JPH02300190A - Production of cephalosporin compound - Google Patents

Production of cephalosporin compound

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JPH02300190A
JPH02300190A JP20365789A JP20365789A JPH02300190A JP H02300190 A JPH02300190 A JP H02300190A JP 20365789 A JP20365789 A JP 20365789A JP 20365789 A JP20365789 A JP 20365789A JP H02300190 A JPH02300190 A JP H02300190A
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formula
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秀雄 田中
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笹岡 三千雄
Takashi Shiroi
城井 敬史
Norio Saito
斎藤 紀雄
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  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To readily obtain the subject compound useful as an intermediate for synthesis of a cephalosporin-based antifiotic in high purity and high yield by reacting a cephalosporin compound with zinc in the presence of a cetic acid. CONSTITUTION:A compound expressed by formula II which is synthesized from a thiazolinoazethidinone derivative expressed by formula I [R<1> represents alkyl, alkenyl, (substituted) aryl, (substituted) arylmethyl or (substituted) phenoxymethyl; R<2> represents (protected) carboxyl] as a starting raw material is reacted with zinc in a molar amount of 3-10 times (based on the compound expressed by formula II) in an organic solvent (example; ethyl acetate or benzene) in the presence of acetic acid in a molar amount of 10-200 times (based on the compound expressed by formula II) (preferably used as a mixture with the organic solvent) at -30 to 50 deg.C for 0.2-3hr and purified by using column chromatography, etc., to afford the objective compound expressed by formula III.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、セファロスポリン化合物の製造法に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a method for producing cephalosporin compounds.

より詳しくは、本発明は、一般式[式中 R1はアルキ
ル基、アルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基
、置換もしくは非置換のアリールメチル基又は置換もし
くは非置換のフェノキシメチル基を示し、R2はカルボ
キシル基又は保護され);カルボキシル基を示す。] で表わされるセファロスポリン化合物の製造法に関する
More specifically, the present invention relates to the general formula [wherein R1 represents an alkyl group, an alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylmethyl group, or a substituted or unsubstituted phenoxymethyl group, and R2 represents a carboxyl group or protected); represents a carboxyl group. ] It is related with the manufacturing method of the cephalosporin compound represented by these.

一般式(1)で表わされるセファロスポリン化合物は、
セファロスポリン系抗生物質へと変換できる合成中間体
として有用な化合物である。
The cephalosporin compound represented by general formula (1) is
It is a useful compound as a synthetic intermediate that can be converted into cephalosporin antibiotics.

本発明の目的とする所は、上記一般式(I)のセファロ
スポリン化合物を簡便な操作で、高純度且つ高収率にて
製造し得る方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for producing the cephalosporin compound of general formula (I) with simple operations and high purity and high yield.

上記一般式(I)において、R1で表わされるアルキル
基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、t−ブチル等の炭素数1〜4の低級アルキル
基を例示でき、アルケニル基として、アリル、ブテニル
、ヘキサニル等の炭素数2〜6の低級アルケニル基を例
示できる。またアリール基としては、フェニル、ナフチ
ル等を、置換アリール基としては、置換基として、低級
アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキルオ
キシ基等を芳香族環状に有するフェニル基、例えばトリ
ル、キシリル、p−クロロフェニル、p−ニトロフェニ
ル、p−メトキシフェニル等が例示できる。アリールメ
チル基としては、ベンジル、ナフチルメチル等を、置換
アリールメチル基としては、置換基として低級アルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキルオキシ基等
をフェニル環上に有するフェニルメチル基、例えばトリ
ルメチル、p−クロロフェニルメチル、p−二トロフェ
ニルメチル、p−メトキシフェニルメチル等が例示でき
る。置換もしくは非置換のフェノキシメチル基としては
、フェノキシメチル基、置換基として低級アルキル基、
ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキルオキシ基等をフ
ェニル環上に有するフェノキシメチル基、例えばトリル
オキシメチル、p−クロロフェノキシメチル、p−ニト
ロフェノキシメチル、p−メトキシフェニルメチル等を
例示できる。
In the above general formula (I), examples of the alkyl group represented by R1 include lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, and t-butyl; , butenyl, hexanyl, and other lower alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl, naphthyl, etc., and examples of the substituted aryl group include phenyl groups having an aromatic ring containing a lower alkyl group, a halogen atom, a nitro group, a lower alkyloxy group, etc., such as tolyl, xylyl, etc. , p-chlorophenyl, p-nitrophenyl, p-methoxyphenyl and the like. Examples of the arylmethyl group include benzyl, naphthylmethyl, etc., and examples of the substituted arylmethyl group include phenylmethyl groups having a lower alkyl group, halogen atom, nitro group, lower alkyloxy group, etc. on the phenyl ring as a substituent, such as tolylmethyl. , p-chlorophenylmethyl, p-nitrophenylmethyl, p-methoxyphenylmethyl and the like. The substituted or unsubstituted phenoxymethyl group includes a phenoxymethyl group, a lower alkyl group as a substituent,
Examples include phenoxymethyl groups having a halogen atom, nitro group, lower alkyloxy group, etc. on the phenyl ring, such as tolyloxymethyl, p-chlorophenoxymethyl, p-nitrophenoxymethyl, and p-methoxyphenylmethyl.

また、R2で表わされる保護されたカルボキシル基とし
ては、一般式COOR’で表わされるエステル、一般式
C0NHR’で表わされる酸アミド等を例示できる。上
記R′としては、メチル、2.2.2−)リクロロエチ
ル、ジフェニルメチル、ベンジル、p−ニトロベンジル
、イソブチル、t−ブチル等の通常のカルボン酸保護基
が例示できる。
Examples of the protected carboxyl group represented by R2 include esters represented by the general formula COOR' and acid amides represented by the general formula CONHR'. Examples of the above R' include common carboxylic acid protecting groups such as methyl, 2.2.2-)lichloroethyl, diphenylmethyl, benzyl, p-nitrobenzyl, isobutyl, and t-butyl.

