JPS5989685A - Epoxy carbacephem compound - Google Patents

Epoxy carbacephem compound

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JPS5989685A
JPS5989685A JP57200034A JP20003482A JPS5989685A JP S5989685 A JPS5989685 A JP S5989685A JP 57200034 A JP57200034 A JP 57200034A JP 20003482 A JP20003482 A JP 20003482A JP S5989685 A JPS5989685 A JP S5989685A
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cis
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Tadashi Hirata
平田 正
Masao Matsukuma
松隈 征夫
Shigeo Yoshiie
吉家 重夫
Akira Sato
章 佐藤
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KH Neochem Co Ltd
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Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:A compound of formula I [X is phthalimide or azide; Y is H or methyl; R is 1-5C lower alkyl (which may be substituted by a halogen), (substituted) silyl, benzyl or trityl, etc., provided that the phenyl nucleus thereof may be substituted by methyl, methoxyl or nitro]. EXAPLE:tert-Butyl (+ or -)-6,7-cis-7-azido-1-azabicyclo[4.2.0]octo-2,3-epoxy-8-oxo-2- carboxylate. USE:Useful as an intermediate for 3-hydroxy derivatives, etc. which are parent nuclei of cephalosporin analogs having antimicrobial action. PROCESS:A compound of formula II is reacted with a halogenating agent in a hydrous solvent, e.g. tetrahydrofuran (THF), at -10-+50 deg.C to give a compound of formula III (Z is halogen), which is then treated with a base, e.g. pyridine, in an inert solvent at 0-50 deg.C to afford the aimed compound of formula I .

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(1) 〔式中、Xはフタリミド基またはアジド基であり、Yは
水素原子またはメチル基であり、RはC1〜C5の直鎖
または分岐の低級アルキル基(〕・ロゲ/で置換されて
いてもよい)、置換シリル基、またはベンジル基、ベン
ズヒドリル基またはトリチル基(ただし、これらの基の
フェニル核はメチル基、メトキシ基筒たはニトロ基で置
換されていてもよい)である〕で表わされるエポキシカ
ルバセフェム化合物(以下、化合物CI)という。他の
式番号の化合物についても同様)に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is based on the general formula (1) [wherein, A lower alkyl group (which may be substituted with ), a substituted silyl group, or a benzyl group, a benzhydryl group, or a trityl group (however, the phenyl nucleus of these groups is a methyl group, a methoxy group, or a nitro group). The epoxycarbacephem compound (hereinafter referred to as compound CI) represented by The same applies to compounds with other formula numbers).

カルバセフェム類はもとよりセファロスポリン類につい
てもエポキシ基を有する化合物は知られていない。化合
物CI)は後述のととく3−ヒドロキシカルバセフェム
化合物等を経て抗菌作用を有する化合物に変換できる有
用な中間体である。
No compound having an epoxy group is known not only for carbacephems but also for cephalosporins. Compound CI) is a useful intermediate that can be converted into a compound having antibacterial activity via a 3-hydroxycarbacephem compound, etc., which will be described later.

一般式CI)中、Rについて「C□〜C5の直鎖または
分岐の低級アルキル基」としてはメチル、エチル、プロ
ピル、t−/ロピル、フチル。
In the general formula CI), the "C□-C5 linear or branched lower alkyl group" for R is methyl, ethyl, propyl, t-/propyl, and phthyl.

i−ブチル+ 5ee−ブチル+ tert−ブチル、
n−ペンチル等があげられる。
i-butyl + 5ee-butyl + tert-butyl,
Examples include n-pentyl.

Rについてハロゲンで置換した基としてはクロロメチル
、  2,2.2−トリクロロエチル、2,2.2−ト
リフルオロエチル等が例示され、ハロゲンとしては塩素
、フッ素、臭素が例示される。
Examples of the group substituted with halogen for R include chloromethyl, 2,2.2-trichloroethyl, 2,2.2-trifluoroethyl, etc., and examples of the halogen include chlorine, fluorine, and bromine.

置換シリルとしてはトリメチルシリル、1−ブチルジメ
チルシリル等が例示される。
Examples of the substituted silyl include trimethylsilyl and 1-butyldimethylsilyl.

