設置した場合のウニ／％のエツチ
ングはらつきは±１．７９ｂでめった。一方、幽も６図
と一一ノ情甲板（ψ＝　２　ｙｅｎ　、　Ｐ　＝　１０
　ｔｒｅｎ　）　ｋ用い、循環液流出管１３　’ｃ交互
に対面方向力）ら４本設置した場合には、エツチングは
うつき力・±３．０％と慾化し、循環液流出管の設定方
法に影響することがわかる。このことば、両方向のａ＊
　＊　’ｌｅＬ　ｂｉｔ出管〃・らのエツチング液の流
出条件ｒ同一にすることか畑しいことによる。

紀８図は槽中板７・の他の実施例でめジ、ウェハギヤリ
ヤか匝かれる槽中板の中央４夕ＩＩ　ｋφ＝２．６ｓｎ
ト大さくしてエツチング液が流ｎヤｉ−くし、他の列は
全てφ＝２篩の穴の１１とした。

たたし、いづゴしもへ間隔はＰ　＝　１０　ｍｍでるり
、また循環液流出管１３は第６図のようＫ　４不平行に
設定した。この場合のエツチングばらつきは±１．９％
であることがわかり、第６図の槽中板（ψ＝　２　＋ｎ
ｍ　、　Ｐ　＝　１０ｍｍ　）のように均一な穴の分布
の刀かエツチングはらつきか±１．７％と小さいことか
ら屋ましいことかわかる。

次に、均一の穴の分布でへ自体七／」・さくした場合（
ψ＝　１．５　ｔｅａ　、　Ｐ　＝　１０ｍｍ　）、つ
１ジ第６図での穴の直径の与會ψ＝２．０咽からψ＝１
．５陥に小３くした場合には、エツチングはらつきは±
１．４％と最良の１ｍを得た。史にこのφ＝１・５祁の
穴の’ＪＥＥで穴の数のか７２倍にした場合には、エツ
チングはらつきは±２．４％と逆に瑣刀口した。次に、
こＣ１でのホンプ流童はできるかきり遅くした９、５ｔ
／分でめったが、この光重ｔ１３、Ｏ１１分２よひ１７
．４Ａ／分と増加させ、槽中板の最良の条件（φ−１，
５ｔｔａａ　、　Ｐ　＝　１０　ｍｍ’　）で行った場
合にもエツチングはうつきは慾化し、たとえは０に重１
７．４１１分で±３．２％とｆＫも悪くなった。

こｎから、＠４発したエツチング種に２いて、最良のエ
ツチング相度業得る米作は、循環液流出管１３　Ｆ、（
第６図の４本同一方向の平ｈ′型にし、檜甲板の穴につ
いては穴の直径をφ”１．５ｍｍ。

穴間隔ｋ　Ｐ　＝　１０聰の一様な分布にし、ポンプ流
量？低速ＶＣすることであることがわかった。こｒしに
よジ、エツチングはらっさは±１．４％の筒軸度にする
ことが１」能になった。ｙｘ２、エツチング惰からのオ
ーバ７０−會惜の四カのへＩＪ一体から一様に竹うこと
も条件の１っでるり、実際にこのオーバフロ一方法上止
め、エツチング液全第９図のエツチング液回収配管２ｏ
で回収する方法で行い、ポンプで伽塚避せた場合にはエ
ツチングはらつきが忌化テることか明らかとなった。

また、第１０図に示すよりに憎甲板？２枚使用し、槽中
板間にエツチング液のバッファ層を設けることにより、
槽内のエツチング液の流γＬが谷９エバ而で同一の米作
になり一？ターく、エツチング軸度が史ＶＣ改筈さ１し
ることがわかった。たとえは、上の槽中板ンφ＝２．０
諺ｒ　Ｐ　＝　４　ｗａにし、−トの慣中板勿φ−２，
Ｏｒａｍ　、　Ｐ　＝　１０　ｒｒｒｍとした場合にエ
ツチング゛はらつきが±０．７　％とざらに扁ａ度にな
ることが確認さｎた。また、循環液流出室１３の流出口
？僧紙に回りなくても、エソテンク鞘展は１−１．７饅
恒匿にすることができた。