本発明によれば、上記一般式(I)のセファロスポリン
化合物は、以下の如くして製造できる。
According to the present invention, the cephalosporin compound of the above general formula (I) can be produced as follows.

即ち、一般式 [式中、R1はアルキル基、アルケニル基、置換もしく
は非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリール
メチル基又は置換もしくは非置換のフェノキシメチル基
を示し R2はカルボキシル基又は保護されたカルボキ
シル基を示す。] で表わされるセファロスポリン化合物を、酢酸の存在下
、亜鉛と反応させることにより上記一般式(I)化合物
を得ることができる。
That is, the general formula [wherein R1 represents an alkyl group, an alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylmethyl group, or a substituted or unsubstituted phenoxymethyl group, and R2 is a carboxyl group or a protected represents a carboxyl group. ] The above compound of general formula (I) can be obtained by reacting a cephalosporin compound represented by the following with zinc in the presence of acetic acid.

本発明において出発物質、とする前記一般式(n)の化
合物は、以下のようにして合成される。
The compound of general formula (n) used as a starting material in the present invention is synthesized as follows.

[式中、R1及びR2は前記に同じ。]で表わされるチ
アゾリノアゼチジノン誘導体を、後述する方法により、
アルカリ金属硝酸塩と反応させて二重結合の位置を変え
ることな(、基−0NO2を導入して、一般式 [式中、R′及びR2は前記に同じ。コで表わされるチ
アゾリノアゼチジノン誘導体を得外 次いで、該化合物を含水溶媒中、一般式2式%() [式中、Zは置換もしくは非置換のアリール基又は置換
もしくは非置換の芳香族複素環残基を示し、Xはハロゲ
ン原子を示す。] で表わされる含硫黄化合物と反応させて、一般式[式中
、R1、R2及びZは前記に同じ。]で表わされるアゼ
チジノシ誘導体を得る。
[In the formula, R1 and R2 are the same as above. ] The thiazolinoazetidinone derivative represented by
Without changing the position of the double bond by reacting with an alkali metal nitrate, the group -0NO2 is introduced to form a thiazolinoazetidinone represented by the general formula [wherein R' and R2 are the same as above. After obtaining the derivative, the compound was mixed with the general formula 2% () in an aqueous solvent [where Z represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic residue, and X represents Represents a halogen atom.] By reacting with a sulfur-containing compound represented by the following formula, an azetidinoxy derivative represented by the general formula [wherein R1, R2 and Z are the same as above] is obtained.

次いで上記一般式(Vl)の化合物に、有機溶媒中アン
モニアを作用させることにより前記一般式(n)の化合
物を得ることができる。
Next, the compound of the general formula (n) can be obtained by reacting the compound of the general formula (Vl) with ammonia in an organic solvent.

また上記方法において出発物質とする一般式(III)
の化合物は、例えば一般式 R′ [式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる公
知チアゾリノアゼチジノン誘導体から、既報の方法、例
えばT etrahedronLetters、22.
3193 (1981)に従い容易に合成できる。
Further, general formula (III) used as a starting material in the above method
For example, the compound has the general formula R' [wherein R1 and R2 are the same as above. ] From the known thiazolinoazetidinone derivatives represented by the following methods, for example, T etrahedron Letters, 22.
3193 (1981).

前述した一般式(n)の化合物の合成において、中間体
である一般式(IV)の化合物は、一般式(m)の出発
原料化合物と求核剤(MNO3(Mはアルカリ金属)と
の反応で得られる。この反応では、一般式(III)の
化合物のC=C二重結合の位置を変えることなく、求核
剤によりアリル位の塩素原子を置換して、一般式(TV
)の化合物を得ることかできる。
In the synthesis of the compound of the general formula (n) described above, the intermediate compound of the general formula (IV) is produced by the reaction of the starting material compound of the general formula (m) with a nucleophile (MNO3 (M is an alkali metal)). In this reaction, the chlorine atom at the allyl position of the compound of general formula (III) is substituted with a nucleophile without changing the position of the C═C double bond, resulting in the general formula (TV
) can be obtained.

従来、下記反応式で示される数工程反応による一般式(
IV)の化合物(R1=メチル、t−ブチル、R2=C
0OCH3、Y=OCCH3)の合成法が報告されてい
る[J、 Am 、 Chem、Soc、 。
Conventionally, the general formula (
IV) Compound (R1=methyl, t-butyl, R2=C
0OCH3, Y=OCCH3) has been reported [J, Am, Chem, Soc.

99.248 (1977)]。99.248 (1977)].

O( しかし、この方法には、N−ブロモスクシンイミド(N
BS)等の高価な反応剤を使用する必要があり、2重結
合の移動を伴うため数工程の反応工程を必要とし、全工
程を通しての収率が低い等の難点があり、実用的方法と
は到底言えなかった。
O (However, this method requires N-bromosuccinimide (N
It is necessary to use expensive reactants such as BS), requires several reaction steps due to the movement of double bonds, and has the disadvantages of low yield throughout the entire process, making it a practical method. I couldn't say it at all.

これに対し、前述の方法においては簡便な方法で、二重
結合の移動を伴うことなく、高収率で一般式(rV)の
化合物を得ることができる。
On the other hand, in the above-mentioned method, the compound of general formula (rV) can be obtained in high yield by a simple method and without movement of double bonds.

前述の方法の一般式(m)の化合物から一般式(IV)
の化合物への変換は、下記反応式の方法にて行なえる。
General formula (IV) from the compound of general formula (m) in the above method
The conversion to the compound can be carried out by the method shown in the reaction formula below.