化合物CI)は一般式〔■〕 CO,R (式中、X、Y、Rは前記と同義である)で表わされる
、特開昭54−128591に記載されていZ公知の化
合物を出発化合物として、以下のプロセスIに従って合
成される。
Compound CI) is represented by the general formula [■] CO,R (wherein, , synthesized according to Process I below.

(プロセスI) (式中、X、Y、Rけ前記と同義であり、2はハロゲン
原子である) ハロヒドリン化ハオレフインのハロヒドリン化の一時的
手法に従って行うことができる。好ましくは、ハロヒド
リン化は含水溶媒中で化合物[1)とハロゲン化剤とを
一10〜50℃で反応させることにより行われる。
(Process I) (In the formula, X, Y, and R have the same meanings as above, and 2 is a halogen atom) It can be carried out according to a temporary method of halohydrination of haolefin. Preferably, halohydrination is carried out by reacting compound [1) with a halogenating agent at -10 to 50°C in a water-containing solvent.

溶媒としてはジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトン、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド等が使用できる。ハ
ロゲン化剤としてはN−ハロサクシミド、N−ハロアセ
タミド。
As a solvent, dimethoxyethane, tetrahydrofuran,
Dioxane, diethyl ether, acetone, dimethyl sulfoxide, dimethyl formamide, etc. can be used. As the halogenating agent, N-halosuccimide and N-haloacetamide are used.

第3ブチルハイポクロライド、第3プチルノ1イボブロ
マイド、ハロゲン等を化合物[n)に対して1〜1.5
当量用いる。
tertiary butyl hypochloride, tertiary butyl hypochloride, halogen, etc. to compound [n] at 1 to 1.5
Use equivalent amount.

エポキシ化は不活性溶媒中、化合物〔■〕を塩基で0〜
50℃で処理することにより行う。
Epoxidation is carried out by converting the compound [■] with a base in an inert solvent from 0 to
This is done by processing at 50°C.

不活性溶媒としてはジクロルメタン、クロロホルム、ジ
メトキシエタン、テトラヒドロフラン。
Inert solvents include dichloromethane, chloroform, dimethoxyethane, and tetrahydrofuran.

ジオキサン、ジエチルエーテル、トルエン、ベンゼン、
酢酸エチル、ジメチルスルホキシド。
Dioxane, diethyl ether, toluene, benzene,
Ethyl acetate, dimethyl sulfoxide.

ジメチルホルムアミド等を使用する。塩基としてはトリ
エチルアミン、ジエチルアミン、ピリジン、1.5−ジ
アザビシクロ[4,3,0:3ノネン51118−ジア
ザビシクロ[: 5.4.0 :]]ウンデセンーのよ
うな有機アミン類を化合物〔l)に対して1〜2当量用
いる。
Use dimethylformamide etc. As a base, organic amines such as triethylamine, diethylamine, pyridine, 1,5-diazabicyclo[4,3,0:3nonene51118-diazabicyclo[:5.4.0:]]undecene are used for compound [l]. 1 to 2 equivalents are used.

反応混合物中から化合物El)や化合物CI)の単離m
fAhペニシリン類、セファロスポリン類の合成におい
て通常用いられる手法、例えば ′抽出、力2ムクロマ
トグ2フィー、再結晶等により行うことができる。もつ
とも化合物〔璽〕を単離せずに反応を行うこともできる
Isolation of compound El) and compound CI) from the reaction mixture m
It can be carried out by techniques commonly used in the synthesis of penicillins and cephalosporins, such as extraction, chromatography, recrystallization, etc. Of course, the reaction can also be carried out without isolating the compound.

