JPS5993874A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPS5993874A JPS5993874A JP20368382A JP20368382A JPS5993874A JP S5993874 A JPS5993874 A JP S5993874A JP 20368382 A JP20368382 A JP 20368382A JP 20368382 A JP20368382 A JP 20368382A JP S5993874 A JPS5993874 A JP S5993874A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film forming
- observation
- mirror
- window
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/52—Means for observation of the coating process
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、スパッタ装置、蒸着装置、イオングレーティ
ング装置、プラズマＯＶＤ装置等の如く、真空下で基板
上に目的粒子を堆積させて薄膜を形成する薄膜形成装置
の改良に関し、更に詳しくは膜形成状態の観察が長時間
に亘シできる改良された覗窓を備えた薄膜形成装置に関
する。
ング装置、プラズマＯＶＤ装置等の如く、真空下で基板
上に目的粒子を堆積させて薄膜を形成する薄膜形成装置
の改良に関し、更に詳しくは膜形成状態の観察が長時間
に亘シできる改良された覗窓を備えた薄膜形成装置に関
する。
上述の薄膜形成装置においては、目的粒子の発生部分（
例えばターゲラトン、又、薄膜堆積部分（基板）を観測
するととＬ１膜形成の異常例えばターゲットや基板の異
常を発見するうえで特に有効な手段である。
例えばターゲラトン、又、薄膜堆積部分（基板）を観測
するととＬ１膜形成の異常例えばターゲットや基板の異
常を発見するうえで特に有効な手段である。
ととるが従来よシ用いられている薄膜形成装置は、装置
本体の壁面にもうけられた貫通孔のフランジに直接又は
短管を介してガラスを取シつけた覗窓から前記ターゲッ
ト又基板を直視する方法が用いられている。この従来方
法では、長時間薄膜を製造していると、覗窓のガラスが
飛散粒子の付着等により不透明化してしまい、装置内部
の観測が不可能となってしまい、前記ターゲットの異常
や基板の異常を監視できないという問題が生じる。かか
る問題を解消するものとして、覗窓と観測部分との間に
遮蔽板を設置したものがあり、極力遮蔽状態に保ち、す
なわち必要最少限に監視時間を短くすることで前記ガラ
スの不透明化に対処しているのが現状である。それでも
遮蔽板の設置位置によっては、（覗窓と遮蔽板との距離
が長い場合）飛散粒子の廻シ込みによって、遮蔽板を設
置しているにもかかわらず、長時間薄膜を製造している
と前記ガラスが不透明化してしまい、いざ観測しようと
したときには観測不可能な状態になってしまっていたと
いう不都合なケースが多々あった。
本体の壁面にもうけられた貫通孔のフランジに直接又は
短管を介してガラスを取シつけた覗窓から前記ターゲッ
ト又基板を直視する方法が用いられている。この従来方
法では、長時間薄膜を製造していると、覗窓のガラスが
飛散粒子の付着等により不透明化してしまい、装置内部
の観測が不可能となってしまい、前記ターゲットの異常
や基板の異常を監視できないという問題が生じる。かか
る問題を解消するものとして、覗窓と観測部分との間に
遮蔽板を設置したものがあり、極力遮蔽状態に保ち、す
なわち必要最少限に監視時間を短くすることで前記ガラ
スの不透明化に対処しているのが現状である。それでも
遮蔽板の設置位置によっては、（覗窓と遮蔽板との距離
が長い場合）飛散粒子の廻シ込みによって、遮蔽板を設
置しているにもかかわらず、長時間薄膜を製造している
と前記ガラスが不透明化してしまい、いざ観測しようと
したときには観測不可能な状態になってしまっていたと
いう不都合なケースが多々あった。
本発明は、かかる現状を解決するためなされたもので、
異物特に膜形成粒子め付着による覗窓の不透明化がなく
、簡単な構造で既存の薄膜形成装置に容易に適用できる
ものである。
異物特に膜形成粒子め付着による覗窓の不透明化がなく
、簡単な構造で既存の薄膜形成装置に容易に適用できる
ものである。
すなわち、本発明は、前述の真空下で基板上に薄膜を形
成する薄膜形成装置において、装置本体に覗窓を覗窓へ
の飛散粒子が到達できない程度に折曲した筒体を介して
設けると共に、その折曲部に鏡を設け、該鏡を介して覗
窓より内部観察でき、るようにしたことを特徴とするも
のである。
成する薄膜形成装置において、装置本体に覗窓を覗窓へ
の飛散粒子が到達できない程度に折曲した筒体を介して
設けると共に、その折曲部に鏡を設け、該鏡を介して覗
窓より内部観察でき、るようにしたことを特徴とするも
のである。
以下、本発明をスパッタ装置を例に図面にょシ説明する
。
。
第１図は上記実施例の構成図である。
図から明らかな通シ、その膜形成に係わる構成はスパッ