反応式 %式%() 上記反応式の方法は、まず一般式(III)の原料化合
物とヨ′つ化アルカリ、特に好ましくはヨウ化ナトリウ
ム又はヨウ化カリウムとを有機溶媒中で反応させると、
二重結合の位置を変えることなく、一般式 [式中、R1及びR2は前記に同じ。]で表わされる化
合物が得られる。次いで該化合物を有機溶媒中、一般式 %式%(1) [式中、Mはアルカリ金属を示す。] で表わされるアルカリ金属硝酸塩と反応させると、二重
結合の位置を変えることなく一般式(TV)の化合物が
高収率で得られる。
Reaction Formula %Formula %() The method of the above reaction formula involves first reacting the raw material compound of general formula (III) with an alkali iodide, particularly preferably sodium iodide or potassium iodide, in an organic solvent.
Without changing the position of the double bond, the general formula [wherein R1 and R2 are the same as above]. ] is obtained. Then, the compound was dissolved in an organic solvent using the general formula % (1) [where M represents an alkali metal]. ] When reacted with an alkali metal nitrate represented by the following, a compound of the general formula (TV) can be obtained in high yield without changing the position of the double bond.

上記一般式(m)の原料化合物とヨウ化アルカリとの反
応において、有機溶媒としては、両者を溶解するもので
あれば広範囲のものが使用できるが、特に非プロトン性
極性溶媒、例えばアセトン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド等を用いるのがよい。これらのうち
でも、特にアセトンが好ましい。これら有機溶媒の使用
量は、通常一般式(III)の原料化合物に対し、約5
〜100重量倍でよい。一般式(III)の原料化合物
とヨウ化アルカリとの使用割合も広範囲から適宜選択で
きるが、一般に前者に対し後者を等モル−10倍モル程
度、好ましくは等モル−2倍モル程度用いればよい。該
反応は通常0〜60°C程度、好ましくは40〜55℃
程度にて行なわれ、一般に 0.5〜4時間で終了する
In the reaction between the raw material compound of general formula (m) and alkali iodide, a wide range of organic solvents can be used as long as they dissolve both, but aprotic polar solvents such as acetone, dimethyl Sulfoxide, dimethylformamide, etc. are preferably used. Among these, acetone is particularly preferred. The amount of these organic solvents used is usually about 5
~100 times the weight may be sufficient. The ratio of the raw material compound of general formula (III) and alkali iodide can be appropriately selected from a wide range, but in general, the latter should be used in an amount of about 1 to 10 times the former, preferably about 1 to 2 times the former. . The reaction is usually carried out at about 0 to 60°C, preferably 40 to 55°C.
It is generally completed in 0.5 to 4 hours.

また、一般式(■)の化合物と一般式(1)の塩との反
応において、有機溶媒としては、両者を溶解するもので
あれば広範囲のものが使用できるが、特に非プロトン性
極性溶媒、例えばアセトン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド等が好ましく、特にジメチルスルホ
キシドが好ましい。これら有機溶媒は、通常一般式(■
)の化合物に対し約0.5〜10重量倍程度用いられる
In addition, in the reaction between the compound of general formula (■) and the salt of general formula (1), a wide range of organic solvents can be used as long as they dissolve both, but in particular, aprotic polar solvents, For example, acetone, dimethyl sulfoxide, dimethyl formamide, etc. are preferred, and dimethyl sulfoxide is particularly preferred. These organic solvents usually have the general formula (■
) is used in an amount of about 0.5 to 10 times the weight of the compound.

一般式(■)の化合物と一般式(1)の塩との使用割合
は、広い範囲内で適宜選択できるが、通常前者に対し後
者を等モル−10倍モル程度、好ましくは等モル−5倍
モル程度用いるのがよい。該反応は、通常0〜100℃
程度、好ましくは40〜60℃程度にて行なわれる。ま
た副生ずるヨウ化アルカリを反応系外に除くため、該反
応をメタンスルホン酸メチル又はトルエンスルホン酸チ
メルの存在下、反応系を30〜80mmHg程度の減圧
下で行なうことができる。該反応は、反応条件にもよる
が、一般に0.5〜6時間程度で終了する。
The ratio of the compound of general formula (■) and the salt of general formula (1) to be used can be appropriately selected within a wide range, but usually the latter is about 10 times the molar equivalent of the former, preferably about 5 times the molar equivalent of the latter. It is best to use about double the mole. The reaction is usually carried out at 0 to 100°C.
The temperature is preferably about 40 to 60°C. Further, in order to remove by-product alkali iodide from the reaction system, the reaction can be carried out in the presence of methyl methanesulfonate or thymel toluenesulfonate under reduced pressure of about 30 to 80 mmHg. The reaction is generally completed in about 0.5 to 6 hours, although it depends on the reaction conditions.

以上の方法により得られる一般式(TV)の化合物は、
次いで一般式 %式%() [式中、Zは置換もしくは非置換のアリール基又は置換
もしくは非置換の芳香族複素環残基を示し、Xはハロゲ
ン原子を示す。コ で表わされる含硫黄化合物と反応させて、一般式(Vl
)の化合物を得る。
The compound of general formula (TV) obtained by the above method is:
Then, the general formula % formula % ( ) [wherein Z represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic residue, and X represents a halogen atom. By reacting with a sulfur-containing compound represented by the general formula (Vl
) is obtained.