本発明により得られる化合物(I)は本発明(5) 者らにより開発された以下のプロセス■により、例えば
触媒として、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化アルミニウム、
臭化アルミニウム、四塩化チタン、臭化マグネシウム、
臭化リチウム、沃化リチウム、塩化リチウム、過塩素酸
リチウム、フッ化水素、トリーn−ブチルホスフィンオ
キサイド等を用いて、抗菌作用を有するセファロスポリ
/類縁体の母核である3−ハイドロキシ体CIV)や更
に3−メトキシ体(IVIに導くことができ、したがっ
て化合物[T]は有用な中間体である。プロセス■の詳
細な説明は参考例によって例示する。
Compound (I) obtained according to the present invention can be obtained by the following process (1) developed by the present inventors (5) using, for example, zinc chloride, zinc bromide, aluminum chloride,
aluminum bromide, titanium tetrachloride, magnesium bromide,
Using lithium bromide, lithium iodide, lithium chloride, lithium perchlorate, hydrogen fluoride, tri-n-butylphosphine oxide, etc., 3-hydroxy compound (CIV), which is the core of cephalosporin/analogues with antibacterial activity, is produced. Furthermore, it can lead to the 3-methoxy form (IVI), and therefore, compound [T] is a useful intermediate. A detailed explanation of process (1) is illustrated by reference examples.

(プロセス■) CI)        [IV〕[Y]3位にヒドロキ
シ基やメトキシ基を有するカルバセフェム化合物につい
てはChem、Pharm、Bull、。
(Process ■) CI) [IV] [Y] For carbacephem compounds having a hydroxy group or methoxy group at the 3-position, see Chem, Pharm, Bull.

28(5) 1563(1980)に記載がある。28(5) 1563 (1980).

(6) 以上のようにして得られる化合物〔■〕のうち、C02
Rで示されるエステル基は、ペニシリン。
(6) Among the compounds [■] obtained as above, C02
The ester group represented by R is penicillin.

セファロスポリンの化学で頻用されている手法を用いて
、適当な条件、試剤を選ぶことにより分子中の置換基、
官能基を損わずにカルボキシル基に変換し得る。またX
で示される置換基がアジド基の場合は、好ましい手法と
して接触還元法、または硫化水系をトリエチルアミン、
ピリジン等の塩基の存在下で作用させる方法等により、
アミン基へ変換でき、またXで示される置換基がフタリ
ミド基の場合、特開昭57−91991に記載されてい
るヒドラジン化合物を用いる方法によりアミノ基に変換
できる。そのアミノ基に、ペニシリン、セファロスポリ
ンの化学の領域で常用される種々のアシル基を導入する
ことにより、有用な抗菌活性を有するセファロスポリン
類縁化合物を得ることができる。
Using methods frequently used in cephalosporin chemistry, substituents in the molecule, by selecting appropriate conditions and reagents,
It can be converted into a carboxyl group without damaging the functional group. Also X
If the substituent represented by
By a method of acting in the presence of a base such as pyridine, etc.
If the substituent represented by By introducing various acyl groups commonly used in the field of penicillin and cephalosporin chemistry into the amino group, cephalosporin analogs having useful antibacterial activity can be obtained.

本発明の実施態様を以下に例示する。Embodiments of the present invention are illustrated below.

実施例1.(ト)−6,7−シス−ツーアジド−1−ア
ザビシクロ[4,2,03オクト−2,3−エポキシ−
8−オキソ−2−カルボン酸第三ブチルエステル: (ト)−6,7−シス−ツーアジド−1−アザビシクロ
[4,20]]オクトー2.3−1ポキシー8−オキソ
2−カルボン酸、第3ブチルエステルの製造法。(ト)
−シス−7−アジド−1−アザビシクロ[4,20]]
オクトー2−エンー8−オキソー2カルボン酸、第3ブ
チルエステル2v(7,58mmol)を、1,2−ジ
メトキシエタン2001、水100m1!の混合溶媒に
溶解し、水冷下撹拌しつつ、N−ブロモサクシイミド2
.02f(11,36mmol)を加え、1.5時間攪
拌をつづける。ここに酢酸エチル10011tl!を加
え、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を留去する。得られた残渣に無水塩化メチレン2
0−3ヒ加え、このものにトリエチルアミン1.55m
を添加して、室温で一夜攪拌をつつける。溶媒を減圧下
留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトに付しく
シリカゲル802)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:
1)により溶出される目的物を含有する両分を集め、減
圧濃縮すると850■(40,1%)の固化物を得る。
Example 1. (g)-6,7-cis-2azido-1-azabicyclo[4,2,03oct-2,3-epoxy-
8-Oxo-2-carboxylic acid tert-butyl ester: (t)-6,7-cis-twoazido-1-azabicyclo[4,20]]octo-2.3-1 poxy-8-oxo-2-carboxylic acid, Method for producing 3-butyl ester. (to)
-cis-7-azido-1-azabicyclo[4,20]]
Octo-2-ene-8-oxo dicarboxylic acid, tertiary butyl ester 2v (7.58 mmol), 1,2-dimethoxyethane 2001, water 100ml! N-bromosuccinimide 2 was dissolved in a mixed solvent of
.. Add 02f (11.36 mmol) and continue stirring for 1.5 hours. Here is 10011 liters of ethyl acetate! After washing with saturated brine and drying over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off. Anhydrous methylene chloride 2 was added to the resulting residue.
Add 0-3 h and add 1.55 m of triethylamine to this.
and stir overnight at room temperature. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography using silica gel 802), n-hexane-ethyl acetate (4:
Both fractions containing the target product eluted in step 1) were collected and concentrated under reduced pressure to obtain 850 μm (40.1%) of a solidified product.