（■廃液の排出力法 エツチング液の廃液は第１図のポン７ｓ奮作ｍｇせた状
態で、エア＊　ｌｏｌ、　１０２　、１０３　ｗｍす、
エツチング惰１、オーバ７０−のエンチング液回収都２
、ポンプ゛８、熱又侯籍９１　、自己管１１１〜１１５
内等力・らエソテンク液會屍徹排出１・１２ｔ則してエ
ツチング装置外に排出ぢせる。−！、た、第３凶刃・ら
熱交保谷の人出ロカ向を１頃けさせるための熱又侠器設
直台１９上に熱父侠器２直いているため、熱交俟用タン
ク１７内のエツチング族の残液が排出ざＩＬヤアい方法
にしてめる。

上記の排出操作後に、エア弁１０３を閉じ、ポンプ８の
〜■絖的な圧縮空気でホン７“８（ハ）、配置１１３内
、あ゛よひ熱又俟器用タンク１７内の残液葡口］耗な〃
・さり廃液排出管１２に送出芒ぜる。

次に、エア弁１０１　、１０２　＄−よひ１０３に閉に
し７’ｃ　”！まエア升１０５ｉ開け、純水配管６によ
り純水？］ｌ−流出ちせ、エッチング処理槽１１エツチ
ング液 父侠器９１にνｄ腺さセて、エツチング装置全体ケ洗浄
する。その佐に先の発数排出と同一の排出シーケンスに
従い、便用循みの純水ｒ排出官１２全通して排出部せる
。

このような廃液排出シよひぞの佐の槽抗浄ｔ１回以上行
フことによシ、エツチング族の汚朱２よび抗浄抜の残液
によるエツチング液の濃度震動などによるエツチング精
度の劣化荀防ぐことがでさ、丹抗性の良いクリーンなエ
ツナング工程會笑現することか口」蛇になる。

ＴＪ．　１１図は本発明によるウェハの自動ウェットエ
ツチング装置の実施側」でめって、ｌはエツチング槽、
１５はウエハヤヤリャ、１６ホウエハ、２１はローダ、
２２は水洗慴、２３はウェハ乾燥機、２４はハンドロボ
ットのナヤツク、２５ｔまハンドロボットでおる。Ｃｒ
Ｌにより、ウェハのエツチングを行うには、エツチング
惰１１’ｌのエツチング液が前足の温度（ｒｃなつ／ζ
めと、ローダ２１上にめるウェハ１６の入ったワエハキ
ャリャｔナヤソタ２４でつかり、ハンドロボット２５で
移Ｔ＃Ｊちぜ、エツチング惰１に浸漬δぜてエツチング
を行う。ＤＩ定のエツチング時■」後にハンドロボット
２５ですみやか°ｐｃ水抗憎２２に移動芒ゼ、急白な時
間の水洗後にウェハ乾燥機２３にウェハを移動ぢゼ乾燥
６ぜる。

従来では、上記のようなハンドリンクの自動化にさいし
、ウェハのエツチングはらつきが犬さくなるのが１つり
問題でりつ７ヒ９，このため、本発明ではハンドロボッ
トの上−ト方向の移動時間と横力向の移動時間を以−計
に述べる方法で制御することＶＣより、ハントリンクの
自動化に伴うエツチングばらつピの太〜刀Ｌｌ勿寂さえ
ることをＣＩＩＪ能に・した。

第１２図はハンドロボットによりウニハケエツチング槽
ＩＶＣ入γＬ、Ｃｒ定のエツチング時ｌ１Ｉｌ仮にウェ
ハをエツチング槽から取り出し、次の水洗槽２２に入扛
るシーケンスの途中の状態を示したものでるる。ここで
、Ｘｕｉ　ｗウエノ・の上端、Ｘｄｉケ９エハリ下端（
ここに１＝ｉ、２．−−一とする）、Ｌ’１ｌｌ−ウェ
ハの直径、ｖｅ會エツチング憎位置でのハンドロボット
の上１万回の移動速度、ＳＪ、、に水ｆＵｒ４２１位置
でのハンドロボットの上下刃向のＭｌ動速度、Ａｋエツ
チング備中のエツチング速度、Ｂ會エツチング惰から水
洗槽ＶＣ移動する間のウェハ表面上のエツチング液敢に
よるウェハのエツチング速度とする。このとさ、ハンド
ロボットによジウエハがエツチング槽に入れてから水洗
槽に入ｎるｌでに、一般にウェハの上端と下端では移動
に伴いエツチング槽・水洗槽に浸漬される時Ｕか異なる
なとエツナンク条件が異なり、側端でエツチング膜厚か
相違してくる。この１山］端でのエツチング膜犀會同−
にするには、エツチング槽でのウエノ＼の上−ト移ｈＪ
速度鳩と水洗槽での上Ｆ移動速度ＶＷ會次式が取立する
ようＶＣ訣めることでりる。