ここで、Zで表われさる置換もしくは非置換のアリール
基としては、フェニル基、置換基としてハロゲン原子、
ニトロ基を有するフェニル基、例えばp−ニトロフェニ
ル、ペンタクロロフェニル、トリクロロフェニル等が例
示される。また置換基もしくは非置換の芳香族複素環残
基としては、2−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、1
,3.4−チアジアゾール−2−イル、5−メチル−1
゜3.4−チアジアゾール−2−イル等が例示できる。
Here, the substituted or unsubstituted aryl group represented by Z includes a phenyl group, a halogen atom as a substituent,
Examples include phenyl groups having a nitro group, such as p-nitrophenyl, pentachlorophenyl, trichlorophenyl, and the like. In addition, examples of the substituent or unsubstituted aromatic heterocyclic residue include 2-pyridyl, 2-benzothiazolyl, 1
,3.4-thiadiazol-2-yl,5-methyl-1
Examples include 3.4-thiadiazol-2-yl.

また、Xで示されるハロゲン原子としては、塩素、臭素
、沃素等の各原子が例示でき、特に塩素原子が好ましい
Examples of the halogen atom represented by X include chlorine, bromine, and iodine, with chlorine being particularly preferred.

上記一般式(IV)の化合物と二股式(V)の含硫黄化
合物との反応は、含水有機溶媒中で行なわれる。有機溶
媒としては、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等が使用でき、これらは通常一般式(I
V)の化合物に対し5〜50重量倍程度用いるのが好ま
しい。含水有機溶媒中に占める水の量としては広い範囲
から適宜選択できるが、通常一般式(IV)の化合物に
対し約1〜500モル倍、好ましくは約10〜100モ
ル倍とすればよい。一般式(IV)の化合物と一般式(
V)の化合物との使用割合も広い範囲から適宜選択でき
るが、通常前者に対し後者を等モル−10倍モル程度、
好ましくは等モル−4倍モル程度用いるのがよい。該反
応は、通常−10〜60°C程度、好ましくは室温付近
で行なわれ、一般に0.1〜2時間程で終了する。尚、
この反応においては、無機酸又は有機酸を存在させるこ
とにより収率が向上することがある。無機酸としては硫
酸、塩酸等が好ましく有機酸としてはトリフルオロ酢酸
、p−トルエンスルホン酸等が好ましい。
The reaction between the compound of general formula (IV) and the sulfur-containing compound of bifurcated formula (V) is carried out in a water-containing organic solvent. As the organic solvent, dimethyl sulfoxide, dioxane, tetrahydrofuran, etc. can be used, and these are usually represented by the general formula (I
It is preferable to use about 5 to 50 times the weight of the compound V). The amount of water in the water-containing organic solvent can be appropriately selected from a wide range, but it is usually about 1 to 500 times, preferably about 10 to 100 times, the amount of water relative to the compound of formula (IV). Compounds of general formula (IV) and general formula (
The ratio of the compound V) to be used can be appropriately selected from a wide range, but the ratio of the latter to the former is usually about 1 to 10 times the molar equivalent of the former.
It is preferable to use about equimolar to 4 times the molar amount. The reaction is usually carried out at about -10 to 60°C, preferably around room temperature, and is generally completed in about 0.1 to 2 hours. still,
In this reaction, the yield may be improved by the presence of an inorganic or organic acid. Preferred inorganic acids include sulfuric acid and hydrochloric acid, and preferred organic acids include trifluoroacetic acid and p-toluenesulfonic acid.

これら酸の使用量は、二股式(TV)の化合物に対し1
〜10モル程度とすればよい。
The amount of these acids used is 1 for the bifurcated (TV) compound.
The amount may be about 10 moles.

尚、上記一般式(IV)の含硫黄化合物は、不活性溶媒
、例えば四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等の溶媒に、相当するジ
スルフィド又はチオールを溶解し、当モル曾の分子状ハ
ロゲン°を反応させることにより製造できる。こうして
得られる一般式(V)の化合物は、反応混合物から単離
して反応に供してもよいし、反応混合物をそのまま反応
に供してもよい。
The sulfur-containing compound of general formula (IV) above can be prepared by dissolving the corresponding disulfide or thiol in an inert solvent such as carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, dioxane, tetrahydrofuran, etc. It can be produced by reacting a halogen. The compound of general formula (V) thus obtained may be isolated from the reaction mixture and subjected to the reaction, or the reaction mixture may be subjected to the reaction as it is.

以上の一般式(IV)の化合物と一般式(V)の化合物
との反応により・得られる一般式(Vl)の化合物は有
機溶媒中で、アンモニアを作用させることにより一般式
(II)の化合物へと変換される。
The compound of general formula (Vl) obtained by the reaction of the above compound of general formula (IV) with the compound of general formula (V) is converted into the compound of general formula (II) by reacting with ammonia in an organic solvent. is converted into.

上記有機溶媒としては、不活性な非プロトン性極性溶媒
、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等が好ましく、特にジメチルホルムアミドがより好まし
い。一般式(VI)の化合物とアンモニアとの使用割合
としては広い範囲から適宜選択できるが、通常前者に対
し後者を等モル−10倍モル程度、好ましくは等モル−
3倍モル程度とすればよい。該反応は通常−78〜20
℃程度、好ましくは一40〜5℃程度にて行なわれ、一
般に061〜2時間程度で完結する。
As the organic solvent, inert aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, etc. are preferred, and dimethylformamide is particularly preferred. The ratio of the compound of general formula (VI) and ammonia to be used can be appropriately selected from a wide range, but usually the latter is about 10 times the molar equivalent of the former, preferably about 10 times the molar equivalent of the former.
It may be about 3 times the mole. The reaction is usually -78 to 20
The process is carried out at a temperature of about -40°C to about 5°C, and is generally completed in about 0.61 to 2 hours.

以上により、前記一般式 〔式中、RI 、R2は前記に同じ。]で表わされる化
合物が得られる。
According to the above, the general formula [wherein RI and R2 are the same as above]. ] is obtained.