このものの物性値は以下の通りである。The physical properties of this product are as follows.

IR1,’ KBr(>−リ: 3460,2980?
 2120117801aX 74O NMR(CDCl、 )δ: 4.89(IH,d、 
J=4.88Hz)、 3.68(1)L br、s)
、 3.423.61(IH+ m)、1.68−2.
53(4H,m)、 1.51(9H,8)実施例2.
(ト)−6,7−シス−ツーアジド−1−アザビシクロ
[4,20]オクト−2−ハイドロキシ−3−ブロモー
8−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステルの製
造: (→−シスー7−アジドー1−アザビシクロ[4,20
]]オクトー2−エンー8−オキソー2カルボン酸、第
3ブチルエステル21F(7,58mmol)を1.2
−ジメトキシエタy200t&、水100dの混合溶媒
に溶解し、水冷下撹拌しつつ、N−(9) ブロモサクシイミド2.02 f (11,36m m
ol)を加え、1.5時間攪拌をつづける。次に酢酸エ
チル100−を加え、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトに付しくシリカ
ゲル50v)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)に
より溶出される目的物を含有する画分を集め、減圧濃縮
すると1.7or(az、zqb)の油状物を得る。こ
のものは2種類の異性体からなっている。このものの物
性値は以下の通りである。
IR1,'KBr(>-ri: 3460,2980?
2120117801aX 74O NMR (CDCl, )δ: 4.89 (IH, d,
J=4.88Hz), 3.68(1)L br, s)
, 3.423.61 (IH+m), 1.68-2.
53 (4H, m), 1.51 (9H, 8) Example 2.
Production of (t)-6,7-cis-twoazido-1-azabicyclo[4,20]oct-2-hydroxy-3-bromo8-oxo-2-carboxylic acid, tert-butyl ester: (→-cis-7 -azido 1-azabicyclo[4,20
]] Octo-2-ene-8-oxo-2-carboxylic acid, tertiary butyl ester 21F (7.58 mmol) was added to 1.2
-Dissolved in a mixed solvent of 200 t of dimethoxyethane and 100 d of water, and while stirring under water cooling, 2.02 f of N-(9) bromosuccinimide (11,36 mm
ol) and continued stirring for 1.5 hours. Next, 100% of ethyl acetate is added, and the ethyl acetate layer is washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then the solvent is distilled off. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography, and the fractions containing the target compound eluted with silica gel 50v) and n-hexane-ethyl acetate (4:1) were collected and concentrated under reduced pressure to yield 1.7 or (az, zqb). ) to obtain an oily substance. This substance consists of two types of isomers. The physical properties of this product are as follows.

〈低極性異性体〉 745 NMR(CDCl3)δ: 4.70(IH* br、
s)t 4.70(IH+d、 J=4.88H2)、
 3.82−4.14 (2H,m )+ 2.37−
2.62(2Hl m)、 1.69−1.93(2H
,rn )。
<Low polar isomer> 745 NMR (CDCl3) δ: 4.70 (IH* br,
s)t 4.70 (IH+d, J=4.88H2),
3.82-4.14 (2H, m) + 2.37-
2.62 (2Hl m), 1.69-1.93 (2H
,rn).