（υ式はエツチング槽にウェハ奮出入ｎするときの上端
と下端のエツチング膜厚の相違ケ水洗槽に入才しるとじ
の速度によって、この相違を相殺させる米作から棉出す
ることかできる。このようにすることＶＣよって、ハン
ドリンクの自動化によるエツチングはらつさの工冒刀ｉ
勿抑えることが可能になる。

第１３図はエツチング槽から水洗槽１でのハンドロボッ
トの７ｒ！６動時闇に対するウェハのエツチング速度と
ウェハ面Ｖ」のはらつさをボし罠ものである。こｆＬか
ら、エツチング槽から水洗槽までの８；励時間か３０秒
程度會超えると桜鯛中のエツチング速度か減少し、ウェ
ハのエツチングはらつきの増大することかわかる。この
ことから、ハンドロボットの移動時間力・３０秒以下に
なるように、移動距離と移動速度盆決める必要がるり、
このようにすることによってウェハのエツチングはらつ
きがｌチ程度と筒札度のエツチングを保持することかで
きる。ｌν、第１３図におけるエツチング速度Ａおよび
Ｂｋ用い、（１）式全計其すると Ｖ’Ｗ　＝　１．５　Ｖｅ　　　　　　　　　’　（２
Ｊと簡単な関係式になり、水洗槽でのハンドロボットの
上下方向の移動速度盆エツナング槽１の上下刃向の移動
速度の１．５倍にすると、ハンドリングによるエツチン
グはらつさ會小ちくてさることがわたる。

第１４図は本発明による自動ウェットエツチング装置ケ
用い、汲慟フッ臓液による７、６２ｏｎ（３インチ）シ
リコンウェハ上の酸化瞑りエツチングの実施例である。

ここにエツチング液Ｎｕ、Ｆ−）ｆＦ、　　エツチング
温度２２℃である。第１４図はエツチング状態ン示す３
？に７ｃの図で横軸はいわゆるＸ軸に相掘し、斜方間の
軸はいわゆるＹ軸に相当し、暎厚さはＺ＠に相当し、１
中の横方向は走る做ｋｙ、本の線は膜厚上水す。斡ノは
シリコン酸化膜のエツチング前の膜厚分布であり、（ｂ
）は約１００ＯＡエツチング後の膜厚分布に示しておシ
、ウェハ面内で均一にエツチングさ扛ていることかわか
る。本装置によりロフト円の２５枚のワエハ間、盪たロ
ット間のフェノ１も言めてエツチングはらつき荀ｌ〜２
％以内の尚相反のエツチングか実状でき、エツチング時
１１］たけでエツチング眼岸會正雑に制御できるウェッ
トエツチングの自動化が゛１首１となった。