上記一般式(n)の化合物は、酢酸の存在下、亜鉛と反
応させることにより一般式 [式中、R1及びR2は前記に同じ。]で表わされる化
合物へと誘導できる。
The compound of the above general formula (n) is prepared by reacting with zinc in the presence of acetic acid to form a compound of the general formula [wherein R1 and R2 are the same as above]. ] can be induced to a compound represented by

一般式(I)で表わされるセファ0スポリン化合物は、
セファロスポリン系抗生物質に変換できる重要な合成中
間体である。
The Cephasporin compound represented by the general formula (I) is
It is an important synthetic intermediate that can be converted into cephalosporin antibiotics.

化合物(II)に酢酸の存在下に亜鉛を作用させて化合
物(I)を得る反応において酢酸の使用量としては特に
制限がなく広範囲から適宜選択され得るが、通常酢酸を
反応溶媒として用いるか、特に好ましくは他の有機溶媒
と酢酸との混合溶媒として用いる。有機溶媒は、混合溶
媒中約90容合%まで、好ましくは約20〜70容曾%
程度使用するのがよい。酢酸の使用量は、単独使用する
場合、他の有機溶媒と混合使用する場合を問わず、化合
物(II)に対し、約10〜200倍モル程度とすれば
よい。化合物(IF)と亜鉛との使用割合としては特に
限定されず広い範囲で適宜選択できるが、通常化合物(
II)に対して3倍モル〜10倍モル、好ましくは3倍
モル〜5倍モル用いるのがよい。反応温度しては通常−
30〜50°C1好ましくは一10〜30℃で行なわれ
る。混合溶媒として用いる他の有機溶媒としては、該反
応条件下、酢酸及び亜鉛に不活性な溶媒を広く使用でき
、例えば酢酸エチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル
等のエステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、ジクロ
ルエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等を
挙げることができる。該反応は通常0.2〜3時間程度
で完結する。
In the reaction to obtain compound (I) by reacting zinc in the presence of acetic acid with compound (II), the amount of acetic acid used is not particularly limited and can be appropriately selected from a wide range, but usually acetic acid is used as a reaction solvent, or Particularly preferably, it is used as a mixed solvent of another organic solvent and acetic acid. The organic solvent can be up to about 90% by volume in the mixed solvent, preferably about 20-70% by volume.
It is best to use it in moderation. The amount of acetic acid to be used may be about 10 to 200 times the molar amount of compound (II), regardless of whether it is used alone or mixed with other organic solvents. The ratio of compound (IF) and zinc to be used is not particularly limited and can be appropriately selected within a wide range.
It is preferable to use 3 to 10 times the mole, preferably 3 to 5 times the mole of II). The reaction temperature is usually -
It is carried out at a temperature of 30 to 50°C, preferably -10 to 30°C. As the other organic solvent used as the mixed solvent, a wide range of solvents that are inert to acetic acid and zinc under the reaction conditions can be used, such as esters such as ethyl acetate, methyl acetate, and methyl propionate, diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane. Examples include ethers such as, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, dichloroethane, and chloroform, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. The reaction is usually completed in about 0.2 to 3 hours.

尚、以上の各反応において得られる一般式(■)、(I
V)及び(VI)の化合物は、夫々単離して後引続く反
応に供してもよいし、反応混合物のまま引続く反応に供
してもよい。また、最終的に得られる一般式(I)の化
合物は、常法に従い溶媒抽出、カラムクロマトグラフィ
ー、再結晶法等を用いて精製することができる。
In addition, the general formulas (■) and (I
The compounds V) and (VI) may be isolated and subjected to the subsequent reaction, or may be used as a reaction mixture to the subsequent reaction. Further, the finally obtained compound of general formula (I) can be purified using conventional methods such as solvent extraction, column chromatography, and recrystallization.

以下、本発明の製造法をより詳しく説明すべ〈実施例を
掲げる。尚、実施例中phはフェニル基を示す。
Hereinafter, the manufacturing method of the present invention will be explained in more detail (Examples will be given). In addition, in the examples, ph represents a phenyl group.

参考例1 COOCH2P A 2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ[3,2,OFヘプト−2−エン−6−
イル)−3−クロロメチル−3−ブテン酸ベンジル94
.6mgにアセトン1.2軛を加え均一溶液とする。こ
れにNal64.3mgを加え、55℃に加熱しながら
1.5時間かきまぜる。次に室温まで冷却したのち5軛
の酢酸エチルを加え希釈し、これをNa2 S203水
溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Na2 SO
4で乾燥したのち濃縮すると2−(3−ベンジル−7−
オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ[3,2,
0]ヘプト−2−エン−6−イル)=3−ヨードメチル
−3−ブテン酸ベンジルを無色油状物質として得る(1
13.0mg、99%)。
Reference example 1 COOCH2P A 2-(3-benzyl-7-oxo-4-thia-2,6-
diazabicyclo[3,2,OFhept-2-ene-6-
benzyl)-3-chloromethyl-3-butenoate 94
.. Add 1.2 g of acetone to 6 mg to make a homogeneous solution. Add 64.3 mg of Nal to this and stir for 1.5 hours while heating to 55°C. Next, after cooling to room temperature, diluted with 5 yoke of ethyl acetate, washed with an aqueous Na2S203 solution, then washed with saturated brine, and diluted with Na2SO3.
4 and then concentrated to give 2-(3-benzyl-7-
Oxo-4-thia-2,6-diazabicyclo[3,2,
0]hept-2-en-6-yl)=benzyl 3-iodomethyl-3-butenoate is obtained as a colorless oil (1
13.0 mg, 99%).