1.58(9H,s) 〈高極性異性体〉 745 lNMR(CDCl2)δ: 4.73(IH,br、
8)、 4.71(IH,dlJ=4.89Hz)、3
.92−4.14(2H,m)、1.742.53(4
H+ m)+ 1.58(9H9s)参考例1.(ト)
−シス−7−アジド−1−アザビシクロ[4,2,0)
オクト−2−工/−3−ハイドロキシ−8−オキソ−2
−カルボン酸、第3ブチルエステル: 実施例1で得られたエポキシ体s s o q(a、o
am mol )を無水ベンゼン20ゴに溶解し、塩化
亜鉛2001t9を加え、50℃に2時間激しく攪拌す
る。無機塩を炉別し、F液を減圧濃縮する。
1.58 (9H, s) <Highly polar isomer> 745 lNMR (CDCl2) δ: 4.73 (IH, br,
8), 4.71 (IH, dlJ=4.89Hz), 3
.. 92-4.14 (2H, m), 1.742.53 (4
H+ m)+ 1.58 (9H9s) Reference example 1. (to)
-cis-7-azido-1-azabicyclo[4,2,0)
Octo-2-en/-3-hydroxy-8-oxo-2
-Carboxylic acid, tertiary butyl ester: Epoxy body ssoq(a,o
am mol) was dissolved in 20 g of anhydrous benzene, 2001 t9 of zinc chloride was added, and the mixture was stirred vigorously at 50° C. for 2 hours. The inorganic salts are separated in a furnace, and the F solution is concentrated under reduced pressure.

得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトに付しくシリ
カゲル50f)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)
により溶出される目的物を含有する両分を集め、減圧濃
縮すると1491v(17,5チ)の結晶を得る。
The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography using silica gel 50f) and n-hexane-ethyl acetate (4:1).
Both fractions containing the target substance eluted are collected and concentrated under reduced pressure to obtain crystals of 1491v (17.5%).

このものの物性値は以下の通りである。The physical properties of this product are as follows.

IRl/)cHc13(crR−1) : 29B0.
2120.1775.1660ax NMR(CD(J3)δ: 11.50(IH,8)I
 4.85(IH9d。
IRl/)cHc13(crR-1): 29B0.
2120.1775.1660ax NMR (CD(J3)δ: 11.50(IH,8)I
4.85 (IH9d.

J=4.88Hz )+ 3.62 3.82(11(
+ m)、2.44−2.59(2H1m)t 1.7
7−2.38(2HI m)11.55(9H,8) 参考例2.(ト)−シス−7−アジド−1−アザビシク
ロ(4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステル: 実施例1で得られたエポキシ体850■(3,03mm
ol)を無水ベンゼン2011L/!に溶解し、塩化亜
鉛200■を加え、50℃に2時間激しく攪拌する。無
機塩を炉別し、適量のジアゾメタンエーテル溶液を加え
、室温で30分攪拌後、減圧濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトに付しくシリカゲル10f)、
n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)により溶出される
目的物を含有する両分を集め減圧濃縮すると100■(
11,2チ)の結晶を得る。
J=4.88Hz)+3.62 3.82(11(
+ m), 2.44-2.59 (2H1m)t 1.7
7-2.38 (2HI m) 11.55 (9H, 8) Reference example 2. (t)-cis-7-azido-1-azabicyclo(4,2,0)oct-2-ene-3-methoxy-8
-Oxo-2-carboxylic acid, tertiary butyl ester: Epoxy body obtained in Example 1 850cm (3.03mm
ol) to anhydrous benzene 2011L/! Add 200 μm of zinc chloride and stir vigorously at 50° C. for 2 hours. The inorganic salt was separated by furnace, an appropriate amount of diazomethane ether solution was added, and after stirring at room temperature for 30 minutes, it was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography.
Both fractions containing the target substance eluted with n-hexane-ethyl acetate (4:1) were collected and concentrated under reduced pressure to yield 100 μm (
11,2) crystals are obtained.

IR9CI(c’a@m−1) : 2980.212
0.1775.1715aX NMR(cryct3)δ: 4.87(IH,d、 
J=4.89Hz)+ 3.76(3H,8)、 3.
42−3.96(IHI m)、 2.40−2.72
(2)I、 m)、 1.79−2.33(2H,m)
IR9CI (c'a@m-1): 2980.212
0.1775.1715aX NMR (cryct3) δ: 4.87 (IH, d,
J=4.89Hz)+3.76(3H,8), 3.
42-3.96 (IHI m), 2.40-2.72
(2) I, m), 1.79-2.33 (2H, m)
.