（発明の効果） 以上説明したように、本発明ではエツチング額の温度寂
よひ赦の流ｒしの匍」碑盆行うことにより、エツチング
槽内でのエソテンク欣の温度分布のはらつさ全±０．１
　ｕ以（ハ）にでき、またエツチング液が各ウェハ面に
同一の末汗で冗才りるようにすることが１」能になつ′
ｆｃため、エツチング温度とエツチング時間を指定する
たけで、エツチングはらつさかウエノ・面内、ちりにロ
ット間を含め１チ程度と尚相反なエツチングを実現する
ことができた。１１ζ、エツチングの尚棺度化を保持で
きるノ・ンドリンクの自動化等によ）、ウェットエツチ
ングの自動化ｋＷかｂ］耗となシ、ＬＳＩ製造フロセス
に２ける制御性、書塊性の向上や無人化等葡図ることが
できるなとの多くのオリ点かめる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明装置の一実施例の俄−図、第２図は第１
図に示したエツチング槽の側面図、第３図は熱父侠器２
よひ熱父挨器用制御器の配置図、第４図は３インナウエ
ハのエツチングはらつきの測定点、弔５図は槽中板の実
施例、第６図と第７図は槽中板と循環液ηＣ出眉′の配
匝夕；」、第８図は槽中板の実施例、第９図はエツチン
グ槽におけるエツチング液の回収例、第１０図はバッフ
ァ層全有する槽中板の実施例、第１１図は自動ウエット
エツチング装置の実施例、第１２図はハンドリンフロホ
ットによるウエノ１＃動速度に関する説明図、第１３図
はハンドロホットによる移動時間に対するエツチング精
度への影響上水１−た図でめ９、また第１４図は本発明
による自動ウェットエツチング８７１によるシリコン酸
化膜のエツチング？ｌｌを示す。 １・・・・・・・・・・・・エツチング槽２・・・・・
・・・・・・・オーバフローのエツチング液回収部３１
　、３２・・・・・・液面検出器 ４・・・・・・・・・・・・温度検出器５・・・・・・
・・・・・・エツチング液惧粘配管６・・・・・・・・
・・・・純水供粘上官７・・・・・・・・・・・・槽中
板 ８・・・・・・・・・・・・ポンプ ９１・・・・・・・・・・・・熱交侠器９２・・・・・
・・・・・・・熱交侠器用制イ叶器１０１〜１０５・・
・エア弁 １１１〜１１５　　・・・　自己　官 １２・・・・・・・・・・・廃液排出管１３・・・・・
・・・・・・・循環液流出管１４１　、１４２・・・オ
ーバ７０−のエツチング液導入板１５・・・・・・・・
・・・・ウェハキャリヤ１６・・・・・・・・・・・・
ウェハ １７・・・・・・・・・・・・熱交侠用タンク１８・・
・・・・・・・・・・温度検出器１９・・・・・・・・
・・・・熱父侠器用設置台２０・・・・・・・・・・・
・エツチング液回収部２６２１・・・・・・・・・・・
・ロータ ２２・・・・・・・・・・・・水洗槽 ２３・・・・・・・・・・・・ウエノ１乾線磯２４・・
・・・・・・・・・ノ１ントロボットのチャック２５・
・・・・・・・・・・・ノ１ンドロホット２６・・・・
・・・・・・・・ヘリ 特許出願人　日本電信電話公社 第１図 第２図 第１３図 ハンドロボットの移１力時九呵　けケ）第３図 ］１４ 第４図 第５図　　　　　　第６図 ［−□ 第９図 第１Ｏ図 第１１図 第１２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （ＩＪ　　エツチング槽すのエツチング処理部と、前記
   のエツチング槽にエツチング液を供帽テるエツナンク数
   供給抑と、砥エツナンタ惰に何故δ７したエツチング液
   回収部と、該エツチング液回収部よりのエツナンク＊會
   ｍ度制御した上でエツチング槽に循塊流出せしめる伽環
   ７改元出官と、し循塊腋ηＬ出１・より流出し１こエソ
   テンク液倉エツチング対象物の接触■に一様にｍし丁た
   のの制御恢構とｔ協えること勿特徴と１−心りエツトエ
   ツチング窄。 （２〕　　エツチング液の流ｆＬを匍」御す／）４咲栴
   に２いて、エツチング液のηＬ出口をエツチング槽の抵
   しＣ同り−たエツチング敢流出宮と、エツチング液かエ
   ツチング対象物の接触面に同一な条件で一株に流れるよ
   うにするための多数の穴を分布芒セた憎ｃｆＩ＆と、万
   一バフローのエツチング液か全体に直って一様に角りす
   ために被エツテンク対象物會囲ｖＪ−ようｖｃ槽の円部
   に収りたヘリと會俯えることｔ材似とす／ｂ丑訂珀求の
   範囲第ｌ少自己躯のクエントエソテング惜。 （３）　　エツチング液のηＣγしｔ甫Ｉ」御丁ゐ憾栴
   ＶＣｓ、−イテ、エツチング液かエツチング対象物の接
   触面に同一な栄件で一様に流ｒしるように丁ゐために、
   多数の穴７分布させた２設以上の僧中板で、その間にバ
   ッファ層２設り゛た制＃慎帯と、オーバフローのエツチ
   ング液が全体に枝って一様に流すためＶＣ扱エンナンク
   対象物に囲υ・ようＶＣ僧の円部に設けたヘリと？伽え
   ることｔ特慎とする特許請求の範囲第ｌ狽す己躯θクエ
   ットエソナング槽。 （４）　　エツチング槽と、前記のエツチング槽より取
   り出しｉｃエツナング対象物のエツチング液を洗い流丁
   水洗槽と、前記の水力槽より取り出したエツチング対象
   物全乾燥させる乾燥装置と、こγしらの間にエツチング
   対象物ｔ１その垂直移動速度と水平移動速度と？エツチ
   ング液のエツチング速度に対応芒ぜて制御移動セーしめ
   る移動憔構とｔ１ｉｉ！えること？！″特徴とするウェ
   ットエツチング装置。