NMR(δ、CDCf3) 3.63 (s、2H) 、3.83 (s、2H)、
4.95 (s、IH) 、5.17 (s、2H)、
5.23 (s、2H) 、5.38 (s、IH)、
5.87 (bs、2H) 、7.26 (s、5H)
、7.33 (s、5H) 参考例2 0OCH3 COOCH。
NMR (δ, CDCf3) 3.63 (s, 2H), 3.83 (s, 2H),
4.95 (s, IH), 5.17 (s, 2H),
5.23 (s, 2H), 5.38 (s, IH),
5.87 (bs, 2H), 7.26 (s, 5H)
, 7.33 (s, 5H) Reference Example 2 0OCH3 COOCH.

2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ[3,2,O]ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−クロロメチル−3−ブテン酸メチル376
mgにアセトン10軛を加え均一溶液とする。これにN
aI230mgを加え、55℃に加熱しながら3時間か
きまぜる。次に室温まで冷却したのち酢酸エチルを加え
て希釈し、これをNa2 S203水溶液で洗浄、次い
で飽和食塩水で洗浄し、Na2 SO4で乾燥したのち
濃縮する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム
上で、ヘキサン−酢酸エチル(4:1)を用いてクロマ
トグラフィーを行ない、2−(3−ベンジル−7−オキ
ソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ[3,2,O]
ヘプト−2−エン−6−イル)−3−ヨードメチル−3
−ブテン酸メチルを得る(425mg、90%)。
2-(3-benzyl-7-oxo-4-thia-2,6-
Diazabicyclo[3,2,O]hept-2-ene-6-
Methyl)-3-chloromethyl-3-butenoate 376
Add 10 mg of acetone to make a homogeneous solution. N for this
Add 230 mg of aI and stir while heating to 55°C for 3 hours. After cooling to room temperature, the mixture is diluted with ethyl acetate, washed with an aqueous Na2S203 solution, then washed with saturated brine, dried over Na2SO4, and concentrated. The resulting pale yellow oily residue was chromatographed on a silica gel column using hexane-ethyl acetate (4:1) to obtain 2-(3-benzyl-7-oxo-4-thia-2,6-diazabicyclo). [3,2,O]
hept-2-en-6-yl)-3-iodomethyl-3
-Methyl butenoate is obtained (425 mg, 90%).

NMR(δ、CDCf3) 3.62 (bs、2H) 、3.74 (s、3H)
、3.87 (bs、2H) 、5.04 (s、IH
)、5.21 (s、IH) 、5.91 (bs、2
H)、7.27 (s、5H) 参考例3 COOCH2Ph 2−(3−フェノキシメチル−7−オキソ−4−チア−
2,6−ジアザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エ
ン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン酸ベン
ジル374mgにアセトン10軛を加え均一溶液とする
。これにNa1154mgを加え、55℃に加熱しなが
ら3時間かきまぜる。次に室温まで冷却したのち酢酸エ
チルを加えて希釈し、これをNa28203水溶液で洗
浄し、次いで飽和食塩水で洗浄し、 Na2804で乾燥したのち濃縮する。得られた淡黄色
油状残渣をシリカゲルカラム上で、ベンゼン−酢酸エチ
ル(30: 1)を用いてクロマトグラフィーを行ない
、2− (3−フェノキシメチル−17−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ[3,2,01ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン
酸ベンジルを得る(359mg、80%)。
NMR (δ, CDCf3) 3.62 (bs, 2H), 3.74 (s, 3H)
, 3.87 (bs, 2H) , 5.04 (s, IH
), 5.21 (s, IH), 5.91 (bs, 2
H), 7.27 (s, 5H) Reference Example 3 COOCH2Ph 2-(3-phenoxymethyl-7-oxo-4-thia-
10 g of acetone was added to 374 mg of benzyl 2,6-diazabicyclo[3,2,0]hept-2-en-6-yl)-3-chloromethyl-3-butenoate to form a homogeneous solution. Add 1154 mg of Na to this and stir for 3 hours while heating to 55°C. Next, after cooling to room temperature, it is diluted with ethyl acetate, washed with an aqueous Na28203 solution, then washed with saturated brine, dried over Na2804, and concentrated. The resulting pale yellow oily residue was chromatographed on a silica gel column using benzene-ethyl acetate (30:1) to give 2-(3-phenoxymethyl-17-oxo-4-
Thia-2,6-diazabicyclo[3,2,01hept-
Benzyl 2-en-6-yl)-3-iodomethyl-3-butenoate is obtained (359 mg, 80%).

IR(neaO1796,1736cl’NMR(δ、
CDCf3) 3.73  (bs、2H) 、4.90  (s、2
H) 、5.00  (s、  LH) 、5.20 
 (s、3H)、5.45 (s、IH) 、5.85
及び6.01(ABq、2H,4Hz)、 6.7−7.4  (m、5H)、 7.34  (s、  5H) 参考例4 COOCH2Ph ρk COOCH2Ph 2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ[3,2,01ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン酸ベンジル10
3.5mgにジメチルスルホキシド0. 9TN2を加
え均一溶液とする。これにN、 a N O380mg
 sメタンスルホン酸メチル40mgを加え溶解させる
。水流ポンプを用いて反応系を45〜50mmHgの減
圧状態に保ちながら48℃に加熱して4時間反応させる
。次いで室温まで放冷したのち、Na2 S203水溶
液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Na2804で乾
燥したのち濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲ
ルカラム上で、ベンゼン−酢酸エチル(15:1)を用
いてクロマトグラフィーを行ない2−(3−ベンジル−
7−オキソ−4−チア−2゜6−ジアザビシクロ[3,
2,01ヘプト−2−エン−6−イル)−3−二トロキ
シメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る(68.5+n
g、76%)。
IR(neaO1796,1736cl'NMR(δ,
CDCf3) 3.73 (bs, 2H), 4.90 (s, 2
H), 5.00 (s, LH), 5.20
(s, 3H), 5.45 (s, IH), 5.85
and 6.01 (ABq, 2H, 4Hz), 6.7-7.4 (m, 5H), 7.34 (s, 5H) Reference example 4 COOCH2Ph ρk COOCH2Ph 2-(3-benzyl-7-oxo- 4-thia-2,6-
diazabicyclo[3,2,01hept-2-ene-6-
benzyl)-3-iodomethyl-3-butenoate 10
3.5 mg and 0.0 mg of dimethyl sulfoxide. Add 9TN2 to make a homogeneous solution. Add to this 380mg of N, aN O
Add and dissolve 40 mg of methyl methanesulfonate. The reaction system is heated to 48° C. and reacted for 4 hours while maintaining a reduced pressure of 45 to 50 mmHg using a water jet pump. After cooling to room temperature, an aqueous Na2S203 solution was added and vigorously stirred. This is extracted with ethyl acetate, and the organic layer is washed with saturated brine, dried over Na2804, and concentrated. The resulting yellow oily residue was chromatographed on a silica gel column using benzene-ethyl acetate (15:1) to obtain 2-(3-benzyl-
7-oxo-4-thia-2゜6-diazabicyclo[3,
Benzyl 2,01hept-2-en-6-yl)-3-nitroxymethyl-3-butenoate is obtained (68.5+n
g, 76%).