1.53 (9H+ s ) 参考例3.(ホ)−シス−7−アミノ−1−アザビシク
ロ[4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オ;計ソー2−カルボ/酸、第3ブチルエステル塩酸
塩: 参考例2で得られたメトキシ体19 s my (o、
a7m mol)を20dのエタノールに溶解し、IN
 HCI    。
1.53 (9H+s) Reference example 3. (e)-cis-7-amino-1-azabicyclo[4,2,0)oct-2-ene-3-methoxy-8
-O; total 2-carbo/acid, tertiary butyl ester hydrochloride: methoxy compound obtained in Reference Example 2 19 s my (o,
a7m mol) was dissolved in 20d of ethanol, IN
HCI.

0.673d及び10%パラジウム−炭素触媒50ηを
加えて30分間接接触光を行なう。触媒を戸別し、p液
を減圧濃縮する。得られた残渣にエーテル10alを加
えてよく破砕すると目的物(13) 709(34,1チ)が固化物として得られる。
Add 0.673d and 50η of 10% palladium-carbon catalyst and perform indirect contact light for 30 minutes. The catalyst is separated and the p liquid is concentrated under reduced pressure. When 10al of ether is added to the obtained residue and the mixture is thoroughly crushed, the target product (13) 709 (34.1ch) is obtained as a solidified product.

IRl/)KBr(cm−”) : 36703300
−30702730+ax 1770、1715.1620 参考例4.(ホ)−シス−7−アミノ−1−アザビシク
ロ[4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オキソ−2−カルボン酸、トリフルオロ酢酸塩: 参考例3で得られたアミノ体70y(0,2sm mo
l )を塩化メチレン3耐に溶解し水冷下トリフルオロ
酢酸を0.2 sit加え、そのまま3時間攪拌をつづ
ける。反応液を減圧濃縮後、エーテル5dを加えて、よ
く破砕すると目的物30mg(40,2%)が固化物と
して得られる。
IRl/)KBr(cm-”): 36703300
-30702730+ax 1770, 1715.1620 Reference example 4. (e)-cis-7-amino-1-azabicyclo[4,2,0)oct-2-ene-3-methoxy-8
-Oxo-2-carboxylic acid, trifluoroacetate: Amino compound 70y obtained in Reference Example 3 (0,2sm mo
1) in methylene chloride, 0.2 sit of trifluoroacetic acid was added under water cooling, and stirring was continued for 3 hours. After concentrating the reaction solution under reduced pressure, ether 5d was added and the mixture was thoroughly crushed to obtain 30 mg (40.2%) of the target product as a solidified product.

IRp ”:”:rJc(cm−”) : 3700−
3200.3100−2800゜+77oj  162
0+  1550脇(■5OD)δ: 3.80(3H
,s)、 3.64,4.02(IH。
IRp”:”:rJc(cm-”): 3700-
3200.3100-2800゜+77oj 162
0+ 1550 side (■5OD) δ: 3.80 (3H
, s), 3.64, 4.02 (IH.

m)s 1.802.35(2H+ m)(14) 手続補正書 昭和58年 1月27日 特許庁長官 殿 1、事件の表示 昭和57年特許願第200034号 λ発明の名称 エポキシカルバセフェム化合物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 郵便番号 100 住 所  東京都千代田区大手町−丁目6番1号名称 
(102)協和醗酵工業株式会社(置:03−201−
7211内線2751)明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (2)3頁7〜8行の「りpロノチル、」のあとK「ク
ロロエチル、」を加入する。
m) s 1.802.35 (2H+ m) (14) Procedural amendment January 27, 1980 Commissioner of the Japan Patent Office Sir 1, Indication of case 1982 Patent Application No. 200034 λ Name of invention Epoxycarbacephem compound 3. Relationship with the person making the amendment Patent applicant postal code 100 Address 6-1 Otemachi-chome, Chiyoda-ku, Tokyo Name
(102) Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. (location: 03-201-
7211 extension 2751) Detailed explanation of the invention column 5 of the specification, contents of amendment (2) Add K "chloroethyl," after "ripronotyl," on page 3, lines 7-8.