タ装置として周知のものであり、周知の通シ真空槽、内
を真空排気系〉ブリ所定の真空度にした後、ガス導入系
３よりアルゴン等の一所定のスパッタガスを導入すると
共に、スパッタ電源（図示省略）よりターゲット４に電
力を供給し、ターゲット４をスパッタし、ターゲット４
の組成に応じた薄膜を基板５上に形成するようになって
いる。なお、図の６はターゲットホルダー、図の７はノ
ｔ５板ボルダ−である。ところで、真空ｍｌの内部を観
察する覗窓１ｏは以下のように設けである。すなわち、
ターゲット４、基板５及びその間の放電領域等のＩ［形
成状況を観察できるようにこれらに対面する真空槽１の
側壁に貫通孔１１を設け、所定長の中間で略直角に折曲
したＬ字状の筒体１２の一端を７ランジ１３ａ、１３ｂ
Ｋよシ貫通孔１１に接続すると共に筒体１２の折曲部に
反射のための鏡１４をその入射角θが調整できるように
調整軸１５回シに回動可能に設け、筒体１２の他端ｆ７
う７’）１６ａ、１６ｂを介してガラス板で封止して覗
窓１０としである。なお、調整軸１５は筒体１２外まで
延長し、調整つまみ（図示省略）を設け、外部よシ鏡１
４の入射角θを調整できるようにして観察部位の拡大を
計っである。
タ装置として周知のものであり、周知の通シ真空槽、内
を真空排気系〉ブリ所定の真空度にした後、ガス導入系
３よりアルゴン等の一所定のスパッタガスを導入すると
共に、スパッタ電源（図示省略）よりターゲット４に電
力を供給し、ターゲット４をスパッタし、ターゲット４
の組成に応じた薄膜を基板５上に形成するようになって
いる。なお、図の６はターゲットホルダー、図の７はノ
ｔ５板ボルダ−である。ところで、真空ｍｌの内部を観
察する覗窓１ｏは以下のように設けである。すなわち、
ターゲット４、基板５及びその間の放電領域等のＩ［形
成状況を観察できるようにこれらに対面する真空槽１の
側壁に貫通孔１１を設け、所定長の中間で略直角に折曲
したＬ字状の筒体１２の一端を７ランジ１３ａ、１３ｂ
Ｋよシ貫通孔１１に接続すると共に筒体１２の折曲部に
反射のための鏡１４をその入射角θが調整できるように
調整軸１５回シに回動可能に設け、筒体１２の他端ｆ７
う７’）１６ａ、１６ｂを介してガラス板で封止して覗
窓１０としである。なお、調整軸１５は筒体１２外まで
延長し、調整つまみ（図示省略）を設け、外部よシ鏡１
４の入射角θを調整できるようにして観察部位の拡大を
計っである。
以上の通シ、鏡１４にょシ覗窓１ｏがら真空槽１の内部
を観察する観察路Ｉを略直角に折り曲げ、覗窓ｌＯが真
空槽ｌの内部に直面しないようにしであるので、粒子発
生部であるターゲット４からの飛散粒子は覗窓１０には
全く到達せず、覗窓１０のガラスの不透明化は効果的に
防止される。
を観察する観察路Ｉを略直角に折り曲げ、覗窓ｌＯが真
空槽ｌの内部に直面しないようにしであるので、粒子発
生部であるターゲット４からの飛散粒子は覗窓１０には
全く到達せず、覗窓１０のガラスの不透明化は効果的に
防止される。
ところで、鏡１４は真空槽１の内部に直面しているので
飛散粒子の付着は避けられないが、飛散粒子が金属元素
等の如く光反射率の高いものの場合は、粒子の付着は鏡
面の形成となり、何ら障害とならない。このように光反
射率の高い薄膜、特に金属薄膜の薄膜形成装置には適し
たものである。また、光反射率の低い薄膜の場合にも、
鏡の反射を利用しているためが従来よシは長い間使用で
きるようになった。更に、前述の調整つまみにより常時
は裏面を真空槽重の内部に向けておき、必要時のみ鏡面
側へ反転させて観察するようにすれば、まず実用上充分
な長時間に亘る監視ができる。
飛散粒子の付着は避けられないが、飛散粒子が金属元素
等の如く光反射率の高いものの場合は、粒子の付着は鏡
面の形成となり、何ら障害とならない。このように光反
射率の高い薄膜、特に金属薄膜の薄膜形成装置には適し
たものである。また、光反射率の低い薄膜の場合にも、
鏡の反射を利用しているためが従来よシは長い間使用で
きるようになった。更に、前述の調整つまみにより常時
は裏面を真空槽重の内部に向けておき、必要時のみ鏡面
側へ反転させて観察するようにすれば、まず実用上充分
な長時間に亘る監視ができる。
なお、接続部を７ランジ接続として着脱容易となしであ
るので、足掻等に便利である。
るので、足掻等に便利である。
以上、本発明を実施例に基いて説明したが、本発明はか
かる実施例に限定されるものでないことは云うまでもな
い。
かる実施例に限定されるものでないことは云うまでもな
い。
スパッタ装置を例に説明したが、前述の真空下で基板上
に月的粒子を堆積させて薄膜を形成する薄膜形成装置で
あれば、各種のものに適用できることは本発明の趣旨か
ら明らかである。
に月的粒子を堆積させて薄膜を形成する薄膜形成装置で
あれば、各種のものに適用できることは本発明の趣旨か
ら明らかである。
また、鏡として像変形のない平面鏡を示したが、凸面鏡
等も適用できることも云うまでもない。凸面鏡を用いる
と視野拡大に有利である。
等も適用できることも云うまでもない。凸面鏡を用いる
と視野拡大に有利である。
更に調整軸を中心とした多面鏡とすると、光反射率の低
い膜の形成の場合、順次回転させることにより、監視時
間を大巾に長くできる利点がある。