IR(neat) 1780.1740.1640.1
275c「1 NMR(、δ、cDC/!3) 3.85 (s、2H) 、4.74 (s、2H)、
5.01(s、IH) 、5.18 (s、2H)、5
.22 (s、LH) 、5.43 (s、IH)、5
.89及び5.93 (ABq、2H,4Hz)、7.
28 (s、5H) 、7.34 (s、5H)参考外
5 COOCH2Ph ε0OCH2Ph 2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−ニトロキシメチル−3−ブテン酸ベンジル
29.7ngにジオキサン0.6v1を加えて均一溶液
とし、続いて5%塩酸60μlを加えて室温下15分間
反応させる。
IR(neat) 1780.1740.1640.1
275c "1 NMR (, δ, cDC/!3) 3.85 (s, 2H), 4.74 (s, 2H),
5.01 (s, IH), 5.18 (s, 2H), 5
.. 22 (s, LH), 5.43 (s, IH), 5
.. 89 and 5.93 (ABq, 2H, 4Hz), 7.
28 (s, 5H), 7.34 (s, 5H) Non-reference 5 COOCH2Ph ε0OCH2Ph 2-(3-benzyl-7-oxo-4-thia-2,6-
diazabicyclo[3,2,0]hept-2-ene-6-
0.6 vol of dioxane is added to 29.7 ng of benzyl)-3-nitroxymethyl-3-butenoate to make a homogeneous solution, followed by adding 60 μl of 5% hydrochloric acid and reacting at room temperature for 15 minutes.

上記操作とは別に2−ベンゾチアゾリルジスルフィド3
7.9+agにジオキサン2W1を加え、湯浴で加熱し
ながら均一溶液とし、これに塩素の0.59M四塩化炭
素溶液0. 141ni)を加えて15分間反応させる
。これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温で5分間か
きまぜながら反応させる。
Apart from the above operation, 2-benzothiazolyl disulfide 3
Add dioxane 2W1 to 7.9+ag, heat in a hot water bath to make a homogeneous solution, and add 0.59M carbon tetrachloride solution of chlorine to this. 141ni) and react for 15 minutes. This is added to the above dioxane solution and reacted at room temperature for 5 minutes with stirring.

次いでこの反応−合物を酢酸エチルを用いて短いシリカ
ゲルカラムに通し、溶出液を減圧濃縮する。
The reaction mixture is then passed through a short silica gel column using ethyl acetate and the eluate is concentrated under reduced pressure.

得られた残渣をベンゼンに溶解し、再びベンゼンを減圧
下留去する。このようにして得られた無色固体及び無色
油状物の混合物の残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン
、続いてベンゼン−酢酸エチル(4:1)を用いてクロ
マトグラフィーを行ない、2−[3−フェニルアセトア
ミド−4−(2−ペンゾチアゾリルジチオ)−2−アゼ
チジノン−1−イル]−3−二トロキシメチル−3−ブ
テン酸ベンジルを得る(収率70%)。
The obtained residue is dissolved in benzene, and benzene is distilled off again under reduced pressure. The residue of the mixture of colorless solid and colorless oil thus obtained was chromatographed on a silica gel column using benzene followed by benzene-ethyl acetate (4:1) to obtain 2-[3-phenylacetamide. Benzyl -4-(2-penzothiazolyldithio)-2-azetidinon-1-yl]-3-nitroxymethyl-3-butenoate is obtained (yield 70%).