(3)4真下11行の「一時的」を「一般的」に訂正す
る。
(3) Correct "temporary" in line 11 directly below 4 to "general."

(4)5頁11行を次のごとく訂正する。(4) Correct page 5, line 11 as follows.

「−5さらに1,8−ジアザビシクロ[5,4,0:]
ウンデセ」 (5)8真下15〜12行の[(±)−6,7−シスー
ーーーの製造法。」を削除する。
"-5 and 1,8-diazabicyclo[5,4,0:]
(5) Directly below line 8, lines 15 to 12, [(±)-6,7-sisu production method. ” to be deleted.

(6)9貴下9行の1実施例2.(±)−6,7−シス
−ツーアジド−1−」を次のごとく補充訂正する。
(6) 1 Example 2 of 9 lines of 9. (±)-6,7-cis-twoazide-1-" is supplemented and corrected as follows.

[実施例2.(±)−6,7−シス−ツーアジド−1−
アザビシクロ[4,2,0]]オクトー2.3−エボキ
シー8−オキソ2−カルボン酸、第3ブチルエステル: (1)(±)−6,7−シス−ツーアジド−1−」(7
)11頁3行のあとに次の文を加入する。
[Example 2. (±)-6,7-cis-twoazido-1-
Azabicyclo[4,2,0]]octo-2,3-eboxy-8-oxo-2-carboxylic acid, tert-butyl ester: (1) (±)-6,7-cis-twoazido-1-'' (7
) Add the following sentence after line 3 on page 11.

r(2) (±)−6,7−シス−ツーアジド−1−ア
ザビシクロ(4,10)オクト−2,3−エボキ(2) シー8−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステル
の製造: 上記(1)で得られた(±) −6,7−シス−ツーア
ジド−1−アザビシクロ(4,2,0)オクト−2−ハ
イドロキシ−3−プロモー8−オキソ−2−カルボン酸
、第3ブチルエステル1.7Fを無水塩化メチレン20
−に溶解する。
r(2) (±)-6,7-cis-twoazido-1-azabicyclo(4,10)octo-2,3-eboki(2) Production of cy8-oxo-2-carboxylic acid, tertiary butyl ester : (±)-6,7-cis-twoazido-1-azabicyclo(4,2,0)oct-2-hydroxy-3-promo-8-oxo-2-carboxylic acid obtained in (1) above, 3 butyl ester 1.7F in anhydrous methylene chloride 20
- dissolves in

このものにトリエチルアミン1.55−を加えて室温で
一夜攪拌を行なう。溶媒を減圧下留去した後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトに付しくシリカゲル80f)、
n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)によル溶出される
目的物を含有する両分を集め、減圧濃縮すると6801
51(51,4N)の固化物を得る。このものの物性値
は実施例1で得られた物と全く同一である。」 (3)
1.55-triethylamine was added to this mixture, and the mixture was stirred at room temperature overnight. After distilling off the solvent under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain silica gel 80f),
Both fractions containing the target substance eluted with n-hexane-ethyl acetate (4:1) were collected and concentrated under reduced pressure to obtain 6801.
A solidified product of 51 (51,4N) was obtained. The physical properties of this product are exactly the same as those obtained in Example 1. ” (3)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式CI) 〔式中、Xはフタリミド基またはアジド基であり、Yは
水素原子またはメチル基であり、RはC□〜C5の直鎖
または分岐の低級アルキル基(ハロゲンで置換されてい
てもよい)、置換シリル基、またはベンジル基、ベンズ
ヒドリル基またはトリチル基(ただし、これらの基のフ
ェニル核はメチル基、メトキシ基またはニトロ基で置換
されていてもよい)である〕で表わされるエポキシカル
バセフェム化合物。
[Claims] General formula CI) [wherein, (optionally substituted with halogen), a substituted silyl group, or a benzyl, benzhydryl or trityl group (however, the phenyl nucleus of these groups may be substituted with a methyl, methoxy or nitro group) An epoxycarbacephem compound represented by
JP57200034A 1982-11-15 1982-11-15 Epoxy carbacephem compound Granted JPS5989685A (en)

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