い膜の形成の場合、順次回転させることにより、監視時
間を大巾に長くできる利点がある。
更に、Ｌ字状の筒体を示したが、筒体は覗窓へ飛散粒子
が到達できない程度に折れ曲がったものであれば十分で
あることは、本発明の趣旨から明らかである。具体的な
折曲角は、筒径、筒長及び鏡の大きさ等の影響を受け、
実験的に決める必要がある。
が到達できない程度に折れ曲がったものであれば十分で
あることは、本発明の趣旨から明らかである。具体的な
折曲角は、筒径、筒長及び鏡の大きさ等の影響を受け、
実験的に決める必要がある。
以上のように、本発明は先端に設けた覗窓への粒子の飛
散がない程度に折れ曲がった筒体の折曲部′に鏡を設け
、該鏡によυ内部を反射させて観察するようにしたこと
を特徴とする薄膜形成装置であり、種々の態様で実施で
き、簡単な構成で長時間の内部観察ができるもので、薄
膜形成装置の性能向上に大きな寄与をなすものである。
散がない程度に折れ曲がった筒体の折曲部′に鏡を設け
、該鏡によυ内部を反射させて観察するようにしたこと
を特徴とする薄膜形成装置であり、種々の態様で実施で
き、簡単な構成で長時間の内部観察ができるもので、薄
膜形成装置の性能向上に大きな寄与をなすものである。
第１図は、本発明に係わるスパッタ装置の構造図である
。 １：真空槽 ４：ターゲット ５：基板１０ ：
覗 窓 １２ ： 筒 体 工 ４
；鏡特許出願人 帝人株式会社 １−＋、＋Ｐ
。 １：真空槽 ４：ターゲット ５：基板１０ ：
覗 窓 １２ ： 筒 体 工 ４
；鏡特許出願人 帝人株式会社 １−＋、＋Ｐ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 Ａ突上で基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置
において、装置本体に覗窓を覗窓へ飛散粒子が到達でき
ない程度に折れ曲がった筒体を介して設けると共に、そ
の折曲部に碗を設け、該鏡を介して覗窓よシ内部観察で
きるようになしたことを特徴とする薄膜形成装置。 ２ 前記鏡の少なくとも反射角が外部よシ調整可能であ
る特許請求の範囲第１項記載の薄膜形成装置。 １ 前記鏡が多面鏡である特許請求の範囲第２項記載の
薄膜形成装置。 未 前記薄膜が金属薄膜である特許請求の範囲第１項若
しくは第２項記載の薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20368382A JPS5993874A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20368382A JPS5993874A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 薄膜形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5993874A true JPS5993874A (ja) | 1984-05-30 |
| JPS6348947B2 JPS6348947B2 (ja) | 1988-10-03 |
Family
ID=16478107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20368382A Granted JPS5993874A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5993874A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63227777A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜形成装置 |
| CN114540784A (zh) * | 2021-07-14 | 2022-05-27 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种观察角度广的视窗 |
-
1982
- 1982-11-22 JP JP20368382A patent/JPS5993874A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63227777A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜形成装置 |
| CN114540784A (zh) * | 2021-07-14 | 2022-05-27 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种观察角度广的视窗 |
| CN114540784B (zh) * | 2021-07-14 | 2023-09-05 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种观察角度广的视窗 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6348947B2 (ja) | 1988-10-03 |
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