I R(neat) 3280.1780.1740.
1670.1640.1270cm−言NMR(δ、C
DCJ!3) 3.66 (s、2H) 、5.10 (s、2H)、
5.14 (s、2H)、 5、 0−5. 3 (m、  2H)、5.40 (
s、IH)、 5.51 (d、IH,5Hz)、 5、 56  (s、  IH)  、6.56  (
d、  IH,7,5Hz)  、7、 1−7. 6
  (m、  12H)7.6−8. 0  (m、2
H) 参考例6 COOCH2Ph COOCH2P h 2−[3−フェニルアセトアミド−4−(2−ベンゾチ
アゾリルジチオ)−2−アゼチジノン−1−イル]−3
−二トロキシメチル−3−ブテン酸ベンジル35.7m
gにジメチルホルムアミド0.7硬を加え均一溶液とす
る。これを−30〜35℃に冷却し、アンモニアガスを
ジメチルホアミドに溶かして調整した溶液(約3.3M
)23μlを加えて15分間かきまぜながら反応させる
。これを−30℃に保ったまま、真空ポンプ :を用い
て減圧下過剰のアンモニアを留去する。次いで徐々に温
度を室温まで戻しながら溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン、続いてベ
ンゼン−酢酸エチル(4:1)を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない、7−フェニルアセトアミド−3−ニトロ
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンジルを
得る(収率73%)。
I R(neat) 3280.1780.1740.
1670.1640.1270cm-NMR (δ, C
DCJ! 3) 3.66 (s, 2H), 5.10 (s, 2H),
5.14 (s, 2H), 5, 0-5. 3 (m, 2H), 5.40 (
s, IH), 5.51 (d, IH, 5Hz), 5, 56 (s, IH), 6.56 (
d, IH, 7,5Hz), 7, 1-7. 6
(m, 12H) 7.6-8. 0 (m, 2
H) Reference Example 6 COOCH2Ph COOCH2P h 2-[3-phenylacetamido-4-(2-benzothiazolyldithio)-2-azetidinon-1-yl]-3
-Benzyl ditroxymethyl-3-butenoate 35.7m
Add 0.7 hardness of dimethylformamide to g to make a homogeneous solution. This was cooled to -30 to 35°C, and a solution prepared by dissolving ammonia gas in dimethylfoamide (approximately 3.3 M
) Add 23 μl and react with stirring for 15 minutes. Excess ammonia is distilled off under reduced pressure using a vacuum pump while maintaining this at -30°C. Then, the solvent is distilled off while gradually returning the temperature to room temperature. The resulting pale yellow oily residue was chromatographed on a silica gel column using benzene and then benzene-ethyl acetate (4:1) to give 7-phenylacetamido-3-nitroxymethyl-3-cephem-4-. Benzyl carboxylate is obtained (yield 73%).

NMR(δ、CDC13) 3.36及び3.48 (ABq 、 2H,18Hz
)、3、 60  (s、  2H)  、4、 93
  (d、  2H,5Hz)  、5.16及び5.
 58 (ABq 、 2H,12Hz)、5、 25
  (s、2H)  、 5.83  (dd、  IH,5Hz、8Hz)  
、6、 33  (d、  IH,8Hz)  、7、
 28  (s、  5H)・、7.34  (s、 
 5H)  、更施例1 C00CH2PA COOCH2Pk 7−フェニルアセトアミド−3−二トロキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ベンジル12.9mgに塩
化メチレン0.15n[を加え均一溶液とする。これに
亜鉛粉末5.2mgを加えて0〜5℃に冷却する。これ
に酢酸0.15TN2を加え135分間かきまぜながら
反応させる。次いで酢酸エチル3meを加えて希釈し、
飽和N a HCO3水溶液で洗浄続いて飽和食塩水で
洗浄して、Na2 SO4で乾燥したのち減圧上濃縮す
ると7−フェニルアセトアミド−3−ヒドロキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンジルを得る(10
.0mg、85%)。
NMR (δ, CDC13) 3.36 and 3.48 (ABq, 2H, 18Hz
), 3, 60 (s, 2H), 4, 93
(d, 2H, 5Hz), 5.16 and 5.
58 (ABq, 2H, 12Hz), 5, 25
(s, 2H), 5.83 (dd, IH, 5Hz, 8Hz)
,6, 33 (d, IH, 8Hz) ,7,
28 (s, 5H)・, 7.34 (s,
5H), Additional Example 1 C00CH2PA COOCH2Pk 7-phenylacetamido-3-nitroxymethyl-3
Add 0.15 n of methylene chloride to 12.9 mg of benzyl -cephem-4-carboxylate to make a homogeneous solution. 5.2 mg of zinc powder is added to this and cooled to 0-5°C. Add 0.15 TN2 of acetic acid to this and react with stirring for 135 minutes. Then diluted by adding ethyl acetate 3me,
Washing with saturated NaHCO3 aqueous solution, followed by saturated brine, drying over Na2SO4, and concentration under reduced pressure yields benzyl 7-phenylacetamido-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylate (10
.. 0 mg, 85%).

NMR(δ、CDCJ3) 2.60 (bs、IH) 、3.52 (s、2H)
、3、 61 (s、 2H)、 4.02及び4.48 (ABq、2H,13,5Hz
)、4.90 (d、IH,4Hz)、 5.25 (s、2H)、 5.81  (dd、  IH,4Hz、9Hz) 、
6、 51  (d、  IH,9Hz)  、7.2
8  (s、5H) 、7.37  (s、5H)(以
 上)
NMR (δ, CDCJ3) 2.60 (bs, IH), 3.52 (s, 2H)
, 3, 61 (s, 2H), 4.02 and 4.48 (ABq, 2H, 13,5Hz
), 4.90 (d, IH, 4Hz), 5.25 (s, 2H), 5.81 (dd, IH, 4Hz, 9Hz),
6, 51 (d, IH, 9Hz), 7.2
8 (s, 5H), 7.37 (s, 5H) (or more)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアルキル基、アルケニル基、置換もし
くは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリー
ルメチル基又は置換もしくは非置換のフェノキシメチル
基を示し、 R^2はカルボキシル基又は保護されたカルボキシル基
を示す。] で表わされるセファロスポリン化合物を、酢酸の存在下
、亜鉛と反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1及びR^2は前記に同じ。]で表わされ
るセファロスポリン化合物の製造法。
(1) General formula▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc.▼ [In the formula, R^1 is an alkyl group, an alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylmethyl group, or a substituted or unsubstituted arylmethyl group. represents a phenoxymethyl group, and R^2 represents a carboxyl group or a protected carboxyl group. ] General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc., characterized by reacting a cephalosporin compound represented by the following with zinc in the presence of acetic acid ▼ [In the formula, R^1 and R^2 are as defined above] same. ] A method for producing a cephalosporin compound represented by
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